JPS6324123A - 多重基準レ−ザ光線を発生させる装置及び方法 - Google Patents
多重基準レ−ザ光線を発生させる装置及び方法Info
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- JPS6324123A JPS6324123A JP62115690A JP11569087A JPS6324123A JP S6324123 A JPS6324123 A JP S6324123A JP 62115690 A JP62115690 A JP 62115690A JP 11569087 A JP11569087 A JP 11569087A JP S6324123 A JPS6324123 A JP S6324123A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C15/00—Surveying instruments or accessories not provided for in groups G01C1/00 - G01C13/00
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- G01C15/004—Reference lines, planes or sectors
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- Remote Sensing (AREA)
- Lasers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
又ｊ口比願！■狙照−
本明細書では本発明の譲受人に譲渡された関連事象に係
わる下記の米国係属特許出願を引照する。
わる下記の米国係属特許出願を引照する。
Ｔｈｅｏｄｏｒｅ Ｊ、Ｍａｒｋｌｅｙ、 Ｒｉｃｈａ
ｒｃｌ Ｊ、０ｍ１ｏｒ、 ＷｉｌｌｉａｍＫ、Ｖａｔ
Ｌｅｒ及びＭａｒｋ Ｄ、５ｏｂｏｔｔｋｅによる”Ｍ
ｕｌｔｉｐｌｅＲｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｌａ５ｅｒ Ｂｅ
ａｍ Ａｐｐａｒａｔｕｓ”、Ｕ、Ｓ、シリアルＮｏ
、７３４ 、３２５．１９８５年５月１５日出願。
ｒｃｌ Ｊ、０ｍ１ｏｒ、 ＷｉｌｌｉａｍＫ、Ｖａｔ
Ｌｅｒ及びＭａｒｋ Ｄ、５ｏｂｏｔｔｋｅによる”Ｍ
ｕｌｔｉｐｌｅＲｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｌａ５ｅｒ Ｂｅ
ａｍ Ａｐｐａｒａｔｕｓ”、Ｕ、Ｓ、シリアルＮｏ
、７３４ 、３２５．１９８５年５月１５日出願。
九吸へｉＬ
本発明は一般的には基準レーザ光線を供給する方法及び
装置に係わり、より特定的には前述のごとき光線２つが
基準面と、この面の上方に距離をおいてほぼこの面と平
行に延びる基準線とを同時に規定するような前述のごと
き方法及び装置に係わる。
装置に係わり、より特定的には前述のごとき光線２つが
基準面と、この面の上方に距離をおいてほぼこの面と平
行に延びる基準線とを同時に規定するような前述のごと
き方法及び装置に係わる。
レーザ光線システムは多くの測量及び建築用途で使用さ
れてきた。この種のシステムの一例は１９７７年１２月
１２日にＲａｎｄｏ他に交付され且つ本発明の譲受人に
譲渡された米国特許第４，０６２，６３４号に開示され
ている。この先行技術のシステムではレーザ光線放射装
置が基準面を規定する回転レーザ光線を供給する。この
回転レーザ光線は光の連続的可視平面を形成するのに使
用され、この平面は仕事領域全体にわたって高さの１定
水平ベンチマークを構成する。また、１つ以上のレーザ
光線検出器が前記放射装置からかなりの距離をおいて配
置され、前記回転レーザ光線を遮断し且つ仕事領域全体
を通して選択された地点の高さを測定する。
れてきた。この種のシステムの一例は１９７７年１２月
１２日にＲａｎｄｏ他に交付され且つ本発明の譲受人に
譲渡された米国特許第４，０６２，６３４号に開示され
ている。この先行技術のシステムではレーザ光線放射装
置が基準面を規定する回転レーザ光線を供給する。この
回転レーザ光線は光の連続的可視平面を形成するのに使
用され、この平面は仕事領域全体にわたって高さの１定
水平ベンチマークを構成する。また、１つ以上のレーザ
光線検出器が前記放射装置からかなりの距離をおいて配
置され、前記回転レーザ光線を遮断し且つ仕事領域全体
を通して選択された地点の高さを測定する。
前出の米国特許のレーザ光線放射装置では全体的に水平
方向の回転基準レーザ光線を、全体的に上向きの光線を
放射し次いでこれをペンタプリズム又はペンタミラーア
センブリで９０°偏向させることにより発生させる。前
記ペンタプリズムアセンブリは前記放射装置内で鉛直軸
線を中心に回転して前記水平光線を回転させ、基準面を
規定する。
方向の回転基準レーザ光線を、全体的に上向きの光線を
放射し次いでこれをペンタプリズム又はペンタミラーア
センブリで９０°偏向させることにより発生させる。前
記ペンタプリズムアセンブリは前記放射装置内で鉛直軸
線を中心に回転して前記水平光線を回転させ、基準面を
規定する。
回転基準ビームによって規定された基準面はしばしば別
の建築ｎ４造物、例えば壁に対して全体的に直角な方向
で調整することが望まれる。先に引照した特許出願の多
重基準光線装置はＲａｎｄｏ等の装置によっては満たさ
れなかったこの要件を、固定基準光線とこの固定光線と
直角な平面を規定する回転基準光線とを供給することに
よって満たすに至った。引照した特許出願の装置は複数
の光学素子からなる光線偏向アセンブリを使用し、これ
によって一次光線３遮断して部分的透過部分と部分的反
射部分とに分割する。前記光線の反射部分は透過光線部
分の光路に対して全体的に直角に延びる光路に向けられ
る。光線偏向アセンブリを回転させると、反射され且つ
偏向された光線部分が透過光線部分により規定された軸
線を中心に回転し、その結果固定基準光線とこの固定光
線に対して直角な平面を規定する回転基準光線とが発生
する。
の建築ｎ４造物、例えば壁に対して全体的に直角な方向
で調整することが望まれる。先に引照した特許出願の多
重基準光線装置はＲａｎｄｏ等の装置によっては満たさ
れなかったこの要件を、固定基準光線とこの固定光線と
直角な平面を規定する回転基準光線とを供給することに
よって満たすに至った。引照した特許出願の装置は複数
の光学素子からなる光線偏向アセンブリを使用し、これ
によって一次光線３遮断して部分的透過部分と部分的反
射部分とに分割する。前記光線の反射部分は透過光線部
分の光路に対して全体的に直角に延びる光路に向けられ
る。光線偏向アセンブリを回転させると、反射され且つ
偏向された光線部分が透過光線部分により規定された軸
線を中心に回転し、その結果固定基準光線とこの固定光
線に対して直角な平面を規定する回転基準光線とが発生
する。
前述の基準光線放射装置の全体的性能及び可転性は大体
において予想通りの、更には予想を超えるようなレベル
に到達した。しかしながら、このような装置は本来の用
途以外の用途に使用すると時として能力に欠陥が見られ
ることがある。そこで、先に引照した特許出願の光線放
射装置の能力を拡張して、例えば測量及び建築分野で通
常見られる様々な用途に適用できるようにする必要があ
る。
において予想通りの、更には予想を超えるようなレベル
に到達した。しかしながら、このような装置は本来の用
途以外の用途に使用すると時として能力に欠陥が見られ
ることがある。そこで、先に引照した特許出願の光線放
射装置の能力を拡張して、例えば測量及び建築分野で通
常見られる様々な用途に適用できるようにする必要があ
る。
１朋！ｍ
本発明は前述の要件を満たすように考えられた多重基準
光線放射装置及び放射法を提供する。この放射装置は、
一次光線を供給する手段と、前記一次光線を受容して互
いにほぼ直交し合う該光線の第１及び第２光線成分を送
出する第１手段と、前記光線成分の一方３受容してこれ
を他方の光線成分に対しほぼ平行になるように偏向させ
る第２手段と、前記第１手段及び第２手段の一方を回転
させ、それにより対応する前記成分の一方を回転させて
、他方の光線成分により規定される基準線とほぼ平行に
展がる基準面を規定せしめる駆動手段 とを含む。
光線放射装置及び放射法を提供する。この放射装置は、
一次光線を供給する手段と、前記一次光線を受容して互
いにほぼ直交し合う該光線の第１及び第２光線成分を送
出する第１手段と、前記光線成分の一方３受容してこれ
を他方の光線成分に対しほぼ平行になるように偏向させ
る第２手段と、前記第１手段及び第２手段の一方を回転
させ、それにより対応する前記成分の一方を回転させて
、他方の光線成分により規定される基準線とほぼ平行に
展がる基準面を規定せしめる駆動手段 とを含む。
より特定的にはこの放射装置は、一次光線を供給する手
段と、前記一次光線を遮断し、分割し且つ偏向させて透
過第１光線成分と、この第１光線成分に対してほぼ直角
に延びる反射第２光線成分とを形成する第１手段と、前
記第１手段から距離をおいて固定的に配置され、前記第
１光線成分を遮断し且つ前記第２光線成分に対してほぼ
平行になるように偏向させる第２手段と、前記第１手段
を回転させ、それによって前記第２光線成分を回転させ
、その結果前記第１光線成分により規定される基準線に
対しほぼ平行に展がる基準面が規定されるようにする駆
動手段 とを含む。
段と、前記一次光線を遮断し、分割し且つ偏向させて透
過第１光線成分と、この第１光線成分に対してほぼ直角
に延びる反射第２光線成分とを形成する第１手段と、前
記第１手段から距離をおいて固定的に配置され、前記第
１光線成分を遮断し且つ前記第２光線成分に対してほぼ
平行になるように偏向させる第２手段と、前記第１手段
を回転させ、それによって前記第２光線成分を回転させ
、その結果前記第１光線成分により規定される基準線に
対しほぼ平行に展がる基準面が規定されるようにする駆
動手段 とを含む。
この放射装置はまた、レーザ光線が送出されるケーシン
グと、前記ケーシングの端部に配置されて前記レーザ光
線を受容し且つこれを直交し合う透過光線成分と反射光
線成分とに分割する光線偏向アセンブリであって、前記
ケーシング端部に前記ケーシングに対して回転自在に載
置され、この回転によって前記反射光線成分を回転させ
、その結果基準面が規定されるようにするアセンブリと
、前記光線偏向アセンブリの外側で前記ケーシングの前
記端部に固定的に配置されて前記アセンブリから前記透
過光線成分を受容し、これを偏向させて、前記基準面か
ら距離をおき且つこの面とほぼ平行に固定的に配置され
る基準線を規定せしめるペンタプリズムｊアセンブリ とを含む。この装置は更に透過光線成分により規定され
た基準線の調心を容易にするための観測テレスコープも
含む。
グと、前記ケーシングの端部に配置されて前記レーザ光
線を受容し且つこれを直交し合う透過光線成分と反射光
線成分とに分割する光線偏向アセンブリであって、前記
ケーシング端部に前記ケーシングに対して回転自在に載
置され、この回転によって前記反射光線成分を回転させ
、その結果基準面が規定されるようにするアセンブリと
、前記光線偏向アセンブリの外側で前記ケーシングの前
記端部に固定的に配置されて前記アセンブリから前記透
過光線成分を受容し、これを偏向させて、前記基準面か
ら距離をおき且つこの面とほぼ平行に固定的に配置され
る基準線を規定せしめるペンタプリズムｊアセンブリ とを含む。この装置は更に透過光線成分により規定され
た基準線の調心を容易にするための観測テレスコープも
含む。
本発明の放射法は下記のステップからなる。
一次光線を供給し、前記一次光線を受容してこの光線の
ほぼ直交し合う第１光線成分及び第２光線成分を送出し
、前記光線成分の一方を受容してこれを他方の光線成分
に対しほぼ平行になるように偏向させ、且つ前記第１及
び第２光線成分の一方を回転させて他方の光線成分によ
り規定される基準線に対しほぼ平行に展がる基準面を規
定する。
ほぼ直交し合う第１光線成分及び第２光線成分を送出し
、前記光線成分の一方を受容してこれを他方の光線成分
に対しほぼ平行になるように偏向させ、且つ前記第１及
び第２光線成分の一方を回転させて他方の光線成分によ
り規定される基準線に対しほぼ平行に展がる基準面を規
定する。
本発明の放射法はより特定的には下記のステップからな
る。
る。
一次光線を供給し、次いで前記一次光線を遮断し、分割
し且つ偏向させて互いにほぼ直交し合う透過光線成分と
反射光線成分とを形成し、前記透過光線成分を遮断し、
前記反射光線成分に対しほぼ平行に延びるよう偏向させ
、且つ前記反射光線成分を回転させて、前記透過光線成
分により規定される基準線に対してほぼ平行に展がる基
準面を規定せしめる。
し且つ偏向させて互いにほぼ直交し合う透過光線成分と
反射光線成分とを形成し、前記透過光線成分を遮断し、
前記反射光線成分に対しほぼ平行に延びるよう偏向させ
、且つ前記反射光線成分を回転させて、前記透過光線成
分により規定される基準線に対してほぼ平行に展がる基
準面を規定せしめる。
従って本発明の目的は、固定光線を放射しそれと同時に
回転光線も放射して、前記固定光線が基準線を規定し且
つ前記回転光線が基準面を規定するようにするための方
法及び装置を提供し、基準線と基準面とが互いに距離を
おいて平行に配置されるようにし、前述のごとき互いに
平行な固定光線及び回転光線を共通のレーザ光線から供
給し、且つ所望の目標に対する基準線の調心を容易にす
るための手段を供給することにある。
回転光線も放射して、前記固定光線が基準線を規定し且
つ前記回転光線が基準面を規定するようにするための方
法及び装置を提供し、基準線と基準面とが互いに距離を
おいて平行に配置されるようにし、前述のごとき互いに
平行な固定光線及び回転光線を共通のレーザ光線から供
給し、且つ所望の目標に対する基準線の調心を容易にす
るための手段を供給することにある。
本発明の他の目的及び利点は添付図面に基づく以下の非
限定的具体例の説明がら明らかにされよう。
限定的具体例の説明がら明らかにされよう。
圧ｆｌ木」−
第１図から第３図は２つの基準レーザ光線を同時に放射
する本発明の装置を示している。この装置は全体が符号
１０で示される。この放射装置１０は後述の改良点を除
いて、先に引照した特許出願の装置に大体類似している
。前記特許出願は参照として本明細書に包含される。装
置１０の基本的構成部材及び構成は、本発明による改良
点がより明らかになるように、この装置の全般的理解に
必要な範囲内で説明することにする。この装置のより詳
細な説明については前述の米国特許出願を参照されたい
。
する本発明の装置を示している。この装置は全体が符号
１０で示される。この放射装置１０は後述の改良点を除
いて、先に引照した特許出願の装置に大体類似している
。前記特許出願は参照として本明細書に包含される。装
置１０の基本的構成部材及び構成は、本発明による改良
点がより明らかになるように、この装置の全般的理解に
必要な範囲内で説明することにする。この装置のより詳
細な説明については前述の米国特許出願を参照されたい
。
レーザ光線放射装置１０は該装置の内部部材を収容する
円筒形ケーシング１２を含む、このケーシング内ではシ
ャシ（図示せず）上に管状レーザ光線源と、レンズ及び
ミラーからなる装置とが配置される。ケーシング１２を
第１図の位置に配置すると、レンズ及びミラーアセンブ
リによって前記レーザ光線源から発生した基準レーザ光
線Ｂが鉛直軸線に従い光線偏向アセンブリに送られる。
円筒形ケーシング１２を含む、このケーシング内ではシ
ャシ（図示せず）上に管状レーザ光線源と、レンズ及び
ミラーからなる装置とが配置される。ケーシング１２を
第１図の位置に配置すると、レンズ及びミラーアセンブ
リによって前記レーザ光線源から発生した基準レーザ光
線Ｂが鉛直軸線に従い光線偏向アセンブリに送られる。
このアセンブリは全体が符号１４で示されている。
レーザ光線偏向アセンブリ１４は、レーザ光線がそれに
向かって放出される前記ケーシングの上方端に配置され
、第２図のように複数の光学素子からなるアセンブリを
含む。これらの素子はレーザ光線Ｂを受容し■、つこれ
を分割、偏向して透過光線成分子と反射光線成分Ｒとに
分ける。
向かって放出される前記ケーシングの上方端に配置され
、第２図のように複数の光学素子からなるアセンブリを
含む。これらの素子はレーザ光線Ｂを受容し■、つこれ
を分割、偏向して透過光線成分子と反射光線成分Ｒとに
分ける。
より特定的には、アセンブリ１４の光学素子は光線分割
素子１６、下方光線偏向素子１８、及び上方光線偏向素
子２０の形感を有する。素子１６〜２０は第２図に鎖線
で示した一対の側方プレート２２の間に配置され、これ
らのプレートを介して固定される。
素子１６、下方光線偏向素子１８、及び上方光線偏向素
子２０の形感を有する。素子１６〜２０は第２図に鎖線
で示した一対の側方プレート２２の間に配置され、これ
らのプレートを介して固定される。
光線分割素子１６はレーザ光線Ｂを受容してこれを互い
に直交する透過光線成分子と反射光線成分Ｒとに分割す
る。素子１６の反射性は成分子の強さが一次光線Ｂの約
６０％になるように選択する。
に直交する透過光線成分子と反射光線成分Ｒとに分割す
る。素子１６の反射性は成分子の強さが一次光線Ｂの約
６０％になるように選択する。
レーザ光線の反射光線成分Ｒは次いで下方光線偏向素子
１８に受容され、その鏡面２４で反射して一次し−ザ光
線Ｂの方向に対しほぼ直角に延びる方向に進む。レーザ
光線の透過光線成分子は上方ｆ荷向素子２０に受容され
る。上方開面素子２０は素子１６での屈折に起因して生
じる光線成分子の軽い側方偏移を、前記光線成分が素子
２０を通る時にこの成分を逆に偏移動させることによっ
て相殺する。次いで透過光線成分子は一次ｌ／−ザ光線
Ｂと同じ方向で同じ軸線に沿って、且つ送出された反射
光線成分Ｒの方向と直角に進む。
１８に受容され、その鏡面２４で反射して一次し−ザ光
線Ｂの方向に対しほぼ直角に延びる方向に進む。レーザ
光線の透過光線成分子は上方ｆ荷向素子２０に受容され
る。上方開面素子２０は素子１６での屈折に起因して生
じる光線成分子の軽い側方偏移を、前記光線成分が素子
２０を通る時にこの成分を逆に偏移動させることによっ
て相殺する。次いで透過光線成分子は一次ｌ／−ザ光線
Ｂと同じ方向で同じ軸線に沿って、且つ送出された反射
光線成分Ｒの方向と直角に進む。
光線偏向アセンブリ１４は適当な駆動手段によって回転
し得るようにケーシング１２上に配置される。
し得るようにケーシング１２上に配置される。
この回転は反射光線成分Ｒを回転させ、その結果基準面
Ｐが規定される。アセンブリ１４を前記シャシに取り付
けたモータ（図示せず）によって−次レーザ光線Ｂの１
直軸を中心に回転し得るように支持するためには、円筒
形回転子又はホールダ２６を具備する。該具体例では反
射光線成分が回転するが、場合によっては代わりに透過
光線成分子が回転するようにすることらできる。
Ｐが規定される。アセンブリ１４を前記シャシに取り付
けたモータ（図示せず）によって−次レーザ光線Ｂの１
直軸を中心に回転し得るように支持するためには、円筒
形回転子又はホールダ２６を具備する。該具体例では反
射光線成分が回転するが、場合によっては代わりに透過
光線成分子が回転するようにすることらできる。
本発明の改良点は全体とし、ては、レーザ光線Ｂの透過
光線成分子を受容し且つこれをレーザ光線の反射光線成
分Ｒに対してほぼ平行になるように偏向させると共に、
反射光線Ｒ３回転させて基準面Ｐを規定する手段に係わ
る。このような手段はケーシング１２の上方端に配置さ
れるエンドキャップ２８と、光線偏向アセンブリ１４の
上方でこのエンドキャップに支持されるペンタプリズム
アセンブリ（ｐｅｎｔａｐｒｉｓｍ ａｓｓｅｍｂｌｙ
）３０とからなる。
光線成分子を受容し且つこれをレーザ光線の反射光線成
分Ｒに対してほぼ平行になるように偏向させると共に、
反射光線Ｒ３回転させて基準面Ｐを規定する手段に係わ
る。このような手段はケーシング１２の上方端に配置さ
れるエンドキャップ２８と、光線偏向アセンブリ１４の
上方でこのエンドキャップに支持されるペンタプリズム
アセンブリ（ｐｅｎｔａｐｒｉｓｍ ａｓｓｅｍｂｌｙ
）３０とからなる。
ペンタプリズムアセンブリ３０は光線偏向アセンブリ１
４の上方光線偏向素子２０から透過光線成分子を受容し
、これを９０°偏向させて基準線りを規定するように配
置される。基準線りは回転性反射光エンドキャップ２８
は中にガラス板３３か固定された側方窓３２ト有し、ペ
ンタプリズムアセンブリ３０により偏向された透過光線
成分Ｔかこの窓を通過する。キャップ２８は好ましくは
アルミニウムで形成され、環状リンク３４によってゲー
ジング１２の上盲端に固定される。このリングもアルミ
ニウムで形成し得る。リング３４は内側下方方向のテー
パを持つ外側表面３６を有する。リング３４は複数のネ
ジ３８によって前記ケーシングに固定され、キャップ２
８は複数のネジ４０、例えば１２０°の間隔で配置され
た３つのナイロンティップセットスクリューによりリン
グ３４の前記テーパ付き表面３６に固定される。表面３
６のテーパに起因してキャップ２８はフェノールワッシ
ャ４１に確実に固定される。
４の上方光線偏向素子２０から透過光線成分子を受容し
、これを９０°偏向させて基準線りを規定するように配
置される。基準線りは回転性反射光エンドキャップ２８
は中にガラス板３３か固定された側方窓３２ト有し、ペ
ンタプリズムアセンブリ３０により偏向された透過光線
成分Ｔかこの窓を通過する。キャップ２８は好ましくは
アルミニウムで形成され、環状リンク３４によってゲー
ジング１２の上盲端に固定される。このリングもアルミ
ニウムで形成し得る。リング３４は内側下方方向のテー
パを持つ外側表面３６を有する。リング３４は複数のネ
ジ３８によって前記ケーシングに固定され、キャップ２
８は複数のネジ４０、例えば１２０°の間隔で配置され
た３つのナイロンティップセットスクリューによりリン
グ３４の前記テーパ付き表面３６に固定される。表面３
６のテーパに起因してキャップ２８はフェノールワッシ
ャ４１に確実に固定される。
エンドキャップ２８に取り付けられたペンタプリズムア
センブリ３０は一対の反射面を含む。これらの反射面は
透過光線成分子を基準面Ｐとほぼ平行な方向に偏向すべ
く正確に配置される。アセンブリ３０は一対の直立側壁
４４（１つだけ図示）からなるフレーム４２を含み、こ
れらの壁面には支持ブラケット４８を介して上方ミラー
４６が配置されると共に、支持ブラケット５２を介して
下方ミラー５０が配置される。ミラー４６及び５０は各
々が透過光線Ｔを公称４５°の挟角で反射させ、その結
果ペンタプリズムアセンブリ３０に入った前記光線が最
終的に該光線成分子の鉛直軸に対し９０°の角度で該ア
センブリから出るように正確に配置される。
センブリ３０は一対の反射面を含む。これらの反射面は
透過光線成分子を基準面Ｐとほぼ平行な方向に偏向すべ
く正確に配置される。アセンブリ３０は一対の直立側壁
４４（１つだけ図示）からなるフレーム４２を含み、こ
れらの壁面には支持ブラケット４８を介して上方ミラー
４６が配置されると共に、支持ブラケット５２を介して
下方ミラー５０が配置される。ミラー４６及び５０は各
々が透過光線Ｔを公称４５°の挟角で反射させ、その結
果ペンタプリズムアセンブリ３０に入った前記光線が最
終的に該光線成分子の鉛直軸に対し９０°の角度で該ア
センブリから出るように正確に配置される。
また、キャップ２８の最上部６０には観測テレスコープ
５４がネジ５６及びブラケット５８を介して取り付けら
れる。テレスコープ５４は基準線りを規定する送出透過
光線成分子に対して調心的にセ・ｙトされ、そのため光
線成分子の調整に使用できる。
５４がネジ５６及びブラケット５８を介して取り付けら
れる。テレスコープ５４は基準線りを規定する送出透過
光線成分子に対して調心的にセ・ｙトされ、そのため光
線成分子の調整に使用できる。
本発明では一次し−ザ光線Ｂが２つの光線、即ち基準線
りを規定する固定光線成分子と、レーザ光線Ｂの軸を中
心に回転して基準面Ｐを規定する移動性又は回転性光線
成分Ｒとに分割される。前記基準面Ｐはレーザ光線に対
して実質的に直角であり且つ基準線しに対して実質的に
平行である。
りを規定する固定光線成分子と、レーザ光線Ｂの軸を中
心に回転して基準面Ｐを規定する移動性又は回転性光線
成分Ｒとに分割される。前記基準面Ｐはレーザ光線に対
して実質的に直角であり且つ基準線しに対して実質的に
平行である。
また、基準ｉＬを形成せしめるペンタプリズムアセンブ
リ３０を支持するエンドキャップ２８が、セ・ソトスク
リュ−４０をゆるめることによって簡単にケーシング１
２の上方端から取り外される。従って、装置１０は先に
明瞭した特許出願の装置の構造、即ち透過光緑成分が回
転基準面に対してほぼ直角に延びる基準線を規定するよ
うな構造に簡単に変換し得る。
リ３０を支持するエンドキャップ２８が、セ・ソトスク
リュ−４０をゆるめることによって簡単にケーシング１
２の上方端から取り外される。従って、装置１０は先に
明瞭した特許出願の装置の構造、即ち透過光緑成分が回
転基準面に対してほぼ直角に延びる基準線を規定するよ
うな構造に簡単に変換し得る。
本発明の装置は種々の建築分野用途に使用し得る０発生
する２つの光線は例えば溝掘り繰作を行う装置に関連し
た基準光線として使用できる。この場合固定光線は側方
基準として使用し得、回転光線は溝が所望の深さを有し
ているか否かを確認するための基準として使用し得る。
する２つの光線は例えば溝掘り繰作を行う装置に関連し
た基準光線として使用できる。この場合固定光線は側方
基準として使用し得、回転光線は溝が所望の深さを有し
ているか否かを確認するための基準として使用し得る。
以上、添付図面に基づいて本発明の多重基準レーザ光線
装置を詳細に説明してきたが、本発明はこれらの具体例
には限定されず特許請求の範囲内で様々に変形し得ると
理解されたい。
装置を詳細に説明してきたが、本発明はこれらの具体例
には限定されず特許請求の範囲内で様々に変形し得ると
理解されたい。
第１図は基準レーザ光線を回転光線と、この回転光線の
上方に距離をおいてこれとほぼ平行に延びる固定光線と
の形状で放出する本発明の装置の斜視図、第２図は基準
レーザ光線放出装置の光学素子アセンブリを示す簡略側
面図、第３図は第１図の基準光線放射装置の上方端の一
部分を断面図で示す拡大部分側面図である。 Ｌ・・・・・・基準線、Ｐ・・・・・・基準面、１２・
・・・・・ケーシング、１４・・・・・・光線偏向アセ
ンブリ、１６・・・・・・光線分割素子、１８．２０・
・・・・・光線偏向素子、２８・・・・・・エンドキャ
ップ、３０・・・・・・ペンタプリズムアセンブリ、４
６．５０・・・・・・ミラー、５４・・・・・・テレス
コープ。 代理人弁理士 中 村 至 手続ネｆｌ）正林ｔ（方式） 昭和６２年８月５日 １、事件の表示 昭和６２年特許願第１１５６９０
号２、発明の名称 多重基準レーザ光線を発生させ
る装置及び方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 スベクトラーフイジクス・インコーホレ
イテッド ４、代 理 人 東京都新宿区新宿１丁目１番１４
＠ 山田ビル５、補正指令の日付 昭和６２年７月１
日（内容に変更なし）
上方に距離をおいてこれとほぼ平行に延びる固定光線と
の形状で放出する本発明の装置の斜視図、第２図は基準
レーザ光線放出装置の光学素子アセンブリを示す簡略側
面図、第３図は第１図の基準光線放射装置の上方端の一
部分を断面図で示す拡大部分側面図である。 Ｌ・・・・・・基準線、Ｐ・・・・・・基準面、１２・
・・・・・ケーシング、１４・・・・・・光線偏向アセ
ンブリ、１６・・・・・・光線分割素子、１８．２０・
・・・・・光線偏向素子、２８・・・・・・エンドキャ
ップ、３０・・・・・・ペンタプリズムアセンブリ、４
６．５０・・・・・・ミラー、５４・・・・・・テレス
コープ。 代理人弁理士 中 村 至 手続ネｆｌ）正林ｔ（方式） 昭和６２年８月５日 １、事件の表示 昭和６２年特許願第１１５６９０
号２、発明の名称 多重基準レーザ光線を発生させ
る装置及び方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 スベクトラーフイジクス・インコーホレ
イテッド ４、代 理 人 東京都新宿区新宿１丁目１番１４
＠ 山田ビル５、補正指令の日付 昭和６２年７月１
日（内容に変更なし）
Claims (15)
- （１）複数の基準光線を供給すべく光線を放射する装置
であって、 −一次光線を供給する手段と、 −前記一次光線を受容して相互にほぼ直交し合う該光線
の第１及び第２光線成分を送出する第１手段と、 −前記光線成分の一方を受容してこれを他方の光線成分
に対しほぼ平行になるように偏向させる第２手段と、 −前記第１手段及び第２手段の一方を回転させ、それに
より対応する前記成分の一方を回転させて、他方の光線
成分により規定される基準線とほぼ平行に展がる基準面
を規定する駆動手段 とで構成される装置。 - （２）前記第１及び第２手段の前記一方が前記成分の他
方とほぼ直交する軸線を中心にして前記駆動手段により
回転する特許請求の範囲第１項に記載の装置。 - （３）前記第１手段が前記一次光線を部分的に反射し且
つ部分的に透過して前記第１及び第２光線成分を形成す
る光線分割素子を含む特許請求の範囲第１項に記載の装
置。 - （４）前記第２手段が前記第１手段の前記光線分割素子
により透過される前記一次光線部分を構成する前記第１
及び第２光線成分の一方を受容すべく前記第１手段から
間隔をおいて配置される特許請求の範囲第３項に記載の
装置。 - （５）前記第１手段が前記駆動手段によって回転し且つ
前記第２手段が固定的である特許請求の範囲第３項に記
載の装置。 - （６）前記第２手段がペンタプリズムアセンブリである
特許請求の範囲第１項に記載の装置。 - （７）前記他方の光線成分により規定される前記基準線
の調心を容易にするための観測手段をも含む特許請求の
範囲第１項に記載の装置。 - （８）複数の基準光線を供給すべく光線を放射する装置
であって、 −一次光線を供給する手段と、 −前記一次光線を遮断し、分割し且つ偏向させて透過第
１光線成分と、この第１光線成分に対してほぼ直角に延
びる反射第２光線成分とを形成する第１手段と、 −前記第１手段から距離をおいて固定的に配置され、前
記第１光線成分を遮断し且つ前記第２光線成分に対して
ほぼ平行になるように偏向させる第２手段と、 −前記第１手段を回転させ、それによつて前記第２光線
成分を回転させ、その結果前記第１光線成分により規定
される基準線に対しほぼ平行に展がる基準面が規定され
るようにする駆動手段 とで構成される装置。 - （９）前記第２手段がペンタプリズムアセンブリである
特許請求の範囲第８項に記載の装置。 - （１０）前記第１光線成分により規定される前記基準線
を所望の目標に対して調心し易くするための観測手段を
も含む特許請求の範囲第８項に記載の装置。 - （１１）複数の基準光線を供給すべくレーザ光線を放射
する装置であつて、 −一端からレーザ光線が送出されるケーシングと、−前
記ケーシングの前記端部に配置されて前記レーザ光線を
受容し且つこれを直交し合う透過光線成分と反射光線成
分とに分割する光線偏向アセンブリであって、前記ケー
シング端部に前記ケーシングに対して回転自在に載置さ
れ、この回転によって前記反射光線成分を回転させ、そ
の結果基準面が規定されるようにするアセンブリと、 −前記光線偏向アセンブリの外側で前記ケーシングの前
記端部に固定的に配置されて前記アセンブリから前記透
過光線成分を受容し、これを偏向させて、前記基準面か
ら距離をおき且つこの面とほぼ平行に固定的に配置され
る基準線を規定せしめるペンタプリズムアセンブリ とで構成される装置。 - （１２）前記透過光線成分により規定される前記基準線
を所望の目標に対して調心し易くするためのテレスコー
プも含む特許請求の範囲第１１項に記載の装置。 - （１３）前記ケーシングの前記端部で前記ペンタプリズ
ムアセンブリを支持するエンドキャップをも含み、これ
に前記テレスコープが固定される特許請求の範囲第１２
項に記載の装置。 - （１４）複数の基準光線を供給する方法であって、−一
次光線を供給し、 −前記一次光線を受容して相互にほぼ直交し合うこの光
線の第１光線成分及び第２光線成分を送出し、 −前記光線成分の一方を受容してこれを他方の光線成分
に対してほぼ平行になるように偏向させ、且つ −前記第１及び第２光線成分の一方を回転させて他方の
光線成分により規定される基準線に対しほぼ平行に展が
る基準面を規定する ことからなる方法。 - （１５）複数の基準光線を供給すべくレーザ光線を放射
する方法であって、 −一次レーザ光線を供給し、 −次いで前記一次光線を遮断し、分割し且つ偏向させて
相互にほぼ直交し合う透過光線成分と反射光線成分とを
形成し、 −前記透過光線成分を遮断し、前記反射光線成分に対し
てほぼ平行の関係に偏向させ、且つ −前記反射光線成分を回転させて、前記透過光線成分に
より規定される基準線に対してほぼ平行に展がる基準面
を規定せしめる 諸段階からなる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/862,120 US4770480A (en) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | Apparatus and method for providing multiple reference laser beams |
| US862120 | 1992-04-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6324123A true JPS6324123A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0415403B2 JPH0415403B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=25337718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62115690A Granted JPS6324123A (ja) | 1986-05-12 | 1987-05-12 | 多重基準レ−ザ光線を発生させる装置及び方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4770480A (ja) |
| JP (1) | JPS6324123A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5429908A (en) * | 1993-04-12 | 1995-07-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Exposure method for reducing distortion in models produced through solid imaging by forming a non-continuous image of a pattern which is then imaged to form a continuous hardened image of the pattern |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4971440A (en) * | 1989-12-08 | 1990-11-20 | Spectra-Physics, Inc. | Projection of two orthogonal reference light planes |
| US5108177A (en) * | 1990-09-12 | 1992-04-28 | Laserline, Inc. | Two-axis levelling instrument with a single pendulum for projecting a level laser beam |
| US5144486A (en) * | 1990-10-01 | 1992-09-01 | Spectra-Physics Laserplane, Inc. | Laser beam apparatus for providing multiple reference beams |
| EP0518572A3 (en) * | 1991-06-14 | 1993-05-19 | Spectra-Physics Laserplane, Inc. | System for leveling workpieces |
| US5227864A (en) * | 1991-06-14 | 1993-07-13 | Spectra-Physics Laserplane, Inc. | System for leveling workpieces |
| US5287365A (en) * | 1992-03-05 | 1994-02-15 | Laser Alignment, Inc. | Compact laser apparatus |
| IT1270349B (it) * | 1993-04-20 | 1997-05-05 | Micro Italiana Spa | Dispositivo allungabile a raggi laser visibili per misure di lunghezza senza contatto fisico |
| US5838430A (en) * | 1996-07-03 | 1998-11-17 | Nearfield Systems Incorporated | Dual beam laser device for linear and planar alignment |
| US5879286A (en) * | 1996-11-13 | 1999-03-09 | Welch Allyn, Inc. | Diagnostic instrument illumination system |
| US5764349A (en) * | 1996-12-12 | 1998-06-09 | Laserline Manufacturing, Inc. | Self-aligning baseline plane instrument |
| TWI267629B (en) * | 2004-01-30 | 2006-12-01 | Asia Optical Co Inc | Laser level device |
| DE102007050996A1 (de) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Robert Bosch Gmbh | Markier- und/oder Nivelliervorrichtung, System sowie Verfahren |
| CN102819089A (zh) * | 2012-08-31 | 2012-12-12 | 北京航天计量测试技术研究所 | 空气介质分体式二向直角头 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5061057U (ja) * | 1973-10-01 | 1975-06-05 | ||
| JPS5068158A (ja) * | 1973-10-16 | 1975-06-07 | Aga Ab |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3796496A (en) * | 1969-10-28 | 1974-03-12 | R Appler | Laser plummet level |
| US3684381A (en) * | 1970-03-23 | 1972-08-15 | Ati Inc | Laser beam planar reference |
| US3966328A (en) * | 1973-10-16 | 1976-06-29 | Aga Aktiebolag | Device for generating a spatial reference plane |
| US4062634A (en) * | 1975-02-10 | 1977-12-13 | Spectra-Physics, Inc. | System for controlling attitude of laser beam plane |
| US4035084A (en) * | 1976-02-19 | 1977-07-12 | Ramsay James D | Automatic levelling method and apparatus for rotating laser beam transmitter |
| US4031629A (en) * | 1976-03-30 | 1977-06-28 | George Paluck | Apparatus for establishing a level plane |
| US4519705A (en) * | 1982-09-16 | 1985-05-28 | Spetra-Physics, Inc. | Sighting cap for rotating laser beam transmitter |
| US4676598B1 (en) * | 1985-05-15 | 1996-05-21 | Spectra Physics Laserplane Inc | Multiple reference laser beam apparatus |
-
1986
- 1986-05-12 US US06/862,120 patent/US4770480A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-05-12 JP JP62115690A patent/JPS6324123A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5061057U (ja) * | 1973-10-01 | 1975-06-05 | ||
| JPS5068158A (ja) * | 1973-10-16 | 1975-06-07 | Aga Ab |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5429908A (en) * | 1993-04-12 | 1995-07-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Exposure method for reducing distortion in models produced through solid imaging by forming a non-continuous image of a pattern which is then imaged to form a continuous hardened image of the pattern |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0415403B2 (ja) | 1992-03-17 |
| US4770480A (en) | 1988-09-13 |
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