JPS63262404A - 熱間静水圧加工方法 - Google Patents

熱間静水圧加工方法

Info

Publication number
JPS63262404A
JPS63262404A JP62096176A JP9617687A JPS63262404A JP S63262404 A JPS63262404 A JP S63262404A JP 62096176 A JP62096176 A JP 62096176A JP 9617687 A JP9617687 A JP 9617687A JP S63262404 A JPS63262404 A JP S63262404A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hip
green compact
hydrostatic pressure
pressure processing
hot hydrostatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62096176A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroo Tsuchiya
弘雄 土屋
Toshifumi Yoshii
吉井 敏文
Masataka Sugano
菅野 正崇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP62096176A priority Critical patent/JPS63262404A/ja
Publication of JPS63262404A publication Critical patent/JPS63262404A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は各種の金属、セラミックス材料の熱間静水圧
加工(以下HI Pという)法の改良に関するものであ
る。
[従来の技術] HIP法は各種の金属、セラミックス材料の熱間加圧、
焼結法として用いられている。この方法では次のような
場合に、処理する材料を適当なアンプルの中に通常は真
空下で封入する。
■ 材料が多孔質で試料内部の空泡が外部の大気とつな
がっており、HIPによる加圧処理効果が望めない場合
■ 材料が高温で分解し自身が変質したりHIP装置内
を汚染する場合。
■ 材料が周囲の環境のため汚染されるおそれがある場
合。
そして、アンプルの素材としては、材料を加圧、加熱す
る条件において十分に柔軟性があり、かつ処理する材料
の表面と接着や反応をしないものを選ぶ必要がある。例
えばパイレックスガラスなどが使用されている。
[発明が解決しようとする問題点] 上記従来の方法では次のような問題がある。
■ 材料のアンプル封入に手間がかかる。
■ 材料の形状が複雑な場合、そのアンプル内への封入
が困難となる。
■ HI P法のための昇温、昇圧時にアンプルが破損
しやすい。
■ 処理後の冷却時に材料とアンプルの熱膨張率の差の
ため材料が破損する。
この発明はこのような問題点を解決せんとするものであ
る。
[問題点を解決するため手段] この発明は、被処理材料表面を金属膜で被覆し、これを
熱間静水圧装置に入れて加圧加熱することを特徴とする
熱間静水圧加工方法である。
上記金属膜の被覆は、電気メッキ、無電解メッキ、さら
には蒸着、スパッタリング、塗装、CVD法あるいはこ
れらの組合せにより行う。
これらの方法によって、金属膜を形成するには、膜の成
分、作成法について下記の諸点について考慮する必要が
ある。
■ HI P処理の温度において、膜成分と被処理材料
とが反応し難いこと。
■ 得られる膜が緻密でピンホールがなく、かつ柔軟で
展性に富むものであること。
■ 膜が被処理材料に密着し、被処理材料との界面に吸
着水、気泡などが含まれないこと。
■ 皮膜形成段階において、被処理材料が変質したり汚
染されたりしないこと。
上記方法のうち、力学的な強度を有するだけの厚さの金
属膜をつくるには、電気メッキ、無電解メッキが最も適
している。他の方法も単独で上記諸条件を満足すること
は可能で必る。これらの方法はメッキの前に材料表面に
あらかじめ導電性の膜を形成することや、被膜と材料と
の間に両者の反応を防止するための中間層を形成する等
の補助手段として、電気メッキや無電解メッキと併用す
ることもできる。
この発明で処理の対象となる材料は、従来HIP処理の
対象とされていた材料およびHIP処理の可能性のある
材料がすべて該当する。−例を挙げれば一般のセラミッ
クス類の他にグラッシーカーボン(内部に気泡を含みか
つハイドロカーボンなどのガスを加熱時に発する場合)
、揮発性酸化物(P40+oS303等)を含むAlP
O4などの酸化物セラミック、Zn5eなどが挙げられ
る。又、金属膜としてはALJ、pt、N r 、Ag
など前述の諸条件を満足するものを、被処理材料との関
係において適宜選択して用いる。
[実施例] 8n1m角のZn5e多結晶体に通常の無電解メッキ法
により10μm厚のNi膜を形成した。これをArガス
雰囲気下でHIP装置により1000℃、1000に!
llf/Cm2で1時間加熱、加圧処理した。処理後の
表面被膜にはひび割れ、穴はなく、またZn5e自体に
もひびは入らなかった。
このものは材料内部の光散乱、光吸収が減少して、光学
的特性が向上した。
[発明の効果] この発明ではHIM理にあたっての材料のアンプル封入
等の予備作業の手間がなくなり、又、複雑な形状の材料
でも表面を自由に被覆できるので、材料の形状による制
約がない。メッキ法によって設けた金属膜は、薄く柔軟
で伸展性をもち、また、膜が材料表面に密着している。
このため、HIP処理における昇温、冷却の間も金属膜
は材料に密着した状態を保ち、かつ材料に歪を与えるこ
とがない。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被処理材料表面を金属膜で被覆し、これを熱間静
    水圧装置に入れて加圧加熱することを特徴とする熱間静
    水圧加工方法。
  2. (2)金属膜の被覆は電気メッキ、無電解メッキあるい
    はこれらの組合せ、さらには蒸着、スパッタリング、塗
    装、CVD法との組合せにより行う特許請求の範囲第(
    1)項記載の熱間静水圧加工方法。
JP62096176A 1987-04-21 1987-04-21 熱間静水圧加工方法 Pending JPS63262404A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62096176A JPS63262404A (ja) 1987-04-21 1987-04-21 熱間静水圧加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62096176A JPS63262404A (ja) 1987-04-21 1987-04-21 熱間静水圧加工方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63262404A true JPS63262404A (ja) 1988-10-28

Family

ID=14158016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62096176A Pending JPS63262404A (ja) 1987-04-21 1987-04-21 熱間静水圧加工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63262404A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4710428A (en) Sintered silicon carbide porous body impregnated with metallic silicon
US5024368A (en) Stopping-off method for use with diffusion bonding
JPH0686337B2 (ja) 粉末成形品の脱脂方法
US3637435A (en) Metallizing process for glass-free ceramics bodies
JPS62114205A (ja) 厚膜電気部品の製造方法
US4322458A (en) Molded ceramic member, particularly of silicon ceramic, and method for the manufacture thereof
US6054187A (en) Method of manufacturing a boron carbide film on a substrate
JP2550157B2 (ja) 粉末の被覆方法および被覆装置
JP2527666B2 (ja) ガラス状炭素被覆物品
US3985919A (en) Vapor deposition of cermet layers
JPH0649946B2 (ja) 管状部材の製造方法
SU1475973A1 (ru) Способ получени покрытий
JPS58115033A (ja) 多孔質ガラス体の焼結方法
JPH04168277A (ja) 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
EP4378912A1 (en) Freestanding ceramic tile manufacture
JPH0692761A (ja) CVD−SiCコートSi含浸SiC製品およびその製造方法
RU2053210C1 (ru) Способ получения карбидокремниевого покрытия на углеграфитовых материалах
JPH03265585A (ja) 強化セラミックスとその製造方法
JPS6121190B2 (ja)
JPS63166954A (ja) セラミツクス部材成形方法
JPH04321511A (ja) 半導体用処理部材及びその製造方法
JPS59232273A (ja) 金属へのセラミツクコ−チング方法
JPH07187704A (ja) ガラスとの離型性に優れた熱分解炭素被覆炭素部材
JPS63151628A (ja) 光学素子成形用型
JPS62244123A (ja) 気相成長装置