JPH0476987B2 - - Google Patents
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- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 claims description 20
- -1 phenoxy, substituted phenoxy Chemical group 0.000 claims description 13
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 5
- BCTWNMTZAXVEJL-UHFFFAOYSA-N phosphane;tungsten;tetracontahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.P.[W].[W].[W].[W].[W].[W].[W].[W].[W].[W].[W].[W] BCTWNMTZAXVEJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N S-phenyl benzenesulfonothioate Natural products C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- ZSIACQWHDVUCHB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dimethylphenyl)sulfonyl-1,2-dimethylbenzene Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C(C)=C1 ZSIACQWHDVUCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEAYCYAIVOIUMG-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(4-methylphenyl)sulfonylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 WEAYCYAIVOIUMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMYVDBHFYSHDSL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-(3,4-dichlorophenyl)sulfonylbenzene Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 MMYVDBHFYSHDSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Br QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBRQUKZZBXZOBA-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-(3-chlorophenyl)sulfonylbenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(Cl)C=CC=2)=C1 IBRQUKZZBXZOBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001149 41xx steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003294 NiMo Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001168730 Simo Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEFSVYOPCJUCQP-UHFFFAOYSA-N methyl sulfo sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OS(O)(=O)=O CEFSVYOPCJUCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLZLOWPYUQHHCG-UHFFFAOYSA-N nitromethylbenzene Chemical compound [O-][N+](=O)CC1=CC=CC=C1 VLZLOWPYUQHHCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、ベンゼン類と硫酸とから高収率で高
純度のジアリールスルホン類を製造する方法に関
する。
純度のジアリールスルホン類を製造する方法に関
する。
本発明により得られるジアリールスルホン類
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リスルホン等の耐熱性樹脂の原料又は原料中間体
として有用な化合物である。
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リスルホン等の耐熱性樹脂の原料又は原料中間体
として有用な化合物である。
[従来技術及びその問題点]
従来、ジアリールスルホン類の製造方法として
は、以下の方法が提案されている。
は、以下の方法が提案されている。
(1) アリールスルホクロリド類とベンゼン類とを
無水塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄のよう
なルイス酸触媒の存在下に、フリーデルクラフ
ツ反応を行なわせる方法(西独特許第701954号
等)、 (2) アリールスルホクロリド類とベンゼン類とを
アリールスルホン酸の共存下に反応させる方法
(特公昭50−5707号等)、 (3) アリールスルホクロリド類又はアリールスル
ホン酸とベンゼン類とをスルホン型イオン交換
樹脂又は超強酸性樹脂の共存下に反応させる方
法(特公昭50−53345号、特開昭57−81453号、
特開昭57−85363号)。
無水塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄のよう
なルイス酸触媒の存在下に、フリーデルクラフ
ツ反応を行なわせる方法(西独特許第701954号
等)、 (2) アリールスルホクロリド類とベンゼン類とを
アリールスルホン酸の共存下に反応させる方法
(特公昭50−5707号等)、 (3) アリールスルホクロリド類又はアリールスル
ホン酸とベンゼン類とをスルホン型イオン交換
樹脂又は超強酸性樹脂の共存下に反応させる方
法(特公昭50−53345号、特開昭57−81453号、
特開昭57−85363号)。
しかしながら、(1)及び(2)の方法では、出発原料
とするアリールスルホクロリド類が取扱い中及び
保存中に加水分解される難点があるに加え、触媒
の分離が煩雑である。(3)の方法では、イオン交換
樹脂の耐熱温度が低く、又、超強酸性樹脂は高価
で、かつ多量に用いなくてはならない。
とするアリールスルホクロリド類が取扱い中及び
保存中に加水分解される難点があるに加え、触媒
の分離が煩雑である。(3)の方法では、イオン交換
樹脂の耐熱温度が低く、又、超強酸性樹脂は高価
で、かつ多量に用いなくてはならない。
このため、安価なベンゼン類と硫酸とを直接反
応せしめてジアリールスルホン類を製造する方法
が工業的に有利と考えられ、この観点にたつて以
下の方法が提案されている。
応せしめてジアリールスルホン類を製造する方法
が工業的に有利と考えられ、この観点にたつて以
下の方法が提案されている。
(4) ベンゼン類を無水硫酸と硫酸ジメチルの混合
物(ピロ硫酸メチル)と共に反応させる方法
(英国特許第895464号、特公昭37−11817号等)、 (5) ベンゼン類と硫酸とからアリールスルホン酸
を合成し、このアリールスルホン酸とベンゼン
類とをP2O5等の脱水剤の存在下又は不存在下
に反応させる方法(米国特許第3729517号、特
開昭60−92256号)。
物(ピロ硫酸メチル)と共に反応させる方法
(英国特許第895464号、特公昭37−11817号等)、 (5) ベンゼン類と硫酸とからアリールスルホン酸
を合成し、このアリールスルホン酸とベンゼン
類とをP2O5等の脱水剤の存在下又は不存在下
に反応させる方法(米国特許第3729517号、特
開昭60−92256号)。
しかしながら、(4)の方法では、毒性の強い硫酸
ジメチルを大量に使用するため、作業衛生上及び
廃油処理の面で設備に格別の対応が必要になる。
更に(5)の方法は、脱水剤を用いない場合は収率が
低く、収率を向上させるためには高価な脱水剤を
多量に使用する必要がある等の欠点を有してい
る。
ジメチルを大量に使用するため、作業衛生上及び
廃油処理の面で設備に格別の対応が必要になる。
更に(5)の方法は、脱水剤を用いない場合は収率が
低く、収率を向上させるためには高価な脱水剤を
多量に使用する必要がある等の欠点を有してい
る。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、ベンゼン類と硫酸とを直接反応
することにより高収率かつ高純度でジアリールス
ルホン類を工業的に生産する方法を確立すべく鋭
意検討した結果、特定の触媒が所期の目的を達成
し得ることを見い出し、この知見に基づいて本発
明を完成した。
することにより高収率かつ高純度でジアリールス
ルホン類を工業的に生産する方法を確立すべく鋭
意検討した結果、特定の触媒が所期の目的を達成
し得ることを見い出し、この知見に基づいて本発
明を完成した。
即ち本発明は、一般式()
[式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式
()で表わされるジアリールスルホン類を製造
するにあたり、 [式中、n、m、A、Bは一般式()と同様
である。] 触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及び
それらのヘテロポリ酸からなる群から選ばれる1
種又は2種以上を使用することを特徴とするジア
リールスルホン類の工業的に優れた新規な製造方
法を提供することを目的とする。
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式
()で表わされるジアリールスルホン類を製造
するにあたり、 [式中、n、m、A、Bは一般式()と同様
である。] 触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及び
それらのヘテロポリ酸からなる群から選ばれる1
種又は2種以上を使用することを特徴とするジア
リールスルホン類の工業的に優れた新規な製造方
法を提供することを目的とする。
本発明方法において原料として用いられる一般
式()で表わされるベンゼン類としては、次の
ようなものが挙げられる。ただし、以下の例示に
限定されるものではない。
式()で表わされるベンゼン類としては、次の
ようなものが挙げられる。ただし、以下の例示に
限定されるものではない。
[式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] n+mが0又は1の場合のベンゼン類として
は、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロ
ピルベンゼン、ブチルベンゼン、ドデシルベンゼ
ン、クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベ
ンゼン、フルオロベンゼン、ニトロベンゼン、ア
ニリン、フエノール、アニソール、ビフエニルエ
ーテル等がある。又、n+mが2又は3の場合の
ベンゼン類としては、キシレン、ジクロルベンゼ
ン、ジブロムベンゼン、クロルトルエン、ブロム
トルエン、ニトロトルエン、ニトロフエノール、
トルイジン、カテコール、レゾルシン、ハイドロ
キノン、クロルフエノール、ブロムフエノール、
キシレノール等がある。
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] n+mが0又は1の場合のベンゼン類として
は、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロ
ピルベンゼン、ブチルベンゼン、ドデシルベンゼ
ン、クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベ
ンゼン、フルオロベンゼン、ニトロベンゼン、ア
ニリン、フエノール、アニソール、ビフエニルエ
ーテル等がある。又、n+mが2又は3の場合の
ベンゼン類としては、キシレン、ジクロルベンゼ
ン、ジブロムベンゼン、クロルトルエン、ブロム
トルエン、ニトロトルエン、ニトロフエノール、
トルイジン、カテコール、レゾルシン、ハイドロ
キノン、クロルフエノール、ブロムフエノール、
キシレノール等がある。
本発明に係る触媒としては、タングステン酸、
モリブデン酸、あるいはこれらのヘテロポリ酸が
掲げられる。ここにいうヘテロポリ酸とは、2種
以上の酸素酸からなる縮合酸であり、ポリ酸原子
としては、タングステン及びモリブデンであり、
ヘテロ原子としては、以下に示すような各種のも
のが使用できる。タングステン酸のヘテロポリ酸
におけるヘテロ原子としては、P、As、Si、Ti、
Co、Fe、B、V、Be、I、Ni、Ga等が例示さ
れる。タングステン酸のヘテロポリ酸の具体例し
ては、次の構造式、 H3〔PW12O40〕、 H3〔AsW12O40〕、 H4〔SiW12O40〕、 H4〔TiW12O40〕、 H5〔CoW12O40〕、 H5〔FeW12O40〕、 H5〔BW12O40〕、 H3〔VW12O40〕、 H6〔BeW9O31〕、 H6〔TeW6O24〕、 H5〔IW6O24〕、 H4〔NiW6O24H6〕、 H3〔GaW6O24H6〕、 H6〔P2W18O62〕、 H6〔As2W18O62〕、 H7〔PW11O33〕 を有するものが例示できる。
モリブデン酸、あるいはこれらのヘテロポリ酸が
掲げられる。ここにいうヘテロポリ酸とは、2種
以上の酸素酸からなる縮合酸であり、ポリ酸原子
としては、タングステン及びモリブデンであり、
ヘテロ原子としては、以下に示すような各種のも
のが使用できる。タングステン酸のヘテロポリ酸
におけるヘテロ原子としては、P、As、Si、Ti、
Co、Fe、B、V、Be、I、Ni、Ga等が例示さ
れる。タングステン酸のヘテロポリ酸の具体例し
ては、次の構造式、 H3〔PW12O40〕、 H3〔AsW12O40〕、 H4〔SiW12O40〕、 H4〔TiW12O40〕、 H5〔CoW12O40〕、 H5〔FeW12O40〕、 H5〔BW12O40〕、 H3〔VW12O40〕、 H6〔BeW9O31〕、 H6〔TeW6O24〕、 H5〔IW6O24〕、 H4〔NiW6O24H6〕、 H3〔GaW6O24H6〕、 H6〔P2W18O62〕、 H6〔As2W18O62〕、 H7〔PW11O33〕 を有するものが例示できる。
又、モリブデン酸のヘテロポリ酸におけるヘテ
ロ原子としては、P、As、Si、Ge、Ti、Ce、
Th、Mn、Ni、Te、I、Co、Cr、Fe、Gaなど
とが例示される。モリブデン酸のヘテロポリ酸の
具体例としては、次の構造式、 H3〔PMo12O40〕、 H3〔AsMo12O40〕、 H4〔SiMo12O40〕、 H4〔GeMo12O40〕、 H4〔TiMo12O40〕、 H8〔CeMo12O42〕、 H8〔ThMo12O42〕、 H7〔PMo11O39〕、 H7〔AsMo11O39〕、 H8〔GeMo11O39〕、 H6〔MnMo9O32〕、 H6〔NiMO9O32〕、 H6〔TeMo6O24〕、 H5〔IMo6O24〕、 H3〔CoMo6O24H6〕、 H3〔CrMo6O24H6〕、 H3〔FeMo6O24H6〕、 H3〔GaMo6O24H6〕、 H4〔NiMo6O24H6〕、 H6〔P2Mo18O62〕、 H6〔As2Mo18O62〕 を有するもの等が例示できる。
ロ原子としては、P、As、Si、Ge、Ti、Ce、
Th、Mn、Ni、Te、I、Co、Cr、Fe、Gaなど
とが例示される。モリブデン酸のヘテロポリ酸の
具体例としては、次の構造式、 H3〔PMo12O40〕、 H3〔AsMo12O40〕、 H4〔SiMo12O40〕、 H4〔GeMo12O40〕、 H4〔TiMo12O40〕、 H8〔CeMo12O42〕、 H8〔ThMo12O42〕、 H7〔PMo11O39〕、 H7〔AsMo11O39〕、 H8〔GeMo11O39〕、 H6〔MnMo9O32〕、 H6〔NiMO9O32〕、 H6〔TeMo6O24〕、 H5〔IMo6O24〕、 H3〔CoMo6O24H6〕、 H3〔CrMo6O24H6〕、 H3〔FeMo6O24H6〕、 H3〔GaMo6O24H6〕、 H4〔NiMo6O24H6〕、 H6〔P2Mo18O62〕、 H6〔As2Mo18O62〕 を有するもの等が例示できる。
更に各々の原子を2種以上配位させた混合配位
ヘテロポリ酸、例えば、 H4PMoW11O40、 H4PReW11O40、 H4PVMo11O40、 H5PV2Mo10O40 等も使用可能である。上記に例示したこれらヘテ
ロポリ酸はいずれも公知のものである。合成の容
易さ又は入手の容易さの観点からは、ヘテロ原子
としてP又はSiを含有するヘテロポリ酸が好まし
く、特に 12−タングストリン酸(H3PW12O40)、 12−タングストケイ酸(H3SiW12O40)、 12−モリブドリン酸(H3PMo12O40)等がより
好ましい。
ヘテロポリ酸、例えば、 H4PMoW11O40、 H4PReW11O40、 H4PVMo11O40、 H5PV2Mo10O40 等も使用可能である。上記に例示したこれらヘテ
ロポリ酸はいずれも公知のものである。合成の容
易さ又は入手の容易さの観点からは、ヘテロ原子
としてP又はSiを含有するヘテロポリ酸が好まし
く、特に 12−タングストリン酸(H3PW12O40)、 12−タングストケイ酸(H3SiW12O40)、 12−モリブドリン酸(H3PMo12O40)等がより
好ましい。
又、上記触媒として用いるタングステン酸、モ
リブデン酸又はこれらのヘテロポリ酸は、水和物
であつてもよく、更に、反応系内で上記のタング
ステン酸、モリブデン酸又はこれらのヘテロポリ
酸を生成し得る化合物の形態であつてもよい。こ
のような化合物としては、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩、コバルト、ニツケル、マン
ガン、銅等の重金属塩、アンモニウム(NH4)
塩等の塩類が挙げられ、更にタングステン酸及び
モリブデン酸に関しては、MO3、MCl6及びMS3
((M=W又はMo)で表わされる酸化物、塩化物
及び硫化物の形態であつてもよい。
リブデン酸又はこれらのヘテロポリ酸は、水和物
であつてもよく、更に、反応系内で上記のタング
ステン酸、モリブデン酸又はこれらのヘテロポリ
酸を生成し得る化合物の形態であつてもよい。こ
のような化合物としては、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩、コバルト、ニツケル、マン
ガン、銅等の重金属塩、アンモニウム(NH4)
塩等の塩類が挙げられ、更にタングステン酸及び
モリブデン酸に関しては、MO3、MCl6及びMS3
((M=W又はMo)で表わされる酸化物、塩化物
及び硫化物の形態であつてもよい。
上記に例示した触媒は、単独で使用しても2種
以上を併用してもよい。
以上を併用してもよい。
反応性及び選択性の観点からはヘテロポリ酸が
好ましい。
好ましい。
本発明に係る製造方法は、一般に次の如くして
行なわれる。
行なわれる。
ベンゼン類の全部又は一部、硫酸及び触媒を反
応器に仕込み、60〜280℃で生成する水を除去し
ながら反応を行なう。反応当初ベンゼン類の一部
を添加する場合には、反応中にベンゼン類の残部
を、反応温度を保持しながら供給する。
応器に仕込み、60〜280℃で生成する水を除去し
ながら反応を行なう。反応当初ベンゼン類の一部
を添加する場合には、反応中にベンゼン類の残部
を、反応温度を保持しながら供給する。
反応により生成する水を除去するには、ベンゼ
ン類を還流し、共沸する水を相分離して除去する
方法、窒素ガス等のキヤリヤーガスを反応液に導
入し除去する方法、減圧下に反応し除去する方法
等が使用できる。
ン類を還流し、共沸する水を相分離して除去する
方法、窒素ガス等のキヤリヤーガスを反応液に導
入し除去する方法、減圧下に反応し除去する方法
等が使用できる。
ベンゼン類の使用量は、硫酸に対して過剰量が
好ましく、通常、硫酸に対して2〜10倍モル量が
好適である。ベンゼン類が2倍モル未満の場合に
は、ジアリールスルホンの収率が低く、10倍モル
を越える場合には、特に利点は認められず不経済
である。
好ましく、通常、硫酸に対して2〜10倍モル量が
好適である。ベンゼン類が2倍モル未満の場合に
は、ジアリールスルホンの収率が低く、10倍モル
を越える場合には、特に利点は認められず不経済
である。
触媒の使用量は、触媒活性が発揮されるのに有
効な量である限り広い範囲から選択される。しか
し、反応速度及び経済性の観点からは、硫酸に対
し0.01〜30重量%程度、好ましくは1〜15重量%
程度が有利である。
効な量である限り広い範囲から選択される。しか
し、反応速度及び経済性の観点からは、硫酸に対
し0.01〜30重量%程度、好ましくは1〜15重量%
程度が有利である。
反応温度は、ベンゼン類の種類、所望反応時間
等により異なるが、通常、60〜280℃の範囲、好
ましくは100〜230℃の範囲が有利である。反応温
度が60℃以下では実用的な反応速度が得られにく
く、280℃以上では重合等の副反応が起こりジア
リールスルホン類の収率が低下する傾向にある。
等により異なるが、通常、60〜280℃の範囲、好
ましくは100〜230℃の範囲が有利である。反応温
度が60℃以下では実用的な反応速度が得られにく
く、280℃以上では重合等の副反応が起こりジア
リールスルホン類の収率が低下する傾向にある。
反応時間は、触媒量、ベンゼン類の種類、反応
温度等に関係するが、通常は2〜30時間である。
温度等に関係するが、通常は2〜30時間である。
このようにして得られた反応液を、必要に応じ
て希釈し、触媒を濾別した後、母液を冷却して晶
析させるか、あるいは、母液から希釈媒体を蒸留
留去してジアリールスルホン類を得る。上記工程
においては必要に応じて水洗してもよく、その順
序は問わない。回収した触媒及び希釈媒体等は、
そのまま再使用が可能である。
て希釈し、触媒を濾別した後、母液を冷却して晶
析させるか、あるいは、母液から希釈媒体を蒸留
留去してジアリールスルホン類を得る。上記工程
においては必要に応じて水洗してもよく、その順
序は問わない。回収した触媒及び希釈媒体等は、
そのまま再使用が可能である。
[実施例]
以下実施例及び比較例を掲げ、本発明をより詳
しく説明する。
しく説明する。
実施例 1
反応器にo−キシレンを130g(1.2モル)、98
%硫酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン
酸(H3PW12O40・水和物)10gを仕込み、撹拌
しながら反応温度を還流温度まで上昇させ、生成
する水をo−キシレンと共沸させて冷却後相分離
し、o−キシレンのみを反応器に戻しながら0.5
時間反応を行つた。更に、還流温度に維持しなが
らo−キシレン130g(1.2モル)を徐々に滴下
し、生成する水を留去しつつ4.5時間反応した。
反応中留出した水は39mlであり、この量は理論量
に相当する。次に、この反応液にo−キシレン
260gを加えて希釈し、触媒を濾別した。その後
冷却して析出物を濾過し、更に水洗を行つた後乾
燥して、テトラメチルジフエニルスルホン266g
を得た(収率97%)。このものをガスクロマトグ
ラフで分析すると、3,3′,4,4′−テトラメチ
ルジフエニルスルホンと他の異性体との割合は
99.3:0.7であつた。
%硫酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン
酸(H3PW12O40・水和物)10gを仕込み、撹拌
しながら反応温度を還流温度まで上昇させ、生成
する水をo−キシレンと共沸させて冷却後相分離
し、o−キシレンのみを反応器に戻しながら0.5
時間反応を行つた。更に、還流温度に維持しなが
らo−キシレン130g(1.2モル)を徐々に滴下
し、生成する水を留去しつつ4.5時間反応した。
反応中留出した水は39mlであり、この量は理論量
に相当する。次に、この反応液にo−キシレン
260gを加えて希釈し、触媒を濾別した。その後
冷却して析出物を濾過し、更に水洗を行つた後乾
燥して、テトラメチルジフエニルスルホン266g
を得た(収率97%)。このものをガスクロマトグ
ラフで分析すると、3,3′,4,4′−テトラメチ
ルジフエニルスルホンと他の異性体との割合は
99.3:0.7であつた。
実施例 2
触媒としてタングステン酸5.0gを使用した以
外は実施例1と同様の操作を行なつた。反応時間
5時間で留出水は36mlであり、反応により理論の
94%に相当する水が生成したことになる。反応液
を処理してテトラメチルジフエニルスルホン248
gを得た(収率90%)。このものをガスクロマト
グラフで分析すると、3,3′,4,4′−テトラメ
チルジフエニルスルホンと他の異性体との割合は
94.5:5.5であつた。
外は実施例1と同様の操作を行なつた。反応時間
5時間で留出水は36mlであり、反応により理論の
94%に相当する水が生成したことになる。反応液
を処理してテトラメチルジフエニルスルホン248
gを得た(収率90%)。このものをガスクロマト
グラフで分析すると、3,3′,4,4′−テトラメ
チルジフエニルスルホンと他の異性体との割合は
94.5:5.5であつた。
比較例 1
実施例1の反応を無触媒で実施した。12時間反
応しても留出水は28mlであつた。同様に反応液を
処理してテトラメチルジフエニルスルホン143g
を得た(収率52%)。このものの3,3′,4,
4′−テトラメチルジフエニルスルホンと他の異性
体との割合は、88.2:11.8であつた。
応しても留出水は28mlであつた。同様に反応液を
処理してテトラメチルジフエニルスルホン143g
を得た(収率52%)。このものの3,3′,4,
4′−テトラメチルジフエニルスルホンと他の異性
体との割合は、88.2:11.8であつた。
実施例 3
反応器にトルエン112g(1.2モル)、98%硫酸
100g(1.0モル)及び12−タングストケイ酸
(H4SiW12O40・24H2O)5gを仕込み、撹拌しな
がら反応温度を還流温度まで上昇させ、生成する
水をトルエンと共沸させて冷却後相分離し、トル
エンのみを反応器に戻しながら1時間反応を行つ
た。更に、還流温度を維持しながらトルエン112
g(1.2モル)を徐々に滴下し、生成する水を留
去しつつ7時間反応した。次に、この反応液にト
ルエン224gを加えて希釈し、触媒を濾別した。
次いで冷却して析出物を濾過し、水洗を行つた後
乾燥してジメチルジフエニルスルホン241gを得
た(収率98%)。このものをガスクロマトグラフ
で分析すると、4,4′−ジメチルジフエニルスル
ホンと他の異性体との割合は96.3:3.7であつた。
100g(1.0モル)及び12−タングストケイ酸
(H4SiW12O40・24H2O)5gを仕込み、撹拌しな
がら反応温度を還流温度まで上昇させ、生成する
水をトルエンと共沸させて冷却後相分離し、トル
エンのみを反応器に戻しながら1時間反応を行つ
た。更に、還流温度を維持しながらトルエン112
g(1.2モル)を徐々に滴下し、生成する水を留
去しつつ7時間反応した。次に、この反応液にト
ルエン224gを加えて希釈し、触媒を濾別した。
次いで冷却して析出物を濾過し、水洗を行つた後
乾燥してジメチルジフエニルスルホン241gを得
た(収率98%)。このものをガスクロマトグラフ
で分析すると、4,4′−ジメチルジフエニルスル
ホンと他の異性体との割合は96.3:3.7であつた。
比較例 2
実施例3の反応を無触媒で実施した。同様に8
時間反応し、反応液を処理してジメチルジフエニ
ルスルホン62gを得た(収率25%)。このものの
4,4′−ジメチルジフエニルスルホンと他の異性
体との割合は、89.2:10.8であつて収率25%、純
度89.2%と両者ともに好ましい結果は得られなか
つた。
時間反応し、反応液を処理してジメチルジフエニ
ルスルホン62gを得た(収率25%)。このものの
4,4′−ジメチルジフエニルスルホンと他の異性
体との割合は、89.2:10.8であつて収率25%、純
度89.2%と両者ともに好ましい結果は得られなか
つた。
実施例 4
反応器にクロルベンゼン248g(2.2モル)、98
%硫酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン
酸5gを仕込み、撹拌しながら反応温度を還流温
度まで上昇させ、生成する水をクロルベンゼンと
共沸させて冷却後相分離し、クロルベンゼンのみ
を反応器に戻しながら10時間反応した。次に、ク
ロルベンゼン100gを加えて反応液を希釈し、触
媒を濾別した後、母液に水を加えて充分に撹拌し
た後、水層を分離した。有機層からクロルベンゼ
ンを減圧下に留去し、ジクロルジフエニルスルホ
ン260gを得た(収率91%)。このもののガスクロ
マトグラフ分析を行つた結果、4,4′−ジクロル
ジフエニルスルホンと他の異性体との割合は、
93.2:6.8であつた。
%硫酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン
酸5gを仕込み、撹拌しながら反応温度を還流温
度まで上昇させ、生成する水をクロルベンゼンと
共沸させて冷却後相分離し、クロルベンゼンのみ
を反応器に戻しながら10時間反応した。次に、ク
ロルベンゼン100gを加えて反応液を希釈し、触
媒を濾別した後、母液に水を加えて充分に撹拌し
た後、水層を分離した。有機層からクロルベンゼ
ンを減圧下に留去し、ジクロルジフエニルスルホ
ン260gを得た(収率91%)。このもののガスクロ
マトグラフ分析を行つた結果、4,4′−ジクロル
ジフエニルスルホンと他の異性体との割合は、
93.2:6.8であつた。
比較例 3
実施例4の反応を無触媒で実施した。同様に10
時間反応し、反応液を処理するとジクロルジフエ
ニルスルホン52gが得られた(収率18%)。この
ものの4,4′−ジクロルジフエニルスルホンと他
の異性体との割合は、85.3:14.7であつた。
時間反応し、反応液を処理するとジクロルジフエ
ニルスルホン52gが得られた(収率18%)。この
ものの4,4′−ジクロルジフエニルスルホンと他
の異性体との割合は、85.3:14.7であつた。
実施例 5
反応器にo−ジクロルベンゼン368g(2.5モ
ル)、98%硫酸100g(1.0モル)及びモリブデン
酸10gを仕込み、実施例4と同様に20時間反応し
た。その結果、テトラクロルジフエニルスルホン
271gが得られ(収率76%)、3,3′,4,4′−テ
トラクロルジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、89.2:10.8であつた。
ル)、98%硫酸100g(1.0モル)及びモリブデン
酸10gを仕込み、実施例4と同様に20時間反応し
た。その結果、テトラクロルジフエニルスルホン
271gが得られ(収率76%)、3,3′,4,4′−テ
トラクロルジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、89.2:10.8であつた。
実施例 6
反応器にフエノール288g(3.0モル)、98%硫
酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン酸5
gを仕込み、撹拌しながら昇温した。生成する水
をフエノールと共沸させて留去し、2時間反応を
行つた。その後、フエノール100gを加え、触媒
を濾別し、母液を水洗した後、フエノールを減圧
下に留去してジヒドロキシジフエニルスルホン
240gを得た(収率96%)。このものの4,4′−ジ
ヒドロキシジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、97.4:2.6であつた。
酸100g(1.0モル)及び12−タングストリン酸5
gを仕込み、撹拌しながら昇温した。生成する水
をフエノールと共沸させて留去し、2時間反応を
行つた。その後、フエノール100gを加え、触媒
を濾別し、母液を水洗した後、フエノールを減圧
下に留去してジヒドロキシジフエニルスルホン
240gを得た(収率96%)。このものの4,4′−ジ
ヒドロキシジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、97.4:2.6であつた。
比較例 4
実施例6の反応を無触媒で実施した。同様に2
時間反応後、反応液を処理するとジヒドロキシジ
フエニルスルホン124gが得られ(収率50%)、こ
のものの4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホ
ンと他の異性体との割合は、91.3:8.7であつた。
時間反応後、反応液を処理するとジヒドロキシジ
フエニルスルホン124gが得られ(収率50%)、こ
のものの4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホ
ンと他の異性体との割合は、91.3:8.7であつた。
実施例 7
実施例1で回収した12−タングストリン酸9.8
gを触媒とし、実施例1と同様に反応した。その
結果、テトラメチルジフエニルスルホン260gを
得(収率95%)、このものの3,3′,4,4′−テ
トラメチルジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、98.9:1.1であつた。
gを触媒とし、実施例1と同様に反応した。その
結果、テトラメチルジフエニルスルホン260gを
得(収率95%)、このものの3,3′,4,4′−テ
トラメチルジフエニルスルホンと他の異性体との
割合は、98.9:1.1であつた。
[発明の効果]
本発明によれば安価な硫酸とベンゼン類から直
接、目的とするジアリールスルホン類を高収率で
得ることができる。しかも、使用する触媒の回収
も容易で、何ら処理することなく再使用が可能で
ある。
接、目的とするジアリールスルホン類を高収率で
得ることができる。しかも、使用する触媒の回収
も容易で、何ら処理することなく再使用が可能で
ある。
従つて、本発明に係る方法により、工業的に極
めて有利にジアリールスルホン類を製造すること
ができる。
めて有利にジアリールスルホン類を製造すること
ができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() [式中、n及びmは0〜3の整数を表わし、A
及びBはアルキル基(炭素数1〜20)、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基又はエ
ーテル基(アルコキシ、フエノキシ、置換フエノ
キシ等)を表わす。] で表わされるベンゼン類と硫酸とから、一般式
()で表わされるジアリールスルホン類を製造
するにあたり、 [式中、n、m、A、Bは一般式()と同様
である。] 触媒としてタングステン酸、モリブデン酸及び
それらのヘテロポリ酸からなる群から選ばれる1
種又は2種以上を使用することを特徴とするジア
リールスルホン類の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61168579A JPS6323854A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | ジアリ−ルスルホン類の製造方法 |
| US07/070,576 US4778932A (en) | 1986-07-16 | 1987-07-07 | Process for preparing diarylsulfones |
| DE3723401A DE3723401C2 (de) | 1986-07-16 | 1987-07-15 | Verfahren zur Herstellung von Diarylsulfonen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61168579A JPS6323854A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | ジアリ−ルスルホン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6323854A JPS6323854A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0476987B2 true JPH0476987B2 (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=15870667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61168579A Granted JPS6323854A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | ジアリ−ルスルホン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6323854A (ja) |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP61168579A patent/JPS6323854A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6323854A (ja) | 1988-02-01 |
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