JPS6323854A - ジアリ−ルスルホン類の製造方法 - Google Patents
ジアリ−ルスルホン類の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、ベンゼン類と硫酸とから高収率で高純度のジ
アリールスルホン類を製造する方法に関する。
アリールスルホン類を製造する方法に関する。
本発明により得られるジアリールスルホン類は、ポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン等の耐
熱性樹脂の原料又は原料中間体として有用な化合物でお
る。
ステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン等の耐
熱性樹脂の原料又は原料中間体として有用な化合物でお
る。
[従来技術及びその問題点]
従来、ジアリールスルホン類の製造方法としては、以下
の方法が提案されている。
の方法が提案されている。
(1)アリールスルホクロリド類とベンゼン類とを無水
塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄のようなルイス酸触
媒の存在下に、フリーデルクラフッ反応を行なわせる方
法(西独特許第701954号等)、 (2)アリールスルホクロリド類とベンゼン類とをアリ
ールスルホン酸の共存下に反応させる方法(特公昭50
−5707号等)、 (3)アリールスルホクロリド類又はアリールスルホン
酸とベンゼン類とをスルホン型イオン交換樹脂又は超強
酸性樹脂の共存下に反応させる方法(特公昭50−53
345号、特開昭57−81453号、特開昭57−8
5363号)。
塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄のようなルイス酸触
媒の存在下に、フリーデルクラフッ反応を行なわせる方
法(西独特許第701954号等)、 (2)アリールスルホクロリド類とベンゼン類とをアリ
ールスルホン酸の共存下に反応させる方法(特公昭50
−5707号等)、 (3)アリールスルホクロリド類又はアリールスルホン
酸とベンゼン類とをスルホン型イオン交換樹脂又は超強
酸性樹脂の共存下に反応させる方法(特公昭50−53
345号、特開昭57−81453号、特開昭57−8
5363号)。
しかしながら、(1)及び(2)の方法では、出発原料
とするアリールスルホクロリド類が取扱い中及び保存中
に加水分解される難点があるに加え、触媒の分離が煩雑
である。(3)の方法では、イオン交換樹脂の耐熱温度
が低く、又、超強酸性樹脂は高価で、かつ多量に用いな
くてはならない。
とするアリールスルホクロリド類が取扱い中及び保存中
に加水分解される難点があるに加え、触媒の分離が煩雑
である。(3)の方法では、イオン交換樹脂の耐熱温度
が低く、又、超強酸性樹脂は高価で、かつ多量に用いな
くてはならない。
このため、安価なベンゼン類と硫酸とを直接反応せしめ
てジアリールスルホン酸を製造する方法が工業的に有利
と考えられ、この観点にたって以下の方法が提案されて
いる。
てジアリールスルホン酸を製造する方法が工業的に有利
と考えられ、この観点にたって以下の方法が提案されて
いる。
(4)ベンゼン類を無水硫酸と硫酸ジメチルの混合物(
ピロ硫酸メチル)と共に反応させる方法(英国特許第8
9’ 5464号、特公昭37−11817号等)、 (5)ベンゼン類と硫酸とからアリールスルホン酸を合
成し、このアリールスルホン酸とベンゼン類とをP2
o、、等の脱水剤の存在下又は不存在下に反応させる方
法(米国特許第3729517号、特開昭60−922
56号)。
ピロ硫酸メチル)と共に反応させる方法(英国特許第8
9’ 5464号、特公昭37−11817号等)、 (5)ベンゼン類と硫酸とからアリールスルホン酸を合
成し、このアリールスルホン酸とベンゼン類とをP2
o、、等の脱水剤の存在下又は不存在下に反応させる方
法(米国特許第3729517号、特開昭60−922
56号)。
しかしながら、(4)の方法では、毒性の強い硫酸ジメ
チルを大量に使用するため、作業衛生上及び開油処理の
面で設備に格別の対応が必要になる。更に、(5)の方
法は、脱水剤を用いない場合は収率が低く、収率を向上
させるためには高価な脱水剤を多量に使用する必要があ
る等の欠点を有している。
チルを大量に使用するため、作業衛生上及び開油処理の
面で設備に格別の対応が必要になる。更に、(5)の方
法は、脱水剤を用いない場合は収率が低く、収率を向上
させるためには高価な脱水剤を多量に使用する必要があ
る等の欠点を有している。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、ベンゼン類と硫酸とを直接反応すること
により高収率かつ高純度でジアリールスルホン類を工業
的に生産する方法を確立すべく鋭意検討した結果、特定
の触媒が所期の目的を達成し得ることを見い出し、この
知見に基づいて本発明を完成した。
により高収率かつ高純度でジアリールスルホン類を工業
的に生産する方法を確立すべく鋭意検討した結果、特定
の触媒が所期の目的を達成し得ることを見い出し、この
知見に基づいて本発明を完成した。
即ち本発明は、一般式(I>
[式中、n及びmはO〜3の整数を表わし、A及びBは
アルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン基、ニトロ基
、アミノ基、ヒドロキシル基又はエーテル基(アルコキ
シ、フェノキシ、置換フェノキシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式(n)で
表わされるジアリールスルホン類を製造するにあたり、 [式中、n、m、AlBは一般式(1)と同様である。
アルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン基、ニトロ基
、アミノ基、ヒドロキシル基又はエーテル基(アルコキ
シ、フェノキシ、置換フェノキシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式(n)で
表わされるジアリールスルホン類を製造するにあたり、 [式中、n、m、AlBは一般式(1)と同様である。
]
触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及びそれらの
へテロポリ酸からなる群から選ばれる1種又は2種以上
を使用することを特徴とするジアリールスルホン類の工
業的に優れた新規な製造方法を提供することを目的とす
る。
へテロポリ酸からなる群から選ばれる1種又は2種以上
を使用することを特徴とするジアリールスルホン類の工
業的に優れた新規な製造方法を提供することを目的とす
る。
本発明方法において原料として用いられる一般式(I>
で表わされるベンゼン類としては、次のようなものが挙
げられる。ただし、以下の例示に限定されるものではな
い。
で表わされるベンゼン類としては、次のようなものが挙
げられる。ただし、以下の例示に限定されるものではな
い。
[式中、n及びmはO〜3の整数を表わし、A及びBは
アルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン基、ニトロ基
、アミノ基、ヒドロキシル基又はエーテル基(アルコキ
シ、フェノキシ、置換フェノキシ等)を表わす。] n+mがO又は1の場合のベンゼン類としては、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブ
チルベンゼン、ドデシルベンゼン、クロルベンゼン、ブ
ロムベンゼン、ヨードベンゼン、フルオロベンゼン、ニ
トロベンゼン、アニリン、フェノール、アニソール、ビ
フェニルエーテル等がおる。又、n+mが2又は3の場
合のベンゼン類としては、キシレン、ジクロルベンゼン
、ジブロムベンゼン、クロルトルエン、ブロムトルエン
、ニトロトルエン、ニトロフェノール、トルイジン、カ
テコール、レゾルシン、ハイドロキノン、クロルフェノ
ール、ブロムフェノール、キシレノール等がある。
アルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン基、ニトロ基
、アミノ基、ヒドロキシル基又はエーテル基(アルコキ
シ、フェノキシ、置換フェノキシ等)を表わす。] n+mがO又は1の場合のベンゼン類としては、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブ
チルベンゼン、ドデシルベンゼン、クロルベンゼン、ブ
ロムベンゼン、ヨードベンゼン、フルオロベンゼン、ニ
トロベンゼン、アニリン、フェノール、アニソール、ビ
フェニルエーテル等がおる。又、n+mが2又は3の場
合のベンゼン類としては、キシレン、ジクロルベンゼン
、ジブロムベンゼン、クロルトルエン、ブロムトルエン
、ニトロトルエン、ニトロフェノール、トルイジン、カ
テコール、レゾルシン、ハイドロキノン、クロルフェノ
ール、ブロムフェノール、キシレノール等がある。
本発明に係る触媒としては、タングステン酸、モリブデ
ン酸、あるいはこれらのへテロポリ酸が掲げられる。こ
こにいうヘテロポリ酸とは、2種以上の酸素酸からなる
縮合酸であり、ポリ酸原子としては、タングステン及び
モリブデンであり、ヘテロ原子としては、以下に示すよ
うな各種のものが使用できる。タングステン酸のへテロ
ポリ酸におけるヘテロ原子としては、p、As、sr。
ン酸、あるいはこれらのへテロポリ酸が掲げられる。こ
こにいうヘテロポリ酸とは、2種以上の酸素酸からなる
縮合酸であり、ポリ酸原子としては、タングステン及び
モリブデンであり、ヘテロ原子としては、以下に示すよ
うな各種のものが使用できる。タングステン酸のへテロ
ポリ酸におけるヘテロ原子としては、p、As、sr。
Ti、Co、Fe、B、V、5eyr、N;、Ga等が
例示される。タングステン酸のへテロポリ酸の具体例し
ては、次の構造式、 HB〔PW1204o〕、 HB (AsW12040)、 H4〔5iW1204o〕、 H4〔TiW1204o〕、 H5(CoW1204(>)、 町(F e W18O49)、 H5(BW12040)、 HB〔vW1204o〕、 HB (B eWg 031)、 H6〔TeW6024〕、 出 〔IW6024〕、 H4・(N ! W6024H6)、 HB (GaW6 o24”6 )、 H6〔P2W18062〕・ H6(AS2 WIBO62)・ H7(PW11033) を有するものが例示できる。
例示される。タングステン酸のへテロポリ酸の具体例し
ては、次の構造式、 HB〔PW1204o〕、 HB (AsW12040)、 H4〔5iW1204o〕、 H4〔TiW1204o〕、 H5(CoW1204(>)、 町(F e W18O49)、 H5(BW12040)、 HB〔vW1204o〕、 HB (B eWg 031)、 H6〔TeW6024〕、 出 〔IW6024〕、 H4・(N ! W6024H6)、 HB (GaW6 o24”6 )、 H6〔P2W18062〕・ H6(AS2 WIBO62)・ H7(PW11033) を有するものが例示できる。
又、モリブデン酸のへテロポリ酸におけるヘテロ原子と
しては、P、AS、Si、Ge、Ti。
しては、P、AS、Si、Ge、Ti。
Ce、Th、 Mn、N i、工e、■、Co、 Or
、Fe、Gaなどとが例示される。モリブデン酸のヘテ
ロポリ酸の具体例としては、次の構造式、HB (PM
O1204(>)、 HB (AsMo12040)、 H4(S ! M O1204゜)、 H(G e M O12040)、 H4(T ! M O12040)、 H8(00MO12042〕、 HB (ThMo12042)、 H7(PM01103g)、 H7(ASM01103g)、 HB (GeM01103g)、 H& (M n M Og O32)、H6(N !
MO9032)、 H(丁eMO6024〕°、 H5(IMo6024)、 HB(COM○6024H6〕、 HB (CrMo6 o24”6 )、HB (FeM
o6o24H6)、 HB (GaM0602486 )、 H(NiMo6024H6)、 H6(P2 MO180B2)・ H(、(A S 2 M OIBOB2)を有するもの
等が例示できる。
、Fe、Gaなどとが例示される。モリブデン酸のヘテ
ロポリ酸の具体例としては、次の構造式、HB (PM
O1204(>)、 HB (AsMo12040)、 H4(S ! M O1204゜)、 H(G e M O12040)、 H4(T ! M O12040)、 H8(00MO12042〕、 HB (ThMo12042)、 H7(PM01103g)、 H7(ASM01103g)、 HB (GeM01103g)、 H& (M n M Og O32)、H6(N !
MO9032)、 H(丁eMO6024〕°、 H5(IMo6024)、 HB(COM○6024H6〕、 HB (CrMo6 o24”6 )、HB (FeM
o6o24H6)、 HB (GaM0602486 )、 H(NiMo6024H6)、 H6(P2 MO180B2)・ H(、(A S 2 M OIBOB2)を有するもの
等が例示できる。
更に各々の原子を2種以上配位させた混合配位ヘテロポ
リ酸、例えば、 H4PMOW11040・ HPReW11040、 H4P VM O11040・ H5P V 2 M Otoo 40 等も使用可能である。上記に例示したこれらヘテロポリ
酸はいずれも公知のものである。合成の容易さ又は入手
の容易さの観点からは、ヘテロ原子としてP又は3iを
含有するヘテロポリ酸が好ましく、特に 12−タングストリン酸(H3PW1204o)、12
−タングストケイ酸(H3SIW12o4o〉、12−
モリブドリン酸(H3PMO1204゜)等がより好ま
しい。
リ酸、例えば、 H4PMOW11040・ HPReW11040、 H4P VM O11040・ H5P V 2 M Otoo 40 等も使用可能である。上記に例示したこれらヘテロポリ
酸はいずれも公知のものである。合成の容易さ又は入手
の容易さの観点からは、ヘテロ原子としてP又は3iを
含有するヘテロポリ酸が好ましく、特に 12−タングストリン酸(H3PW1204o)、12
−タングストケイ酸(H3SIW12o4o〉、12−
モリブドリン酸(H3PMO1204゜)等がより好ま
しい。
又、上記触媒として用いるタングステン酸、モリブデン
酸又はこれらのへテロポリ酸は、水和物であってもよく
、更に、反応系内で上記のタングステン酸、モリブデン
酸又はこれらのへテロポリ酸を生成し得る化合物の形態
でおってもよい。このような化合物としては、カリウム
、ナトリウム等のアルカリ金属塩、コバルト、ニッケル
、マンガン、銅等の重金属塩、アンモニウム(NH4)
塩等の塩類が挙げられ、更にタングステン酸及びモリブ
デン酸に関しては、MO3、MO16及びMS3 (M
=W又はMO>で表わされる酸化物、塩化物及び硫化物
の形態であってもよい。
酸又はこれらのへテロポリ酸は、水和物であってもよく
、更に、反応系内で上記のタングステン酸、モリブデン
酸又はこれらのへテロポリ酸を生成し得る化合物の形態
でおってもよい。このような化合物としては、カリウム
、ナトリウム等のアルカリ金属塩、コバルト、ニッケル
、マンガン、銅等の重金属塩、アンモニウム(NH4)
塩等の塩類が挙げられ、更にタングステン酸及びモリブ
デン酸に関しては、MO3、MO16及びMS3 (M
=W又はMO>で表わされる酸化物、塩化物及び硫化物
の形態であってもよい。
上記に例示した触媒は、単独で使用しても2種以上を併
用してもよい。
用してもよい。
反応性及び選択性の観点からはへテロポリ酸が好ましい
。
。
本発明に係る製造方法は、一般に次の如くして行なわれ
る。
る。
ベンゼン類の全部又は一部、硫酸及び触媒を反応器に仕
込み、60〜280℃で生成する水を除去しながら反応
を行なう。反応当初ベンゼン類の一部を添加する場合に
は、反応中にベンゼン類の残部を、反応温度を保持しな
がら供給する。
込み、60〜280℃で生成する水を除去しながら反応
を行なう。反応当初ベンゼン類の一部を添加する場合に
は、反応中にベンゼン類の残部を、反応温度を保持しな
がら供給する。
反応により生成する水を除去するには、ベンゼン類を環
流し、共沸する水を相分離して除去する方法、窒素ガス
等のキャリヤーガスを反応液に導入し除去する方法、減
圧下に反応し除去する方法等が使用できる。
流し、共沸する水を相分離して除去する方法、窒素ガス
等のキャリヤーガスを反応液に導入し除去する方法、減
圧下に反応し除去する方法等が使用できる。
ベンゼン類の使用量は、硫酸に対して過剰量が好ましく
、通常、硫酸に対して2〜10倍モル量が好適である。
、通常、硫酸に対して2〜10倍モル量が好適である。
ベンゼン類が2倍モル未満の場合には、ジアリールスル
ホンの収率が低く、10倍モルを越える場合には、特に
利点は認められず不経済でめる。
ホンの収率が低く、10倍モルを越える場合には、特に
利点は認められず不経済でめる。
触媒の使用量は、触媒活性が発揮されるのに有効な量で
ある限り広い範囲から選択される。しかし、反応速度及
び経済性の観点からは、fiii[に対し0.01〜3
0重量%程度、好ましくは1〜15重量%程度が有利で
ある。
ある限り広い範囲から選択される。しかし、反応速度及
び経済性の観点からは、fiii[に対し0.01〜3
0重量%程度、好ましくは1〜15重量%程度が有利で
ある。
反応温度は、ベンゼン類の種類、所望反応時間等により
異なるが、通常、60〜280℃の範囲、好ましくは1
00〜230℃の範囲が有利である。
異なるが、通常、60〜280℃の範囲、好ましくは1
00〜230℃の範囲が有利である。
反応温度が60’C以下では実用的な反応速度が得られ
にくく、280’C以上では重合等の副反応が起こりジ
アリールスルホン類の収率が低下する傾向におる。
にくく、280’C以上では重合等の副反応が起こりジ
アリールスルホン類の収率が低下する傾向におる。
反応時間は、触媒量、ベンゼン類の種類、反応温度等に
関係するが、通常は2〜30時間でおる。
関係するが、通常は2〜30時間でおる。
このようにして得られた反応液を、必要に応じて希釈し
、触媒を濾別した後、母液を冷却して晶析させるか、お
るいは、母液から希釈媒体を蒸留留去してジアリールス
ルホン類を得る。上記工程においては必要に応じて水洗
してもよく、その順序は問わない。回収した触媒及び希
釈媒体等は、そのまま再使用が可能でおる。
、触媒を濾別した後、母液を冷却して晶析させるか、お
るいは、母液から希釈媒体を蒸留留去してジアリールス
ルホン類を得る。上記工程においては必要に応じて水洗
してもよく、その順序は問わない。回収した触媒及び希
釈媒体等は、そのまま再使用が可能でおる。
[実施例]
以下実施例及び比較例を掲げ、本発明をより詳しく説明
する。
する。
実施例1
反応器にQ−キシレンを130cJ(1,2モル)、9
8%5A酸100g(1,0モル)及び12−タングス
トリン酸(H3PW1204o・水和物)10gを仕込
み、攪拌しながら反応温度を環流温度まで上昇させ、生
成する水をO−キシレンと共沸させて冷却俊相分離し、
0−キシレンのみを反応器に戻しながら0.5時間反応
を行った。更に、還流温度に維持しなから○−キシレン
1309(1,2モル)を徐々に滴下し、生成する水を
留去しつつ4.5時間反応した。反応中留比した水は3
9m1でおり、この量は理論量に相当する。次に、この
反応液に0−キシレン2609を加えて希釈し、触媒を
濾別した。その後冷却して析出物を濾過し、更に水洗を
行った後乾燥して、テトラメチルジフェニルスルホン2
66gを得た(収率97%)。このものをガスクロマト
グラフで分析すると、3.3′、4.4=−テトラメチ
ルジフェニルスルホンと他の異性体との割合は99.3
:0.7でめった。
8%5A酸100g(1,0モル)及び12−タングス
トリン酸(H3PW1204o・水和物)10gを仕込
み、攪拌しながら反応温度を環流温度まで上昇させ、生
成する水をO−キシレンと共沸させて冷却俊相分離し、
0−キシレンのみを反応器に戻しながら0.5時間反応
を行った。更に、還流温度に維持しなから○−キシレン
1309(1,2モル)を徐々に滴下し、生成する水を
留去しつつ4.5時間反応した。反応中留比した水は3
9m1でおり、この量は理論量に相当する。次に、この
反応液に0−キシレン2609を加えて希釈し、触媒を
濾別した。その後冷却して析出物を濾過し、更に水洗を
行った後乾燥して、テトラメチルジフェニルスルホン2
66gを得た(収率97%)。このものをガスクロマト
グラフで分析すると、3.3′、4.4=−テトラメチ
ルジフェニルスルホンと他の異性体との割合は99.3
:0.7でめった。
実施例2
触媒としてタングステン酸5.03を使用した以外は実
施例1と同様の操作を行なった。反応時間5時間で留出
水は36威であり、反応により理論の94%に相当する
水が生成したことになる。
施例1と同様の操作を行なった。反応時間5時間で留出
水は36威であり、反応により理論の94%に相当する
水が生成したことになる。
反応液を処理してテトラメチルジフェニルスルホン24
89を得た(収率90%)。このものをガスクロマトグ
ラフで分析すると、3.3”、4゜4−−テトラメチル
ジフェニルスルホンと他の異性体との割合は94.5:
5.5であった。
89を得た(収率90%)。このものをガスクロマトグ
ラフで分析すると、3.3”、4゜4−−テトラメチル
ジフェニルスルホンと他の異性体との割合は94.5:
5.5であった。
比較例1
実施例1の反応を無触媒で実施した。12時間反応して
も留出水は28dであった。同様に反応液を処理してテ
トラメチルジフェニルスルホン143gを得た(収率5
2%)、、このものの3,3−.4.4”−テトラメチ
ルジフェニルスルホンと他の異性体との割合は、88.
2:11.8であった。
も留出水は28dであった。同様に反応液を処理してテ
トラメチルジフェニルスルホン143gを得た(収率5
2%)、、このものの3,3−.4.4”−テトラメチ
ルジフェニルスルホンと他の異性体との割合は、88.
2:11.8であった。
実施例3
反応器にトルエン1129(1,2モル)、98%硫酸
100g(1,0モル)及び12−タンダストケイ酸(
H4S 1W1204゜・24H20)59を仕込み、
攪拌しながら反応温度を環流温度まで上昇させ、生成す
る水をトルエンと共沸させて冷却後相分離し、トルエン
のみを反応器に戻しながら1時間反応を行った。更に、
還流温度を維持しながらトルエン112y (1,2モ
ル)を徐々に滴下し、生成する水を留去しつつ7時間反
応した。次に、この反応液にトルエン224gを加えて
希釈し、触媒を濾別した。次いで冷却して析出物を濾過
し、水洗を行った後乾燥してジメチルジフェニルスルホ
ン241gを得た(収率98%)。このものをガスクロ
マトグラフで分析すると、4.4′−ジメチルジフェニ
ルスルポンと他の異性体との割合は96.3:3.7で
あった。
100g(1,0モル)及び12−タンダストケイ酸(
H4S 1W1204゜・24H20)59を仕込み、
攪拌しながら反応温度を環流温度まで上昇させ、生成す
る水をトルエンと共沸させて冷却後相分離し、トルエン
のみを反応器に戻しながら1時間反応を行った。更に、
還流温度を維持しながらトルエン112y (1,2モ
ル)を徐々に滴下し、生成する水を留去しつつ7時間反
応した。次に、この反応液にトルエン224gを加えて
希釈し、触媒を濾別した。次いで冷却して析出物を濾過
し、水洗を行った後乾燥してジメチルジフェニルスルホ
ン241gを得た(収率98%)。このものをガスクロ
マトグラフで分析すると、4.4′−ジメチルジフェニ
ルスルポンと他の異性体との割合は96.3:3.7で
あった。
比較例2
実施例3の反応を無触媒で実施した。同様に8時間反応
し、反応液を処理してジメチルジフェニルスルホン62
7を得た(収率25%)。このものの4,4−−ジメチ
ルジフェニルスルホンと他の異性体との割合は、89.
2:10t8でめって収率25%、純度89.2%と両
者ともに好ましい結果は得られなかった。
し、反応液を処理してジメチルジフェニルスルホン62
7を得た(収率25%)。このものの4,4−−ジメチ
ルジフェニルスルホンと他の異性体との割合は、89.
2:10t8でめって収率25%、純度89.2%と両
者ともに好ましい結果は得られなかった。
実施例4
反応器にクロルベンゼン241 (2,2モル)、98
%硫酸100y (1,0モル)及び12−タングスト
リン酸59を仕込み、攪拌しながら反応温度を環流温度
まで上昇させ、生成する水をクロルベンゼンと共沸させ
て冷却後相分離し、クロルベンゼンのみを反応器に戻し
ながら10時間反応した。次に、クロルベンゼン100
gを加えて反応液を希釈し、触媒を濾別した後、母液に
水を加えて充分に攪拌した後、水層を分離した。有機層
からクロルベンゼンを減圧下に留去し、ジクロルジフェ
ニルスルホン2609を得た(収率91%)。このもの
のガスクロマトグラフ分析を行った結果、4.4−一ジ
クロルジフェニルスルポンと伯の異性体との割合は、9
3.2:6.8でめった。
%硫酸100y (1,0モル)及び12−タングスト
リン酸59を仕込み、攪拌しながら反応温度を環流温度
まで上昇させ、生成する水をクロルベンゼンと共沸させ
て冷却後相分離し、クロルベンゼンのみを反応器に戻し
ながら10時間反応した。次に、クロルベンゼン100
gを加えて反応液を希釈し、触媒を濾別した後、母液に
水を加えて充分に攪拌した後、水層を分離した。有機層
からクロルベンゼンを減圧下に留去し、ジクロルジフェ
ニルスルホン2609を得た(収率91%)。このもの
のガスクロマトグラフ分析を行った結果、4.4−一ジ
クロルジフェニルスルポンと伯の異性体との割合は、9
3.2:6.8でめった。
比較例3
実施例4の反応を無触媒で実施した。同様に1O時間反
応し、反応液を処理するとジクロルジフェニルスルホン
523が得られた(収率18%)。
応し、反応液を処理するとジクロルジフェニルスルホン
523が得られた(収率18%)。
このものの4,4′−ジクロルジフェニルスルホンと他
の異性体との割合は、85.3:14.7であった。
の異性体との割合は、85.3:14.7であった。
実施例5
反応器にO−ジクロルベンゼン368y (2゜5モル
)、98%硫酸100y (1,0モル)及びモリブデ
ン酸109を仕込み、実施例4と同様に20時間反応し
た。その結果、テトラクロルジフェニルスルホン271
びが得られ(収率76%)、3.3′、4.4−−テト
ラクロルジフェニルスルホン゛と他の異性体との割合は
、89.2:10.8であった。
)、98%硫酸100y (1,0モル)及びモリブデ
ン酸109を仕込み、実施例4と同様に20時間反応し
た。その結果、テトラクロルジフェニルスルホン271
びが得られ(収率76%)、3.3′、4.4−−テト
ラクロルジフェニルスルホン゛と他の異性体との割合は
、89.2:10.8であった。
実施例6
反応器にフェノール2889 (3,0モル)、98%
硫酸100y (1,0モル)及び12−タングストリ
ン酸59を仕込み、攪拌しながら昇温した。生成する水
をフェノールと共沸ざぜて留去し、2時間反応を行った
。その後、フェノール100gを加え、触媒を濾別し、
母液を水洗した後、フェノールを減圧下に留去してジヒ
ドロキシジフェニルスルホン2409を1qだ(収率9
6%)。
硫酸100y (1,0モル)及び12−タングストリ
ン酸59を仕込み、攪拌しながら昇温した。生成する水
をフェノールと共沸ざぜて留去し、2時間反応を行った
。その後、フェノール100gを加え、触媒を濾別し、
母液を水洗した後、フェノールを減圧下に留去してジヒ
ドロキシジフェニルスルホン2409を1qだ(収率9
6%)。
このものの4,4−−ジヒドロキシジフェニルスルホン
と他の異性体との割合は、97.4:2゜6であった。
と他の異性体との割合は、97.4:2゜6であった。
比較例4
実施例6の反応を無触媒で実施した。同様に2時間反応
後、反応液を処理するとジヒドロキシジフェニルスルホ
ン1243が1qられ(収率50%)、このものの4.
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンと他の異性体と
の割合は、91.3:8゜7であった。
後、反応液を処理するとジヒドロキシジフェニルスルホ
ン1243が1qられ(収率50%)、このものの4.
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンと他の異性体と
の割合は、91.3:8゜7であった。
実施例7
実施例1で回収した12−タングストリン酸9゜8gを
触媒とし、実施例1と同様に反応した。その結果、テト
ラメチルジフェニルスルホン2603を得(収率95%
)、このものの3.3′、4゜4−−テトラメチルジフ
ェニルスルホンと他の異性体との割合は、98.9:1
.1であった。
触媒とし、実施例1と同様に反応した。その結果、テト
ラメチルジフェニルスルホン2603を得(収率95%
)、このものの3.3′、4゜4−−テトラメチルジフ
ェニルスルホンと他の異性体との割合は、98.9:1
.1であった。
[発明の効果]
本発明によれば安価な硫酸とベンゼン類から直接、目的
とするジアリールスルホン類を高収率で得ることができ
る。しかも、使用する触媒の回収も容易で、何ら処理す
ることなく再使用が可能である。
とするジアリールスルホン類を高収率で得ることができ
る。しかも、使用する触媒の回収も容易で、何ら処理す
ることなく再使用が可能である。
従って、本発明に係る方法により、工業的に極めて有利
にジアリールスルホン類を製造することができる。
にジアリールスルホン類を製造することができる。
2、発明の名称 ジアリールスルホン類の製造方法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 京都府京都市伏見区葭島矢倉町13番地名称 新
日本理化株式会社 代表者 村 井 孝 − 4、補正により増加する発明の数 なし5、補
正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の
欄特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和61年 特許願 第16857
9号2、発明の名称 ジアリールスルホン類の製造方法
3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 5、補正命令の日付 自 発
\21.′\°′/)、、ネ 、 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の
欄以上
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 京都府京都市伏見区葭島矢倉町13番地名称 新
日本理化株式会社 代表者 村 井 孝 − 4、補正により増加する発明の数 なし5、補
正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の
欄特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和61年 特許願 第16857
9号2、発明の名称 ジアリールスルホン類の製造方法
3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 5、補正命令の日付 自 発
\21.′\°′/)、、ネ 、 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の
欄以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A及びBは
アルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン基、ニトロ基
、アミノ基、ヒドロキシル基又はエーテル基(アルコキ
シ、フェノキシ、置換フェノキシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式(II)で
表わされるジアリールスルホン類を製造するにあたり、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、n、m、A、Bは一般式( I )と同様である
。] 触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及びそれらの
ヘテロポリ酸からなる群から選ばれる1種又は2種以上
を使用することを特徴とするジアリールスルホン類の製
造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61168579A JPS6323854A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | ジアリ−ルスルホン類の製造方法 |
| US07/070,576 US4778932A (en) | 1986-07-16 | 1987-07-07 | Process for preparing diarylsulfones |
| DE3723401A DE3723401C2 (de) | 1986-07-16 | 1987-07-15 | Verfahren zur Herstellung von Diarylsulfonen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61168579A JPS6323854A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | ジアリ−ルスルホン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6323854A true JPS6323854A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0476987B2 JPH0476987B2 (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=15870667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61168579A Granted JPS6323854A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | ジアリ−ルスルホン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6323854A (ja) |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP61168579A patent/JPS6323854A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0476987B2 (ja) | 1992-12-07 |
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Legal Events
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