JPS6324511B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6324511B2 JPS6324511B2 JP13183382A JP13183382A JPS6324511B2 JP S6324511 B2 JPS6324511 B2 JP S6324511B2 JP 13183382 A JP13183382 A JP 13183382A JP 13183382 A JP13183382 A JP 13183382A JP S6324511 B2 JPS6324511 B2 JP S6324511B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- benzothiazepine
- dihydro
- cis
- lower alkyl
- aminoethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式（）
（但し、R1、R2、R3及びR4は低級アルキル基
を表す。） で示されるｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級
アルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオ
キシ―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オンの新規な製造法に関するも
のである。
を表す。） で示されるｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級
アルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオ
キシ―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オンの新規な製造法に関するも
のである。
式（）で示される光学活性体のうち、ｄ―シ
ス体は光学不活性なラセミ体（dl体）に比べて冠
血管拡張作用が強力であり、現在血管拡張剤とし
て労作性狭心症、陳旧性心筋梗塞における狭心痛
の改善に繁用されている有用な医薬品である。一
方、ｌ鴦シス体はｄ―シス体と異なり冠血管拡張
作用は極めて弱いが、脳波覚醒化作用が強く、精
神賦活剤として有用なものである。
ス体は光学不活性なラセミ体（dl体）に比べて冠
血管拡張作用が強力であり、現在血管拡張剤とし
て労作性狭心症、陳旧性心筋梗塞における狭心痛
の改善に繁用されている有用な医薬品である。一
方、ｌ鴦シス体はｄ―シス体と異なり冠血管拡張
作用は極めて弱いが、脳波覚醒化作用が強く、精
神賦活剤として有用なものである。
現在までに知られている化合物（）は、次の
合成経路図に示すように出発原料のオルトニトロ
チオフエノール（）から化合物（）を得、次
いで閉環反応により７員環のベンゾチアゼピン誘
導体（）を合成したのち、５位にジアミノエチ
ル基を導入し、ついで３位を低級アルカノイル化
するか、または３位を低級アルカノイル化後、５
位にジアミノ基を導入する方法である。なお、合
成中間体（）はオルトアミノチオフエノール
（）からも合成されるが、収率が悪く、また
（）あるいは（）で光学分割することに非常
に困難であるとされている〔特公昭45−9383、特
公昭47−813、特公昭46年−43785、特公昭49−
27576、特公昭49−36221、特公昭53−18038、H.
K ugita et.al.，Chem.Pharm.Bull.18，2028
（1970）．井上博純他、薬誌、93，729（1973）〕。
合成経路図に示すように出発原料のオルトニトロ
チオフエノール（）から化合物（）を得、次
いで閉環反応により７員環のベンゾチアゼピン誘
導体（）を合成したのち、５位にジアミノエチ
ル基を導入し、ついで３位を低級アルカノイル化
するか、または３位を低級アルカノイル化後、５
位にジアミノ基を導入する方法である。なお、合
成中間体（）はオルトアミノチオフエノール
（）からも合成されるが、収率が悪く、また
（）あるいは（）で光学分割することに非常
に困難であるとされている〔特公昭45−9383、特
公昭47−813、特公昭46年−43785、特公昭49−
27576、特公昭49−36221、特公昭53−18038、H.
K ugita et.al.，Chem.Pharm.Bull.18，2028
（1970）．井上博純他、薬誌、93，729（1973）〕。
（但し、R1、R2、R3及びR4は前記と同一意味
を有する。） しかしながら、これらの方法は原料化合物の入
手容易性、収率およびコストの面で必ずしも満足
すべきものではない。
を有する。） しかしながら、これらの方法は原料化合物の入
手容易性、収率およびコストの面で必ずしも満足
すべきものではない。
本発明者らはさらにすぐれた方法の開発を意図
して探究を重ねた結果、本発明を完成するに至つ
た。
して探究を重ねた結果、本発明を完成するに至つ
た。
本発明は、式
（但し、R1、R2及びR3は前記と同一意味を有
する。） で示される２―（４―低級アルコキシフエニル）
―５―（２―（低級アルキル）アミノエチル）―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
３，４（5H）―ジオンに水素化ホウ素化合物、低
級アルカリ酸無水物および酸を非プロトン性溶媒
中にて順次作用させて式 （但し、R1、R2、R3及びR4は前記と同一意味
を有する。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オン（XII）を得、所望により、これを光
学分割してｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級
アルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオ
キシ―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オンまたはその酸付加塩を得る
ことを特徴とするベンゾチアゼピン誘導体の新規
製造法、および 式 （但し、R1、R2及びR3は前記と同一意味を有
する。） で示される２―（４―低級アルコキシフエニル）
―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）
―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―３，４（5H）―ジオンもしくはその酸付加塩に
水素化ホウ素化合物、低級アルカリ酸無水物およ
び酸を少量の水の存在下、非プロトン性溶媒中に
て順次作用させて式 （但し、R1、R2、R3及びR4は前記と同一意味
を有する。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを得、所望により、これを光学分割
してｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級アルコ
キシフエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―
５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
４（5H）―オンまたはその酸付加塩を得ることを
特徴とするベンゾチアセピン誘導体の新規製造法
である。
する。） で示される２―（４―低級アルコキシフエニル）
―５―（２―（低級アルキル）アミノエチル）―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
３，４（5H）―ジオンに水素化ホウ素化合物、低
級アルカリ酸無水物および酸を非プロトン性溶媒
中にて順次作用させて式 （但し、R1、R2、R3及びR4は前記と同一意味
を有する。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オン（XII）を得、所望により、これを光
学分割してｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級
アルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオ
キシ―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オンまたはその酸付加塩を得る
ことを特徴とするベンゾチアゼピン誘導体の新規
製造法、および 式 （但し、R1、R2及びR3は前記と同一意味を有
する。） で示される２―（４―低級アルコキシフエニル）
―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）
―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―３，４（5H）―ジオンもしくはその酸付加塩に
水素化ホウ素化合物、低級アルカリ酸無水物およ
び酸を少量の水の存在下、非プロトン性溶媒中に
て順次作用させて式 （但し、R1、R2、R3及びR4は前記と同一意味
を有する。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを得、所望により、これを光学分割
してｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級アルコ
キシフエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―
５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル）―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
４（5H）―オンまたはその酸付加塩を得ることを
特徴とするベンゾチアセピン誘導体の新規製造法
である。
反応は一般にジメチルホルムアミド、ジグライ
ム、ジメトキシエタン、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性溶媒
中あるいは必要に応じてメチルエチルケトンまた
はメチルイソブチルケトン等の非プロトン性溶媒
の共存下に少量の水の存在または非存在下で室温
または加温下に数十分間から数十時間で行なわれ
る。
ム、ジメトキシエタン、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性溶媒
中あるいは必要に応じてメチルエチルケトンまた
はメチルイソブチルケトン等の非プロトン性溶媒
の共存下に少量の水の存在または非存在下で室温
または加温下に数十分間から数十時間で行なわれ
る。
反応に使用される水素化ホウ素化合物として
は、たとえば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウムなどが挙
げられ、通常、たとえば原料（XI）１モルに対し
て1.2モルから2.0モルが好んで使用される。ま
た、必要に応じて、触媒として、たとえば、臭化
リチウム、ヨウ化リチウム、塩化リチウム、酢酸
リチウム、炭酸リチウム、硝酸リチウム、シユウ
酸リチウム、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、などの塩類
の存在下に反応を行つてもよい。
は、たとえば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウムなどが挙
げられ、通常、たとえば原料（XI）１モルに対し
て1.2モルから2.0モルが好んで使用される。ま
た、必要に応じて、触媒として、たとえば、臭化
リチウム、ヨウ化リチウム、塩化リチウム、酢酸
リチウム、炭酸リチウム、硝酸リチウム、シユウ
酸リチウム、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、などの塩類
の存在下に反応を行つてもよい。
また反応に使用される酸としては塩酸、硫酸、
臭化水素酸、ヨウ化水素酸等の無機酸あるいは蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草
酸、イソ吉草酸等の有機酸が挙げられる。
臭化水素酸、ヨウ化水素酸等の無機酸あるいは蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草
酸、イソ吉草酸等の有機酸が挙げられる。
なお、本発明方法において必要により中間物と
してボラン化合物（、）を単離すること
もできるが、通常、これらは単離されることな
く、目的物のラセミ化合物（XII）で単離精製され
る。
してボラン化合物（、）を単離すること
もできるが、通常、これらは単離されることな
く、目的物のラセミ化合物（XII）で単離精製され
る。
（但し、R1、R2、R3及びR4は前記と同一意味
を有する。） 反応後の処理および精製は通常の方法、たとえ
ば抽出、再結晶、カラムクロマトグラフイ、活性
炭処理等によつて行なわれる。
を有する。） 反応後の処理および精製は通常の方法、たとえ
ば抽出、再結晶、カラムクロマトグラフイ、活性
炭処理等によつて行なわれる。
本発明の原料として用いる化合物（XI）は、従
来のベンゾチアゼピン誘導体としてては全く知ら
れていなかつたケトアミド系の新規ベンゾチアゼ
ピン誘導体で、たとえば次式（）で示される
公知物質の６員環化合物である２―（４―低級ア
ルコキシフエニルメチリデン）―４―（２―ジ
（低級アルキル）アミノエチル）―2H―１，４―
ベンゾチアジン―３（4H）―オン〔John
Krapcho and Chester F.Turk.J.Med.Chem，
16，776（1973）〕にトリメチルハロゲノシランお
よび過酸化水素と水とを反応させる全く新しい環
拡大反応により容易に高収率で得ることができ
る。
来のベンゾチアゼピン誘導体としてては全く知ら
れていなかつたケトアミド系の新規ベンゾチアゼ
ピン誘導体で、たとえば次式（）で示される
公知物質の６員環化合物である２―（４―低級ア
ルコキシフエニルメチリデン）―４―（２―ジ
（低級アルキル）アミノエチル）―2H―１，４―
ベンゾチアジン―３（4H）―オン〔John
Krapcho and Chester F.Turk.J.Med.Chem，
16，776（1973）〕にトリメチルハロゲノシランお
よび過酸化水素と水とを反応させる全く新しい環
拡大反応により容易に高収率で得ることができ
る。
（但し、R1、R2及びR3は前記と同一意味を有
する。） なお（）は同じく公知物質のオルトアミノ
チオフエノール（）から、たとえば次の合成経
路により容易に高収率で得ることができる。
する。） なお（）は同じく公知物質のオルトアミノ
チオフエノール（）から、たとえば次の合成経
路により容易に高収率で得ることができる。
（但し、R1、R2及びR3は前記と同一意味を有
する。） 化合物（）のようなベンゾチアゼピン誘導体
のラセミ体を直接光学分割することは困難である
とされている〔薬学雑誌93巻730頁（1973年）、特
公昭49−27576号〕が、本発明者らは研究を重ね
た結果、光学活性有機酸を用いて直接高収率かつ
高純度に光学活性体を取得できることを見いだし
た。
する。） 化合物（）のようなベンゾチアゼピン誘導体
のラセミ体を直接光学分割することは困難である
とされている〔薬学雑誌93巻730頁（1973年）、特
公昭49−27576号〕が、本発明者らは研究を重ね
た結果、光学活性有機酸を用いて直接高収率かつ
高純度に光学活性体を取得できることを見いだし
た。
本発明における光学分割工程は、たとえば、次
のように行われる。
のように行われる。
すなわち、ラセミ体（）をケトン系あるいは
エステル系有機溶媒中にて光学活性有機酸または
その塩類と作用させてｄ―シス―２―（４―低級
アルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオ
キシ―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オン・有機酸塩もしくはｌ―シ
ス―２―（４―低級アルコキシフエニル）―３―
低級アルカノイルオキシ―５―（２―ジ（低級ア
ルキル）アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）オン・有機
酸塩を選択的に晶出せしめたのち、固液を分離
し、ついで固相もしくは液相から光学活性な式
（）の化合物を得る。この光学分割は高収率の
下に行うことができる。
エステル系有機溶媒中にて光学活性有機酸または
その塩類と作用させてｄ―シス―２―（４―低級
アルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオ
キシ―５―（２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オン・有機酸塩もしくはｌ―シ
ス―２―（４―低級アルコキシフエニル）―３―
低級アルカノイルオキシ―５―（２―ジ（低級ア
ルキル）アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）オン・有機
酸塩を選択的に晶出せしめたのち、固液を分離
し、ついで固相もしくは液相から光学活性な式
（）の化合物を得る。この光学分割は高収率の
下に行うことができる。
分割に使用される光学活性有機酸もしくは塩類
としては、ｄ―10―カンフアスルホン酸、ｌ―10
―カンフアスルホン酸、ｄ―10―カンフアスルホ
ン酸・アンモニウム塩、ｌ―10・カンフアスルホ
ン酸、アンモニウム塩、Ｌ―リンゴ酸あるいはＤ
―リンゴ酸などが好んで使用されるが、これらに
限定されることなく、使用溶媒中の塩の形で２種
のジアステレオアイソマーを形成する活性有機酸
もしくはその塩類であれば、いずれも使用するこ
とができる。
としては、ｄ―10―カンフアスルホン酸、ｌ―10
―カンフアスルホン酸、ｄ―10―カンフアスルホ
ン酸・アンモニウム塩、ｌ―10・カンフアスルホ
ン酸、アンモニウム塩、Ｌ―リンゴ酸あるいはＤ
―リンゴ酸などが好んで使用されるが、これらに
限定されることなく、使用溶媒中の塩の形で２種
のジアステレオアイソマーを形成する活性有機酸
もしくはその塩類であれば、いずれも使用するこ
とができる。
使用される溶媒としては通常、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶
媒あるいは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、プ
ロピオン酸エチルなどのエステル系溶媒あるい
は、これ等溶媒の任意の割合による混合溶媒等が
挙げられ、特に入手しやすいアセトン、酢酸エチ
ルが好んで使用されるが、形成される２種のジア
ステレオアイソマーあるいは優先的に晶出するジ
アステレオアイソマーに対する溶解度差を有する
溶媒であれば、いずれの溶媒でも使用することが
できる。
ルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶
媒あるいは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、プ
ロピオン酸エチルなどのエステル系溶媒あるい
は、これ等溶媒の任意の割合による混合溶媒等が
挙げられ、特に入手しやすいアセトン、酢酸エチ
ルが好んで使用されるが、形成される２種のジア
ステレオアイソマーあるいは優先的に晶出するジ
アステレオアイソマーに対する溶解度差を有する
溶媒であれば、いずれの溶媒でも使用することが
できる。
使用される光学活性有機酸は式（XII）のラセミ
体１に対して概ね1.0から0.2の間で任意に変化さ
せて使用することができる。たとえば、アセトン
中光学活性有機酸としてｄ―10―カンフアスルホ
ン酸をラセミ体（）１モルに対して約0.5モル
使用した場合には難溶性のジアステレオアイソマ
ーとして、ｌ―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル―２，３
―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オン・ｄ―10―カンフアスルホン酸塩が
選択的に晶出し、溶液中には遊離のｄ―シス―２
―（４―低級アルコキシフエニル）―３―低級ア
ルカノイルオキシ―５―（２―ジ（低級アルキ
ル）アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンが溶存す
る。またｌ―10―カンフアスルホン酸を同じく
0.5モル使用した場合は難溶性のジアステレオア
イソマーとして式（）のｄ体のｌ―10―カンフ
アスルホン酸塩が析出し、溶液中に式（）のｌ
体が溶存する。
体１に対して概ね1.0から0.2の間で任意に変化さ
せて使用することができる。たとえば、アセトン
中光学活性有機酸としてｄ―10―カンフアスルホ
ン酸をラセミ体（）１モルに対して約0.5モル
使用した場合には難溶性のジアステレオアイソマ
ーとして、ｌ―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
（２―ジ（低級アルキル）アミノエチル―２，３
―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オン・ｄ―10―カンフアスルホン酸塩が
選択的に晶出し、溶液中には遊離のｄ―シス―２
―（４―低級アルコキシフエニル）―３―低級ア
ルカノイルオキシ―５―（２―ジ（低級アルキ
ル）アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンが溶存す
る。またｌ―10―カンフアスルホン酸を同じく
0.5モル使用した場合は難溶性のジアステレオア
イソマーとして式（）のｄ体のｌ―10―カンフ
アスルホン酸塩が析出し、溶液中に式（）のｌ
体が溶存する。
ジアステレオアイソマーの形成は通常、室温か
ら加熱下で数十分から数時間で終了する。晶出す
るジアステレオアイソマーから光学活性な式
（）の化合物を分離回収するのは通常の方法、
たとえば希アルカリ溶液に上記ジアステレオアイ
ソマーを添加して析出する結晶あるいは油状物質
を分離、分取、取あるいは抽出することにより
容易に高収率で得ることができる。得られた化合
物（）の純度をさらに高める必要のある場合は
通常の再結晶法により精製することができる。な
お使用された光学活性有機酸は回収し、繰返し使
用することができる。
ら加熱下で数十分から数時間で終了する。晶出す
るジアステレオアイソマーから光学活性な式
（）の化合物を分離回収するのは通常の方法、
たとえば希アルカリ溶液に上記ジアステレオアイ
ソマーを添加して析出する結晶あるいは油状物質
を分離、分取、取あるいは抽出することにより
容易に高収率で得ることができる。得られた化合
物（）の純度をさらに高める必要のある場合は
通常の再結晶法により精製することができる。な
お使用された光学活性有機酸は回収し、繰返し使
用することができる。
かくして得られた式（）の化合物は、所望に
より公知の方法で塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の無
機酸塩に、あるいはメタンスルホン酸塩、コハク
酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、カンフア酸塩等
の有機酸塩とすることができる。
より公知の方法で塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の無
機酸塩に、あるいはメタンスルホン酸塩、コハク
酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、カンフア酸塩等
の有機酸塩とすることができる。
本発明方法は化合物（）の製造について、従
来発表されている方法に比較して、反応工程並び
に反応時間が短いので製造日数が短縮され、反応
操作並びに精製が容易であり、且つ高純度のもの
が高収率で得られる。また出発原料のオルトアミ
ノチオフエノール（）は従来発表されている方
法の出発原料であるオルトニトロチオフエノール
（）と比べて安価で安定性に優れており、且つ
工業原料として入手が容易な物質である。また最
終工程で光学分割するため、ｄ体およびｌ体を同
時に得ることができるとともに、必要によりｌ体
もしくはｄ体のラセミ化あるいは酸化等の他の反
応操作により、再び対応する中間原料物質を得る
ことも出来る等の優れた特長をもつている。
来発表されている方法に比較して、反応工程並び
に反応時間が短いので製造日数が短縮され、反応
操作並びに精製が容易であり、且つ高純度のもの
が高収率で得られる。また出発原料のオルトアミ
ノチオフエノール（）は従来発表されている方
法の出発原料であるオルトニトロチオフエノール
（）と比べて安価で安定性に優れており、且つ
工業原料として入手が容易な物質である。また最
終工程で光学分割するため、ｄ体およびｌ体を同
時に得ることができるとともに、必要によりｌ体
もしくはｄ体のラセミ化あるいは酸化等の他の反
応操作により、再び対応する中間原料物質を得る
ことも出来る等の優れた特長をもつている。
従つて、本発明はベンゾチアジン誘導体からベ
ンゾチアゼピン誘導体を経由して目的物（）を
製造する方法として、方法自体が新規であるばか
りでなく、製造コストが非常に安く、かつ作業能
率が良く、工業的に極めて有利である。
ンゾチアゼピン誘導体を経由して目的物（）を
製造する方法として、方法自体が新規であるばか
りでなく、製造コストが非常に安く、かつ作業能
率が良く、工業的に極めて有利である。
次に実施例を示す。
参考例
２―（４―メトキシフエニルメチリデン）―４
―（２―ジメチルアミノエチル）―2H―１，４
−ベンゾチアジン−３（4H）−オン・塩酸塩10gを
塩化メチレン150mlにとかし、トリメチルクロロ
シラン13.9gを加えて、−５℃ないし−10℃に冷却
して30％過酸化水素水3.2gを滴下し、同温度で30
分撹拌後、水５mlを加えて内温20℃ないし25℃に
て２時間撹拌すると反応は終了する。反応後、飽
和食塩水200mlを加えて塩化メチレン層を分取し、
水50mlで塩化メチレン層を洗滌後、無水芒硝で乾
燥し、減圧下室温にて溶媒を留去すると２―（４
―メトキシフエニル）―５―（２―ジメチルアミ
ノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾ
チアゼピン―３，４（5H）―ジオン・塩酸塩の淡
黄色粉末11gを得る。本品はアセトンから精製す
ると、融点197−201℃の無色粉末晶となる。
―（２―ジメチルアミノエチル）―2H―１，４
−ベンゾチアジン−３（4H）−オン・塩酸塩10gを
塩化メチレン150mlにとかし、トリメチルクロロ
シラン13.9gを加えて、−５℃ないし−10℃に冷却
して30％過酸化水素水3.2gを滴下し、同温度で30
分撹拌後、水５mlを加えて内温20℃ないし25℃に
て２時間撹拌すると反応は終了する。反応後、飽
和食塩水200mlを加えて塩化メチレン層を分取し、
水50mlで塩化メチレン層を洗滌後、無水芒硝で乾
燥し、減圧下室温にて溶媒を留去すると２―（４
―メトキシフエニル）―５―（２―ジメチルアミ
ノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾ
チアゼピン―３，４（5H）―ジオン・塩酸塩の淡
黄色粉末11gを得る。本品はアセトンから精製す
ると、融点197−201℃の無色粉末晶となる。
I.R.スペクトル：（Nujol，cm-1）3350，2670，
1650，1638，1600，1580。
1650，1638，1600，1580。
I.R.スペクトル：（KBr，cm-1）3400，2670，
1720，1660，1610，1585。
1720，1660，1610，1585。
N.M.Rスペクトル：（DMSO−d6，ppm）2.80
（ｓ，6H），3.36（br，2H），3.72（ｓ，
3H），4.42（br.，2H），6.06（br.，1H），
6.40−7.90（ｍ，8H）。
（ｓ，6H），3.36（br，2H），3.72（ｓ，
3H），4.42（br.，2H），6.06（br.，1H），
6.40−7.90（ｍ，8H）。
元素分析値（％） C20H22N2O3S・HClとして
理論値 Ｃ，59.04；Ｈ，5.65；Ｎ，6.88
実測値 Ｃ，59.17；Ｈ，5.68；Ｎ，6.91
実施例 １
1.5gの２―（４―メトキシフエニル）―５―
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを乾燥アセトニトリル15mlに溶解し、窒素
ガス気流中0.26gの水素化ホウ素ナトリウムを添
加し、70℃で４時間撹拌したのち、３mlの無水酢
酸を添加し、同温度で２時間撹拌後、５mlの酢酸
を添加し、同温度で３時間撹拌すると反応は終了
する。
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを乾燥アセトニトリル15mlに溶解し、窒素
ガス気流中0.26gの水素化ホウ素ナトリウムを添
加し、70℃で４時間撹拌したのち、３mlの無水酢
酸を添加し、同温度で２時間撹拌後、５mlの酢酸
を添加し、同温度で３時間撹拌すると反応は終了
する。
反応後、溶媒を減圧留去し、濃縮残渣を10mlの
メチルイソブチルケトンに溶解したのち、30mlの
３％塩酸水溶液を加え少時撹拌後、分液漏斗に移
し、水層を取出す。水層に10％の炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、弱塩基性とし、析出する油状
物を30mlの酢酸エチルで抽出する。溶媒層を水洗
し、無水芒硝で乾燥後、減圧留去すると、dl―シ
ス―２―（４―メトキシフエニル）―３―アセト
キシ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの油状物0.8gを得る。
メチルイソブチルケトンに溶解したのち、30mlの
３％塩酸水溶液を加え少時撹拌後、分液漏斗に移
し、水層を取出す。水層に10％の炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、弱塩基性とし、析出する油状
物を30mlの酢酸エチルで抽出する。溶媒層を水洗
し、無水芒硝で乾燥後、減圧留去すると、dl―シ
ス―２―（４―メトキシフエニル）―３―アセト
キシ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの油状物0.8gを得る。
I.R.スペクトル：（Neat，cm-1）1742，1671，
1605，1580，1508。
1605，1580，1508。
N.M.R.スペクトル：（CDCl3，ppm）1.87（ｓ，
3H），2.24（ｓ，6H），3.79（ｓ，3H），4.97
（ｄ，Ｊ−7cps，1H），5.15（ｄ，Ｊ＝
7cps，1H），6.86−7.73（ｍ，8H）。
3H），2.24（ｓ，6H），3.79（ｓ，3H），4.97
（ｄ，Ｊ−7cps，1H），5.15（ｄ，Ｊ＝
7cps，1H），6.86−7.73（ｍ，8H）。
なお、この油状物をイソプロピルアルコールに
溶解し、濃塩酸を加えると対応する塩酸塩が得ら
れる。
溶解し、濃塩酸を加えると対応する塩酸塩が得ら
れる。
融点、188−192℃
I.R.スペクトル：（KBr，cm-1）2915，2825，
2375，1740，1680，1600，1253，1215。
2375，1740，1680，1600，1253，1215。
元素分析値（％） C22H26N2O4S・HClとして
理論値 Ｃ，58.58；Ｈ，6.03；Ｎ，6.21
実測値 Ｃ，58.77；Ｈ，5.98；Ｎ，6.25
実施例 ２
2.0gの２―（４―メトキシフエニル）―５―
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを20mlの乾燥ジグリムに溶解し、窒素ガス
気流中580mgの無水塩化リチウムと240mgの水素化
ホウ素ナトリウムを加え、70℃で２時間撹拌した
のち３mlの無水酢酸を添加し、同温度で２時間撹
拌後、５mlの酢酸を添加し同温度で3.5時間撹拌
すると反応は終了する。
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを20mlの乾燥ジグリムに溶解し、窒素ガス
気流中580mgの無水塩化リチウムと240mgの水素化
ホウ素ナトリウムを加え、70℃で２時間撹拌した
のち３mlの無水酢酸を添加し、同温度で２時間撹
拌後、５mlの酢酸を添加し同温度で3.5時間撹拌
すると反応は終了する。
実施例１と同様の後処理を行い、dl―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物1.1gを得る。
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物1.1gを得る。
この油状物を実施例１と同様にして、対応する
塩酸塩とすることができる。
塩酸塩とすることができる。
融点 189−192℃
実施例 ３
2.0gの２―（４―メトキシフエニル）―５―
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを20mlの乾燥１，２―ジメトキシエタンに
溶解し、窒素ガス気流中1.1gの無水ヨウ化リチウ
ムと240mgの水素化ホウ素ナトリウムを加え、70
℃で1.5時間撹拌したのち、３mlの無水酢酸を添
加し、同温度で２時間撹拌後、５mlの酢酸を添加
し75℃で３時間撹拌すると反応は終了する。
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを20mlの乾燥１，２―ジメトキシエタンに
溶解し、窒素ガス気流中1.1gの無水ヨウ化リチウ
ムと240mgの水素化ホウ素ナトリウムを加え、70
℃で1.5時間撹拌したのち、３mlの無水酢酸を添
加し、同温度で２時間撹拌後、５mlの酢酸を添加
し75℃で３時間撹拌すると反応は終了する。
実施例１と同様の後処理を行い、dl―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物1.6gを得る。
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物1.6gを得る。
この油状物を実施例１と同様にして、対応する
塩酸塩とすることができる。
塩酸塩とすることができる。
融点 185−190℃
実施例 ４
1.0gの２―（４―メトキシフエニル）―５―
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを10mlの乾燥テトラヒドロフランに溶解
し、窒素ガス気流中540mgの無水ヨウ化リチウム
と120mgの水素化ホウ素ナトリウムを加え、加熱
還流下２時間撹拌したのち、1.5mlの無水酢酸を
添加し、同温度で２時間撹拌後、酢酸2.5mlを添
加し70℃で４時間撹拌すると反応は終了する。
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを10mlの乾燥テトラヒドロフランに溶解
し、窒素ガス気流中540mgの無水ヨウ化リチウム
と120mgの水素化ホウ素ナトリウムを加え、加熱
還流下２時間撹拌したのち、1.5mlの無水酢酸を
添加し、同温度で２時間撹拌後、酢酸2.5mlを添
加し70℃で４時間撹拌すると反応は終了する。
実施例１と同様の後処理を行い、dl―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物0.7gを得る。
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物0.7gを得る。
この油状物を実施例１と同様にして、対応する
塩酸塩とすることができる。
塩酸塩とすることができる。
融点 188−192℃
実施例 ５
1.0gの２―（４―メトキシフエニル）―５―
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン−３，４（5H）―
ジオンを10mlの乾燥ジグリムに溶解し、窒素ガス
気流中370mgの無水ヨウ化リチウムと90mgの水素
化ホウ素リチウムを加え、90℃で２時間撹拌した
のち、1.5mlの無水酢酸を添加し、70℃で２時間
撹拌後、酢酸2.5mlを添加し、同温度で3.5時間撹
拌すると反応は終了する。
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン−３，４（5H）―
ジオンを10mlの乾燥ジグリムに溶解し、窒素ガス
気流中370mgの無水ヨウ化リチウムと90mgの水素
化ホウ素リチウムを加え、90℃で２時間撹拌した
のち、1.5mlの無水酢酸を添加し、70℃で２時間
撹拌後、酢酸2.5mlを添加し、同温度で3.5時間撹
拌すると反応は終了する。
実施例１と同様の後処理を行い、dl―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オ
ンの油状物0.3gを得る。
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オ
ンの油状物0.3gを得る。
この油状物を実施例１と同様にして、対応する
塩酸塩（融点187−192℃）とすることができる。
塩酸塩（融点187−192℃）とすることができる。
実施例 ６
1.0gの２―（４―メトキシフエニル）―５―
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを10mlの乾燥テトラヒドロフランに溶解
し、窒素ガス気流中540mgの無水ヨウ化リチウム
と120mgの水素化ホウ素ナトリウムを加え、加熱
還流下２時間撹拌したのち、1.5mlの無水酢酸を
添加し、同温度で２時間撹拌後、蟻酸2.0mlを添
加し70℃で３時間撹拌すると反応は終了する。
（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒド
ロ―１，５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―
ジオンを10mlの乾燥テトラヒドロフランに溶解
し、窒素ガス気流中540mgの無水ヨウ化リチウム
と120mgの水素化ホウ素ナトリウムを加え、加熱
還流下２時間撹拌したのち、1.5mlの無水酢酸を
添加し、同温度で２時間撹拌後、蟻酸2.0mlを添
加し70℃で３時間撹拌すると反応は終了する。
実施例１と同様の後処理を行い、dl―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物0.7gを得る。
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジ
ヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―
オンの油状物0.7gを得る。
この油状物を実施例１と同様にして、対応する
塩酸塩とすることができる。
塩酸塩とすることができる。
融点 186−190℃
実施例 ７
２―（４―メトキシフエニル）―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩2gを乾燥ジメチルホルムアミド10mlに懸
濁させて室温下、窒素ガス気流中水素化ホウ素ナ
トリウム0.19gを少量ずつ添加する。添加終了後、
90℃で１時間撹拌後、無水酢酸５mlを加え同温度
で１時間撹拌したのち、酢酸５mlを加えて90℃で
１時間撹拌すると反応は終了する。反応後、減圧
下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルにとかし、飽
和重曹水で２回洗浄後水洗し、無水芒硝で乾燥
後、溶媒を留去すると、dl―シス―２―（４―メ
トキシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―
ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの油
状物1.0gを得る。
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩2gを乾燥ジメチルホルムアミド10mlに懸
濁させて室温下、窒素ガス気流中水素化ホウ素ナ
トリウム0.19gを少量ずつ添加する。添加終了後、
90℃で１時間撹拌後、無水酢酸５mlを加え同温度
で１時間撹拌したのち、酢酸５mlを加えて90℃で
１時間撹拌すると反応は終了する。反応後、減圧
下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルにとかし、飽
和重曹水で２回洗浄後水洗し、無水芒硝で乾燥
後、溶媒を留去すると、dl―シス―２―（４―メ
トキシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―
ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの油
状物1.0gを得る。
実施例 ８
２―（４―メトキシフエニル）―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩4gにジメチルホルムアミド８ml、メチル
イソブチルケトン４mlおよび水0.35mlを加え、窒
素ガス気流中、０℃に冷却した後、ジメチルホル
ムアミド４mlに水素化ホウ素ナトリウム0.6ｇを
溶解した溶液を撹拌下徐々に滴下する。滴下後２
時間室温で撹拌後、アセトン４mlを加えて同温度
で１時間撹拌したのち、メチルイソブチルケトン
12mlと無水酢酸5gとの混液を加え、内温50〜60
℃で２時間撹拌後、酢酸1.8gとメチルイソブチル
ケトン８mlの混液を加え、内温90〜95℃で３時間
撹拌すると反応は終了する。冷後、氷水20mlを加
え、10％水酸化ナトリウム水溶液で弱アルカリ性
としたのち、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留示する。残留物にイソプロピルエーテル10
mlを加え、析出する結晶を取すると、融点135
−136℃を示すdl―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチル
アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベ
ンゾチアゼピン―４（5H）―オンの無色結晶
2.84gを得る。
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩4gにジメチルホルムアミド８ml、メチル
イソブチルケトン４mlおよび水0.35mlを加え、窒
素ガス気流中、０℃に冷却した後、ジメチルホル
ムアミド４mlに水素化ホウ素ナトリウム0.6ｇを
溶解した溶液を撹拌下徐々に滴下する。滴下後２
時間室温で撹拌後、アセトン４mlを加えて同温度
で１時間撹拌したのち、メチルイソブチルケトン
12mlと無水酢酸5gとの混液を加え、内温50〜60
℃で２時間撹拌後、酢酸1.8gとメチルイソブチル
ケトン８mlの混液を加え、内温90〜95℃で３時間
撹拌すると反応は終了する。冷後、氷水20mlを加
え、10％水酸化ナトリウム水溶液で弱アルカリ性
としたのち、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留示する。残留物にイソプロピルエーテル10
mlを加え、析出する結晶を取すると、融点135
−136℃を示すdl―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチル
アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベ
ンゾチアゼピン―４（5H）―オンの無色結晶
2.84gを得る。
元素分析値（％） C22H26N2O4Sとして
理論値 Ｃ，63.75；Ｈ，6.32；Ｎ，6.76
実測値 Ｃ，63.83；Ｈ，6.37；Ｎ，6.82
I.R.スペクトル：（Neat，cm-1）1742，1671，
1605，1580，1508。
1605，1580，1508。
N.M.R.スペクトル：（CDCl3，ppm）1.87（ｓ，
3H），2.24（ｓ，6H）3.79（ｓ，3H），4.97
（ｄ，ｊ＝7cps，1H），5.15（ｄ，Ｊ＝
7cps，1H），6.86（ｄ，Ｊ＝9cps，2H），
7.16−7.73（ｍ，6H） 実施例 ９ ２―（４―メトキシフエニル）―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩4gにジメチルホルムアミド８ml、メチル
エチルケトン４mlおよび水0.35mlを加え、Ｏ℃に
冷却した後、ジメチルホルムアミド４mlに水素化
ホウ素ナトリウム0.6gを溶かした溶液を、窒素ガ
ス気流中撹拌下にて徐々に滴下する。滴下後１時
間半室温で撹拌後、メチルエチルケトン４mlと無
水酢酸5gとの混液を加え、内温50〜60℃で２時
間撹拌後、蟻酸0.74gを加え、内温90〜95℃で２
時間撹拌すると反応は終了する。冷後、氷水30ml
および酢酸エチル30mlを加えたのち、10％水酸化
ナトリウム水溶液で弱アルカリ性とし、有機層を
分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水芒硝で乾燥
し、減圧留去する。残留物にイソプロピルエーテ
ル10mlを加え、析出する結晶を取すると、融点
134−136℃を示すdl―シス―２―（４―メトキシ
フエニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―
ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの無色結晶
2.7gを得る。
3H），2.24（ｓ，6H）3.79（ｓ，3H），4.97
（ｄ，ｊ＝7cps，1H），5.15（ｄ，Ｊ＝
7cps，1H），6.86（ｄ，Ｊ＝9cps，2H），
7.16−7.73（ｍ，6H） 実施例 ９ ２―（４―メトキシフエニル）―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩4gにジメチルホルムアミド８ml、メチル
エチルケトン４mlおよび水0.35mlを加え、Ｏ℃に
冷却した後、ジメチルホルムアミド４mlに水素化
ホウ素ナトリウム0.6gを溶かした溶液を、窒素ガ
ス気流中撹拌下にて徐々に滴下する。滴下後１時
間半室温で撹拌後、メチルエチルケトン４mlと無
水酢酸5gとの混液を加え、内温50〜60℃で２時
間撹拌後、蟻酸0.74gを加え、内温90〜95℃で２
時間撹拌すると反応は終了する。冷後、氷水30ml
および酢酸エチル30mlを加えたのち、10％水酸化
ナトリウム水溶液で弱アルカリ性とし、有機層を
分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水芒硝で乾燥
し、減圧留去する。残留物にイソプロピルエーテ
ル10mlを加え、析出する結晶を取すると、融点
134−136℃を示すdl―シス―２―（４―メトキシ
フエニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―
ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの無色結晶
2.7gを得る。
実施例 10
２―（４―メトキシフエニル）―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩5gにジメチルホルムアミド６mlおよび水
0.44mlを加え、０℃に冷却し、ジメチルホルムア
ミド４mlに水素化ホウ素ナトリウム0.775g溶解し
た溶液を、窒素ガス気流中徐々に滴下する。滴下
後、室温で１時間撹拌後、メチルイソブチルケト
ン30mlおよび無水酢酸6.27gを加え、内温50〜60
℃で２時間撹拌したのち、イソ酪酸3.28gを添加
し、内温90〜95℃で３時間撹拌する。冷後、実施
例８と同様の処理を行ない融点133−136℃を示す
dl―シス―２―（４―メトキシフエニル）―３―
アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエチル）
―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―４（5H）―オンの結晶3.5gを得る。
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩5gにジメチルホルムアミド６mlおよび水
0.44mlを加え、０℃に冷却し、ジメチルホルムア
ミド４mlに水素化ホウ素ナトリウム0.775g溶解し
た溶液を、窒素ガス気流中徐々に滴下する。滴下
後、室温で１時間撹拌後、メチルイソブチルケト
ン30mlおよび無水酢酸6.27gを加え、内温50〜60
℃で２時間撹拌したのち、イソ酪酸3.28gを添加
し、内温90〜95℃で３時間撹拌する。冷後、実施
例８と同様の処理を行ない融点133−136℃を示す
dl―シス―２―（４―メトキシフエニル）―３―
アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエチル）
―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―４（5H）―オンの結晶3.5gを得る。
実施例 11
２―（４―メトキシフエニル）―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩2gをジメチルホルムアミド10mlと水0.26ml
の混液に加え、窒素ガス気流中氷冷撹拌下に水素
化ホウ素ナトリウム0.31gを添加する。添加後内
温23℃にて２時間撹拌後、無水酢酸10mlを加えて
内温50℃にて２時間撹拌したのち、濃硫酸0.25ml
を加えて内温80℃から90℃で３時間撹拌すると反
応は終了する。反応後溶媒を減圧留去し、残留物
をクロロホルムに溶解後水を加え、次いで10％水
酸化ナトリウム水溶液で弱アルカリ性としたの
ち、クロロホルム層を分層して水洗し、無水芒硝
で乾燥後減圧留去するとdl―シス―２―（４―メ
トキシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―
ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの油
状物2gを得る。本品はイソプロピルアルコール
またはイソプロピルエーテルとの混液から再結晶
すると融点133−135℃の無色粉末晶1.2gを得る。
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，
５―ベンゾチアゼピン―３，４（5H）―ジオン・
塩酸塩2gをジメチルホルムアミド10mlと水0.26ml
の混液に加え、窒素ガス気流中氷冷撹拌下に水素
化ホウ素ナトリウム0.31gを添加する。添加後内
温23℃にて２時間撹拌後、無水酢酸10mlを加えて
内温50℃にて２時間撹拌したのち、濃硫酸0.25ml
を加えて内温80℃から90℃で３時間撹拌すると反
応は終了する。反応後溶媒を減圧留去し、残留物
をクロロホルムに溶解後水を加え、次いで10％水
酸化ナトリウム水溶液で弱アルカリ性としたの
ち、クロロホルム層を分層して水洗し、無水芒硝
で乾燥後減圧留去するとdl―シス―２―（４―メ
トキシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―
ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの油
状物2gを得る。本品はイソプロピルアルコール
またはイソプロピルエーテルとの混液から再結晶
すると融点133−135℃の無色粉末晶1.2gを得る。
実施例 12
(1) dl―シス―２―（４―メトキシフエニル）―
３―アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエ
チル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチ
アゼピン―４（5H）―オン12.4gをアセトン50
mlに溶解し、ｌ―10―カンフアスルホン酸3.8g
（dl体に対して0.55モル比）を加えて、20分間
加熱還流後氷冷し、析出する難溶性のジアステ
レオアイソマーを取すると、融点235−237℃
を示すｄ―シス―２―（４―メトキシフエニ
ル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチルア
ミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベ
ンゾチアゼピン―４（5H）―オン・ｌ―10―カ
ンフアスルホン酸塩8.5gを得る。
３―アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエ
チル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチ
アゼピン―４（5H）―オン12.4gをアセトン50
mlに溶解し、ｌ―10―カンフアスルホン酸3.8g
（dl体に対して0.55モル比）を加えて、20分間
加熱還流後氷冷し、析出する難溶性のジアステ
レオアイソマーを取すると、融点235−237℃
を示すｄ―シス―２―（４―メトキシフエニ
ル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチルア
ミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベ
ンゾチアゼピン―４（5H）―オン・ｌ―10―カ
ンフアスルホン酸塩8.5gを得る。
I.R.スペクトル：（Nujol，cm-1）2720，2650−
2600（broad），2520，2450，1738，1680，
1610，1580，1510，1300，1240，1150，
1030，835 本品を５％塩酸水溶液30mlに溶解後、10％水
酸化ナトリウム水溶液にて弱アルカリ性とし、
析出する油状物をクロロホルムで抽出し、クロ
ロホルム層を水洗、芒硝で乾燥後減圧留去し、
残留油をイソプロピルエーテルに温時溶解後放
冷すると、融点104−106℃を示すｄ―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ
―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３
―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの無色結晶5.0gを得る。
2600（broad），2520，2450，1738，1680，
1610，1580，1510，1300，1240，1150，
1030，835 本品を５％塩酸水溶液30mlに溶解後、10％水
酸化ナトリウム水溶液にて弱アルカリ性とし、
析出する油状物をクロロホルムで抽出し、クロ
ロホルム層を水洗、芒硝で乾燥後減圧留去し、
残留油をイソプロピルエーテルに温時溶解後放
冷すると、融点104−106℃を示すｄ―シス―２
―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ
―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３
―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの無色結晶5.0gを得る。
旋光度 〔α〕20 D＝＋132.19（DMF，Ｃ＝1.04），
＋112.72（CHCl3C＝2.04）。
＋112.72（CHCl3C＝2.04）。
元素分析値（％） C22H26N2O4Sとして
理論差 Ｃ，63.75；Ｈ，6.32；Ｎ，6.76
実測値 Ｃ，63.59；Ｈ，6.28；Ｎ，6.90
I.R.スペクトル：（Nujol，cm-1）1742，1671，
1608，1580，1508。
1608，1580，1508。
N.M.R.スペクトル：（CDCl3，ppm）1.87（3H，
ｓ），2.24（6H，ｓ），3.79（3H，ｓ），4.98
（1H，ｄ，Ｊ＝7cps），5.15（1H，ｄ，Ｊ
＝7cps），6.86（2H，ｄ，Ｊ＝9cps），7.16
−7.72（6H，ｍ）。
ｓ），2.24（6H，ｓ），3.79（3H，ｓ），4.98
（1H，ｄ，Ｊ＝7cps），5.15（1H，ｄ，Ｊ
＝7cps），6.86（2H，ｄ，Ｊ＝9cps），7.16
−7.72（6H，ｍ）。
本品は通常の方法によりイソプロピルアルコ
ール中で塩酸と処理すると融点210−214℃を示
す無色結晶性粉末の塩酸塩が得られる。
ール中で塩酸と処理すると融点210−214℃を示
す無色結晶性粉末の塩酸塩が得られる。
旋光度 〔α〕20 D＝＋115.34（H2O Ｃ＝0.92）
元素分析値（％） C22H26N2O4S.HClとして
理論値 Ｃ，58.58；Ｈ，6.03；Ｎ，6.21
実測値 Ｃ，58.82；Ｈ，6.17；Ｎ，6.16
I.R.スペクトル：（KBr，cm-1）2915，2825，
2375，170，1680，1600，1253，1215。
2375，170，1680，1600，1253，1215。
一方、ジアステレオアイソマーを取したア
セトン母液は減圧留去して残留物を希塩酸に溶
解後、10％水酸化ナトリウム水溶液にて弱アル
カリ性とし、析出する油状物をクロロホルムで
抽出する。クロロホルム層は水洗、芒硝で乾燥
後減圧留去し、残留物をイソプロピルエーテル
に温時溶解後室温に放冷して析出する少量のdl
体を別後、液をさらに濃縮し、氷室中にて
放冷する融点102−105℃を示すｌ―シス―２―
（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―
ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの無色結晶3.8gを得る。
セトン母液は減圧留去して残留物を希塩酸に溶
解後、10％水酸化ナトリウム水溶液にて弱アル
カリ性とし、析出する油状物をクロロホルムで
抽出する。クロロホルム層は水洗、芒硝で乾燥
後減圧留去し、残留物をイソプロピルエーテル
に温時溶解後室温に放冷して析出する少量のdl
体を別後、液をさらに濃縮し、氷室中にて
放冷する融点102−105℃を示すｌ―シス―２―
（４―メトキシフエニル）―３―アセトキシ―
５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，３―
ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの無色結晶3.8gを得る。
旋光度 〔α〕20 D＝−128.29（DMFC＝0.56）
元素分析値（％） C22H26N2O4Sとして
理論値 Ｃ，63.75；Ｈ，6.76
実測値 Ｃ，64.01；Ｈ，6.26；Ｎ，6.65
(2) dl―シス―２―（４―メトキシフエニル）―
３―アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエ
チル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチ
アゼピン―４（5H）―オン8.28gをアセトン120
mlに溶解し、室温にて撹拌しながらｄ―10―カ
ンフアスルホン酸4.64g（dl体に対して1.0モル
比）をアセトン46mlに溶解した溶液を滴下す
る。滴下後20分間加熱還流し、冷後難溶性のジ
アステレオアイソマーを取すると融点229−
234℃を示すｌ―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン・ｄ―10
―カンフアスルホン酸塩5.5gを得る。
３―アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエ
チル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチ
アゼピン―４（5H）―オン8.28gをアセトン120
mlに溶解し、室温にて撹拌しながらｄ―10―カ
ンフアスルホン酸4.64g（dl体に対して1.0モル
比）をアセトン46mlに溶解した溶液を滴下す
る。滴下後20分間加熱還流し、冷後難溶性のジ
アステレオアイソマーを取すると融点229−
234℃を示すｌ―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン・ｄ―10
―カンフアスルホン酸塩5.5gを得る。
I.R.スペクトル：（Nujol，cm-1）2720，2650−
2600，2520，2450，1738，1680，1610，
1580，1510，1300，1240，1150，1030，
835。
2600，2520，2450，1738，1680，1610，
1580，1510，1300，1240，1150，1030，
835。
本品に水80mlを加えた後、５％水酸化ナトリ
ウム水溶液を添加して弱アルカリ性とし、析出
する油状物を酢酸エチルにて抽出し、有機層を
水洗、芒硝で乾燥後減圧留去し、残留物にイソ
プロピルエーテルを加えて放冷、析出する結晶
を取すると融点102−105℃を示すｌ―シス―
２―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキ
シ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの無色結晶3.5gを得る。
ウム水溶液を添加して弱アルカリ性とし、析出
する油状物を酢酸エチルにて抽出し、有機層を
水洗、芒硝で乾燥後減圧留去し、残留物にイソ
プロピルエーテルを加えて放冷、析出する結晶
を取すると融点102−105℃を示すｌ―シス―
２―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキ
シ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンの無色結晶3.5gを得る。
旋光度 〔α〕20 D＝−130.14（DMFC＝0.52），−
111.94（CHCl3，Ｃ＝1.24）。
111.94（CHCl3，Ｃ＝1.24）。
(3) アセトン30ml中にdl―シス―２―（４―メト
キシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―
ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン
8.28gおよびＬ―リンゴ酸0.67g（dl体に対して
0.25モル比）を加えて10分間加熱還流後溶媒を
減圧留去し、残渣にアセトン10mlおよびイソプ
ロピルエーテル40mlを加え10分間還流して温時
に難溶のジアステレオアイソマーを取すると
融点139−145℃を示すｄ―シス―２―（４―メ
トキシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２
―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ
―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オ
ン・Ｌ―リンゴ酸塩の無色粉末晶3gを得る。
本品に水を加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液にて弱アルカリ性とし、析出する油をクロロ
ホルムで抽出する。クロロホルム層は水洗、芒
硝で乾燥後減圧留去し、残留油にイソプロピル
エーテルを加えて放冷し、析出する結晶をイソ
プロピルエーテルから再結晶すると融点100−
104℃を示すｄ―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの結晶
1.4gを得る。
キシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―
ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン
8.28gおよびＬ―リンゴ酸0.67g（dl体に対して
0.25モル比）を加えて10分間加熱還流後溶媒を
減圧留去し、残渣にアセトン10mlおよびイソプ
ロピルエーテル40mlを加え10分間還流して温時
に難溶のジアステレオアイソマーを取すると
融点139−145℃を示すｄ―シス―２―（４―メ
トキシフエニル）―３―アセトキシ―５―（２
―ジメチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ
―１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オ
ン・Ｌ―リンゴ酸塩の無色粉末晶3gを得る。
本品に水を加えて飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液にて弱アルカリ性とし、析出する油をクロロ
ホルムで抽出する。クロロホルム層は水洗、芒
硝で乾燥後減圧留去し、残留油にイソプロピル
エーテルを加えて放冷し、析出する結晶をイソ
プロピルエーテルから再結晶すると融点100−
104℃を示すｄ―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オンの結晶
1.4gを得る。
旋光度 〔α〕20 D＝＋127.34（DMFC＝1.02）
一方、温時難溶性のジアステレオアイソマー
を別した母液は冷後析出する不溶物（dl体）
を別後、減圧留去し、残留油に少量のイソプ
ロピルエーテルを加えて析出する結晶をイソプ
ロピルエーテルから再結晶すると融点95−102
℃を示すｌ―シス―２―（４―メトキシフエニ
ル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチルア
ミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベ
ンゾアゼピン―４（5H）―オンの無色結晶0.9g
を得る。
を別した母液は冷後析出する不溶物（dl体）
を別後、減圧留去し、残留油に少量のイソプ
ロピルエーテルを加えて析出する結晶をイソプ
ロピルエーテルから再結晶すると融点95−102
℃を示すｌ―シス―２―（４―メトキシフエニ
ル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチルア
ミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベ
ンゾアゼピン―４（5H）―オンの無色結晶0.9g
を得る。
旋光度 〔α〕20 D＝−119.46（DMFC＝0.79）。
(4) Ｄ―リンゴ酸を用いて実施例３と同様の反応
工程を経てｌ―シス―２―（４―メトキシフエ
ニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチル
アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―
ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン〔旋光度
〔α〕20 D＝−129.03（DMF Ｃ＝1.12）〕およびｄ
―シス―２―（４―メトキシフエニル）―３―
アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチア
ゼピン―４（5H）―オン〔旋光度〔α〕20 D＝＋
117.53（DMF Ｃ＝0.47）〕を得る。
工程を経てｌ―シス―２―（４―メトキシフエ
ニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチル
アミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５―
ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン〔旋光度
〔α〕20 D＝−129.03（DMF Ｃ＝1.12）〕およびｄ
―シス―２―（４―メトキシフエニル）―３―
アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエチ
ル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチア
ゼピン―４（5H）―オン〔旋光度〔α〕20 D＝＋
117.53（DMF Ｃ＝0.47）〕を得る。
(5) dl―シス―２―（４―メトキシフエニル）―
３―アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエ
チル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチ
アゼピン―４（5H）―オン4.2gを酢酸エチル40
mlに溶解し、ｌ―10−カンフアスルホン酸1.3g
を加えて、水浴にて加熱すると、ｌ―10―カン
フアスルホン酸が溶解し、ただちに難溶性のジ
アステレオアイソマーが析出しはじめる。これ
をさらに水浴にて15分間加熱し、熱時に結晶を
取すると、融点236−240℃を示すｄ―シス―
２―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキ
シ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オン・ｌ―10―カンフアスルホン酸塩
2.6gを得る。
３―アセトキシ―５―（２―ジメチルアミノエ
チル）―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチ
アゼピン―４（5H）―オン4.2gを酢酸エチル40
mlに溶解し、ｌ―10−カンフアスルホン酸1.3g
を加えて、水浴にて加熱すると、ｌ―10―カン
フアスルホン酸が溶解し、ただちに難溶性のジ
アステレオアイソマーが析出しはじめる。これ
をさらに水浴にて15分間加熱し、熱時に結晶を
取すると、融点236−240℃を示すｄ―シス―
２―（４―メトキシフエニル）―３―アセトキ
シ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オン・ｌ―10―カンフアスルホン酸塩
2.6gを得る。
本品を５％炭酸水素ナトリウム水溶液25mlに
溶解し、析出する油状物を酢酸エチルで抽出
後、酢酸エチル層を５％炭酸水素ナトリウム水
溶液、ついで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後減圧留去し、残留する油を
イソプロピルアルコールに溶解したのち、塩酸
で処理すると、融点211−215℃を示すｄ―シス
―２―（４―メトキシフエニル）―３―アセト
キシ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―４（5H）―オン・塩酸塩の無色結晶1.7gを得
る。
溶解し、析出する油状物を酢酸エチルで抽出
後、酢酸エチル層を５％炭酸水素ナトリウム水
溶液、ついで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後減圧留去し、残留する油を
イソプロピルアルコールに溶解したのち、塩酸
で処理すると、融点211−215℃を示すｄ―シス
―２―（４―メトキシフエニル）―３―アセト
キシ―５―（２―ジメチルアミノエチル）―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―４（5H）―オン・塩酸塩の無色結晶1.7gを得
る。
旋光度 〔α〕20 D＝＋117.89℃（H2O Ｃ＝
0.984） (6) アセトン５mlにｌ―カンフアスルホン酸アン
モニウム0.33gと濃塩酸0.1mlを加え水浴中で10
分間加熱した後、dl―シス―２―（４―メトキ
シフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン
1.0gを加えて10分間加熱還流後、一夜放冷し、
ジアステレオアイソマーの結晶を取し、(5)と
同様の方法でｄ―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン・塩酸塩
0.23gを得る。
0.984） (6) アセトン５mlにｌ―カンフアスルホン酸アン
モニウム0.33gと濃塩酸0.1mlを加え水浴中で10
分間加熱した後、dl―シス―２―（４―メトキ
シフエニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジ
メチルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―
１，５―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン
1.0gを加えて10分間加熱還流後、一夜放冷し、
ジアステレオアイソマーの結晶を取し、(5)と
同様の方法でｄ―シス―２―（４―メトキシフ
エニル）―３―アセトキシ―５―（２―ジメチ
ルアミノエチル）―２，３―ジヒドロ―１，５
―ベンゾチアゼピン―４（5H）―オン・塩酸塩
0.23gを得る。
融点 210−214℃
旋光度 〔α〕20 D＝＋116.68（H2O Ｃ＝0.51）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （但し、R1、R2及びR3は低級アルキル基を表
す。） で示される２―（４―低級アルコキシフエニル）
―５―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕
―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―３，４（5H）―ジオンに水素化ホウ素化合物、
低級アルカン酸無水物および酸を、非プロトン性
溶媒中にて、順次作用させて一般式 （但し、R4は低級アルキル基を表し、R1、R2
及びR3は前記と同一意味を有する。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを得、所望によりこれを光学分割し
てｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級アルコキ
シフエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５
―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
４（5H）―オンまたはその酸付加塩を得ることを
特徴とするベンゾチアゼピン誘導体の製造法。 ２ 一般式 （但し、R1、R2、R3及びR4は低級アルキル基
を表す。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを有機溶媒中、光学活性有機酸と作
用させ、ｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級ア
ルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオキ
シ―５―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル〕―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オン・有機酸塩を選択的に晶出
せしめ、次いで固相もしくは液相から光学活性ｄ
もしくはｌ―シス―２―（４―低級アルコキシフ
エニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを得る特許請求の範囲第１項記載の
製造法。 ３ 一般式 （但し、R1、R2及びR3は低級アルキル基を表
す。） で示される２―（４―低級アルコキシフエニル）
―５―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕
―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン
―３，４（5H）―ジオンまたはその酸付加塩に水
素化ホウ素化合物、低級アルカン酸無水物および
酸を、少量の水の存在下、非プロトン性溶媒中に
て、順次作用させて一般式 （但し、R4は低級アルキル基を表し、R1、R2
及びR3は前記と同一意味を有する。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを得、所望によりこれを光学分割し
てｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級アルコキ
シフエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５
―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
４（5H）―オンまたはその酸付加塩を得ることを
特徴とするベンゾチアゼピン誘導体の製造法。 ４ 一般式 （但し、R1、R2、R3及びR4は低級アルキル基
を表す。） で示されるdl―シス―２―（４―低級アルコキシ
フエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５―
〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―２，
３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―４
（5H）―オンを有機溶媒中、光学活性有機酸と作
用させ、ｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級ア
ルコキシフエニル）―３―低級アルカノイルオキ
シ―５―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチ
ル〕―２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼ
ピン―４（5H）―オン・有機酸塩を選択的に晶出
せしめ、所望により固相もしくは液相から光学活
性ｄもしくはｌ―シス―２―（４―低級アルコキ
シフエニル）―３―低級アルカノイルオキシ―５
―〔２―ジ（低級アルキル）アミノエチル〕―
２，３―ジヒドロ―１，５―ベンゾチアゼピン―
４（5H）―オンを得る特許請求の範囲第３項記載
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13183382A JPS5920273A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13183382A JPS5920273A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5920273A JPS5920273A (ja) | 1984-02-01 |
| JPS6324511B2 true JPS6324511B2 (ja) | 1988-05-20 |
Family
ID=15067159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13183382A Granted JPS5920273A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5920273A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6110979A (ja) * | 1985-05-17 | 1986-01-18 | Mitsubishi Electric Corp | インバ−タの制御方法 |
| JPH0645611B2 (ja) * | 1985-08-01 | 1994-06-15 | 田辺製薬株式会社 | １，５―ベンゾチアゼピン誘導体の製法 |
| IT1237526B (it) * | 1989-12-06 | 1993-06-08 | Zambon Spa | Processo di preparazione di un intermedio per il diltiazem |
| IL104275A (en) * | 1992-01-10 | 1998-04-05 | Tanabe Seiyaku Co | Process for preparing optically active benzothiazepine compounds by asymmetric reduction |
| JP2646521B2 (ja) * | 1992-01-10 | 1997-08-27 | 田辺製薬株式会社 | 不斉還元法による光学活性ベンゾチアゼピン類の製法 |
| US5705638A (en) * | 1995-12-05 | 1998-01-06 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Process for preparing optically active 3-hydroxy-1,5-benzothiazepine derivative and intermediate therefor |
| US6838810B1 (en) | 1997-03-21 | 2005-01-04 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Flat-panel display mounting system for portable computer |
| KR100218581B1 (ko) | 1997-04-08 | 1999-09-01 | 구자홍 | 액정표시장치를 가지는 휴대용 컴퓨터 |
| CN100463904C (zh) * | 2006-08-15 | 2009-02-25 | 宁波工程学院 | 地尔硫卓中间体的制备方法 |
-
1982
- 1982-07-27 JP JP13183382A patent/JPS5920273A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5920273A (ja) | 1984-02-01 |
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