JPS63246357A - 低ジオキサン含量のアルキルエ−テル硫酸塩ならびにリン酸塩の製造法 - Google Patents

低ジオキサン含量のアルキルエ−テル硫酸塩ならびにリン酸塩の製造法

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JPS63246357A
JPS63246357A JP8009587A JP8009587A JPS63246357A JP S63246357 A JPS63246357 A JP S63246357A JP 8009587 A JP8009587 A JP 8009587A JP 8009587 A JP8009587 A JP 8009587A JP S63246357 A JPS63246357 A JP S63246357A
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alkyl ether
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polyoxyethylene alkyl
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JP8009587A
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Yoshimasa Sasa
佐々 嘉正
Tadaaki Fujita
藤田 忠彰
Shigeyuki Miyamoto
宮本 茂之
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Kao Corp
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Kao Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ジオキサン含量の少ないポリオキシエチレン
アルキルエーテル硫酸塩ならびにリン酸塩の製造法に関
する。さらに詳しくは、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテルを常法により硫酸化あるいはリン酸化したのち、
薄膜状に流し該硫酸化物あるいはリン酸化物中に含有す
る1、4−ジオキサンを蒸発させ、ひき続き、直ちに中
和することを特徴とする1、4−ジオキサン含量のきわ
めて少ないポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩
ならびにリン酸塩の新規な製造法に関する。
〔従来の技術及びその問題点〕
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩およびリン
酸塩は液体洗浄剤、シャンプー、医薬、化粧品用界面活
性剤として広く一般に使用されている。その中で、炭素
数8〜20の直鎖あるいは分岐鎖のアルキル基を有し、
エチレンオキシドの付加モル数が1〜20であるものを
基体とするエーテル硫酸塩ならびにリン酸塩が特に有用
である。
その製法としては、天然又は合成アルコールのエチレン
オキシド付加生成物を常法、例えばクロルスルホン酸ま
たは三酸化硫黄との反応により硫酸化、あるいは五酸化
リン、オキシ塩化リン又はポリリン酸との反応によりリ
ン酸化したのち、アルカリ金属、水酸化アンモニウム、
アルカノールアミン等で中和する方法が知られている。
ところが、上述の方法によるポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸塩あるいはリン酸塩の製造においては、
常に副生物として1.4−ジオキサンが生じ、方法条件
により異なるが工業的規模で製造したポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル硫酸塩中には有効分に対し通常50
〜3000ppmの1.4−ジオキサンが含有されてお
り、また、リン酸塩中には10〜1100ppの1.4
−ジオキサンが含有されている。
1.4−ジオキサンについては10数年前より毒物学的
な研究がなされている。それによれば、動物実験におい
て極端に高い投与量ではじめて健康上の障害が観察され
た。従って、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩の加工および使用に際しては直接の危険性等は全く起
こりえないであろうけれども、界面活性剤の製造者ある
いは使用者においては、出来うる限り1,4−ジオキサ
ン含量の少ない、またはほとんど無いポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル硫酸塩ならびにリン酸塩の製造法の
開発に関心が持たれていた。
〔問題点を解決するための手段〕 そこで、本発明者らは、操作的にも煩雑でなく、経済的
に安価なジオキサンの低減化方法を開発すべく、鋭意研
究した結果、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
を常法により硫酸化あるいはリン酸化し、得られた反応
生成物を50℃以下、減圧ないし不活性ガス気流下に薄
膜蒸発させたのち、中和することを特徴とする低ジオキ
サン含量のアルキルエーテル硫酸塩ならびにリン酸塩の
製造法を提供するものである。
低ジオキサン含量のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸塩の製造法としては、硫酸化反応生成物を中和し
て得られる中和物(硫酸塩)溶液を共沸蒸留することに
よって1.4−ジオキサンを低減させる方法が提案され
ている(特開昭57−116062号公i)。
中和物から1,4−ジオキサンを除去する場合、該中和
物の粘度特性から、通常、中和物濃度が30重量%以下
あるいは50〜80重量%の範囲の水溶液で処理される
。しかしながら、上記の方法では、前者は1.4−ジオ
キサンを除去する際に発泡が激しく、また、後者はその
濃度範囲では粘度が極めて高く、共に操作が煩雑かつ困
難なものとなる。しかも、1,4−ジオキサンを共沸蒸
留で除去するため、同時に水を蒸発させることが不可欠
であり、熱エネルギー的にも設備的にも負荷が大きく十
分満足できる方法ではなかった。
従来、1.4−ジオキサンの分離除去をポリオキシエチ
レンアルキルエーテル硫酸化物あるいはリン酸化物の段
階で行うことは不可能と考えられていた。
それは、硫酸化物あるいはリン酸化物は熱的に非常に不
安定な物質であり、この段階で1,4−ジオキサンの除
去を行おうとすれば、却ってその間に熱分解により、1
,4−ジオキサンが多量に副生してしまうからである。
ところが、本発明者らは、従来不可能とされていたポリ
オキシエチレンアルキルエーテルの硫酸化物あるいはリ
ン酸化物からの1.4−ジオキサンの低減をある特定さ
れた条件下、即ち、温度50℃以下、減圧ないし不活性
ガス気流下で薄膜蒸発することにより行ったところ、意
外にもポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸化物あ
るいはリン酸化物の分解による1、4−ジオキサンの生
成がほとんど無く、1.4−ジオキサンが効率的に除去
(蒸発)され、結果として1,4−ジオキサンが大幅に
、極めて効率よく低減されることを見出し、本発明を完
成したものである。
上述したごとく、本発明はアルキルエーテル硫酸化物又
はリン酸化物を中和する前の状態で、50℃以下、減圧
ないし不活性ガス気流中で薄膜蒸発させることに最大の
特徴を有する。
50℃以下でないと熱分解による1、4−ジオキサンの
副生が多くなりジオキサンの低減が図れない。好ましく
は40℃以下である。50℃以下といっても当然のこと
ながら硫酸化物やリン酸化物の融点以上であることが必
要である。通常、これらの融点は10℃前後である。従
って、温度としては10〜50℃、好ましくは20〜4
0℃である。
圧力は低いほど好ましく 、300 關Hg以下、より
好ましくは100 mm l g以下である。
不活性ガスの気流下に蒸発を行うと1.4−ジオキサン
の蒸発が促進される。この際不活性ガス気流を、薄膜を
形成した硫酸化物又はリン酸化物に対し向流、並流、直
角、いずれの形態で流しても有効である。不活性ガスと
しては硫酸化物やリン酸化物に対し反応性を有しないも
のであれば酸性ガスであっても何でもよいが、好ましく
は窒素、空気などである。
また、減圧に保ちながら不活性ガスを通すと、より有効
に1.4−ジオキサンの低減が行われる。
この場合には減圧の程度もそれ程低(な(てもよい。
薄膜の厚さは薄い程好ましいが、特に限定されるもので
なく、ジオキサンの低減の程度により任意に選ぶことが
出来る。通常重版されている薄膜蒸発装置で得られる程
度で十分である。
薄膜を形成する装置としては、通常の薄膜式蒸発機が使
用できる0例えば、スミス式薄膜蒸発機(神鋼ファウド
ラー■製)、日立コントロ装置(■日立製作断裂)、ル
ーワ薄膜式蒸発機(ルーワ社製)等があげられる。これ
らはいずれも、強制的に薄膜を形成させる装置であるが
、流下薄膜式等の自然薄膜形成型の装置も使用できる。
本発明で使用されるポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルとしては下記一般式(I)で表される化合物が挙げら
れる。
RO+ CHzCHzO+lH・・・(1)(式中、R
は炭素数8〜20の直鎖または分岐鎖アルキル基、ある
いは炭素数4〜14の直鎖または分岐鎖アルキル基を有
するアルキルフェニル基であり、nは1〜20である。
) 本発明で使用する硫酸化剤としては、ガス状のS03お
よびCl5O,l(があり、又、リン酸化剤としては、
p、o、、ポリリン酸、オキシ塩化リン等が用いられる
本発明において中和剤としては、苛性ソーダ、苛性カリ
、水酸化アンモニウム、又は、アルカノールアミン等が
用いられる。アルカノールアミンとしては、モノエタノ
ールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミ
ンなどの通常のアミン塩として使用されるものは全て使
用できる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を示すが、本発明は、これらの実
施例に限定されるものではない。
実施例1 ポリオキシエチレン(2,5モル)ラウリルエーテルを
出発原料として、特開昭53−90219号公報に開示
されている方法で硫酸化して得られた硫酸化物をスミス
薄膜式蒸発機(神鋼ファウドラー■製、 0.032 
rrr)で30℃、limHgの条件下で薄膜蒸発した
。処理後、5分以内に1.2%苛性ソーダ水溶液で中和
した。なお、Ntは吹き込まなかった。
製造条件及び結果を表1にまとめて示す。
実施例2 実施例1と同じ硫酸化物を、スミス薄膜蒸発機(0,0
32nf)でN8を吹き込みながら25℃、13富mH
gの条件下で薄膜蒸発を行い、その後、5分以内に1.
2%苛性ソーダ水溶液で中和した。
製造条件及び結果を表1にまとめて示す。
実施例3 ボ゛リオキシエチレン(3,0モル)ラウリルエーテル
と五酸化リンとをモル比−3:1の割合で反応させて得
られたリン酸化物を実施例1と同じスミス薄膜式蒸発機
にNtを吹き込みながら40’c、 18mHgの条件
下で薄膜蒸発し、その後5分以内に1.1%苛性ソーダ
水溶液で中和した。
製造条件及び結果を表1にまとめて示す。
比較例1 温度を80℃、圧力100 wHgにする以外実施例1
と同様の操作を行った。
製造条件及び結果を表1にまとめて示す。
比較例2〜3 実施例1と同じ硫酸化物を17%苛性ソーダ水溶液で中
和して得られたアルキルエーテル硫酸塩水溶液<tS度
65重量%)を、スミス薄膜式蒸発機を用い、40℃/
20龍Hg、および80℃/100mHgの条件下に薄
膜蒸発を行った。
製造条件及び結果を表1にまとめて示す。
比較例4 実施例1と同じ硫酸化物を1.2%苛性ソーダ水溶液で
中和して得られたアルキルエーテル硫酸塩水溶液(濃度
10重量%)を、実施例1と同様の条件で薄膜蒸発を行
った。装置内での発泡が激しく、操作に多大の注意を要
した。蒸発後の有効分濃度は11.8%で、有効分に対
し1.5倍の水分が蒸発していた。
製造条件及び結果を表1にまとめて示す。
実施例4 ポリオキシエチレン(2,5モル)ラウリルエーテルを
クロルスルホン酸で硫酸化して得られた硫酸化物(ジオ
キサン濃度120ppm(有効分当り))を実施例2と
同様の条件で薄膜蒸発を行った。
処理物のジオキサン濃度は10ppm (有効分当り)
となっていた。
〔発明の効果〕
本発明によれば、1,4−ジオキサンを蒸発除去する際
、水の存在を必要としないため、泡立ちが全くなく、又
、薄膜状で、比較的低温低圧で処理し、更に、ひき続き
直ちに中和することにより、熱分解による1、4−ジオ
キサンの副生が抑えられ、しかも含有する1、4−ジオ
キサンの蒸発効率が良好であるため、従来の方法に比較
し、安価な処理コストで、低ジオキサン含量のポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸塩ならびにリン酸塩を
製造することができる。1゜4−ジオキサンの蒸発によ
り、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩ならび
にリン酸塩中の1.4−ジオキサンを、条件により、硫
酸塩では約95%、リン酸塩では約100%除去するこ
とができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ポリオキシエチレンアルキルエーテルを常法により
    硫酸化あるいはリン酸化し、得られた反応生成物を50
    ℃以下、減圧ないし不活性ガス気流下に薄膜蒸発させた
    のち、中和することを特徴とする低ジオキサン含量のア
    ルキルエーテル硫酸塩ならびにリン酸塩の製造法。
JP8009587A 1987-04-01 1987-04-01 低ジオキサン含量のアルキルエ−テル硫酸塩ならびにリン酸塩の製造法 Pending JPS63246357A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103356408A (zh) * 2013-08-06 2013-10-23 珀莱雅化妆品股份有限公司 一种不含硫酸盐及二恶烷的调理香波组合物
US8865928B2 (en) 2012-10-08 2014-10-21 The Chemithon Corporation Process for removing dioxane from a composition

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