JPH0476987B2 - - Google Patents

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JPH0476987B2
JPH0476987B2 JP61168579A JP16857986A JPH0476987B2 JP H0476987 B2 JPH0476987 B2 JP H0476987B2 JP 61168579 A JP61168579 A JP 61168579A JP 16857986 A JP16857986 A JP 16857986A JP H0476987 B2 JPH0476987 B2 JP H0476987B2
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JP
Japan
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reaction
acid
catalyst
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benzenes
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JP61168579A
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Hiroshi Masami
Mikiro Nakazawa
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SHIN NIPPON RIKA KK
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ベンゼン類と硫酸とから高収率で高
純度のジアリールスルホン類を製造する方法に関
する。
本発明により得られるジアリールスルホン類
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リスルホン等の耐熱性樹脂の原料又は原料中間体
として有用な化合物である。
[従来技術及びその問題点] 従来、ジアリールスルホン類の製造方法として
は、以下の方法が提案されている。
(1) アリールスルホクロリド類とベンゼン類とを
無水塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄のよう
なルイス酸触媒の存在下に、フリーデルクラフ
ツ反応を行なわせる方法(西独特許第701954号
等)、 (2) アリールスルホクロリド類とベンゼン類とを
アリールスルホン酸の共存下に反応させる方法
(特公昭50−5707号等)、 (3) アリールスルホクロリド類又はアリールスル
ホン酸とベンゼン類とをスルホン型イオン交換
樹脂又は超強酸性樹脂の共存下に反応させる方
法(特公昭50−53345号、特開昭57−81453号、
特開昭57−85363号)。
しかしながら、(1)及び(2)の方法では、出発原料
とするアリールスルホクロリド類が取扱い中及び
保存中に加水分解される難点があるに加え、触媒
の分離が煩雑である。(3)の方法では、イオン交換
樹脂の耐熱温度が低く、又、超強酸性樹脂は高価
で、かつ多量に用いなくてはならない。
このため、安価なベンゼン類と硫酸とを直接反
応せしめてジアリールスルホン類を製造する方法
が工業的に有利と考えられ、この観点にたつて以
下の方法が提案されている。
(4) ベンゼン類を無水硫酸と硫酸ジメチルの混合
物(ピロ硫酸メチル)と共に反応させる方法
(英国特許第895464号、特公昭37−11817号等)、 (5) ベンゼン類と硫酸とからアリールスルホン酸
を合成し、このアリールスルホン酸とベンゼン
類とをP2O5等の脱水剤の存在下又は不存在下
に反応させる方法(米国特許第3729517号、特
開昭60−92256号)。
しかしながら、(4)の方法では、毒性の強い硫酸
ジメチルを大量に使用するため、作業衛生上及び
廃油処理の面で設備に格別の対応が必要になる。
更に(5)の方法は、脱水剤を用いない場合は収率が
低く、収率を向上させるためには高価な脱水剤を
多量に使用する必要がある等の欠点を有してい
る。
[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、ベンゼン類と硫酸とを直接反応
することにより高収率かつ高純度でジアリールス
ルホン類を工業的に生産する方法を確立すべく鋭
意検討した結果、特定の触媒が所期の目的を達成
し得ることを見い出し、この知見に基づいて本発
明を完成した。
即ち本発明は、一般式() [式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式
()で表わされるジアリールスルホン類を製造
するにあたり、 [式中、n、m、A、Bは一般式()と同様
である。] 触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及び
それらのヘテロポリ酸からなる群から選ばれる1
種又は2種以上を使用することを特徴とするジア
リールスルホン類の工業的に優れた新規な製造方
法を提供することを目的とする。
本発明方法において原料として用いられる一般
式()で表わされるベンゼン類としては、次の
ようなものが挙げられる。ただし、以下の例示に
限定されるものではない。
[式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] n+mが0又は1の場合のベンゼン類として
は、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロ
ピルベンゼン、ブチルベンゼン、ドデシルベンゼ
ン、クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベ
ンゼン、フルオロベンゼン、ニトロベンゼン、ア
ニリン、フエノール、アニソール、ビフエニルエ
ーテル等がある。又、n+mが2又は3の場合の
ベンゼン類としては、キシレン、ジクロルベンゼ
ン、ジブロムベンゼン、クロルトルエン、ブロム
トルエン、ニトロトルエン、ニトロフエノール、
トルイジン、カテコール、レゾルシン、ハイドロ
キノン、クロルフエノール、ブロムフエノール、
キシレノール等がある。
本発明に係る触媒としては、タングステン酸、
モリブデン酸、あるいはこれらのヘテロポリ酸が
掲げられる。ここにいうヘテロポリ酸とは、2種
以上の酸素酸からなる縮合酸であり、ポリ酸原子
としては、タングステン及びモリブデンであり、
ヘテロ原子としては、以下に示すような各種のも
のが使用できる。タングステン酸のヘテロポリ酸
におけるヘテロ原子としては、P、As、Si、Ti、
Co、Fe、B、V、Be、I、Ni、Ga等が例示さ
れる。タングステン酸のヘテロポリ酸の具体例し
ては、次の構造式、 H3〔PW12O40〕、 H3〔AsW12O40〕、 H4〔SiW12O40〕、 H4〔TiW12O40〕、 H5〔CoW12O40〕、 H5〔FeW12O40〕、 H5〔BW12O40〕、 H3〔VW12O40〕、 H6〔BeW9O31〕、 H6〔TeW6O24〕、 H5〔IW6O24〕、 H4〔NiW6O24H6〕、 H3〔GaW6O24H6〕、 H6〔P2W18O62〕、 H6〔As2W18O62〕、 H7〔PW11O33〕 を有するものが例示できる。
又、モリブデン酸のヘテロポリ酸におけるヘテ
ロ原子としては、P、As、Si、Ge、Ti、Ce、
Th、Mn、Ni、Te、I、Co、Cr、Fe、Gaなど
とが例示される。モリブデン酸のヘテロポリ酸の
具体例としては、次の構造式、 H3〔PMo12O40〕、 H3〔AsMo12O40〕、 H4〔SiMo12O40〕、 H4〔GeMo12O40〕、 H4〔TiMo12O40〕、 H8〔CeMo12O42〕、 H8〔ThMo12O42〕、 H7〔PMo11O39〕、 H7〔AsMo11O39〕、 H8〔GeMo11O39〕、 H6〔MnMo9O32〕、 H6〔NiMO9O32〕、 H6〔TeMo6O24〕、 H5〔IMo6O24〕、 H3〔CoMo6O24H6〕、 H3〔CrMo6O24H6〕、 H3〔FeMo6O24H6〕、 H3〔GaMo6O24H6〕、 H4〔NiMo6O24H6〕、 H6〔P2Mo18O62〕、 H6〔As2Mo18O62〕 を有するもの等が例示できる。
更に各々の原子を2種以上配位させた混合配位
ヘテロポリ酸、例えば、 H4PMoW11O40、 H4PReW11O40、 H4PVMo11O40、 H5PV2Mo10O40 等も使用可能である。上記に例示したこれらヘテ
ロポリ酸はいずれも公知のものである。合成の容
易さ又は入手の容易さの観点からは、ヘテロ原子
としてP又はSiを含有するヘテロポリ酸が好まし
く、特に 12−タングストリン酸(H3PW12O40)、 12−タングストケイ酸(H3SiW12O40)、 12−モリブドリン酸(H3PMo12O40)等がより
好ましい。
又、上記触媒として用いるタングステン酸、モ
リブデン酸又はこれらのヘテロポリ酸は、水和物
であつてもよく、更に、反応系内で上記のタング
ステン酸、モリブデン酸又はこれらのヘテロポリ
酸を生成し得る化合物の形態であつてもよい。こ
のような化合物としては、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩、コバルト、ニツケル、マン
ガン、銅等の重金属塩、アンモニウム(NH4
塩等の塩類が挙げられ、更にタングステン酸及び
モリブデン酸に関しては、MO3、MCl6及びMS3
((M=W又はMo)で表わされる酸化物、塩化物
及び硫化物の形態であつてもよい。
上記に例示した触媒は、単独で使用しても2種
以上を併用してもよい。
反応性及び選択性の観点からはヘテロポリ酸が
好ましい。
本発明に係る製造方法は、一般に次の如くして
行なわれる。
ベンゼン類の全部又は一部、硫酸及び触媒を反
応器に仕込み、60〜280℃で生成する水を除去し
ながら反応を行なう。反応当初ベンゼン類の一部
を添加する場合には、反応中にベンゼン類の残部
を、反応温度を保持しながら供給する。
反応により生成する水を除去するには、ベンゼ
ン類を還流し、共沸する水を相分離して除去する
方法、窒素ガス等のキヤリヤーガスを反応液に導
入し除去する方法、減圧下に反応し除去する方法
等が使用できる。
ベンゼン類の使用量は、硫酸に対して過剰量が
好ましく、通常、硫酸に対して2〜10倍モル量が
好適である。ベンゼン類が2倍モル未満の場合に
は、ジアリールスルホンの収率が低く、10倍モル
を越える場合には、特に利点は認められず不経済
である。
触媒の使用量は、触媒活性が発揮されるのに有
効な量である限り広い範囲から選択される。しか
し、反応速度及び経済性の観点からは、硫酸に対
し0.01〜30重量%程度、好ましくは1〜15重量%
程度が有利である。
反応温度は、ベンゼン類の種類、所望反応時間
等により異なるが、通常、60〜280℃の範囲、好
ましくは100〜230℃の範囲が有利である。反応温
度が60℃以下では実用的な反応速度が得られにく
く、280℃以上では重合等の副反応が起こりジア
リールスルホン類の収率が低下する傾向にある。
反応時間は、触媒量、ベンゼン類の種類、反応
温度等に関係するが、通常は2〜30時間である。
このようにして得られた反応液を、必要に応じ
て希釈し、触媒を濾別した後、母液を冷却して晶
析させるか、あるいは、母液から希釈媒体を蒸留
留去してジアリールスルホン類を得る。上記工程
においては必要に応じて水洗してもよく、その順
序は問わない。回収した触媒及び希釈媒体等は、
そのまま再使用が可能である。
[実施例] 以下実施例及び比較例を掲げ、本発明をより詳
しく説明する。
実施例 1 反応器にo−キシレンを130g(1.2モル)、98
%硫酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン
酸(H3PW12O40・水和物)10gを仕込み、撹拌
しながら反応温度を還流温度まで上昇させ、生成
する水をo−キシレンと共沸させて冷却後相分離
し、o−キシレンのみを反応器に戻しながら0.5
時間反応を行つた。更に、還流温度に維持しなが
らo−キシレン130g(1.2モル)を徐々に滴下
し、生成する水を留去しつつ4.5時間反応した。
反応中留出した水は39mlであり、この量は理論量
に相当する。次に、この反応液にo−キシレン
260gを加えて希釈し、触媒を濾別した。その後
冷却して析出物を濾過し、更に水洗を行つた後乾
燥して、テトラメチルジフエニルスルホン266g
を得た(収率97%)。このものをガスクロマトグ
ラフで分析すると、3,3′,4,4′−テトラメチ
ルジフエニルスルホンと他の異性体との割合は
99.3:0.7であつた。
実施例 2 触媒としてタングステン酸5.0gを使用した以
外は実施例1と同様の操作を行なつた。反応時間
5時間で留出水は36mlであり、反応により理論の
94%に相当する水が生成したことになる。反応液
を処理してテトラメチルジフエニルスルホン248
gを得た(収率90%)。このものをガスクロマト
グラフで分析すると、3,3′,4,4′−テトラメ
チルジフエニルスルホンと他の異性体との割合は
94.5:5.5であつた。
比較例 1 実施例1の反応を無触媒で実施した。12時間反
応しても留出水は28mlであつた。同様に反応液を
処理してテトラメチルジフエニルスルホン143g
を得た(収率52%)。このものの3,3′,4,
4′−テトラメチルジフエニルスルホンと他の異性
体との割合は、88.2:11.8であつた。
実施例 3 反応器にトルエン112g(1.2モル)、98%硫酸
100g(1.0モル)及び12−タングストケイ酸
(H4SiW12O40・24H2O)5gを仕込み、撹拌しな
がら反応温度を還流温度まで上昇させ、生成する
水をトルエンと共沸させて冷却後相分離し、トル
エンのみを反応器に戻しながら1時間反応を行つ
た。更に、還流温度を維持しながらトルエン112
g(1.2モル)を徐々に滴下し、生成する水を留
去しつつ7時間反応した。次に、この反応液にト
ルエン224gを加えて希釈し、触媒を濾別した。
次いで冷却して析出物を濾過し、水洗を行つた後
乾燥してジメチルジフエニルスルホン241gを得
た(収率98%)。このものをガスクロマトグラフ
で分析すると、4,4′−ジメチルジフエニルスル
ホンと他の異性体との割合は96.3:3.7であつた。
比較例 2 実施例3の反応を無触媒で実施した。同様に8
時間反応し、反応液を処理してジメチルジフエニ
ルスルホン62gを得た(収率25%)。このものの
4,4′−ジメチルジフエニルスルホンと他の異性
体との割合は、89.2:10.8であつて収率25%、純
度89.2%と両者ともに好ましい結果は得られなか
つた。
実施例 4 反応器にクロルベンゼン248g(2.2モル)、98
%硫酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン
酸5gを仕込み、撹拌しながら反応温度を還流温
度まで上昇させ、生成する水をクロルベンゼンと
共沸させて冷却後相分離し、クロルベンゼンのみ
を反応器に戻しながら10時間反応した。次に、ク
ロルベンゼン100gを加えて反応液を希釈し、触
媒を濾別した後、母液に水を加えて充分に撹拌し
た後、水層を分離した。有機層からクロルベンゼ
ンを減圧下に留去し、ジクロルジフエニルスルホ
ン260gを得た(収率91%)。このもののガスクロ
マトグラフ分析を行つた結果、4,4′−ジクロル
ジフエニルスルホンと他の異性体との割合は、
93.2:6.8であつた。
比較例 3 実施例4の反応を無触媒で実施した。同様に10
時間反応し、反応液を処理するとジクロルジフエ
ニルスルホン52gが得られた(収率18%)。この
ものの4,4′−ジクロルジフエニルスルホンと他
の異性体との割合は、85.3:14.7であつた。
実施例 5 反応器にo−ジクロルベンゼン368g(2.5モ
ル)、98%硫酸100g(1.0モル)及びモリブデン
酸10gを仕込み、実施例4と同様に20時間反応し
た。その結果、テトラクロルジフエニルスルホン
271gが得られ(収率76%)、3,3′,4,4′−テ
トラクロルジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、89.2:10.8であつた。
実施例 6 反応器にフエノール288g(3.0モル)、98%硫
酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン酸5
gを仕込み、撹拌しながら昇温した。生成する水
をフエノールと共沸させて留去し、2時間反応を
行つた。その後、フエノール100gを加え、触媒
を濾別し、母液を水洗した後、フエノールを減圧
下に留去してジヒドロキシジフエニルスルホン
240gを得た(収率96%)。このものの4,4′−ジ
ヒドロキシジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、97.4:2.6であつた。
比較例 4 実施例6の反応を無触媒で実施した。同様に2
時間反応後、反応液を処理するとジヒドロキシジ
フエニルスルホン124gが得られ(収率50%)、こ
のものの4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホ
ンと他の異性体との割合は、91.3:8.7であつた。
実施例 7 実施例1で回収した12−タングストリン酸9.8
gを触媒とし、実施例1と同様に反応した。その
結果、テトラメチルジフエニルスルホン260gを
得(収率95%)、このものの3,3′,4,4′−テ
トラメチルジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、98.9:1.1であつた。
[発明の効果] 本発明によれば安価な硫酸とベンゼン類から直
接、目的とするジアリールスルホン類を高収率で
得ることができる。しかも、使用する触媒の回収
も容易で、何ら処理することなく再使用が可能で
ある。
従つて、本発明に係る方法により、工業的に極
めて有利にジアリールスルホン類を製造すること
ができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() [式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A
    及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
    基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
    ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
    キシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式
    ()で表わされるジアリールスルホン類を製造
    するにあたり、 [式中、n、m、A、Bは一般式()と同様
    である。] 触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及び
    それらのヘテロポリ酸からなる群から選ばれる1
    種又は2種以上を使用することを特徴とするジア
    リールスルホン類の製造方法。
JP61168579A 1986-07-16 1986-07-16 ジアリ−ルスルホン類の製造方法 Granted JPS6323854A (ja)

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JP61168579A JPS6323854A (ja) 1986-07-16 1986-07-16 ジアリ−ルスルホン類の製造方法
US07/070,576 US4778932A (en) 1986-07-16 1987-07-07 Process for preparing diarylsulfones
DE3723401A DE3723401C2 (de) 1986-07-16 1987-07-15 Verfahren zur Herstellung von Diarylsulfonen

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