JPS63250099A - X線露光装置 - Google Patents

X線露光装置

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Publication number
JPS63250099A
JPS63250099A JP62083309A JP8330987A JPS63250099A JP S63250099 A JPS63250099 A JP S63250099A JP 62083309 A JP62083309 A JP 62083309A JP 8330987 A JP8330987 A JP 8330987A JP S63250099 A JPS63250099 A JP S63250099A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnet
electromagnets
electron
ring
ray exposure
Prior art date
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Pending
Application number
JP62083309A
Other languages
English (en)
Inventor
本荘 一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔(既習〕 電子蓄積リング内の偏向電磁石の位置においてのみ軌道
面を上下に揺動することにより、揺動する波の節から腹
にかけて、あるいは腹から節にかけての部分(すなわち
、節を含んだその近傍の部分)が必ず発光部である偏向
電磁石の位置にくるようにして、これにより確実に放射
光の照射野を拡大でき、かつリングの構造全体に影響を
与えないで露光面積の大きい、X線源をもつ露光装置が
得られる。
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体基板上に微細回路パターンをシンクロト
ロン放射光(SOR)を用いて転写するX線露光装置に
関する。
電子蓄積リングはサブミクロンの超微細リソグラフィに
必要な高輝度X線露光光源として用いられている。
超高真空に保たれた電子蓄積リングを電子ビームは何時
間も回り続け、放射光はリングに設けられた偏向電磁石
の位置でほぼ光速で走る電子ビームが偏向されることで
発せられ、露光用X線源として利用される。
X線露光は次期超νLSIの製造プロセスに利用できる
ように技術開発が進められている。
〔従来の技術〕
第3図は従来例によるビームの軌道を上下に波打たせる
電子波動法により、SOR照射野を拡大して露光面積の
拡大をはかった装置を説明する斜視図である。
図において、電子蓄積リングのビーム軌道面に垂直な方
向へのシンクロトロン放射光の拡がりは小さいため、図
示のように放射光はビーム軌道面内に強い指向性をもつ
、薄い平面状の光となり、従来の照射野は横長に偏平で
、電子エネルギが高くなる程縦幅が細(なり大面積露光
が困難であった。
電子エネルギが約I GeVのとき、発光点から10m
1llれると光の幅は約l cm となるが、ウェハに
露光するためにはこの光を拡げるか、あるいは走査する
手段をとらねばならない。
そこで、この困難を克服するために電子波動リングが提
起されている1)。
1)真空;第29巻 第7号(1986) 、 p30
3゜電子波動リングはビーム軌道を上下に波打たーヒる
ことにより露光面積を数倍以」二に拡げ、大面積露光を
可能とするものである。
このために、電子蓄積リングの1箇所に、電子ビーム軌
道を揺動(摂動)させる電磁石を設けて水平方向に微小
磁場をかけると、閉軌道は全周にわたって垂直方向に波
打つように歪められる。
すなわち、電子ビームは垂直方向に摂動を受けて安定軌
道の回りに波動する。波動の振幅は摂動磁場の強度に比
例し、波動の節は動かない。波動の節から放射されるシ
ンクロトロン放射光の照射角は摂動磁場を変化させるこ
とにより第3図のように垂直方向に変化できるので、従
来のSORに比べて1桁近い照射野の拡大と、均一な露
光が可能となる。従って、波動の節近くから放射される
シンクロトロン放射光がりソグラフィに最も適している
。
このようにして、電子は図示のように波打つ変形閉軌道
を周回することにより、放射光の照射野は拡大される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記の従来方法によると、つぎのような問題点を生ずる
。
■ 閉軌道の歪はリング全周に生じ、リング内の偏向電
磁石以外の非発光部分において、この歪が偏向電磁石で
発生する歪より大きくなる可能性があり、この歪を許容
できる機構にしなければならない。例えば、リングの真
空チャンバの内径の拡大、4極電磁石の有効磁場勾配領
域の拡大等が必要となる。
■ 閉軌道の歪はビーム軌道の中心軸に対し波打つよう
に生ずるが、この波の数は偏向電磁石の数と同しになる
とは限らず、従って波の節から腹にかけて、あるいは腹
から節にかけての部分が偏向電磁石の位置にできるとは
限らない。
〔問題点を解決するだめの手段〕
上記問題点の解決は、周回電子ビームの閉軌道を、偏向
電磁石の位置付近においてのみ、ビーム軌道面に対して
垂直方向に歪ませる機構をもつ電子蓄積リングを有し、
該電子蓄積リングより発するシンクロトロン放射光を用
いるX線露光装置により達成される。
前記ビーム軌道面を垂直方向に歪ませる機構が、電子蓄
積リング内に配置され、かつ直流電流で駆動されるステ
アリング用電磁石に交流電流を重畳して構成することが
できる。
〔作用〕
本発明は電子蓄積リング内の偏向電磁石の位置付近にお
いてのみ軌道面を上下に揺動するもので、これによりリ
ングの構造全体に影舌を与えないで、かつ揺動する波の
節から腹にかけて、あるいは腹から節にかけての部分が
必ず発光部である偏向電磁石の位置にくることを利用し
て、確実に放射光による露光面積を拡大するものである
。
第1図(1)、(2)は本発明を説明する原理図で、そ
れぞれ垂直面内のビーム軌道と、これに対応する電磁石
の配置を示す。
図において、1は偏向電磁石で、2八、2B、2Cはビ
ーム閉軌道を歪ませる電磁石である。
電磁石録の位置で上方に曲げられた電子は、電磁石2B
だ4.1で、もしくは電磁石2B、2Cにより元の軌道
に戻る。このとき、電磁石2Aの位置での曲げ角θが数
mradであれば、10 m先では光はビーム軌道面か
ら数cmの位置にくる。
従って、電磁石2Δ、2B、2Cに、相互に同期させて
振動磁場を与えると、シンクロトロン放射光の照射野は
10「先で数cmの幅に拡大される。露光エリアは現在
では30〜40 mm角といわれているのでこの面積を
十分カバーできる。
以上の電磁石2八、2B、2Cの組を、すべての偏向電
磁石に付加すると、偏向電磁石付近でのみ閉軌道の歪を
つくり、リングの偏向電磁石以外の領域には閉軌道の歪
の影響がないようにすることは可能となる。
〔実施例〕
第2図(1)〜(3)は本発明の詳細な説明する電子蓄
積リングの平面図と、ビーム閉軌道の斜視図である。
第2図(11において、ビーム閉軌道を歪ませる電磁石
2Δ、2B、2Cには、ビームの垂直方向のステアリン
グに用いる電磁石を用いる。
■) ステアリングのためには、この電磁石に直流電流
を流しておき、振動磁場発生のために数〜数10 fi
zの交流電流を重畳して流す。
この場合のビーム閉軌道の斜視図は第2図(2)のよう
になる。
2) また、リングが大きく偏向電磁石以外のリングの
直線部に余裕があるときは、電磁石2A、 2B、2C
の組を用いてもよいが、リングを小さくするには電磁石
2B、20間の距離を縮める必要があり、そのため電磁
石2B、2Cが強くなり過ぎる可能性がある。
そこで、電磁石2Cとつぎの偏向電磁石用の電磁石2A
とを共用できれば、電磁石2Bと2C間の距離は縮める
必要がなくなり、電磁石2B、2Cともにその磁場の強
さは弱くてすむ。
ここで、問題となるのが電磁石2Aと2Cを1つの電磁
石で共有することで閉軌道の歪がリング全周にわたって
発生することである。
しかし、第1図において、θが数mradであり、偏向
電磁石が数mの長さであるので、hは数mmにしかなら
ず、振動磁場によって発生する閉軌道の歪も、全周にわ
たって高々数mmにしかならないので、真空チャンバや
、4極電磁石の有効磁場勾配領域を拡大する必要はない
。
この場合のビーム閉軌道の斜視図は第2図(3)のよう
になる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、閉軌道の歪を小さ
く抑え、かつ揺動する波の節から腹にかけて、あるいは
腹から節にかけての部分が必ず発光部である偏向電磁石
の位置にくるため、効率よく確実に放射光の照射野を拡
大することができるようになる。
従って、大面積露光を可能とするX線源をもつ露光装置
が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図(11、(2)は本発明を説明する原理図、第2
図!11〜(3)は本発明の詳細な説明する電子蓄積リ
ングの平面図と、ビーム閉軌道の斜視図、第3図は従来
例によるビームの軌道を上下に波釘たせる電子波動法に
より、SOR照射野を拡大して大面積露光を可能とする
装置を説明する斜視図である。 図において、 ■は偏向電磁石、

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)周回電子ビームの閉軌道を、偏向電磁石の位置に
    おいてのみ、ビーム軌道面に対して垂直方向に歪ませる
    機構をもつ電子蓄積リングを有し、該電子蓄積リングよ
    り発するシンクロトロン放射光を用いることを特徴とす
    るX線露光装置。
  2. (2)前記ビーム軌道面を垂直方向に歪ませる機構が、
    電子蓄積リング内に配置され、かつ直流電流で駆動され
    るステアリング用電磁石に交流電流を重畳して構成され
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のX線露
    光装置。
JP62083309A 1987-04-03 1987-04-03 X線露光装置 Pending JPS63250099A (ja)

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JP62083309A JPS63250099A (ja) 1987-04-03 1987-04-03 X線露光装置

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JP62083309A JPS63250099A (ja) 1987-04-03 1987-04-03 X線露光装置

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JPS63250099A true JPS63250099A (ja) 1988-10-17

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JP62083309A Pending JPS63250099A (ja) 1987-04-03 1987-04-03 X線露光装置

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