JPS63220596A - プリント回路板の洗浄方法及び装置 - Google Patents
プリント回路板の洗浄方法及び装置Info
- Publication number
- JPS63220596A JPS63220596A JP62294988A JP29498887A JPS63220596A JP S63220596 A JPS63220596 A JP S63220596A JP 62294988 A JP62294988 A JP 62294988A JP 29498887 A JP29498887 A JP 29498887A JP S63220596 A JPS63220596 A JP S63220596A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- manifold
- circuit board
- passageway
- printed circuit
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000005406 washing Methods 0.000 title description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 63
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 37
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0085—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0736—Methods for applying liquids, e.g. spraying
- H05K2203/0746—Local treatment using a fluid jet, e.g. for removing or cleaning material; Providing mechanical pressure using a fluid jet
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1509—Horizontally held PCB
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1572—Processing both sides of a PCB by the same process; Providing a similar arrangement of components on both sides; Making interlayer connections from two sides
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
プリント回路は、長さおよび幅という主要寸法をもって
形成され、1つもしくはそれ以上の数の回路を含む。プ
リント回路板の厚みは種々の理由によりまちまちであっ
て、回路板の柔軟性に対し直接に影響する。
形成され、1つもしくはそれ以上の数の回路を含む。プ
リント回路板の厚みは種々の理由によりまちまちであっ
て、回路板の柔軟性に対し直接に影響する。
例えば、多重導体層を有するプリント回路は1つの接着
絶縁層もしくは複数個の分離層を使用する。プリント基
板にあけられた穴は、幾つかの目的のための機能を有し
、それには他のアッセンブリへの設置用半田付は端子穴
の機能、あるいは銅箔間のメソキスルーホール相互接続
機能、さらに位置決め穴としての機能が含まれる。ある
段階においては、銅箔の一部もしくは全部を半田で被覆
する必要があり、これはしばしば配線の半田レヘリング
と呼ばれる。
絶縁層もしくは複数個の分離層を使用する。プリント基
板にあけられた穴は、幾つかの目的のための機能を有し
、それには他のアッセンブリへの設置用半田付は端子穴
の機能、あるいは銅箔間のメソキスルーホール相互接続
機能、さらに位置決め穴としての機能が含まれる。ある
段階においては、銅箔の一部もしくは全部を半田で被覆
する必要があり、これはしばしば配線の半田レヘリング
と呼ばれる。
例えば本願の出願人の米国特許第4.608,941号
[プリント回路板のための゛ト田付は装置−1に記載の
早口」レヘリング装置内にて半田イ」けしたのち、プリ
ント回路板は洗浄しなげればならない。具体的には、プ
リント回路のうえに残っているフラックスその他の不純
物を除去することが必要となる。
[プリント回路板のための゛ト田付は装置−1に記載の
早口」レヘリング装置内にて半田イ」けしたのち、プリ
ント回路板は洗浄しなげればならない。具体的には、プ
リント回路のうえに残っているフラックスその他の不純
物を除去することが必要となる。
それに加えて、プリント回路の加工に際しては、酸化銅
を除去するため、もしくは銅箔自体にマイクロエツチン
グを施すために、酸もしくはアルカリをベースにした清
浄剤を使用されるが、これらの物質は、そうしたプロセ
スの終了後にプリント回路を洗浄することによって除去
する必要がある。
を除去するため、もしくは銅箔自体にマイクロエツチン
グを施すために、酸もしくはアルカリをベースにした清
浄剤を使用されるが、これらの物質は、そうしたプロセ
スの終了後にプリント回路を洗浄することによって除去
する必要がある。
(従来の技術)
従来、プリント回路は、例えば米国特許第3.928,
064号および同第4,383.494号において示さ
れているように、水もしくはスラリーとともに使用され
る、回転するブラシを通過させるごとによって洗浄され
てきた。そうした装置は、可成りの長さの洗浄ステーシ
ョンを必要とすることに加えて、表面の汚れの全部を効
果的に除去するわけではなく、また高速で動くプリント
回路板は洗浄しないという欠点がある。そのうえ、脆弱
なプリント回路板は劣化しやすく、ブラシによって破壊
されることすらある。
064号および同第4,383.494号において示さ
れているように、水もしくはスラリーとともに使用され
る、回転するブラシを通過させるごとによって洗浄され
てきた。そうした装置は、可成りの長さの洗浄ステーシ
ョンを必要とすることに加えて、表面の汚れの全部を効
果的に除去するわけではなく、また高速で動くプリント
回路板は洗浄しないという欠点がある。そのうえ、脆弱
なプリント回路板は劣化しやすく、ブラシによって破壊
されることすらある。
プリント回路板の洗浄方法として一般的に使用されてい
るもう1つの方法は、洗浄剤を含んだ湯の中に直接に浸
漬するやり方である。洗浄ならびにすすぎのプロセスは
、かきまぜることにより加速される。しかしながら、こ
の洗浄方法は、コンベヤにて急速に移動させられるプリ
ント回路板の連続的な洗浄には不適である。
るもう1つの方法は、洗浄剤を含んだ湯の中に直接に浸
漬するやり方である。洗浄ならびにすすぎのプロセスは
、かきまぜることにより加速される。しかしながら、こ
の洗浄方法は、コンベヤにて急速に移動させられるプリ
ント回路板の連続的な洗浄には不適である。
プリント回路の洗浄の目的で現在使用されている装置と
しては、その他に、スプレーを使用して洗浄ならびにす
すぎを行うものがある。この装置においては、多数個の
スプレーノズルを含む分散マニホールドが回路板面に向
けられる。マニホールドは高圧の低速導管であるため、
ノズルは圧力降下を生み出し、これが洗浄液を回路板の
表面に向けて射出する。液の衝撃の結果としてエネルギ
ー移動が起こり、これにより不純物が表面から除去され
る。
しては、その他に、スプレーを使用して洗浄ならびにす
すぎを行うものがある。この装置においては、多数個の
スプレーノズルを含む分散マニホールドが回路板面に向
けられる。マニホールドは高圧の低速導管であるため、
ノズルは圧力降下を生み出し、これが洗浄液を回路板の
表面に向けて射出する。液の衝撃の結果としてエネルギ
ー移動が起こり、これにより不純物が表面から除去され
る。
連続した効果的なスプレー洗浄を所望のコンベヤ速度に
おいて維持するには、表面液の排水が重要である。水平
面内に位置させられたプリント回路板は、重力による排
水力を持たない。従って、表面の水(たまり水)が衝撃
エネルギーの一部を吸収し、これは排水を助けるが、洗
浄力を減少させる。こうした理由により、エツチングシ
ステムは、プリント回路の上面と下面の間において、ス
トック除去率が異なっている。
おいて維持するには、表面液の排水が重要である。水平
面内に位置させられたプリント回路板は、重力による排
水力を持たない。従って、表面の水(たまり水)が衝撃
エネルギーの一部を吸収し、これは排水を助けるが、洗
浄力を減少させる。こうした理由により、エツチングシ
ステムは、プリント回路の上面と下面の間において、ス
トック除去率が異なっている。
スプレーノズル式洗浄システムの例としては、米国特許
第3,905,827号、同第3.42]、211号、
同第3.868,272号、および同第4,479,8
49号があげられる。
第3,905,827号、同第3.42]、211号、
同第3.868,272号、および同第4,479,8
49号があげられる。
上記特許の検討を通じて明らかになることは、スプレー
ノズルの使用から得られる結果は、ノズルの数、ノズル
と回路板面の間隔、ノズルスプレーの角度、ノズルオリ
フィスの寸法、使用マニホールド圧、スプレーの形状(
ファン形、コーン形等)、マニホールドを固定式にする
か揺動式にするか、およびスプレーノズルの前にプリン
ト回路をさらす時間に影響され、このうち最後にあげた
ものはコンベヤの速度に依存する。さらに、洗浄装置は
、10フイート(3m)、15フイート(4,5m)あ
るいはそれ以」−の長さの加工ステージョンを要する。
ノズルの使用から得られる結果は、ノズルの数、ノズル
と回路板面の間隔、ノズルスプレーの角度、ノズルオリ
フィスの寸法、使用マニホールド圧、スプレーの形状(
ファン形、コーン形等)、マニホールドを固定式にする
か揺動式にするか、およびスプレーノズルの前にプリン
ト回路をさらす時間に影響され、このうち最後にあげた
ものはコンベヤの速度に依存する。さらに、洗浄装置は
、10フイート(3m)、15フイート(4,5m)あ
るいはそれ以」−の長さの加工ステージョンを要する。
プリント回路板の加工、すなわち現状の技術をもってエ
ツチングないし半田付けの処理を行うに際して現在使用
されているコンベヤ速度にて走行中のプリント回路板を
効果的に洗浄するには、従来式のスプレーノズルシステ
ムはどれも背革十分であることが判明している。
ツチングないし半田付けの処理を行うに際して現在使用
されているコンベヤ速度にて走行中のプリント回路板を
効果的に洗浄するには、従来式のスプレーノズルシステ
ムはどれも背革十分であることが判明している。
(発明の概要)
本発明は、比較的高速で、例えば毎分30フイート(約
9.1m)で走行中のプリント回路板を洗浄するための
方法ならびに装置を提供するものである。本発明の場合
、プリント配線は1つもしくは複数個の、トンネル状の
短い通路を通して搬送される。通路の天井は」一部マニ
ホールドの底部にあたり、通路の床面ば下部マニホール
ドの頂部にあたる。向かい合わせに位置させられた横方
向の溝穴により、水等の洗浄液が通路沿いに均一に撒か
れる。プリント回路板がこのトンネルを通して搬送され
る際、回路板の上下面とトンネルの天井および床面との
間の通路は、回路板面沿いに洗浄液の急速な流れを与え
る。
9.1m)で走行中のプリント回路板を洗浄するための
方法ならびに装置を提供するものである。本発明の場合
、プリント配線は1つもしくは複数個の、トンネル状の
短い通路を通して搬送される。通路の天井は」一部マニ
ホールドの底部にあたり、通路の床面ば下部マニホール
ドの頂部にあたる。向かい合わせに位置させられた横方
向の溝穴により、水等の洗浄液が通路沿いに均一に撒か
れる。プリント回路板がこのトンネルを通して搬送され
る際、回路板の上下面とトンネルの天井および床面との
間の通路は、回路板面沿いに洗浄液の急速な流れを与え
る。
横方向の溝穴およびトンネルの寸法は、連続的な高速液
流を、大容量の低圧再循環ポンプの機能を過度に制限な
いし抑圧することなく維持できるように決められる。プ
リント回路板の上下における液の多量の流れは、制御さ
れた漏出領域を通して連続的に排出されて液だめに送ら
れ、再循環させられる。ロールコンベヤがこの狭い通路
すなわちトンネルを通して回路板を搬送するが、その際
、入力側および出力側におけるロール間隙は、所望の極
小寸法の回路板を処理すべく選択された僅小の間隔で離
しであるにすぎない。従って、洗浄装置は比較的小型で
あり、従来の洗浄システムに比べて、長さがはるかに短
い。
流を、大容量の低圧再循環ポンプの機能を過度に制限な
いし抑圧することなく維持できるように決められる。プ
リント回路板の上下における液の多量の流れは、制御さ
れた漏出領域を通して連続的に排出されて液だめに送ら
れ、再循環させられる。ロールコンベヤがこの狭い通路
すなわちトンネルを通して回路板を搬送するが、その際
、入力側および出力側におけるロール間隙は、所望の極
小寸法の回路板を処理すべく選択された僅小の間隔で離
しであるにすぎない。従って、洗浄装置は比較的小型で
あり、従来の洗浄システムに比べて、長さがはるかに短
い。
本発明の1つの望ましい実施例においては、プリント回
路板が入力側コンヘヤローラーを通過して移動すると、
上部ローラーならびにマニホールドが上方に動かされて
トンネルの高さが増し、もっ”ζ種々の厚みの回路板の
収容を可能にしている。
路板が入力側コンヘヤローラーを通過して移動すると、
上部ローラーならびにマニホールドが上方に動かされて
トンネルの高さが増し、もっ”ζ種々の厚みの回路板の
収容を可能にしている。
プリント回路板の洗浄には、複数の段階(ステージ)が
使用される。前期諸段階においては洗浄剤の加熱した水
溶液を使用して回路板の洗浄を行い、一方後期諸段階に
おいては温水にてプリント回路板のすすぎを行う。段階
の数を4つとすれば、洗浄システムの長さは僅かに数フ
ィートの程度にすることができ、これは効果において劣
る従来の洗浄システムに比べてはるかに短い。
使用される。前期諸段階においては洗浄剤の加熱した水
溶液を使用して回路板の洗浄を行い、一方後期諸段階に
おいては温水にてプリント回路板のすすぎを行う。段階
の数を4つとすれば、洗浄システムの長さは僅かに数フ
ィートの程度にすることができ、これは効果において劣
る従来の洗浄システムに比べてはるかに短い。
(実施例)
以下、図面を参照して説明すると、上部マニホールド1
0は下面11を含み、この下面にはマニホールド内部1
3と連通ずる横方向の溝穴12が形成されている。同様
の下部マニホールド14は下面15を含み、この上面に
はマニホールド内部17と連通ずる横方向の溝穴16が
形成されている。大容量の低圧再循環ポンプ20ならび
に上下マニホールドのインレット21に接続されたポー
ス】8および19を通して洗浄剤の水溶液等の加熱洗浄
液がマニホールドに供給される。第2図において破線が
略示する容器すなわち液だめ22が、後述するようにマ
ニホールド間を通って流れる液20aを受ける。容器す
なわち液だめ22からヒータ24へ通ずるホースもしく
は導管23を介して液は送られて加熱され、ホース25
を介してポンプ20に供給される。分かり易くするため
に図ではポンプは液をマニホールドへ直接送るように示
しであるが、ヒータをポンプの出力側に位置させた方が
望ましい場合がしばしばある。
0は下面11を含み、この下面にはマニホールド内部1
3と連通ずる横方向の溝穴12が形成されている。同様
の下部マニホールド14は下面15を含み、この上面に
はマニホールド内部17と連通ずる横方向の溝穴16が
形成されている。大容量の低圧再循環ポンプ20ならび
に上下マニホールドのインレット21に接続されたポー
ス】8および19を通して洗浄剤の水溶液等の加熱洗浄
液がマニホールドに供給される。第2図において破線が
略示する容器すなわち液だめ22が、後述するようにマ
ニホールド間を通って流れる液20aを受ける。容器す
なわち液だめ22からヒータ24へ通ずるホースもしく
は導管23を介して液は送られて加熱され、ホース25
を介してポンプ20に供給される。分かり易くするため
に図ではポンプは液をマニホールドへ直接送るように示
しであるが、ヒータをポンプの出力側に位置させた方が
望ましい場合がしばしばある。
マニホールド間11および15により形成された隘路す
なわちトンネル31を通してプリント回路板30を搬送
すべく、適当なローラー32および33が、マニホール
ド10および14の隣に位置させられた入力側ローラー
34および35から適当な距離をとった位置に設けられ
る。横方向フランジllaおよび15aが面11および
15から水平方向に突出し、外側へ向けてローラー34
および35の近傍に角度をなして延びており、マニホー
ルド10ト14の間におけるトンネル31内に回路板3
0を案内する。
なわちトンネル31を通してプリント回路板30を搬送
すべく、適当なローラー32および33が、マニホール
ド10および14の隣に位置させられた入力側ローラー
34および35から適当な距離をとった位置に設けられ
る。横方向フランジllaおよび15aが面11および
15から水平方向に突出し、外側へ向けてローラー34
および35の近傍に角度をなして延びており、マニホー
ルド10ト14の間におけるトンネル31内に回路板3
0を案内する。
通路31の出口の隣に位置させられた出力側ローラー3
6および37は、このステーションにおける洗浄の完了
した後にプリント回路板3oを受ける。横方向に延びた
回路板案内用フランジ15bが面15より延び、ローラ
ー37の近傍に位置させられている。
6および37は、このステーションにおける洗浄の完了
した後にプリント回路板3oを受ける。横方向に延びた
回路板案内用フランジ15bが面15より延び、ローラ
ー37の近傍に位置させられている。
溝穴12および16の形状は任意のものであってよい。
例えば、差渡しがマニホールド内部からマニホールド面
に至るまで一定の垂直溝穴にしてもよい。しかしながら
、この溝穴12および16は、図示するように前方へ向
けて角度をもたセられ、その前面1.2 aおよび16
aは斜面をなして、トンネル31内におけるプリント回
路板、特に薄型のフレキシブル回路板の走行に干渉しな
いようにしであるのが望ましい。さらに、横溝に角度を
もたせることにより、洗浄液は前方へ向けて流れ、後向
きの、通路外へ向かう流れは最小にされ、また、プリン
ト回路板の面上の可能な限り広い範囲を液が流れること
になる。
に至るまで一定の垂直溝穴にしてもよい。しかしながら
、この溝穴12および16は、図示するように前方へ向
けて角度をもたセられ、その前面1.2 aおよび16
aは斜面をなして、トンネル31内におけるプリント回
路板、特に薄型のフレキシブル回路板の走行に干渉しな
いようにしであるのが望ましい。さらに、横溝に角度を
もたせることにより、洗浄液は前方へ向けて流れ、後向
きの、通路外へ向かう流れは最小にされ、また、プリン
ト回路板の面上の可能な限り広い範囲を液が流れること
になる。
回路板の表面および通路3Iを流れたのち、洗浄液は、
排水のための制御された漏出路を経て容器すなわち液だ
め22へ流れ、そこからヒータ24およびポンプ20へ
還流させられる。制御された漏出路は、従って、ローラ
ーの間隙、トンネル31の両側、およびフランジとロー
ラーの間に存在する。
排水のための制御された漏出路を経て容器すなわち液だ
め22へ流れ、そこからヒータ24およびポンプ20へ
還流させられる。制御された漏出路は、従って、ローラ
ーの間隙、トンネル31の両側、およびフランジとロー
ラーの間に存在する。
入力側ローラー34−35の間隙と出力側ローラー36
−37の間隙は、洗浄すべきプリント回路板の最小のも
のの長さよりも幾分短い間隔をとって配置される。例え
ば、洗浄すべき最小のプリント回路板の長さが6ないし
9インチ(15および23センチ)であれば、上記間隔
は6および9インチ(15および23センチ)で十分で
ある。
−37の間隙は、洗浄すべきプリント回路板の最小のも
のの長さよりも幾分短い間隔をとって配置される。例え
ば、洗浄すべき最小のプリント回路板の長さが6ないし
9インチ(15および23センチ)であれば、上記間隔
は6および9インチ(15および23センチ)で十分で
ある。
ローラーは、その表面の不純物が銅箔を傷つけることの
ないように、ウレタンやゴム等の、比較的柔らかい材料
から作られる。ローラーの径は、2ないし2.5インチ
(5,1ないし6.1センチ)が適当である。
ないように、ウレタンやゴム等の、比較的柔らかい材料
から作られる。ローラーの径は、2ないし2.5インチ
(5,1ないし6.1センチ)が適当である。
上部ローラー34および36は、様々な厚みの回路板3
0を容易に通過させるべく、垂直方向に浮き上がるよう
に取り付けられる。下部ローラー33および37は、回
路板を加工している製造ラインの速度につりあったスピ
ードで駆動される。
0を容易に通過させるべく、垂直方向に浮き上がるよう
に取り付けられる。下部ローラー33および37は、回
路板を加工している製造ラインの速度につりあったスピ
ードで駆動される。
マニホールド14の両端に位置させられた支持ないし取
り付は部材40は丁字形をなし、その脚41はボルト4
2等によりマニホールド14に締着される。この部材4
0もまた、マニホールド14を容器22において支持な
らびに位置決めすべく、他の部材(図示しない)に適当
な方法で固定される。また、L字形の部+J’43がマ
ニホールド10の下端部に取り付られ、これを支持する
。L字形部材43の長脚44の各々は支持部材40上に
載置され、一方他端における短脚は適当な部材(図示し
ない)に支持される。板ばね45が丁字形部材40をI
7字形部材43に結びつけ、このばねは脚41の両側に
延びている。マニホールド10をロール34に連結ずべ
く、アーム46が支持部材43から上方へ向けて延び、
ローラー34のシャフト48の両端におけるジャーナル
47に固定される。ローラーのシャフトならびに軸受け
は、適g 当な支持構造(図示しない)に取り付けられる。
り付は部材40は丁字形をなし、その脚41はボルト4
2等によりマニホールド14に締着される。この部材4
0もまた、マニホールド14を容器22において支持な
らびに位置決めすべく、他の部材(図示しない)に適当
な方法で固定される。また、L字形の部+J’43がマ
ニホールド10の下端部に取り付られ、これを支持する
。L字形部材43の長脚44の各々は支持部材40上に
載置され、一方他端における短脚は適当な部材(図示し
ない)に支持される。板ばね45が丁字形部材40をI
7字形部材43に結びつけ、このばねは脚41の両側に
延びている。マニホールド10をロール34に連結ずべ
く、アーム46が支持部材43から上方へ向けて延び、
ローラー34のシャフト48の両端におけるジャーナル
47に固定される。ローラーのシャフトならびに軸受け
は、適g 当な支持構造(図示しない)に取り付けられる。
F部ローラーは適当な方法で駆動されるのに対し、上部
ローラーは垂直方向に可動にされている。
ローラーは垂直方向に可動にされている。
マニホールド支持部材40および43の板ばね45には
、液を含めたマニホールド10ならびにローラー34の
重量を相殺すべく予め荷重がかけである。そうすること
により、ローラー34と35の間を通るプリント回路板
はローラー34を−L方に動かし、かつ板ばね45にた
わめを生じさせ、その結果、マニホールド】0は平行し
て上方へ動き、隘路31を拡大させる。このスプリング
構造は、必要に応じて金属もしくはプラスチックを材料
として、鋳造もしくは組立てによって得られる。
、液を含めたマニホールド10ならびにローラー34の
重量を相殺すべく予め荷重がかけである。そうすること
により、ローラー34と35の間を通るプリント回路板
はローラー34を−L方に動かし、かつ板ばね45にた
わめを生じさせ、その結果、マニホールド】0は平行し
て上方へ動き、隘路31を拡大させる。このスプリング
構造は、必要に応じて金属もしくはプラスチックを材料
として、鋳造もしくは組立てによって得られる。
本発明の洗浄装置の代表的な実施例においては、溝穴】
2および16は、幅が例えば0.06インチ(0,15
センチ)、長さが25インチ(63,5センチ)のオリ
フィスを与えている。1馬力のポンプを使用した場合、
溝穴を通る流星は毎分45ガロン(170,3リツトル
)で、1平方インチあたり20ボンド(1平方センチあ
たり1.4キログラム)となる。
2および16は、幅が例えば0.06インチ(0,15
センチ)、長さが25インチ(63,5センチ)のオリ
フィスを与えている。1馬力のポンプを使用した場合、
溝穴を通る流星は毎分45ガロン(170,3リツトル
)で、1平方インチあたり20ボンド(1平方センチあ
たり1.4キログラム)となる。
それで、
216in’/ G X 45 G / M = 97
20in3/ M(1000cJ/ (4x 1.70
.:H! /分−170,300 ca1分)これを6
0秒でねると、 9720in3/M÷60 s −162in″/5(
170,300cta / m÷60秒−2838CJ
/秒)2つのオリフィスの面積は3平方インチ(19,
35cal)である(0.06inX 25inX 2
)から、162in3/ s 4−31n2= 54
in/ 5(2838cn+/ s÷19.35cal
=147 cm/秒)の流速となる。
20in3/ M(1000cJ/ (4x 1.70
.:H! /分−170,300 ca1分)これを6
0秒でねると、 9720in3/M÷60 s −162in″/5(
170,300cta / m÷60秒−2838CJ
/秒)2つのオリフィスの面積は3平方インチ(19,
35cal)である(0.06inX 25inX 2
)から、162in3/ s 4−31n2= 54
in/ 5(2838cn+/ s÷19.35cal
=147 cm/秒)の流速となる。
従って、洗浄液は、オリフィス、および回路板が中を通
過中の、もしくは通過中でない通路31を、毎秒54イ
ンチ(147センチ)の速度で流れることになる。
過中の、もしくは通過中でない通路31を、毎秒54イ
ンチ(147センチ)の速度で流れることになる。
洗浄液の流れの決定にあたって第一に考慮すべきことは
、流れの大きさが、マニホールドを満たしかつ加圧する
に十分なだりのものであるようにし、その結果hンネル
31内に、溝穴の端から端2】 までまんべんなく行きわたる均一な流れを与えるように
するということである。言い換えれば、溝穴は液を通路
31内に均一に分配し、通路内に液の多量の流れを与え
るようにする。
、流れの大きさが、マニホールドを満たしかつ加圧する
に十分なだりのものであるようにし、その結果hンネル
31内に、溝穴の端から端2】 までまんべんなく行きわたる均一な流れを与えるように
するということである。言い換えれば、溝穴は液を通路
31内に均一に分配し、通路内に液の多量の流れを与え
るようにする。
通路すなわちトンネルのスペースは、溝穴12および1
6を通る流れに関係する。マニホールドの間にパネルが
存在しない状態においては、ローラー31−33および
36−37のローラー間隙の中心線からマニホールド面
までの間隙は、例えば0.06インチ(0,15センチ
)であり、従って間隙は全体で0.12インチ(0,3
センチ)である。
6を通る流れに関係する。マニホールドの間にパネルが
存在しない状態においては、ローラー31−33および
36−37のローラー間隙の中心線からマニホールド面
までの間隙は、例えば0.06インチ(0,15センチ
)であり、従って間隙は全体で0.12インチ(0,3
センチ)である。
例えば上記寸法の場合、圧力降下は溝穴と、マニホール
ド間の通路との間で分配される。ポンプの圧力が適正で
あるとすれば、溝穴の各々の幅は、例えば0.06ない
し0.12インチ(0,15ないし0.3センチ)にで
きる。溝穴をこのようにした場合、圧力降ドの可成りの
部分がマニホールド面の間の流路において生ずることに
なる。効果的な洗浄を行うために高速の多量の流れを与
えるには、実質的な圧力降下か、作用すなわち洗浄個所
において、すなわち通路31内において、回路板がそこ
を通過する際に生じる必要がある。
ド間の通路との間で分配される。ポンプの圧力が適正で
あるとすれば、溝穴の各々の幅は、例えば0.06ない
し0.12インチ(0,15ないし0.3センチ)にで
きる。溝穴をこのようにした場合、圧力降ドの可成りの
部分がマニホールド面の間の流路において生ずることに
なる。効果的な洗浄を行うために高速の多量の流れを与
えるには、実質的な圧力降下か、作用すなわち洗浄個所
において、すなわち通路31内において、回路板がそこ
を通過する際に生じる必要がある。
所与の厚みが1種類だけしかないプリント回路板を洗浄
する場合は、ローラーならびにマニホールドは、各回路
板面から面11および15までの距離が例えば0.06
インチ(0,15センチ)である状態でプリント回路板
が通路31内を搬送されるようにセットされる。
する場合は、ローラーならびにマニホールドは、各回路
板面から面11および15までの距離が例えば0.06
インチ(0,15センチ)である状態でプリント回路板
が通路31内を搬送されるようにセットされる。
しかしながら、厚みが0.20インチ(0,51センチ
)のプリント回路板と、厚みが0.10インチ(0,2
5センチ)のフレキシブル回路板とを通過させるという
ような場合には、回路板の下側における間隙は0.06
インチ(0,15センチ)のままであるが、回路板と通
路の天井との間の間隙は、0.25インチ(0,64セ
ンチ)程度になる。こうした状況においては、洗浄は完
遂されるものの、フレキシブル回路板は上面よりも下面
の方がより効果的に洗浄されることが判明している。こ
のような結果になるのは、回路板下面と面15の間にお
りる圧力降下の方が回路板上面と面11の間における圧
力降下よりも大きいからである。従って、より速い多量
の流れが回路板下面において生じ、それをより効果的に
洗浄することになる。
)のプリント回路板と、厚みが0.10インチ(0,2
5センチ)のフレキシブル回路板とを通過させるという
ような場合には、回路板の下側における間隙は0.06
インチ(0,15センチ)のままであるが、回路板と通
路の天井との間の間隙は、0.25インチ(0,64セ
ンチ)程度になる。こうした状況においては、洗浄は完
遂されるものの、フレキシブル回路板は上面よりも下面
の方がより効果的に洗浄されることが判明している。こ
のような結果になるのは、回路板下面と面15の間にお
りる圧力降下の方が回路板上面と面11の間における圧
力降下よりも大きいからである。従って、より速い多量
の流れが回路板下面において生じ、それをより効果的に
洗浄することになる。
第1図ないし第3図に図示する本発明の望ましい実施例
の場合には、様々な厚みのプリント回路板を収容し、か
つ洗浄することが可能である。例えば、厚みが0.01
0インチ(0,(125センチ)のフレキシブル回路板
は、ローラー33と34をほとんど分離させず、従って
マニホールド10は動くにしてもごく僅かである。しか
しながら、パネルの2つの面とマニホールド面との間に
は、0.06インチ(0,15センチ)の間隙が存在し
ている。
の場合には、様々な厚みのプリント回路板を収容し、か
つ洗浄することが可能である。例えば、厚みが0.01
0インチ(0,(125センチ)のフレキシブル回路板
は、ローラー33と34をほとんど分離させず、従って
マニホールド10は動くにしてもごく僅かである。しか
しながら、パネルの2つの面とマニホールド面との間に
は、0.06インチ(0,15センチ)の間隙が存在し
ている。
厚みが0.25インチ(0,64センチ)のプリント回
路を洗浄する必要がある場合には、ローラー34は、0
.25インチ厚の回路板がローラー間隙を通過する際に
上方に動き、その際にマニホールド10を一緒に動かし
、もって通路すなわちトンネルの間隙を0.25インチ
(0,64センチ)だけ増大させる。しかしながら、各
回路板面とマニボA −ルド面11および15の間には、0.06インチ(0
,15センチ)の間隙が維持されている。
路を洗浄する必要がある場合には、ローラー34は、0
.25インチ厚の回路板がローラー間隙を通過する際に
上方に動き、その際にマニホールド10を一緒に動かし
、もって通路すなわちトンネルの間隙を0.25インチ
(0,64センチ)だけ増大させる。しかしながら、各
回路板面とマニボA −ルド面11および15の間には、0.06インチ(0
,15センチ)の間隙が維持されている。
洗浄すべき0.25インチ厚の回路板の幅が10インチ
(25,4センチ)しかないとすれば、通路31内にお
けるパネルの両側の流路は0.3フインチ(0,94セ
ンチ)まで拡大される。しかしながら、回路板面とマニ
ホールド面との間における0、06インチの間隙により
、拡大された流路に向かう急速な多量の流れが生じ、従
ってプリント回路板は効果的に洗浄される。
(25,4センチ)しかないとすれば、通路31内にお
けるパネルの両側の流路は0.3フインチ(0,94セ
ンチ)まで拡大される。しかしながら、回路板面とマニ
ホールド面との間における0、06インチの間隙により
、拡大された流路に向かう急速な多量の流れが生じ、従
ってプリント回路板は効果的に洗浄される。
図中の寸法のうちの一部は理解を助けるために誇張され
ている場合もあり、一定の比率で縮尺されたものではな
いことに注意されたい。
ている場合もあり、一定の比率で縮尺されたものではな
いことに注意されたい。
半田付けをしたプリント回路からフラックスその他の残
存不純物を洗い落とすにあたっては、幾つかの加工ステ
ージが使用される。第2図の場合、マニホールド10お
よび14を使用する第1の洗浄ステージにおいては、洗
浄剤の加熱した水溶液が使用される。次いで、回路板は
コンベヤ51により、第1のそれと同様な第2洗浄ステ
ージ52へ送られる。別のコンベヤ53がプリント回路
板をすすぎステージ54に搬送するが、これは上述した
ものと構造は同じであり、回路板をずずくべく温水のみ
を使用する点が異なるだけである。最後に、コンベヤ5
5によって、回路板はステージ54と同様の第2すすぎ
ステージに送られ、しかる後にコンベヤ57により、適
当な乾燥装置へ送られる。
存不純物を洗い落とすにあたっては、幾つかの加工ステ
ージが使用される。第2図の場合、マニホールド10お
よび14を使用する第1の洗浄ステージにおいては、洗
浄剤の加熱した水溶液が使用される。次いで、回路板は
コンベヤ51により、第1のそれと同様な第2洗浄ステ
ージ52へ送られる。別のコンベヤ53がプリント回路
板をすすぎステージ54に搬送するが、これは上述した
ものと構造は同じであり、回路板をずずくべく温水のみ
を使用する点が異なるだけである。最後に、コンベヤ5
5によって、回路板はステージ54と同様の第2すすぎ
ステージに送られ、しかる後にコンベヤ57により、適
当な乾燥装置へ送られる。
上述したように、通路31内における高速液流の効果的
な洗浄作用のゆえに、加工ステージは短く、例えば6な
いし9インチ(15ないし23センチ)程度である。従
って、第2図に示す洗浄システムの4つのステージは、
わずか数フィーI・の距離内に収めることができ、これ
は本発明における極めて好ましい特徴の1つとなってい
る。
な洗浄作用のゆえに、加工ステージは短く、例えば6な
いし9インチ(15ないし23センチ)程度である。従
って、第2図に示す洗浄システムの4つのステージは、
わずか数フィーI・の距離内に収めることができ、これ
は本発明における極めて好ましい特徴の1つとなってい
る。
洗浄液は、各ステージを通して再循環される。
例えば、最後のすすぎステージにおいて新鮮な水を供給
し、最初の洗浄ステージにおいて最終的な排水が行われ
るようにすることができる。要すれば、洗浄剤を初期の
諸ステージにおいて加え、U+水はそれらのステージに
限定されるようにしてもよい。
し、最初の洗浄ステージにおいて最終的な排水が行われ
るようにすることができる。要すれば、洗浄剤を初期の
諸ステージにおいて加え、U+水はそれらのステージに
限定されるようにしてもよい。
本発明の装置ならびに方法は特定の実施例との関連にお
いて記述したが、種々の修正変更が当業者により行われ
うろことは言うまでもなく、発明の範囲は添付の特許請
求の範囲において明確にされる。
いて記述したが、種々の修正変更が当業者により行われ
うろことは言うまでもなく、発明の範囲は添付の特許請
求の範囲において明確にされる。
第1図は理解の便宜上部分的に省略しである本発明の洗
浄装置の一部破断斜視図、第2図は第1図の2−2線に
よる矢印方向に見た断面図兼付属の諸加エステージョン
の概略図、第3図は本発明の装置の端面図である。 10−上部マニホールド・ 11−マニホールド面、 12−溝穴、 13−マニホールド内部、 14−下部マニホールド、 15−マニホールド面、 16−溝穴、 17−マニホールド内部、 18.19−ホース、 20−ポンプ、 21− インレソI・、 22−液だめ、 23・−導管、 24− ヒータ、 25−導管、 30−プリント回路板、 31−通路、 32.33− ローラー、 34.35−入力端ローラー、 36.37−出力側ローラー、 40−丁字形部材、 41−脚、 42−=−ボルト、 43−L字形部材、44
−長脚、 45−板ばね、46−アーム、
47−ジャーナル、48−シャフト、 5
2−洗浄ステージ、51.53.55.57−コンベヤ
、 54.56−すすぎステージ。 手続補正書(方式) 63,3.24 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年特許願第294988
号2、発明の名称 プリント回路板の洗浄方法及び
装置3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 テレダイン インダストリーズインコーホレ
ーテッド 4、代理人
浄装置の一部破断斜視図、第2図は第1図の2−2線に
よる矢印方向に見た断面図兼付属の諸加エステージョン
の概略図、第3図は本発明の装置の端面図である。 10−上部マニホールド・ 11−マニホールド面、 12−溝穴、 13−マニホールド内部、 14−下部マニホールド、 15−マニホールド面、 16−溝穴、 17−マニホールド内部、 18.19−ホース、 20−ポンプ、 21− インレソI・、 22−液だめ、 23・−導管、 24− ヒータ、 25−導管、 30−プリント回路板、 31−通路、 32.33− ローラー、 34.35−入力端ローラー、 36.37−出力側ローラー、 40−丁字形部材、 41−脚、 42−=−ボルト、 43−L字形部材、44
−長脚、 45−板ばね、46−アーム、
47−ジャーナル、48−シャフト、 5
2−洗浄ステージ、51.53.55.57−コンベヤ
、 54.56−すすぎステージ。 手続補正書(方式) 63,3.24 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年特許願第294988
号2、発明の名称 プリント回路板の洗浄方法及び
装置3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 テレダイン インダストリーズインコーホレ
ーテッド 4、代理人
Claims (14)
- (1)下面を備えた上部マニホールドと、上面を備えた
下部マニホールドと、前記下面と上面の間に狭い通路を
設けるべく前記上部マニホールドと前記下部マニホール
ドを取り付ける手段と、前記上部マニホールドに形成さ
れた横方向の溝穴と、前記下部マニホールドに形成され
た横方向の溝穴と、1組の入力側ローラーと1組の出力
側ローラーを含む通路を通してプリント回路板を搬送す
るための手段と、前記上部マニホールドおよび前記下部
マニホールドに洗浄液を圧力をかけて供給して前記溝穴
を通して液を流し、前記通路内に液の急速な流れを与え
るための手段とからなり、前記通路を通して搬送される
プリント回路板は、回路板面とマニホールド面の間を急
速に流れる液によって洗浄されることを特徴とするプリ
ント回路板を洗浄するための装置。 - (2)前記洗浄液を供給するための手段は、ポンプと、
前記通路を通って流れた液を受けるための容器と、液を
再循環させるための手段とを含むことを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の装置。 - (3)再循環させられた洗浄液を加熱するための手段を
含むことを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の装
置。 - (4)前記溝穴は、回路板の進行方向に角度をもたせて
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の装
置。 - (5)下面を備えた上部マニホールドと、上面を備えた
下部マニホールドと、前記下面と上面の間に狭い通路を
設けるべく前記上部マニホールドと前記下部マニホール
ドを取り付ける手段と、前記上部マニホールドに形成さ
れた横方向の溝穴と、前記下部マニホールドに形成され
た横方向の溝穴と、1組の入力側ローラーと1組の出力
側ローラーを含む通路を通してプリント回路板を搬送す
るための手段と、前記上部マニホールドおよび前記下部
マニホールドに洗浄液を圧力をかけて供給して前記溝穴
を通して液を流し、前記通路内に液の急速な流れを与え
るための手段とからなり、前記マニホールドを取り付け
る手段は、プリント回路板が入力側ローラーを押し拡げ
る際にそれに応じて動くことによりマニホールド面の間
の通路の高さを増大させて、回路板面とマニホールド面
との間に、洗浄される回路板の厚みの如何にかかわらず
、実質的に均一な流路を与え、また、前記通路を通して
搬送される種々に異なる厚みのプリント回路板は、回路
板面とマニホールド面の間を急速に流れる液によって洗
浄されることを特徴とする厚みが種々に異なるプリント
回路板を洗浄するための装置。 - (6)前記洗浄液を供給するための手段は、ポンプと、
前記通路を通って流れた液を受けるための容器と、液を
再循環させるための手段とを含むことを特徴とする特許
請求の範囲第5項に記載の装置。 - (7)再循環させられた洗浄液を加熱するための手段を
含むことを特徴とする特許請求の範囲第6項に記載の装
置。 - (8)前記溝穴は、回路板の進行方向に角度をもたせて
あることを特徴とする特許請求の範囲第5項に記載の装
置。 - (9)複数個の洗浄ステージと、各洗浄ステージを順次
通してプリント回路板を搬送するための搬送手段より構
成され、前記洗浄ステージの各々は、下面を備えた上部
マニホールドと、上面を備えた下部マニホールドと、前
記下面の上面の間に狭い通路を設けるべく前記上部マニ
ホールドと前記下部マニホールドを取り付ける手段と、
前記上部マニホールドに形成された横方向の溝穴と、前
記下部マニホールドに形成された横方向の溝穴と、1組
の入力側ローラーと1組の出力側ローラーを含む通路を
通してプリント回路板を搬送するための手段と、前記上
部マニホールドおよび前記下部マニホールドに洗浄液を
圧力をかけて供給して前記溝穴を通して液を流し、前記
通路内に液の急速な流れを与えるための手段とからなり
、前記通路を通して搬送されるプリント回路板は、回路
板面とマニホールド面の間を急速に流れる液によって洗
浄されることを特徴とするプリント回路板を洗浄するた
めのシステム。 - (10)複数個の洗浄ステージと、各洗浄ステージを順
次通してプリント回路板を搬送するための搬送手段より
構成され、前記洗浄ステージの各々は、下面を備えた上
部マニホールドと、上面を備えた下部マニホールドと、
前記下面と上面の間に狭い通路を設けるべく前記上部マ
ニホールドと前記下部マニホールドを取り付ける手段と
、前記上部マニホールドに形成された横方向の溝穴と、
前記下部マニホールドに形成された横方向の溝穴と、1
組の入力側ローラーと1組の出力側ローラーを含む通路
を通してプリント回路板を搬送するための手段と、前記
上部マニホールドおよび前記下部マニホールドに洗浄液
を圧力をかけて供給して前記溝穴を通して液を流し、前
記通路内に液の急速な流れを与えるための手段とからな
り、前記マニホールドを取り付ける手段はプリント回路
板が入力側ローラーを押し拡げる際にそれに応じて動く
ことによりマニホールド面の間の通路の高さを増大させ
て、回路板面とマニホールド面の間に、洗浄される回路
板の厚みの如何にかかわらず、実質的に均一な流路を与
え、また、前記通路を通して搬送される種々に異なる厚
みのプリント回路板は、回路板面とマニホールド面の間
を急速に流れる液によって洗浄されることを特徴とする
厚みが種々に異なるプリント回路板を洗浄するためのシ
ステム。 - (11)1組のマニホールドの間に狭い通路を設けるス
テップと、前記マニホールドにおける溝穴を通して、前
記通路内で液が急速に流れるに十分なだけの供給量と圧
力をもって、洗浄液を前記通路内に流すステップと、前
記通路を通してプリント回路板を搬送するステップとか
らなり、通路内におけるプリント回路板は、回路板の表
面を急速に流れる液によって洗浄されることを特徴とす
るプリント回路板を洗浄するための方法。 - (12)プリント回路板を洗浄するための複数個のステ
ージを設けるステップと、最初のステージから最後のス
テージまで順次回路板を搬送するステップからなり、各
ステージにおいて特許請求の範囲第11項に記載の方法
が実施されることを特徴とする特許請求の範囲第11項
に記載の方法。 - (13)互いに向かい合った横方向の溝穴を有する1組
のマニホールドの間に狭い通路を設け、前記溝穴は前記
マニホールドと前記通路を連通させるようにするステッ
プと、前記溝穴を通して前記通路内に、また前記通路内
を、液が均一に流れるようにすべく十分なだけの量およ
び圧力をもって洗浄液を前記マニホールドに供給するス
テップと、前記通路を通してプリント回路板を搬送する
ステップと、回路板面とマニホールド面の間にスペース
を与えて狭い通路を形成し、この狭い通路に実質的な圧
力降下を生じさせて、回路板面に沿った急速な液の流れ
を与えるようにするステップとからなることを特徴とす
るプリント回路板を洗浄するための方法。 - (14)プリント回路板を洗浄するための複数個のステ
ージを設けるステップと、最初のステージから最後のス
テージまで順次回路板を搬送するステップからなり、各
ステージにおいて特許請求の範囲第13項に記載の方法
が実施されることを特徴とする特許請求の範囲第13項
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/933,768 US4938257A (en) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | Printed circuit cleaning apparatus |
| US933768 | 1986-11-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63220596A true JPS63220596A (ja) | 1988-09-13 |
Family
ID=25464471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62294988A Pending JPS63220596A (ja) | 1986-11-21 | 1987-11-21 | プリント回路板の洗浄方法及び装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4938257A (ja) |
| JP (1) | JPS63220596A (ja) |
| DE (1) | DE3739439A1 (ja) |
| FR (1) | FR2607347B1 (ja) |
| GB (1) | GB2197581A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63232391A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-28 | 富士機工電子株式会社 | スルホ−ルの付着物除去方法及び装置 |
| JPH0645733A (ja) * | 1992-05-18 | 1994-02-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 基板への流体供給装置及び基板処理方法 |
| JPH0671232A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-03-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 流体処理装置と方法 |
| JPH06170341A (ja) * | 1992-08-11 | 1994-06-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 流体処理装置と方法 |
| JP2007517649A (ja) * | 2004-01-16 | 2007-07-05 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 処理媒体での被処理物処理のためのノズル配列及び方法 |
| JP2011000571A (ja) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Hitachi Plant Technologies Ltd | フィルムの洗浄ノズル装置 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3916693A1 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-29 | Schering Ag | Anordnung zur behandlung und/oder reinigung von gut, insbesondere von mit bohrungen versehenen leiterplatten |
| DE3916694A1 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-29 | Schering Ag | Anordnung zur chemischen behandlung und/oder reinigung von gut, insbesondere von mit bohrungen versehenen leiterplatten, sowie dazugehoeriges verfahren |
| US4999079A (en) * | 1989-06-02 | 1991-03-12 | Chemcut Corporation | Process and apparatus for treating articles and preventing their wrap around a roller |
| US5129956A (en) * | 1989-10-06 | 1992-07-14 | Digital Equipment Corporation | Method and apparatus for the aqueous cleaning of populated printed circuit boards |
| EP0544762A4 (en) * | 1990-08-20 | 1995-01-11 | A.D.D. Co. | Hydro impact medical and dental instruments washer |
| DE4121079A1 (de) * | 1991-06-26 | 1993-01-07 | Schmid Gmbh & Co Geb | Vorrichtung zum behandeln von plattenfoermigen gegenstaenden |
| WO1993001699A1 (en) * | 1991-07-02 | 1993-01-21 | Egeland Bjoern | Method for cleaning printed circuit boards and apparatus for use by the method |
| US5378307A (en) * | 1993-04-28 | 1995-01-03 | International Business Machines Corporation | Fluid treatment apparatus |
| US5601655A (en) * | 1995-02-14 | 1997-02-11 | Bok; Hendrik F. | Method of cleaning substrates |
| US5720813A (en) | 1995-06-07 | 1998-02-24 | Eamon P. McDonald | Thin sheet handling system |
| US5837067A (en) * | 1995-06-07 | 1998-11-17 | International Business Machines Corporation | Precision fluid head transport |
| US5614264A (en) * | 1995-08-11 | 1997-03-25 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus and method |
| DE19530989C1 (de) * | 1995-08-23 | 1997-03-13 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum Filmstrippen |
| US5924431A (en) * | 1996-08-02 | 1999-07-20 | Accel | Electronic component cleaning apparatus |
| JP3317477B2 (ja) * | 1996-09-27 | 2002-08-26 | 本田技研工業株式会社 | ブランク材洗浄ブース及びブランク材洗浄装置 |
| DE19934301A1 (de) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | Steag Micro Tech Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Transportieren eines Halbleiterwafers durch einen Behandlungsbehälter |
| US6653243B2 (en) * | 2000-05-25 | 2003-11-25 | Micron Technology, Inc. | Methods of cleaning surfaces of copper-containing materials, and methods of forming openings to copper-containing substrates |
| US6541391B2 (en) * | 2001-02-28 | 2003-04-01 | Micron Technology, Inc. | Methods of cleaning surfaces of copper-containing materials, and methods of forming openings to copper-containing substrates |
| US6589882B2 (en) | 2001-10-24 | 2003-07-08 | Micron Technology, Inc. | Copper post-etch cleaning process |
| US7367343B2 (en) * | 2006-01-23 | 2008-05-06 | Micron Technology, Inc. | Method of cleaning a surface of a cobalt-containing material, method of forming an opening to a cobalt-containing material, semiconductor processing method of forming an integrated circuit comprising a copper-containing conductive line, and a cobalt-containing film cleaning solution |
| US9206514B2 (en) | 2007-01-11 | 2015-12-08 | Peter Philip Andrew Lymn | Liquid treatment apparatus |
| SG10201604733WA (en) * | 2011-12-15 | 2016-08-30 | Entegris Inc | Apparatus and method for stripping solder metals during the recycling of waste electrical and electronic equipment |
| FR3089841B1 (fr) | 2018-12-17 | 2021-01-29 | Saint Jean Tooling | Dispositif de marquage d’une pièce |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1038359A (en) * | 1964-05-27 | 1966-08-10 | Drever Co | Roller pressure quench system |
| US3421211A (en) * | 1966-03-17 | 1969-01-14 | Hewlett Packard Co | Method of making and cleaning printed circuit assemblies |
| US3603329A (en) * | 1968-11-06 | 1971-09-07 | Brown Eng Co Inc | Apparatus for manufacturing printed circuits |
| BE758799A (fr) * | 1969-11-12 | 1971-05-12 | Drever Co | Appareil de trempe |
| US3687145A (en) * | 1970-06-26 | 1972-08-29 | Inland Steel Co | Quench system |
| US3871914A (en) * | 1971-10-18 | 1975-03-18 | Chemcut Corp | Etchant rinse apparatus |
| US3791345A (en) * | 1972-05-09 | 1974-02-12 | Itek Corp | Liquid toner applicator |
| US3868272A (en) * | 1973-03-05 | 1975-02-25 | Electrovert Mfg Co Ltd | Cleaning of printed circuit boards by solid and coherent jets of cleaning liquid |
| FR2223096B1 (ja) * | 1973-03-26 | 1976-09-10 | Usinor | |
| GB1537924A (en) * | 1976-03-04 | 1979-01-10 | Buckbee Mears Co | Apparatus for the distribution of fluid to the surface of an article |
| US4132393A (en) * | 1976-06-30 | 1979-01-02 | Nippon Steel Corporation | Apparatus for cooling hot steel plate and sheet |
| US4149703A (en) * | 1978-01-31 | 1979-04-17 | Drever Company | Apparatus for quenching a heated metal plate |
| US4479849A (en) * | 1980-09-25 | 1984-10-30 | Koltron Corporation | Etchant removal apparatus and process |
| JPS5792141A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-08 | Kawasaki Steel Corp | Continuous hardening device for steel plate |
| DE3209875A1 (de) * | 1982-03-18 | 1983-09-29 | Aktiengesellschaft der Dillinger Hüttenwerke, 6638 Dillingen | Vorrichtung zum kuehlen von blech |
| US4425869A (en) * | 1982-09-07 | 1984-01-17 | Advanced Systems Incorporated | Fluid flow control mechanism for circuit board processing apparatus |
| FR2543459B1 (fr) * | 1983-04-01 | 1986-07-11 | Annemasse Ultrasons | Procede de nettoyage en milieu solvant d'au moins un objet longiligne continu, appareil pour la mise en oeuvre du procede et emploi dudit appareil |
| FR2548344B1 (fr) * | 1983-06-30 | 1987-08-21 | Delcampe Pierre | Dispositif de sechage en defile de produits se presentant sous forme de |
| BE900784A (fr) * | 1984-10-09 | 1985-04-09 | Centre Rech Metallurgique | Dispositif pour refroidir un produit metallique en mouvement et installation en comportant l'apllication. |
| IT8423839U1 (it) * | 1984-11-20 | 1986-05-20 | Bovone Vittorio | Dispositivo per l'adattamento automatico allo spessore delle lastre di vetro nella produzione degli specchi vetrate isolanti e vetri stratificati |
| US4608941A (en) * | 1985-01-10 | 1986-09-02 | Teledyne Electro-Mechanisms | Apparatus for soldering printed circuit panels |
| US4709716A (en) * | 1986-09-16 | 1987-12-01 | Rca Corporation | Rinse tank |
| US4766916A (en) * | 1986-11-21 | 1988-08-30 | Bowden Donald R | Continuous conveyor degreasing and cleaning machine |
-
1986
- 1986-11-21 US US06/933,768 patent/US4938257A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-11-19 GB GB08727103A patent/GB2197581A/en not_active Withdrawn
- 1987-11-20 FR FR878716125A patent/FR2607347B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-20 DE DE19873739439 patent/DE3739439A1/de not_active Withdrawn
- 1987-11-21 JP JP62294988A patent/JPS63220596A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63232391A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-28 | 富士機工電子株式会社 | スルホ−ルの付着物除去方法及び装置 |
| JPH0645733A (ja) * | 1992-05-18 | 1994-02-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 基板への流体供給装置及び基板処理方法 |
| JPH0671232A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-03-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 流体処理装置と方法 |
| JPH06170341A (ja) * | 1992-08-11 | 1994-06-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 流体処理装置と方法 |
| JP2007517649A (ja) * | 2004-01-16 | 2007-07-05 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 処理媒体での被処理物処理のためのノズル配列及び方法 |
| KR101203458B1 (ko) | 2004-01-16 | 2012-11-21 | 아토테크 도이칠란드 게엠베하 | 처리 액체로 처리 대상을 처리하는 노즐 장치 및 방법 |
| JP2011000571A (ja) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Hitachi Plant Technologies Ltd | フィルムの洗浄ノズル装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2197581A (en) | 1988-05-25 |
| GB8727103D0 (en) | 1987-12-23 |
| FR2607347A1 (fr) | 1988-05-27 |
| US4938257A (en) | 1990-07-03 |
| FR2607347B1 (fr) | 1990-02-02 |
| DE3739439A1 (de) | 1988-05-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63220596A (ja) | プリント回路板の洗浄方法及び装置 | |
| CA2630885C (en) | Apparatus and method for wet-chemical processing of flat, thin substrates in a continuous method | |
| US3218193A (en) | Automatic foam fluxing | |
| CA2218883A1 (en) | Fluid delivery apparatus and method | |
| JPH0536658A (ja) | 基板洗浄・乾燥装置 | |
| US5038706A (en) | Printed circuits board soldering apparatus | |
| JPH02148883A (ja) | プリント配線板の半田付け装置と方法 | |
| JP3120073B2 (ja) | 薬液処理装置 | |
| US4155775A (en) | Cleaning of high aspect ratio through holes in multilayer printed circuit boards | |
| US5007369A (en) | Apparatus for solder coating printed circuit panels | |
| TW565473B (en) | Cleaning device | |
| TW556459B (en) | Substrate processing equipment | |
| EP0894561B1 (en) | Horizontal soldering system with oil blanket | |
| KR20210146796A (ko) | 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법 | |
| JPH0521936A (ja) | 回路基板洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JP3181884B2 (ja) | 薬液処理装置 | |
| JPH0426189A (ja) | プリント配線板の洗浄方法 | |
| JP3452895B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2004055711A (ja) | 基板処理装置 | |
| TWI423366B (zh) | 藉由低粘度流體移除顆粒用之單基板處理頭 | |
| JPH1051106A (ja) | 印刷配線板のエッチング装置 | |
| JPH0496291A (ja) | プリント配線板の洗浄方法及びその装置 | |
| JPH11111666A (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JP2005056887A (ja) | 基板材の搬送装置 | |
| TW202539807A (zh) | 基材表面處理裝置 |