JPS63230735A - フェノキシテレフタル酸に基づく芳香族ポリアミドおよびその製造方法 - Google Patents
フェノキシテレフタル酸に基づく芳香族ポリアミドおよびその製造方法Info
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- JPS63230735A JPS63230735A JP63051423A JP5142388A JPS63230735A JP S63230735 A JPS63230735 A JP S63230735A JP 63051423 A JP63051423 A JP 63051423A JP 5142388 A JP5142388 A JP 5142388A JP S63230735 A JPS63230735 A JP S63230735A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
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- C08G69/32—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids from aromatic diamines and aromatic dicarboxylic acids with both amino and carboxylic groups aromatically bound
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な芳香族ポリアミド及びその製造法に関す
る。
る。
芳香族ポリアミドは高い温度安定性および良好な機械的
性質を特徴とする。芳香族ポリアミドは特に繊維および
フィルムの製造に用いられている〔エリアス/ホーヴイ
ンケル(Elias/Vohwinkel)の「産業用
の新規なポリマー材料(Neu pol)n++ere
Werkstoff fiir die indus
trielleAnwendung) J 2号、カル
シ・ハンザ−出版社(Carl 1lanser Ve
rlag)1983.242頁以下参照〕。
性質を特徴とする。芳香族ポリアミドは特に繊維および
フィルムの製造に用いられている〔エリアス/ホーヴイ
ンケル(Elias/Vohwinkel)の「産業用
の新規なポリマー材料(Neu pol)n++ere
Werkstoff fiir die indus
trielleAnwendung) J 2号、カル
シ・ハンザ−出版社(Carl 1lanser Ve
rlag)1983.242頁以下参照〕。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕芳香族
ジカルボン酸と芳香族ジアミンとに基づく工業的に利用
可能な製品は、実際に存在する要求をまだ充分に満たし
ていない。例えばケブラー(Kevlar) @または
ノメックス(Non+ex) @のような、テレフタル
酸とp−フェニレンジアミンまたはイソフタル酸とm−
フ・ユニレンジアミンに基づくポリアミドは高いガラス
転移温度を有するが、これらは分解してのみ溶融可能で
ある。従って、これらを射出成形で加工することは不可
能である。すなわちこれらは熱可塑性加工することがで
きない、結局、これらは塩化リチウムまたは塩化カルシ
ウムのような無機塩を添加した、硫酸または例えばN−
メチルピロリドンのような若干の特殊な極性、非プロト
ン性溶媒中にのみ溶解するという大きな欠点を有する。
ジカルボン酸と芳香族ジアミンとに基づく工業的に利用
可能な製品は、実際に存在する要求をまだ充分に満たし
ていない。例えばケブラー(Kevlar) @または
ノメックス(Non+ex) @のような、テレフタル
酸とp−フェニレンジアミンまたはイソフタル酸とm−
フ・ユニレンジアミンに基づくポリアミドは高いガラス
転移温度を有するが、これらは分解してのみ溶融可能で
ある。従って、これらを射出成形で加工することは不可
能である。すなわちこれらは熱可塑性加工することがで
きない、結局、これらは塩化リチウムまたは塩化カルシ
ウムのような無機塩を添加した、硫酸または例えばN−
メチルピロリドンのような若干の特殊な極性、非プロト
ン性溶媒中にのみ溶解するという大きな欠点を有する。
先行技術から、芳香族ポリアミドの製造は公知である。
これらについての充分な概要は例えば英国特許明細書第
1547802号、J、 Po1y、 Sci。
1547802号、J、 Po1y、 Sci。
8、2−4.369(1964)およびJ、 Po1y
、 Sci、 Po1y。
、 Sci、 Po1y。
Chew、 Ed、、24.70H1986)に見られ
る。これらの方法は原則として、前述のような欠点を有
している。そこで、ヨーロッパ特許公開公報第9999
7号は溶液中での直接の製造を述べているが、反応時間
が非常に長く、色相の悪い製品が得られるにすぎず、達
しうる分子量は小さい。これに比べて、西ドイツ公開公
報第3526622号の方法は改良を述べている。しか
し、両方法は熱可塑性加工ができない芳香族ポリアミド
の製造のみを述べているにすぎない。
る。これらの方法は原則として、前述のような欠点を有
している。そこで、ヨーロッパ特許公開公報第9999
7号は溶液中での直接の製造を述べているが、反応時間
が非常に長く、色相の悪い製品が得られるにすぎず、達
しうる分子量は小さい。これに比べて、西ドイツ公開公
報第3526622号の方法は改良を述べている。しか
し、両方法は熱可塑性加工ができない芳香族ポリアミド
の製造のみを述べているにすぎない。
芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジアミンとに基づく公知の
無定形ポリアミドも実際の要求をまだ充分に満たしてい
ない(例えば西ドイツ特許明細書第2642244号、
米国特許明細書第4369305号およびヨーロッパ特
許明細書第53876号参照)。
無定形ポリアミドも実際の要求をまだ充分に満たしてい
ない(例えば西ドイツ特許明細書第2642244号、
米国特許明細書第4369305号およびヨーロッパ特
許明細書第53876号参照)。
従って、例えばテレフタル酸、イソフタル酸のようなジ
カルボン酸の混合物を使用せざるをえない。しかし、こ
れらを用いた場合にも、まだ問題がある。イソフタル酸
を高い割合で混合すると、ガラス転移点(Tg)が低く
なりすぎる。
カルボン酸の混合物を使用せざるをえない。しかし、こ
れらを用いた場合にも、まだ問題がある。イソフタル酸
を高い割合で混合すると、ガラス転移点(Tg)が低く
なりすぎる。
この逆に、テレフタル酸の割合が高いとポリアミドは部
分結晶性となり、もはや透明でなくなる。従って、ポリ
アミドの製造には、特に調節した、ジアミンおよび/ま
たはジカルボン酸からの混合物を用いることが必要であ
る。各場合に、製造にラクタムまたはω−アミノカルボ
ン酸を加えることが必要である(米国特許第31501
17号、第4369305号、第3840501号、第
3842405号および第4028476号;西ドイツ
公開公報第2156723号、第2642244号、第
2936750号および第3600015号ならびにヨ
ーロッパ特許公開公報第53876号、および^nge
w、 Makron+o1. Chew、 98巻、2
55頁(1981)参照)。
分結晶性となり、もはや透明でなくなる。従って、ポリ
アミドの製造には、特に調節した、ジアミンおよび/ま
たはジカルボン酸からの混合物を用いることが必要であ
る。各場合に、製造にラクタムまたはω−アミノカルボ
ン酸を加えることが必要である(米国特許第31501
17号、第4369305号、第3840501号、第
3842405号および第4028476号;西ドイツ
公開公報第2156723号、第2642244号、第
2936750号および第3600015号ならびにヨ
ーロッパ特許公開公報第53876号、および^nge
w、 Makron+o1. Chew、 98巻、2
55頁(1981)参照)。
それ故、本発明の目的は性質の改良された芳香族、芳香
族−脂肪族ポリアミドまたはコポリアミドを製造するこ
とである。酸成分としてフェノキシテレフタル酸を用い
、アミノ成分として式: NHz−R−NHz (式
中、Rは直鎖、分岐鎖または環式cz−cz。アルキレ
ン残基または一般式:もしくは (式中AlkもしくはAlk’は同一もしくは異なる炭
素数6以下のアルキル残基、Xは2価残基−0−1−S
−、−CO−、−CL−、−C(CHs)t−もしくは
−5Ot−1pとqは互いに独立してOもしくは1、m
とnは互いに独立して0.1もしくは2である)で示さ
れる2価芳香族残基である〕 で示されるジアミンを用いるならば、このようなポリマ
ーが得られることが今回発見された。
族−脂肪族ポリアミドまたはコポリアミドを製造するこ
とである。酸成分としてフェノキシテレフタル酸を用い
、アミノ成分として式: NHz−R−NHz (式
中、Rは直鎖、分岐鎖または環式cz−cz。アルキレ
ン残基または一般式:もしくは (式中AlkもしくはAlk’は同一もしくは異なる炭
素数6以下のアルキル残基、Xは2価残基−0−1−S
−、−CO−、−CL−、−C(CHs)t−もしくは
−5Ot−1pとqは互いに独立してOもしくは1、m
とnは互いに独立して0.1もしくは2である)で示さ
れる2価芳香族残基である〕 で示されるジアミンを用いるならば、このようなポリマ
ーが得られることが今回発見された。
フェノキシテレフタル酸は式:
〔式中、R1は水素、ハロゲン(例えば塩素)、それぞ
れ炭素数12以下のアルキル、アリール、アルキルオキ
シまたはアリールオキシ残基である〕 によって示される。
れ炭素数12以下のアルキル、アリール、アルキルオキ
シまたはアリールオキシ残基である〕 によって示される。
さらに、本発明の対象はこのポリアミドまたはコポリア
ミドの製造方法である。この方法は触媒存在下、昇温に
おいて溶液中でジアミン°とジカルボン酸とを反応させ
ることを特徴とする。
ミドの製造方法である。この方法は触媒存在下、昇温に
おいて溶液中でジアミン°とジカルボン酸とを反応させ
ることを特徴とする。
出発物質としてジアミンとジカルボン酸ジクロライドを
用いることもできる。
用いることもできる。
脂肪族ジアミンに基づくポリアミドは通常の溶融重縮合
によって、ならびに低温でのジアミンとジカルボン酸ジ
クロライドとの反応によって製造することができる。
によって、ならびに低温でのジアミンとジカルボン酸ジ
クロライドとの反応によって製造することができる。
本発明によると、次の利益が得られる:・芳香族ジアミ
ンに基づくポリアミドまたはコポリアミドは水および化
学薬品に対して安定であるばかりでなく、同族体の化合
物について公知であるように、高い軟化点を有し、熱可
望性加工することも可能であると考えられる。
ンに基づくポリアミドまたはコポリアミドは水および化
学薬品に対して安定であるばかりでなく、同族体の化合
物について公知であるように、高い軟化点を有し、熱可
望性加工することも可能であると考えられる。
・脂肪族アミドに基づ(ポリアミドは完全に無定形であ
り、良好に加工することができる。
り、良好に加工することができる。
融点は分解温度より低い。
・先行技術では得られないか、または複雑な混合物とし
てのみ得られるような、220°C以下のガラス転移点
を有する無定形芳香族−脂肪族ポリアミドまたはコポリ
アミドの製造方法が、本発明によって提供される。
てのみ得られるような、220°C以下のガラス転移点
を有する無定形芳香族−脂肪族ポリアミドまたはコポリ
アミドの製造方法が、本発明によって提供される。
・この方法は簡単であることを特徴とする。
フェノキシテレフタル酸は容易に入手可能な物質である
(J、 Po1y、 Sci、、 Po1y、 Che
w、 Ed。
(J、 Po1y、 Sci、、 Po1y、 Che
w、 Ed。
18巻、 3069頁(1980)参照〕。
置換フェノキシテレフタル酸は例えばニトロフタル酸と
対応する置換フェノールとの反応によって容易に製造さ
れる。
対応する置換フェノールとの反応によって容易に製造さ
れる。
本発明において使用可能なジアミンの例として、下記の
物質が挙げられる。
物質が挙げられる。
・直鎖または分岐鎖の炭素数2〜20の脂肪族ジアミン
、例えばヘキサメチレンジアミン、2゜2.4−トリメ
チルへキサメチレンジアミン。
、例えばヘキサメチレンジアミン、2゜2.4−トリメ
チルへキサメチレンジアミン。
・脂環式ジアミン、例えばイソホロンジアミンおよびビ
ス(p−アミノシクロヘキシル)メタン。
ス(p−アミノシクロヘキシル)メタン。
・式:
%式%)
(mはOまたは1である)
で示される単核芳香族ジアミン、例えばm−フェニレン
ジアミン。
ジアミン。
・式:
%式%
1または2である。 AlkとAlk’は同一または
1なる2個の炭素数最大6までのアルキル残基を表す。
1なる2個の炭素数最大6までのアルキル残基を表す。
Xは次の2価の残基ニー0−、−s−。
−5Ox−、−CO−、−C(CHs) *−9−CH
z−を表す〕によって示される2核芳香族ジアミン。
z−を表す〕によって示される2核芳香族ジアミン。
この例として、4.4゛−ジアミノジフェニルエーテル
が挙げられる。
が挙げられる。
本発明に用いるジアミンとしては、ヘキサメチレンジア
ミン、m−キシリレンジアミン、ビス(p−アミノシク
ロヘキシル)メタン、m−フェニレンジアミンおよびこ
れらの混合物が好ましい。
ミン、m−キシリレンジアミン、ビス(p−アミノシク
ロヘキシル)メタン、m−フェニレンジアミンおよびこ
れらの混合物が好ましい。
ポリアミドは次の方法によって製造することができる。
■、釡麓Jす3η1企
リン触媒と、必要があれば、4−ジアルキルアミノピリ
ジン系助触媒との存在下、極性非プロトン性溶媒中にお
いてほぼ等モル量の二つの出発成分を反応させる。
ジン系助触媒との存在下、極性非プロトン性溶媒中にお
いてほぼ等モル量の二つの出発成分を反応させる。
リン触媒には、PZs、 PZs、 HPZt型の化合
物ならびに無水物のPtOsおよびR20,がある。こ
の場合、2は塩素または臭素のようなハロゲン、011
基、OAr基(Arは任意にアルキル置換したフェニル
残基である)または炭素数1〜10のアルコキシ残基を
意味する。例えば、リン酸、次亜リン酸および亜リン酸
トリフェニルが挙げられる。
物ならびに無水物のPtOsおよびR20,がある。こ
の場合、2は塩素または臭素のようなハロゲン、011
基、OAr基(Arは任意にアルキル置換したフェニル
残基である)または炭素数1〜10のアルコキシ残基を
意味する。例えば、リン酸、次亜リン酸および亜リン酸
トリフェニルが挙げられる。
助触媒として用いる4−ジアルキルアミノピリジンは次
の構造式を有する: 〔式中、R1とR2は互いに独立してC8〜C0゜アル
キル残基を表すか、またはアミノ窒素とともに1個のピ
ロリジン環もしくはピペリジン環を形成しうる〕 4−ジメチルアミノピリジンが特に好ましい。
の構造式を有する: 〔式中、R1とR2は互いに独立してC8〜C0゜アル
キル残基を表すか、またはアミノ窒素とともに1個のピ
ロリジン環もしくはピペリジン環を形成しうる〕 4−ジメチルアミノピリジンが特に好ましい。
ピリジン誘導体はシンセシス(Synthesis)8
44頁(1978)に従って製造することができる。
44頁(1978)に従って製造することができる。
用いるジカルボン酸100モルに対して、それぞれ0.
1〜10モル、好ましくは0.2〜5モルのリン化合物
と任意の4−ジアルキルアミノピリジンが用いられる。
1〜10モル、好ましくは0.2〜5モルのリン化合物
と任意の4−ジアルキルアミノピリジンが用いられる。
重縮合は180〜300°C1好ましくは200〜26
0°Cの温度において実施する。
0°Cの温度において実施する。
通常、常圧の不活性ガス雰囲気下で製造を行う、しかし
、何らかの理由で望ましい場合には常圧よりもやや過圧
または減圧において製造を行う、充分に高分子量の生成
物を得るために必要な反応時間は一般に1〜4時間であ
る。非常に反応しに(い出発化合物の場合には明らかに
長時間が必要になる。
、何らかの理由で望ましい場合には常圧よりもやや過圧
または減圧において製造を行う、充分に高分子量の生成
物を得るために必要な反応時間は一般に1〜4時間であ
る。非常に反応しに(い出発化合物の場合には明らかに
長時間が必要になる。
反応媒質としては、少なくとも180’Cにおいて出発
物質およびアミドポリマーを充分に溶解させうるような
、極性、非プロトン性の有機溶剤が好ましい。適当な溶
剤の例はN−メチルピロリドン−2(NMP)、N−メ
チル−ε−カプロラクタム、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホンおよ
び特にスルホラン(テトラヒドロチオフェンジオキサイ
ド)である。これらの溶剤は単独でまたは混合物として
用いることができる。上記の極性、非プロトン性溶剤と
併用することのできる他の溶剤の例は、クロロベンゼン
、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、ジフェニルエー
テル、アニソール、フェノールおよびm−クレゾールで
ある。非プロトン性、極性溶剤の割合はこれらの混合物
中で少なくとも20重量%である。
物質およびアミドポリマーを充分に溶解させうるような
、極性、非プロトン性の有機溶剤が好ましい。適当な溶
剤の例はN−メチルピロリドン−2(NMP)、N−メ
チル−ε−カプロラクタム、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホンおよ
び特にスルホラン(テトラヒドロチオフェンジオキサイ
ド)である。これらの溶剤は単独でまたは混合物として
用いることができる。上記の極性、非プロトン性溶剤と
併用することのできる他の溶剤の例は、クロロベンゼン
、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、ジフェニルエー
テル、アニソール、フェノールおよびm−クレゾールで
ある。非プロトン性、極性溶剤の割合はこれらの混合物
中で少なくとも20重量%である。
この方法は次のように実施するのが好ましい。
リン化合物と4−ジアルキルアミノピリジンとの存在下
に、はぼ等モル量の芳香族ジカルポン酸とジアミンとか
ら成る溶液を、固体物質濃度5〜50重量%に於いて不
活性ガス雰囲気中で200〜260°Cの温度に加熱し
、この温度を約1〜3時間維持し、次にポリアミドを通
常の方法で単離する。
に、はぼ等モル量の芳香族ジカルポン酸とジアミンとか
ら成る溶液を、固体物質濃度5〜50重量%に於いて不
活性ガス雰囲気中で200〜260°Cの温度に加熱し
、この温度を約1〜3時間維持し、次にポリアミドを通
常の方法で単離する。
充分に高分子量の生成物を得るためには、重縮合中に生
成される水を反応系から除去することが必要である。こ
のためには通常、不活性ガスを液面上または液中を通過
させることで充分である。また真空状態の形成および/
または共沸蒸留によって、溶剤の一部を水とともに除去
することもできる。
成される水を反応系から除去することが必要である。こ
のためには通常、不活性ガスを液面上または液中を通過
させることで充分である。また真空状態の形成および/
または共沸蒸留によって、溶剤の一部を水とともに除去
することもできる。
重縮合の終了時に、使用した溶剤中のポリマーの多少粘
稠な溶液または懸濁液が得られる。この溶液または懸濁
液からのポリアミドの単離は困難ではない;ポリアミド
を直接再加工することも、または任意に非溶剤の添加に
よる希釈後に沈殿させることもできる。
稠な溶液または懸濁液が得られる。この溶液または懸濁
液からのポリアミドの単離は困難ではない;ポリアミド
を直接再加工することも、または任意に非溶剤の添加に
よる希釈後に沈殿させることもできる。
非溶剤としては、例えばメタノール、エタノールおよび
イソプロパツールのような低級アルコール、例えばアセ
トンおよびメチルエチルケトンのようなケトンまたは水
もしくはこれらの混合物が考えられる。
イソプロパツールのような低級アルコール、例えばアセ
トンおよびメチルエチルケトンのようなケトンまたは水
もしくはこれらの混合物が考えられる。
2、痘n状呈工立血金
溶融状態での縮合方法はポリアミド6.6の通常の製造
方法に対応する。この場合には、アルコール系溶液中で
ジカルボン酸とジアミンとからなる塩を最初に形成して
、これを単離する。次に、塩を常圧で加熱し、この際に
強力な不活性ガス流を反応混合物上または反応混合物中
に導いて、このようにして水を除去する。重縮合を例え
ばオートクレーブにおけるような高圧下においても実施
することができる。
方法に対応する。この場合には、アルコール系溶液中で
ジカルボン酸とジアミンとからなる塩を最初に形成して
、これを単離する。次に、塩を常圧で加熱し、この際に
強力な不活性ガス流を反応混合物上または反応混合物中
に導いて、このようにして水を除去する。重縮合を例え
ばオートクレーブにおけるような高圧下においても実施
することができる。
この方法は例えば西ドイツ公開公報第1908297号
と第3006899号ならびニJ、 Po1ys+、
Sci、 XL。
と第3006899号ならびニJ、 Po1ys+、
Sci、 XL。
343頁(1959)およびJ、 Polym、 Sc
i、 B2−4+ 369真(1964)に述べられて
いる。
i、 B2−4+ 369真(1964)に述べられて
いる。
他に指示しないかぎり、フェノール50容量%とジクロ
ロベンゼン50容量%との混合物中、25°Cにおいて
還元粘度(η、、L−1) /cを測定した。
ロベンゼン50容量%との混合物中、25°Cにおいて
還元粘度(η、、L−1) /cを測定した。
叉施炭土
次の成分:
フェノキシテレフタル酸 7gm−フェニレ
ンジアミン 2.96 g50%含水1bPO
t 0.17 g4−ジメチルア
ミノピリジン 0.17 gスルホラン
2〇−から成る混合物をフラスコ中で撹
拌しながら窒素雰囲気下において、最初の1時間は23
0°Cに、次の2時間は250’Cに加熱する。180
°Cに冷却した粘稠な反応混合物をN−メチルピロリド
ン100dで希釈する。30分後に、反応混合物を室温
に冷却し、強く撹拌しながらメタノール200成中に注
入する。沈殿したポリマーを熱メタノールで洗浄し、真
空中、100°Cにおいて乾燥する。
ンジアミン 2.96 g50%含水1bPO
t 0.17 g4−ジメチルア
ミノピリジン 0.17 gスルホラン
2〇−から成る混合物をフラスコ中で撹
拌しながら窒素雰囲気下において、最初の1時間は23
0°Cに、次の2時間は250’Cに加熱する。180
°Cに冷却した粘稠な反応混合物をN−メチルピロリド
ン100dで希釈する。30分後に、反応混合物を室温
に冷却し、強く撹拌しながらメタノール200成中に注
入する。沈殿したポリマーを熱メタノールで洗浄し、真
空中、100°Cにおいて乾燥する。
黄色粉末8.5gが95%収率で得られる。ガラス転移
点Tgは229℃である。還元粘度は0.72dl/g
である。
点Tgは229℃である。還元粘度は0.72dl/g
である。
このポリマーをジメチルアセトアミド中に?8解する。
この溶液から淡黄色透明なフィルムを得る。
280’C,50バール(bar)における圧縮成形に
よって、長さ90n+m、幅15mn+、厚さ1mmの
淡黄色圧縮プレートが5分以内で得られる。
よって、長さ90n+m、幅15mn+、厚さ1mmの
淡黄色圧縮プレートが5分以内で得られる。
災施五主
次の成分:
フェノキシテレフタル酸 7gp−フェニ
レンジアミン 0.89g4.4°−ジアミ
ノジフェニルエーテル 3.84g50%含水H,PO
□ 0.17g4−ジメチルアミ
ノピリジン 0.17gスルホラン
20−から成る混合物を実施例1と同様に
反応させる。
レンジアミン 0.89g4.4°−ジアミ
ノジフェニルエーテル 3.84g50%含水H,PO
□ 0.17g4−ジメチルアミ
ノピリジン 0.17gスルホラン
20−から成る混合物を実施例1と同様に
反応させる。
ガラス転移点203°Cの白色粉末10.6gが99%
収率で得られる。還元粘度は1.40d/gである。
収率で得られる。還元粘度は1.40d/gである。
N−メチルピロリドンまたはジメチルアセトアミドに溶
かしたポリマーの溶液から、淡黄色透明なフィルムを得
る。実施例1と同様な圧縮成形によって、淡黄色圧縮プ
レートを得る。
かしたポリマーの溶液から、淡黄色透明なフィルムを得
る。実施例1と同様な圧縮成形によって、淡黄色圧縮プ
レートを得る。
1隻貫主
N−メチルピロリドン140d中塩化カルシウム20g
の溶液に、p−フェニレンジアミン1.83gとm−フ
ェニレンジアミン1.83gとを加え、この混合物をO
″Cに冷却する。これに強く撹拌しながらフェノキシテ
レフタロイルクロライド10gを加える。室温において
さらに12時間撹拌を続ける0次に反応混合物を過剰な
冷水中に注入する。このときに生成した沈殿を熱水と熱
メタノール各11で2回洗浄した後に、真空中、80℃
において乾燥する。ガラス転移点229℃の黄色粉末1
0.5 gが94%収率で得られる。還元粘度はo、5
0di/ gである。実施例1と同じ条件下での圧縮成
形によって同様な性質の圧縮プレートが得られる。
の溶液に、p−フェニレンジアミン1.83gとm−フ
ェニレンジアミン1.83gとを加え、この混合物をO
″Cに冷却する。これに強く撹拌しながらフェノキシテ
レフタロイルクロライド10gを加える。室温において
さらに12時間撹拌を続ける0次に反応混合物を過剰な
冷水中に注入する。このときに生成した沈殿を熱水と熱
メタノール各11で2回洗浄した後に、真空中、80℃
において乾燥する。ガラス転移点229℃の黄色粉末1
0.5 gが94%収率で得られる。還元粘度はo、5
0di/ gである。実施例1と同じ条件下での圧縮成
形によって同様な性質の圧縮プレートが得られる。
次五〇粗±
無水エタノール350d中フエノキシテレフタル酸10
gの溶液に、エタノール50IR1中ヘキサメチレンジ
アミン4.6gの溶液を滴下し、混合物を50°Cにお
いて30分間撹拌する。沈殿した塩を熱濾過し、新鮮な
エタノールで3回洗浄し、真空乾燥する。融点的270
″Cの白色塩14.5 gが得られる。この塩をできる
だけ純粋な窒素雰囲気中でフラスコに入れ、270°C
で1時間、280°Cで3時間加熱し、次にできるだけ
迅速にフラスコから取り出す。ガラス転移点108°C
と還元粘度0.68d/gとを有する透明なポリマーが
得られる。200°C、50barにおける圧縮成形に
よって、淡黄色透明な圧縮プレートが5分間内に得られ
る。
gの溶液に、エタノール50IR1中ヘキサメチレンジ
アミン4.6gの溶液を滴下し、混合物を50°Cにお
いて30分間撹拌する。沈殿した塩を熱濾過し、新鮮な
エタノールで3回洗浄し、真空乾燥する。融点的270
″Cの白色塩14.5 gが得られる。この塩をできる
だけ純粋な窒素雰囲気中でフラスコに入れ、270°C
で1時間、280°Cで3時間加熱し、次にできるだけ
迅速にフラスコから取り出す。ガラス転移点108°C
と還元粘度0.68d/gとを有する透明なポリマーが
得られる。200°C、50barにおける圧縮成形に
よって、淡黄色透明な圧縮プレートが5分間内に得られ
る。
ス1111
次の成分:
フェノキシテレフタル酸 15gビス
(4−アミノシクロヘキシル)メタン 12.5 g5
0%含水H3P0□ 0.36
g4−ジメチルアミノピリジン 0.36g
スルホラン 60jdか
ら成る混合物をフラスコに入れ、窒素雰囲気下で230
°Cで1時間、250°Cで45分間加熱する。
(4−アミノシクロヘキシル)メタン 12.5 g5
0%含水H3P0□ 0.36
g4−ジメチルアミノピリジン 0.36g
スルホラン 60jdか
ら成る混合物をフラスコに入れ、窒素雰囲気下で230
°Cで1時間、250°Cで45分間加熱する。
180°Cに冷却した、粘稠な反応混合物をN−メチル
ピロリドン200dで希釈する。30分後に反応混合物
を室温に冷却し、冷水41中に注入する。沈殿を熱水と
熱メタノール各12で洗浄し、90″Cにおいて真空乾
燥する。ガラス転移点206°Cと還元粘度x、58a
/gとを有する白色粒状物質24gが96%収率で得ら
れる。実施例1ど同じ条件下での圧縮成形によって透明
な圧縮プレートが得られる。
ピロリドン200dで希釈する。30分後に反応混合物
を室温に冷却し、冷水41中に注入する。沈殿を熱水と
熱メタノール各12で洗浄し、90″Cにおいて真空乾
燥する。ガラス転移点206°Cと還元粘度x、58a
/gとを有する白色粒状物質24gが96%収率で得ら
れる。実施例1ど同じ条件下での圧縮成形によって透明
な圧縮プレートが得られる。
ス11四−
フェノキシテレフタル酸 10gm−キシリレン
ジアミン 5.4g50%含水H1POt
O,24g4−ジメチルアミノピリジン 0
.24 gおよびスルホラン 70
1dから成る混合物を窒素下でフラスコに入れ、最初の
2時間は230℃に、次の1時間は250″Cに保持す
る。180℃に冷却した粘稠な反応混合物をN−メチル
ピロリドン120dによって希釈する。
ジアミン 5.4g50%含水H1POt
O,24g4−ジメチルアミノピリジン 0
.24 gおよびスルホラン 70
1dから成る混合物を窒素下でフラスコに入れ、最初の
2時間は230℃に、次の1時間は250″Cに保持す
る。180℃に冷却した粘稠な反応混合物をN−メチル
ピロリドン120dによって希釈する。
30分後に混合物を室温に冷却し、冷水中に注入し、沈
殿を熱水と熱メタノールとで2回洗浄する。真空中、9
0°Cでの乾燥後に淡黄色ポリマーの粒状物質13gが
95%収率で得られる。ガラス転移点146°C1還元
粘度1.5ed1./ g。
殿を熱水と熱メタノールとで2回洗浄する。真空中、9
0°Cでの乾燥後に淡黄色ポリマーの粒状物質13gが
95%収率で得られる。ガラス転移点146°C1還元
粘度1.5ed1./ g。
夫胤炎ニ
ジクロロメタン50−中フエノキシテレフタル酸5gの
溶液を200II11フラスコに入れる。水50−中に
m−キシリレンジアミン2.4gと炭酸ナトリウム3.
8gを加えた溶液を有機相の上面に徐々に滴下する。両
相の境界面に直ちに形成されたフィルムを取り出し、沸
騰アセトンで洗浄する。
溶液を200II11フラスコに入れる。水50−中に
m−キシリレンジアミン2.4gと炭酸ナトリウム3.
8gを加えた溶液を有機相の上面に徐々に滴下する。両
相の境界面に直ちに形成されたフィルムを取り出し、沸
騰アセトンで洗浄する。
90°Cでの乾燥後に単離した白色粉末は145°Cの
ガラス転移点を有する。濃硫酸中、25°Cで測定した
還元粘度は1.32d/gである。
ガラス転移点を有する。濃硫酸中、25°Cで測定した
還元粘度は1.32d/gである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 芳香族ジカルボン酸ならびに芳香族および/または
脂肪族ジアミンに基づくポリアミドまたはコポリアミド
において、ポリアミドが一般式: (CO−Ar−CO−NH−R−NH) 〔式中、Arは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される2価の残基を表し、Rは炭素数2〜20の直
鎖、分枝鎖もしくは環式のアルキル残基または一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される2価の芳香族残基を表し、AlkもしくはA
lk′は同一または異なる炭素数6以下のアルキル残基
を意味し、Xは2価の残基−O−、−S−、−CH_2
−、−C(CH_3)_2−、−CO−もしくは−SO
_2−を表し、pとqは互いに独立して0もしくは1を
表し、mとnは互いに独立して0、1もしくは2を表し
、R^1は水素、ハロゲン、それぞれ炭素数12以下の
アルキル、アリール、アルコキシもしくはアリールオキ
シ残基を意味する〕 で示される構成単位を有することを特徴とするポリアミ
ド。 2 Rがm−フェニレン残基を表すことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のポリアミド。 3 Rが残基▲数式、化学式、表等があります▼を表す
ことを 特徴とする特許請求の範囲第1項記載のポリアミド。 4 リン含有触媒存在下、150〜300℃において溶
液中で対応するジアミンとジカルボン酸とを反応させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第3項の
いずれかに記載のポリアミドの製造方法。 5 リン含有触媒として、亜リン酸トリフェニル、亜リ
ン酸または次亜リン酸を用いることを特徴とする特許請
求の範囲第4項記載の方法。 6 付加的に触媒量の4−ジアルキルアミノピリジンの
存在下で反応を実施することを特徴とする特許請求の範
囲第4項または第5項記載の方法。 7 溶液中で対応するジアミンと対応するジカルボン酸
ジクロライドを反応させることを特徴とする特許請求の
範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載のポリアミド
の製造方法。 8 溶融状態で対応するジアミンと対応するジカルボン
酸を反応させることを特徴とする特許請求の範囲第1項
ないし第3項記載の脂肪族ジアミンに基づくポリアミド
の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873707435 DE3707435A1 (de) | 1987-03-07 | 1987-03-07 | Aromatische polyamide auf basis von phenoxyterephthalsaeure und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3707435.0 | 1987-03-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63230735A true JPS63230735A (ja) | 1988-09-27 |
Family
ID=6322566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63051423A Pending JPS63230735A (ja) | 1987-03-07 | 1988-03-04 | フェノキシテレフタル酸に基づく芳香族ポリアミドおよびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4873310A (ja) |
| EP (1) | EP0281954A1 (ja) |
| JP (1) | JPS63230735A (ja) |
| DE (1) | DE3707435A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015064627A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミン組成物及びポリアミド樹脂の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5166307A (en) * | 1988-09-07 | 1992-11-24 | Hoechst Aktiengesellschaft | Polyamide and film made from at least one monomolecular layer of a polyamide |
| GB8828553D0 (en) * | 1988-12-07 | 1989-01-11 | Mutch A J | Electrical fault detecting device |
| CN105683252B (zh) * | 2013-10-31 | 2017-11-14 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 苯二甲胺组合物和聚酰胺树脂的制造方法 |
| DK3064528T3 (en) * | 2013-10-31 | 2018-09-17 | Mitsubishi Gas Chemical Co | XYLYLENDIAMINE COMPOSITION AND PROCEDURE FOR PREPARING POLYAMIDRESINE |
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| GB1201531A (en) * | 1968-01-24 | 1970-08-05 | Ici Ltd | Aromatic polyamides |
| US4471110A (en) * | 1982-08-02 | 1984-09-11 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Polyamide of disulfonated diamine and permselective membrane thereof |
-
1987
- 1987-03-07 DE DE19873707435 patent/DE3707435A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-03-02 US US07/162,968 patent/US4873310A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-03-04 EP EP88103324A patent/EP0281954A1/de not_active Withdrawn
- 1988-03-04 JP JP63051423A patent/JPS63230735A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015064627A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミン組成物及びポリアミド樹脂の製造方法 |
| JP5790902B1 (ja) * | 2013-10-31 | 2015-10-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミン組成物及びポリアミド樹脂の製造方法 |
| US9777115B2 (en) | 2013-10-31 | 2017-10-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Xylylenediamine composition and method for producing polyamide resin |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3707435A1 (de) | 1988-09-15 |
| US4873310A (en) | 1989-10-10 |
| EP0281954A1 (de) | 1988-09-14 |
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