JPS63223033A - 耐透湿性材料 - Google Patents
耐透湿性材料Info
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- JPS63223033A JPS63223033A JP5781387A JP5781387A JPS63223033A JP S63223033 A JPS63223033 A JP S63223033A JP 5781387 A JP5781387 A JP 5781387A JP 5781387 A JP5781387 A JP 5781387A JP S63223033 A JPS63223033 A JP S63223033A
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- bis
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野］
本発明は特定のポリカーボネート系樹脂からなる耐透湿
性材料に関し、詳しくは 式 で表わされる繰返し単位を９０モル％以上の割合で含有
するポリカーボネート系樹脂からなる耐透湿性にすぐれ
た材料に関する。
性材料に関し、詳しくは 式 で表わされる繰返し単位を９０モル％以上の割合で含有
するポリカーボネート系樹脂からなる耐透湿性にすぐれ
た材料に関する。
〔従来技術および発明が解決しようとする問題点〕従来
から一般に用いられているポリカーボネート樹脂は、２
．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称
ビスフェノールＡ）にホスゲンあるいは炭酸ジフェニル
を反応させて得られるものである。このポリカーボネー
ト樹脂は透明性にすぐれており、メタクリル樹脂ととも
にガラス代替材料として広く用いられている。
から一般に用いられているポリカーボネート樹脂は、２
．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称
ビスフェノールＡ）にホスゲンあるいは炭酸ジフェニル
を反応させて得られるものである。このポリカーボネー
ト樹脂は透明性にすぐれており、メタクリル樹脂ととも
にガラス代替材料として広く用いられている。
しかしながら、上記ポリカーボネート樹脂は耐透湿性が
充分でないという難点があるため、利用しうる分野が制
限されていた。
充分でないという難点があるため、利用しうる分野が制
限されていた。
そこで本発明者らは、このような問題点を解消し、耐透
湿性のすぐれたポリカーボネート系の樹脂を開発すべく
鋭意研究を重ねた。
湿性のすぐれたポリカーボネート系の樹脂を開発すべく
鋭意研究を重ねた。
（問題点を解決するための手段〕
その結果
で表わされる繰返し単位を９０モル％以上の割合で含有
するポリカーボネート系の樹脂が、目的とする特性を有
するものであることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
するポリカーボネート系の樹脂が、目的とする特性を有
するものであることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
すなわち本発明は、
で表わされる繰返し単位〔Ｉ〕、あるいは該繰返し単位
（Ｉ）および 一般式 〔式中、Ｒ１およびＲｚはそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアル
コキシ基あるいはフェニル基を示し、ＸＩは水素原子、
炭素数１〜５のアルキル基あるいはフェニル基を示し、
Ｘｚは水素原子あるいは炭素数１〜５のアルキル基を示
す。〕 で表わされる繰返し単位（ＩＩ）を有し、かつ前記繰返
し単位ＣＩＩ）の含有割合が１０モル％未満であるとと
もに、塩化メチレン溶液の２０°Ｃにおける極限粘度が
０．３ａ／ｇ以上であるポリカーボネート系樹脂からな
る耐透湿性材料を提供するものである。
（Ｉ）および 一般式 〔式中、Ｒ１およびＲｚはそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアル
コキシ基あるいはフェニル基を示し、ＸＩは水素原子、
炭素数１〜５のアルキル基あるいはフェニル基を示し、
Ｘｚは水素原子あるいは炭素数１〜５のアルキル基を示
す。〕 で表わされる繰返し単位（ＩＩ）を有し、かつ前記繰返
し単位ＣＩＩ）の含有割合が１０モル％未満であるとと
もに、塩化メチレン溶液の２０°Ｃにおける極限粘度が
０．３ａ／ｇ以上であるポリカーボネート系樹脂からな
る耐透湿性材料を提供するものである。
本発明の耐透湿性材料は、基本的には上記繰返し単位（
１）および（ＩＩ）から構成されるものであるが、繰返
し単位（ＩＩ）の含有割合が１０モル％未満であること
が必要である。ここで、繰返し単位（ＩＩ）の含有割合
が１０モル％以上になると、得られる材料の耐透湿性が
低下する。この繰返し単位（ＩＩ）の含を割合は１０モ
ル％未満であれば特に制限はなく、０％、即ち繰返し単
位（ＩＩ）を全く含有せず、繰返し単位Ｎ）のみからな
るポリカーボネート樹脂でも充分な耐透湿性を有する。
１）および（ＩＩ）から構成されるものであるが、繰返
し単位（ＩＩ）の含有割合が１０モル％未満であること
が必要である。ここで、繰返し単位（ＩＩ）の含有割合
が１０モル％以上になると、得られる材料の耐透湿性が
低下する。この繰返し単位（ＩＩ）の含を割合は１０モ
ル％未満であれば特に制限はなく、０％、即ち繰返し単
位（ＩＩ）を全く含有せず、繰返し単位Ｎ）のみからな
るポリカーボネート樹脂でも充分な耐透湿性を有する。
本発明の材料を構成するポリカーボネート系樹脂の重合
度は様々であるが、通常は塩化メチレン溶液の２０°Ｃ
における極限粘度が０．３ ｄｌ、／ ｇ以上、好まし
くは０．３５〜１．０ ｄ／ ｇの範囲である。ここで
極限粘度が０．３ ｄｌ、／ ｇ未満では、得られる材
料の機械的強度が小さくなり好ましくない。
度は様々であるが、通常は塩化メチレン溶液の２０°Ｃ
における極限粘度が０．３ ｄｌ、／ ｇ以上、好まし
くは０．３５〜１．０ ｄ／ ｇの範囲である。ここで
極限粘度が０．３ ｄｌ、／ ｇ未満では、得られる材
料の機械的強度が小さくなり好ましくない。
また、繰返し単位（ｎ）において、式中のＲ１゜Ｒ２，
ＸＩおよび＞（１は前述したとおりである。すなわちＲ
１，ＲＺはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子（塩素原子
、臭素原子など）、炭素数１〜５のアルキル基（メチル
基、エチル基、プロピル基。
ＸＩおよび＞（１は前述したとおりである。すなわちＲ
１，ＲＺはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子（塩素原子
、臭素原子など）、炭素数１〜５のアルキル基（メチル
基、エチル基、プロピル基。
ブチル基、ペンチル基）、炭素数１〜５のアルコキシ基
（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基。
（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基。
ペントキシ基）あるいはフェニル基を示し、またＸ′は
水素原子、炭素数１〜５のアルキル基（メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）あるいはフ
ェニル基を示し、さらにＸ２は水素原子あるいは炭素数
１〜５のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基。
水素原子、炭素数１〜５のアルキル基（メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）あるいはフ
ェニル基を示し、さらにＸ２は水素原子あるいは炭素数
１〜５のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基。
ペンチル基）を示す。
本発明の耐透湿性材料は、上記の如く繰返し単位（Ｉ）
および（ＩＩ）を含有するもの、あるいは繰返し単位〔
■〕のみからなるものであるが、繰返し単位（１）、（
ＩＩ）を含有する場合には、これらのランダム共重合体
、ブロック共重合体、交互共重合体など様々である。
および（ＩＩ）を含有するもの、あるいは繰返し単位〔
■〕のみからなるものであるが、繰返し単位（１）、（
ＩＩ）を含有する場合には、これらのランダム共重合体
、ブロック共重合体、交互共重合体など様々である。
本発明の耐透湿性材料は、様々な方法により製造するこ
とができるが、通常は で表わされる１、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１，１−ジフェニルメタンあるいはこれと一般式 〔式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｘ’およびＸ２は前記と同じであ
る。〕 で表わされるビスフェノール類を原料とし、これを水酸
化ナトリウムなどのアルカリ水溶液に溶解したものを、
塩化メチレン、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素あるいはとリジン等の有機溶媒と混合し、次いでこれ
にホスゲンなどの炭酸エステル形成性化合物を導入して
反応させることによって本発明の耐透湿性材料を製造す
るのである。また、別法として、上記ビスフェノール類
をジフェニルカーボネートなどと共に溶融状態で反応さ
せ、エステル交換反応によりフェノールを脱離して本発
明の耐透湿性材料を製造することもできる。
とができるが、通常は で表わされる１、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１，１−ジフェニルメタンあるいはこれと一般式 〔式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｘ’およびＸ２は前記と同じであ
る。〕 で表わされるビスフェノール類を原料とし、これを水酸
化ナトリウムなどのアルカリ水溶液に溶解したものを、
塩化メチレン、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素あるいはとリジン等の有機溶媒と混合し、次いでこれ
にホスゲンなどの炭酸エステル形成性化合物を導入して
反応させることによって本発明の耐透湿性材料を製造す
るのである。また、別法として、上記ビスフェノール類
をジフェニルカーボネートなどと共に溶融状態で反応さ
せ、エステル交換反応によりフェノールを脱離して本発
明の耐透湿性材料を製造することもできる。
この際、式（Ａ）の１．１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１，１−ジフェニルメタント一般式ＣＢ）のビ
スフェノール類との混合割合は、特に制限はないが、１
．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフ
ェニルメタンとホスゲンなどの炭酸エステル形成性化合
物との反応によって繰返し単位ＣＩ）が形成される、ま
た一般式ＣＢ）のビスフェノール類と炭酸エステル形成
性化合物との反応によって繰返し単位（Ｉ［）が形成さ
れることを考慮して、式（Ａｌの１．１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタンを、こ
れと一般式（Ｂ）のビスフェノール類との合計量に対し
て９０モル％以上とすべきである。またホスゲンなどの
炭酸エステル形成性化合物の導入量は、通常は式（Ａ）
の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−
ジフェニルメタンと一般式ＣＢ）のビスフェノール類と
の合計量と等モルあるいはそれ以上とすればよい。
ニル）−１，１−ジフェニルメタント一般式ＣＢ）のビ
スフェノール類との混合割合は、特に制限はないが、１
．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフ
ェニルメタンとホスゲンなどの炭酸エステル形成性化合
物との反応によって繰返し単位ＣＩ）が形成される、ま
た一般式ＣＢ）のビスフェノール類と炭酸エステル形成
性化合物との反応によって繰返し単位（Ｉ［）が形成さ
れることを考慮して、式（Ａｌの１．１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタンを、こ
れと一般式（Ｂ）のビスフェノール類との合計量に対し
て９０モル％以上とすべきである。またホスゲンなどの
炭酸エステル形成性化合物の導入量は、通常は式（Ａ）
の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−
ジフェニルメタンと一般式ＣＢ）のビスフェノール類と
の合計量と等モルあるいはそれ以上とすればよい。
ここで、−１’ＩＱ式ＣＢ〕のビスフェノール類として
は、各種のものがあるが、例えば２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）
；２．２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン；１．ｌ−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１−フェニルエタン；２．２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン；２．２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ペンタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）へブタン；３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）ペンタンプ４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
へブタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルブタン；２，２−ビス（３−クロロ−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−
ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン；２゜２−ビス（３−１−プロピル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン；２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３
，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）プロパン；
２，２−ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン；２，２−ビス（３５ｅｃ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン；１１１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエ
タン；１．１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン；３，３−ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン；３．３−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン；
４，４−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）へブタン；２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン；２，２−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）ヘプタンなどがあげられる。
は、各種のものがあるが、例えば２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）
；２．２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン；１．ｌ−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１−フェニルエタン；２．２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン；２．２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ペンタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）へブタン；３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）ペンタンプ４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
へブタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルブタン；２，２−ビス（３−クロロ−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−
ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン；２゜２−ビス（３−１−プロピル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン；２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３
，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）プロパン；
２，２−ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン；２，２−ビス（３５ｅｃ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン；１１１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエ
タン；１．１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン；３，３−ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン；３．３−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン；
４，４−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）へブタン；２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン；２，２−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）ヘプタンなどがあげられる。
また、炭酸エステル形成性化合物としても、ホスゲンの
ほかに、反応系内においてエステル交換反応時にビスフ
ェノールの水酸基と反応してカーボネート結合を形成す
るものであればよく、例えばジフェニルカーボネート、
ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−）リルカ
ーボネート。
ほかに、反応系内においてエステル交換反応時にビスフ
ェノールの水酸基と反応してカーボネート結合を形成す
るものであればよく、例えばジフェニルカーボネート、
ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−）リルカ
ーボネート。
ジーＰ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカー
ボネートなどがあげられる。
ボネートなどがあげられる。
さらに、この反応にあたっては、適当な触媒や分子量調
１！ｆｆ ＩＪを加えることもできる。ここで触媒とし
ては第三級アミン類や第四級アンモニウム塩類などが好
適である。さらに、分子量調節剤としては、各種のｍ個
フエノールがあり、例えば上述の反応の際の他の条件と
しては、特に制限はなく、要するに所定の極限粘度を有
するような重合度となるように適宜調節すればよい。
１！ｆｆ ＩＪを加えることもできる。ここで触媒とし
ては第三級アミン類や第四級アンモニウム塩類などが好
適である。さらに、分子量調節剤としては、各種のｍ個
フエノールがあり、例えば上述の反応の際の他の条件と
しては、特に制限はなく、要するに所定の極限粘度を有
するような重合度となるように適宜調節すればよい。
本発明の耐透湿性材料は、上述の方法以外にも様々な方
法により製造できる。
法により製造できる。
例えば、（ｉ）一般式（Ｂ）のビスフェノール類をホス
ゲンや炭酸ジフェニル等の炭酸エステル形成性化合物と
反応させてオリゴマーを得、このオリゴマーと１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニル
メタンを反応させる方法、（ｉｉ）１．１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタンを炭
酸エステル形成性化合物と反応させてオリゴマーを得、
このオリゴマーと一般式（Ｂ）のビスフェノール類を反
応させる方法、あるいは（ｉｉｉ）一般式ＣＢ）のビス
フェノール類と１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−１，１−ジフェニルメタンを別々に炭酸エステル形
成性化合物と反応させてそれぞれのオリゴマーを得、こ
のオリゴマー同士を反応させる方法などがあげられる。
ゲンや炭酸ジフェニル等の炭酸エステル形成性化合物と
反応させてオリゴマーを得、このオリゴマーと１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニル
メタンを反応させる方法、（ｉｉ）１．１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタンを炭
酸エステル形成性化合物と反応させてオリゴマーを得、
このオリゴマーと一般式（Ｂ）のビスフェノール類を反
応させる方法、あるいは（ｉｉｉ）一般式ＣＢ）のビス
フェノール類と１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−１，１−ジフェニルメタンを別々に炭酸エステル形
成性化合物と反応させてそれぞれのオリゴマーを得、こ
のオリゴマー同士を反応させる方法などがあげられる。
次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例１
原料の二価フェノールとして、４，４′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン７２．４ｇと、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン５．２ｇを用い、これ
らを６重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液６５０Ｉｙ
ｌＩｌに溶解した溶液および溶媒の塩化メチレン３００
＋ｍＩ！、を邪魔板付き反応器に入れ、室温において激
しく撹拌しながら、これにホスゲンガスを９００ｍ１．
７分の割合で吹き込んだ。
テトラフェニルメタン７２．４ｇと、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン５．２ｇを用い、これ
らを６重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液６５０Ｉｙ
ｌＩｌに溶解した溶液および溶媒の塩化メチレン３００
＋ｍＩ！、を邪魔板付き反応器に入れ、室温において激
しく撹拌しながら、これにホスゲンガスを９００ｍ１．
７分の割合で吹き込んだ。
反応系のｐＨが９．０となった時点でホスゲンガスの吹
き込みを停止し、静置分離してポリカーボネートオリゴ
マーの塩化メチレン溶液を得た。
き込みを停止し、静置分離してポリカーボネートオリゴ
マーの塩化メチレン溶液を得た。
つぎに、この溶液を塩化メチレンで希釈し、全体を４５
０ｍｊ２とした。ついでこれに分子量調節剤としてｐ−
ターシャリ−ブチルフェノール１．６ｇおよび４，４°
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン１８ｇを２規定濃
度の水酸化ナトリウム水溶液に溶解した溶液を加え、激
しく撹拌しながら、触媒としてトリエチルアミンの５重
量％水溶液を加えて１時間反応を行った。
０ｍｊ２とした。ついでこれに分子量調節剤としてｐ−
ターシャリ−ブチルフェノール１．６ｇおよび４，４°
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン１８ｇを２規定濃
度の水酸化ナトリウム水溶液に溶解した溶液を加え、激
しく撹拌しながら、触媒としてトリエチルアミンの５重
量％水溶液を加えて１時間反応を行った。
反応終了後、生成物に塩化メチレン１１！、を加えて希
釈し、ついで水１．５ Ｌ ０．０１規定流度の水酸化
ナトリウム水溶液０．５１、水０．５１．．０．０１規
定濃度の塩酸０．５！、水０．５２の順に洗浄した。つ
ぎに、有機層を分離して５２のメタノール中に注入し、
再沈精製して白色の共重合体を得た。
釈し、ついで水１．５ Ｌ ０．０１規定流度の水酸化
ナトリウム水溶液０．５１、水０．５１．．０．０１規
定濃度の塩酸０．５！、水０．５２の順に洗浄した。つ
ぎに、有機層を分離して５２のメタノール中に注入し、
再沈精製して白色の共重合体を得た。
ここで得られた共重合体は、塩化メチレンを溶媒とする
溶液の２０°Ｃにおける極限粘度〔η〕が０．５１ａ／
ｇであった。また、この共重合体の核磁気共鳴（ＮＭＲ
）スペクトル分析の結果、この共重合体は下記の繰返し
単位（１）および（ＩＩ−Ａ）から成るものであり、単
位ＣＩ）の含有割合が９２モル％の共重合体であること
が確認された。
溶液の２０°Ｃにおける極限粘度〔η〕が０．５１ａ／
ｇであった。また、この共重合体の核磁気共鳴（ＮＭＲ
）スペクトル分析の結果、この共重合体は下記の繰返し
単位（１）および（ＩＩ−Ａ）から成るものであり、単
位ＣＩ）の含有割合が９２モル％の共重合体であること
が確認された。
つぎに、ここで得られた共重合体について、ＡＳＴＭ−
Ｆ３７２−７８に準拠して測定した透湿度は０．３５
ｇ −ｖｗ／ｍ” ２４ｈｒｓ、であった。また、ＪＩ
Ｓ−に−７２０９−１９７５に準拠して測定した吸水率
は２０°Ｃにおいて０．０４重量％であった。
Ｆ３７２−７８に準拠して測定した透湿度は０．３５
ｇ −ｖｗ／ｍ” ２４ｈｒｓ、であった。また、ＪＩ
Ｓ−に−７２０９−１９７５に準拠して測定した吸水率
は２０°Ｃにおいて０．０４重量％であった。
実施例２
実施例１におけるオリゴマー製造時の二価フェノールの
使用量を、４．４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン８０ｇ、２．２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン２ｇとしたほかは、実施例１と同様にした。結
果を第１表に示す。なお、ここで得られた共重合体は実
施例１と同様、前記の繰返し単位ＣＩ）および（ＩＩ−
Ａ）よりなるものである。
使用量を、４．４′−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン８０ｇ、２．２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン２ｇとしたほかは、実施例１と同様にした。結
果を第１表に示す。なお、ここで得られた共重合体は実
施例１と同様、前記の繰返し単位ＣＩ）および（ＩＩ−
Ａ）よりなるものである。
実施例３
実施例１におけるオリゴマー製造時の二価フェノールの
使用量を、４゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタン８
５ｇのみとしたほかは、実施例１と同様にした。結果を
第１表に示す。なお、ここで得られた重合体は前記の繰
返し単位〔Ｉ〕のみよりなる単独重合体である。
使用量を、４゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタン８
５ｇのみとしたほかは、実施例１と同様にした。結果を
第１表に示す。なお、ここで得られた重合体は前記の繰
返し単位〔Ｉ〕のみよりなる単独重合体である。
実施例４
実施例１におけるオリゴマー製造時の二価フェノールの
使用量を、４，４゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン７２．４ｇおよび２．２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン５．８ｇとしたほかは、実
施例１と同様にした。結果を第１表に示す。なお、ここ
で得られた共重合体は前記の繰返し単位（１）と下記の
繰返し単位（ＩＩ−Ｂ）よりなるものである。
使用量を、４，４゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン７２．４ｇおよび２．２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン５．８ｇとしたほかは、実
施例１と同様にした。結果を第１表に示す。なお、ここ
で得られた共重合体は前記の繰返し単位（１）と下記の
繰返し単位（ＩＩ−Ｂ）よりなるものである。
実施例５
実施病１におけるオリゴマー製造時の二価フェノールの
使用量を、４−４゛ジヒドロキシテトラフエニルメタン
７２．４ｇおよび１，１゛−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン６．６ｇとしたほかは、実
施例１と同様にした。結果を第１表に示す。なお、ここ
で得られた共重合体は前記の繰返し単位（ｆ）と下記の
繰返し単位（ｎ−Ｃ）よりなるものである。
使用量を、４−４゛ジヒドロキシテトラフエニルメタン
７２．４ｇおよび１，１゛−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン６．６ｇとしたほかは、実
施例１と同様にした。結果を第１表に示す。なお、ここ
で得られた共重合体は前記の繰返し単位（ｆ）と下記の
繰返し単位（ｎ−Ｃ）よりなるものである。
比較例１
実施例１におけるオリゴマー製造時の二価フェノールの
使用量を、４−４”−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン４４ｇおよび２−２−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）プロパン３１ｇとしたほかば、実施例１と同様にした
。この結果を第１表に示す。
使用量を、４−４”−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン４４ｇおよび２−２−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）プロパン３１ｇとしたほかば、実施例１と同様にした
。この結果を第１表に示す。
比較例２
実施例１におけるオリゴマー製造時の二価フェノールと
して２，２−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンのみ用い、かつ生成オリゴマーとの反応に用いる二価
フェノールとしても２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンを用いて、ポリカーボネートを製造した
。このポリカーボネートについて結果も第１表に示す。
して２，２−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンのみ用い、かつ生成オリゴマーとの反応に用いる二価
フェノールとしても２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンを用いて、ポリカーボネートを製造した
。このポリカーボネートについて結果も第１表に示す。
以上の如く、本発明の耐透湿性材料は、耐透湿性にすぐ
れるとともに、吸水性が低い。したがって、電子機器、
電気機器あるいは機械器具の素材などとして幅広くかつ
有効に利用することができる。
れるとともに、吸水性が低い。したがって、電子機器、
電気機器あるいは機械器具の素材などとして幅広くかつ
有効に利用することができる。
Claims (1)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる繰返し単位〔 I 〕、あるいは該繰返し単
位〔 I 〕および 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の
アルコキシ基あるいはフェニル基を示し、Ｘ＾１は水素
原子、炭素数１〜５のアルキル基あるいはフェニル基を
示し、Ｘ＾２は水素原子あるいは炭素数１〜５のアルキ
ル基を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔II〕を有し、かつ前記繰返し
単位〔II〕の含有割合が１０モル％未満であるとともに
、塩化メチレン溶液の２０℃における極限粘度が０．３
ｄｌ／ｇ以上であるポリカーボネート系樹脂からなる耐
透湿性材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5781387A JPS63223033A (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 耐透湿性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5781387A JPS63223033A (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 耐透湿性材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63223033A true JPS63223033A (ja) | 1988-09-16 |
Family
ID=13066360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5781387A Pending JPS63223033A (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 耐透湿性材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63223033A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100379442B1 (ko) * | 2000-12-12 | 2003-04-11 | 엘지전자 주식회사 | 유기전계발광소자 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6178864A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ポリカ−ボネ−ト樹脂光学成形品 |
| JPS61238823A (ja) * | 1985-04-17 | 1986-10-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高分子量ポリカ−ボネ−ト樹脂の製法 |
| JPS6343925A (ja) * | 1986-08-12 | 1988-02-25 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト樹脂の製造方法 |
| JPS63125523A (ja) * | 1986-11-13 | 1988-05-28 | Mitsubishi Kasei Corp | ポリカ−ボネ−ト樹脂の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-12 JP JP5781387A patent/JPS63223033A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6178864A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ポリカ−ボネ−ト樹脂光学成形品 |
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| JPS6343925A (ja) * | 1986-08-12 | 1988-02-25 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト樹脂の製造方法 |
| JPS63125523A (ja) * | 1986-11-13 | 1988-05-28 | Mitsubishi Kasei Corp | ポリカ−ボネ−ト樹脂の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100379442B1 (ko) * | 2000-12-12 | 2003-04-11 | 엘지전자 주식회사 | 유기전계발광소자 |
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