JPS63263627A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属磁性薄膜あるいは強磁性酸化物薄膜を記録
層とした磁気記録媒体及びその製造方法に係り、特に磁
気ヘッドとの摺動に対して優れた耐久力をもつ磁気ディ
スクや磁気テープなどの磁気記録媒体及びその製造方法
に関する。

〔従来の技術〕

強磁性金属簿膜あるいは金属酸化物簿膜を記録層とした
磁気記録媒体の保護膜としてホウ素膜を用いた例として
特願昭５９−２２１６８８がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ホウ素膜は硬度も高く緻密であることから、磁気ディス
クや磁気テープのように、磁気ヘッドと強く接触しなが
ら相対運動する磁気記録媒体の保護膜として優れた特性
をもっている。しかし膜の強度は強いものの、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きく、ヘッドと接触し動いてる時に
媒体とヘッドに対して過大な応力がかかり、媒体が破壊
されるとともに磁気ヘッドが摩耗するという問題点があ
った。

本発明の目的は上記した問題点を解決し、ホウ素膜の強
度を維持したまま、その摩擦係数を低減せしめ、媒体と
ヘッドに対して過大な応力がかかることを防ぎ１両者の
寿命を延ばすことにある。

【問題点を解決するための手段〕

上記目的は、ホウ素膜の表面を薄いホウ酸（ＨａＢＯａ
）の膜にすることにより、達成される。

〔作用〕

ホウ酸（ＨａＢＯａ）は三斜晶系の結晶構造を持ってお
り、ＨａＢＯａ分子同志が水素結合によって結ばれた層
状構造となっている。このように層状構造をもった物質
としてグラファイトがあるが。

それに代表されるように層状構造の物質は低い摩擦係数
をもつ優れた潤滑剤となる。したがってホウ素膜の最表
面を水蒸気の存在下において酸化するなどの方法でホウ
酸膜とすることにより媒体の摩擦係数を低下させ、媒体
と磁気ヘッドの寿命を延ばすことが可能となる。

〔実施例〕

以下、本発明の詳細を実施例によって説明する。

実施例１ 第１図に示したようにポリイミドフィルム１上に厚さ０
．３μｍ　、　Ｃｒ濃度２０重量％のＣｏ−Ｃｒ膜２を
真空蒸着法で被着形成した後、その表面に厚さ３０膜ｍ
のホウ素膜３を形成した。なおこの時Ｇｏ−Ｃｒ、Ｂと
もに基板温度を１５０℃とした。これを真空槽から取出
し、次に水蒸気の絶対湿度が５％の空気雰囲気中で３０
０℃に加熱し２０分間表面の酸化を行なった。媒体の表
面は白色となり、反射Ｘ線回折からホウ酸４によって覆
われていることを確認した。

次にこの試料を円板ディスク状に打ち抜き、以下の方法
で摩擦係数と、膜の摺動強度を測定した。

試料のディスクをガラス円板上に貼りつけ、試料表面に
半経２０ｍ＋のアルミナの摺動子を荷重２０ｇで押し付
けた１次にこの円板を回転させ、アルミナ摺動子にかか
る接線力の大きさから摩擦係数を求めた。また接線力が
大きく変化し、ディスク媒体に傷が入いる時点までの総
回転数をもって媒体の摺動強度とした。

このような方法で測定した媒体の摩擦係数と。

摺動強度を第１表に示した。なお表には媒体表面に液体
潤滑剤（ＰＦＰＥ：ポリフロロポリエーテル系）を塗布
した場合と、何も塗布してない場合とについても記載し
た。

実施例２ Ｃｏ　−ＣｒとＢ膜を形成するまでは実施例１と全たく
同じ方法で行なった。その試料を酸素プラズマアッシャ
装置に入れ、２００Ｗの投入電力で１０分間ホウ素膜の
表面酸化を行なった。この時。

装置に流す酸素気流中には、５％の水蒸気を含ませるよ
うにしている。

上記の方法で作製した試料の摩擦係数と摺動強度を、実
施例１と同じ方法で測定した。結果を第１表に示した。

比較例ｌ Ｃｏ−Ｃｒと１３膜を形成するまでは実施例１と全たく
同じ方法で作製し、Ｂ膜の表面を酸化しなかった試料を
比較試料として摩擦係数と摺動強度を測定した。結果を
同様に第１表に示した。

比較例２ Ｃｏ　−ＣｒとＢ膜を形成するまでは実施例１と同じで
あるが、Ｂ膜を熱酸化する時に、水蒸気が含まれない乾
燥空気を用いてＢ膜の表面を酸化した。このようにして
作製した試料を比較試料として、摩擦係数と摺動強度の
測定を行なった。結果を第１表に示す。

第　　１　　表 潤滑剤の　摩擦係数　摺　動　強　度 有・無　　　　　　　（回） 実施例１　　　無　　０・１５　　　６７０ＸＬＯ。

有　　　　０．１０　　２７８０ｘｌＯ３実施例２　　
有　　０．１１　　２５４０Ｘ１０”よ工、　”　０．
３５　　４ｏｘ”°゛有　　　　０．２１　　１４７０
Ｘ１０Ｂ第１表の実施例１と比較例１を較べると明らか
なように、Ｂ膜の表面をホウ酸によって被覆した実施例
１においては１Ｍ擦係数が著しく低下し。

媒体とヘッドの滑らかな走行が確保されていることが分
かる。また、摺動強度もＢ膜の表面を、ホウ酸で被覆し
た方が優れており、特に潤滑剤を用いていない場合に、
ホウ酸被覆膜の効果がはっきり現われている。

ホウ酸膜の作製法は実施例１と２からも明らかなように
、熱酸化法でもプラズマアッシャ法のような低温形成法
でもよいことが分かる。また、比較例２から分かるよう
に、酸化過程においては水蒸気が必要であり、単にホウ
素の酸化物を形成しただけでは逆に摩擦係数も大きくな
り、摺動強度も弱くなることが分かる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、ホウ素保護膜の摩擦係数を低減するこ
とが可能となり、磁気ヘッドと磁気媒体の滑らかな走行
を確保し、耐摺動強度を向上させる上に大きな効果があ
る。

なお１本実施例においては磁性膜としてＣｏ−Ｃｒ１ｌ
々の例を上げて、発明の詳細な説明したが、Ｃｏ−Ｎｉ
膜、γ−ＦｅｚＯｓ膜等の表面に保護膜としてＢ膜を形
成した場合にも同様に効果があることは言うまでもない
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の断面図である。 １・・・基体、２・・・強磁性薄膜、３・・・ホウ素膜
、４・・・ホウ酸膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、所定の形状を有する非磁性基体上に、記録層として
   強磁性体の金属薄膜又は酸化物薄膜を配置し、さらにそ
   の表面にホウ素の保護膜を配置した磁気記録媒体におい
   て、ホウ素の最表面層がホウ酸によって被覆されている
   ことを特徴とする磁気記録媒体。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体において
   、ホウ素膜の厚さが１０〜２００ｎｍであり、ホウ酸膜
   の厚さが５〜１００ｎｍであることを特徴とする磁気記
   録媒体。 ３、所定の形状を有する非磁性基体上に、記録層として
   強磁性体の金属薄膜又は酸化物薄膜を形成し、さらにそ
   の表面にホウ素膜を形成した後、ホウ素膜の表面を酸化
   しホウ酸膜とすることを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。 ４、特許請求の範囲第３項記載の磁気記録媒体の製造方
   法において、水蒸気と酸素が存在する雰囲気中で、ホウ
   素膜の最表面層をプラズマ酸化もしくは熱酸化すること
   によりホウ素膜を酸化することを特徴とする磁気記録媒
   体の製造方法。