JPS63262404A - 熱間静水圧加工方法 - Google Patents
熱間静水圧加工方法Info
- Publication number
- JPS63262404A JPS63262404A JP62096176A JP9617687A JPS63262404A JP S63262404 A JPS63262404 A JP S63262404A JP 62096176 A JP62096176 A JP 62096176A JP 9617687 A JP9617687 A JP 9617687A JP S63262404 A JPS63262404 A JP S63262404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hip
- green compact
- hydrostatic pressure
- pressure processing
- hot hydrostatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は各種の金属、セラミックス材料の熱間静水圧
加工(以下HI Pという)法の改良に関するものであ
る。
加工(以下HI Pという)法の改良に関するものであ
る。
[従来の技術]
HIP法は各種の金属、セラミックス材料の熱間加圧、
焼結法として用いられている。この方法では次のような
場合に、処理する材料を適当なアンプルの中に通常は真
空下で封入する。
焼結法として用いられている。この方法では次のような
場合に、処理する材料を適当なアンプルの中に通常は真
空下で封入する。
■ 材料が多孔質で試料内部の空泡が外部の大気とつな
がっており、HIPによる加圧処理効果が望めない場合
。
がっており、HIPによる加圧処理効果が望めない場合
。
■ 材料が高温で分解し自身が変質したりHIP装置内
を汚染する場合。
を汚染する場合。
■ 材料が周囲の環境のため汚染されるおそれがある場
合。
合。
そして、アンプルの素材としては、材料を加圧、加熱す
る条件において十分に柔軟性があり、かつ処理する材料
の表面と接着や反応をしないものを選ぶ必要がある。例
えばパイレックスガラスなどが使用されている。
る条件において十分に柔軟性があり、かつ処理する材料
の表面と接着や反応をしないものを選ぶ必要がある。例
えばパイレックスガラスなどが使用されている。
[発明が解決しようとする問題点]
上記従来の方法では次のような問題がある。
■ 材料のアンプル封入に手間がかかる。
■ 材料の形状が複雑な場合、そのアンプル内への封入
が困難となる。
が困難となる。
■ HI P法のための昇温、昇圧時にアンプルが破損
しやすい。
しやすい。
■ 処理後の冷却時に材料とアンプルの熱膨張率の差の
ため材料が破損する。
ため材料が破損する。
この発明はこのような問題点を解決せんとするものであ
る。
る。
[問題点を解決するため手段]
この発明は、被処理材料表面を金属膜で被覆し、これを
熱間静水圧装置に入れて加圧加熱することを特徴とする
熱間静水圧加工方法である。
熱間静水圧装置に入れて加圧加熱することを特徴とする
熱間静水圧加工方法である。
上記金属膜の被覆は、電気メッキ、無電解メッキ、さら
には蒸着、スパッタリング、塗装、CVD法あるいはこ
れらの組合せにより行う。
には蒸着、スパッタリング、塗装、CVD法あるいはこ
れらの組合せにより行う。
これらの方法によって、金属膜を形成するには、膜の成
分、作成法について下記の諸点について考慮する必要が
ある。
分、作成法について下記の諸点について考慮する必要が
ある。
■ HI P処理の温度において、膜成分と被処理材料
とが反応し難いこと。
とが反応し難いこと。
■ 得られる膜が緻密でピンホールがなく、かつ柔軟で
展性に富むものであること。
展性に富むものであること。
■ 膜が被処理材料に密着し、被処理材料との界面に吸
着水、気泡などが含まれないこと。
着水、気泡などが含まれないこと。
■ 皮膜形成段階において、被処理材料が変質したり汚
染されたりしないこと。
染されたりしないこと。
上記方法のうち、力学的な強度を有するだけの厚さの金
属膜をつくるには、電気メッキ、無電解メッキが最も適
している。他の方法も単独で上記諸条件を満足すること
は可能で必る。これらの方法はメッキの前に材料表面に
あらかじめ導電性の膜を形成することや、被膜と材料と
の間に両者の反応を防止するための中間層を形成する等
の補助手段として、電気メッキや無電解メッキと併用す
ることもできる。
属膜をつくるには、電気メッキ、無電解メッキが最も適
している。他の方法も単独で上記諸条件を満足すること
は可能で必る。これらの方法はメッキの前に材料表面に
あらかじめ導電性の膜を形成することや、被膜と材料と
の間に両者の反応を防止するための中間層を形成する等
の補助手段として、電気メッキや無電解メッキと併用す
ることもできる。
この発明で処理の対象となる材料は、従来HIP処理の
対象とされていた材料およびHIP処理の可能性のある
材料がすべて該当する。−例を挙げれば一般のセラミッ
クス類の他にグラッシーカーボン(内部に気泡を含みか
つハイドロカーボンなどのガスを加熱時に発する場合)
、揮発性酸化物(P40+oS303等)を含むAlP
O4などの酸化物セラミック、Zn5eなどが挙げられ
る。又、金属膜としてはALJ、pt、N r 、Ag
など前述の諸条件を満足するものを、被処理材料との関
係において適宜選択して用いる。
対象とされていた材料およびHIP処理の可能性のある
材料がすべて該当する。−例を挙げれば一般のセラミッ
クス類の他にグラッシーカーボン(内部に気泡を含みか
つハイドロカーボンなどのガスを加熱時に発する場合)
、揮発性酸化物(P40+oS303等)を含むAlP
O4などの酸化物セラミック、Zn5eなどが挙げられ
る。又、金属膜としてはALJ、pt、N r 、Ag
など前述の諸条件を満足するものを、被処理材料との関
係において適宜選択して用いる。
[実施例]
8n1m角のZn5e多結晶体に通常の無電解メッキ法
により10μm厚のNi膜を形成した。これをArガス
雰囲気下でHIP装置により1000℃、1000に!
llf/Cm2で1時間加熱、加圧処理した。処理後の
表面被膜にはひび割れ、穴はなく、またZn5e自体に
もひびは入らなかった。
により10μm厚のNi膜を形成した。これをArガス
雰囲気下でHIP装置により1000℃、1000に!
llf/Cm2で1時間加熱、加圧処理した。処理後の
表面被膜にはひび割れ、穴はなく、またZn5e自体に
もひびは入らなかった。
このものは材料内部の光散乱、光吸収が減少して、光学
的特性が向上した。
的特性が向上した。
[発明の効果]
この発明ではHIM理にあたっての材料のアンプル封入
等の予備作業の手間がなくなり、又、複雑な形状の材料
でも表面を自由に被覆できるので、材料の形状による制
約がない。メッキ法によって設けた金属膜は、薄く柔軟
で伸展性をもち、また、膜が材料表面に密着している。
等の予備作業の手間がなくなり、又、複雑な形状の材料
でも表面を自由に被覆できるので、材料の形状による制
約がない。メッキ法によって設けた金属膜は、薄く柔軟
で伸展性をもち、また、膜が材料表面に密着している。
このため、HIP処理における昇温、冷却の間も金属膜
は材料に密着した状態を保ち、かつ材料に歪を与えるこ
とがない。
は材料に密着した状態を保ち、かつ材料に歪を与えるこ
とがない。
Claims (2)
- (1)被処理材料表面を金属膜で被覆し、これを熱間静
水圧装置に入れて加圧加熱することを特徴とする熱間静
水圧加工方法。 - (2)金属膜の被覆は電気メッキ、無電解メッキあるい
はこれらの組合せ、さらには蒸着、スパッタリング、塗
装、CVD法との組合せにより行う特許請求の範囲第(
1)項記載の熱間静水圧加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62096176A JPS63262404A (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 熱間静水圧加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62096176A JPS63262404A (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 熱間静水圧加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63262404A true JPS63262404A (ja) | 1988-10-28 |
Family
ID=14158016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62096176A Pending JPS63262404A (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 熱間静水圧加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63262404A (ja) |
-
1987
- 1987-04-21 JP JP62096176A patent/JPS63262404A/ja active Pending
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