JPS63268773A - 光硬化型導電性焼成ペ−スト - Google Patents
光硬化型導電性焼成ペ−ストInfo
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光硬化型樹脂組成物をバインダとする光硬化型
導電性焼成ペーストに関するものである。
導電性焼成ペーストに関するものである。
(従来の技術)
従来、4体を形成する導電性焼成ペーストとしては金、
銀、白金、パラジュウムなどの貴金属微粉末と低融点ガ
ラス質フリット、金属酸化物及び育機ビヒクルから成る
溶剤型導電性焼成ペーストが一般的である。
銀、白金、パラジュウムなどの貴金属微粉末と低融点ガ
ラス質フリット、金属酸化物及び育機ビヒクルから成る
溶剤型導電性焼成ペーストが一般的である。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、この様な、貴金属系導電性焼成ペーストは高沸
点の溶剤を含有しているために、(1)を燥時間が長い
、■スフリーフ版の目詰まりによるピンホールや線巾の
くずれなどが生じやすい、(4)ペーストの経時粘度変
化が大きいため連続印刷が困難、(2)職場環境汚染が
著しい、などの問題点がある。
点の溶剤を含有しているために、(1)を燥時間が長い
、■スフリーフ版の目詰まりによるピンホールや線巾の
くずれなどが生じやすい、(4)ペーストの経時粘度変
化が大きいため連続印刷が困難、(2)職場環境汚染が
著しい、などの問題点がある。
既に本発明者の一部により熱分解性良好な光硬化型樹脂
組成物の提案がなされている(特開昭57−15299
3)。しかし、その提案では熱分解性は良好であるが、
必ずしも印刷性が十分でなく、印刷後のレベリング性が
不十分なことが判明した。
組成物の提案がなされている(特開昭57−15299
3)。しかし、その提案では熱分解性は良好であるが、
必ずしも印刷性が十分でなく、印刷後のレベリング性が
不十分なことが判明した。
(問題を解決するための手段)
本発明者らは、これらの欠点を解決し、印刷適正および
表面平滑性に優れ、かつ導電性、焼成性にも優れた光硬
化型導電性焼成ペーストを得るべく鋭意研究した結果、
本発明に到達した。
表面平滑性に優れ、かつ導電性、焼成性にも優れた光硬
化型導電性焼成ペーストを得るべく鋭意研究した結果、
本発明に到達した。
すなわち本発明は、貴金属微粉末(A)、ガラス質フリ
フ)(B)、金I!!I酸化物(C)および光硬化型樹
脂組成物(D)を含む光硬化型導電性焼成ペーストにお
いて、光硬化型樹脂組成物(D>が、(1)セルロース
系誘導体 (II)分子内に二重結合を有する光重合性化合物およ
び (m)光重合開始剤 を含存することを特徴とする光硬化型導電性焼成ペース
トである。
フ)(B)、金I!!I酸化物(C)および光硬化型樹
脂組成物(D)を含む光硬化型導電性焼成ペーストにお
いて、光硬化型樹脂組成物(D>が、(1)セルロース
系誘導体 (II)分子内に二重結合を有する光重合性化合物およ
び (m)光重合開始剤 を含存することを特徴とする光硬化型導電性焼成ペース
トである。
本発明で使用する貴金属微粉末(A)とは、例えば、金
、銀、パラジウム、白金などである。その含を率は本発
明の焼成ペーストの40〜90ff(ffi%である。
、銀、パラジウム、白金などである。その含を率は本発
明の焼成ペーストの40〜90ff(ffi%である。
含を率が40重量%未溝の場合は、形成回路の導電性が
低下し安定した回路の形成が固型であり、一方90重量
%を越える場合は本発明の焼成ペーストの粘度が著しく
高くなり印刷が困難となる。
低下し安定した回路の形成が固型であり、一方90重量
%を越える場合は本発明の焼成ペーストの粘度が著しく
高くなり印刷が困難となる。
本発明で使用するガラス質フリフト(B)とは、例えば
、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウム、
酸化カルシウムなどであり、その含有率は本発明の焼成
ペーストの0.1〜15重量%である。その含を率が0
.1重量%未溝の場合は導体回路がセラミック基板との
接着性に劣り、一方15重量%を越える場合は、半田濡
れ性が悪くなる。
、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウム、
酸化カルシウムなどであり、その含有率は本発明の焼成
ペーストの0.1〜15重量%である。その含を率が0
.1重量%未溝の場合は導体回路がセラミック基板との
接着性に劣り、一方15重量%を越える場合は、半田濡
れ性が悪くなる。
本発明に使用する金属酸化物(C)とは、例えハ、酸化
ビスマス、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化銅な
どであり、その含有率は本発明の焼成ペーストの0.1
〜15重量%である。その含を率が0.1重量%未清の
場合は導体回路のセラミック基板との接着性に劣り、一
方15重量%を越える場合は、半田濡れ性やII3ff
i性が低下する。
ビスマス、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化銅な
どであり、その含有率は本発明の焼成ペーストの0.1
〜15重量%である。その含を率が0.1重量%未清の
場合は導体回路のセラミック基板との接着性に劣り、一
方15重量%を越える場合は、半田濡れ性やII3ff
i性が低下する。
次に、本発明で使用する光硬化型樹脂組成物(D>にお
いて、セルロース系誘i体(I )とは、例エバ、(1
)メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセ
ルロース、フロビルセルロースなどのセルロースなどの
セルロースエーテル類。(2)ギ酸セルロース、アセチ
ルセルロース、プロピオニルセルロース、アセチルプル
ピオニルセルロース、メタクリロイルセルロースなどの
セル0−X有a酸エステル類、(3) ニトロセルロ
ース、硫酸セルロース、リン酸セルロースなどのセルロ
ース無機酸エステル類等が挙げられ、単独にまたは21
1類以上併用して使用される。
いて、セルロース系誘i体(I )とは、例エバ、(1
)メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセ
ルロース、フロビルセルロースなどのセルロースなどの
セルロースエーテル類。(2)ギ酸セルロース、アセチ
ルセルロース、プロピオニルセルロース、アセチルプル
ピオニルセルロース、メタクリロイルセルロースなどの
セル0−X有a酸エステル類、(3) ニトロセルロ
ース、硫酸セルロース、リン酸セルロースなどのセルロ
ース無機酸エステル類等が挙げられ、単独にまたは21
1類以上併用して使用される。
セルロース誘導体(I)の配合量は光硬化型樹脂組成物
中の2〜60重量%であり、更に好ましくは5〜55重
量%である。
中の2〜60重量%であり、更に好ましくは5〜55重
量%である。
また、セルロース系誘導体の分子量MはM ≦1,00
0,000テアリ、分子ff1M力1,000,000
を越えた場合、分子内に二重結合を作する光重合成化合
物に難溶となる。本願発明のセルロース系誘導体は分子
内に二重結合を存する光重合性化合物に溶解することが
必要である。
0,000テアリ、分子ff1M力1,000,000
を越えた場合、分子内に二重結合を作する光重合成化合
物に難溶となる。本願発明のセルロース系誘導体は分子
内に二重結合を存する光重合性化合物に溶解することが
必要である。
分子内に二重結合を「する光重会合性化合物(■)とは
、例えば、(1)スチレン、α−メチルスチレンなどの
スチレン系化合物、■メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(
メタ)アクリレートなどのモノ(メタ)アクリレート化
合物、G3)エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート
などのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート化
合物、(4) )リメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレートなどの多価(メタ)アクリレート化合物などで
ある。
、例えば、(1)スチレン、α−メチルスチレンなどの
スチレン系化合物、■メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(
メタ)アクリレートなどのモノ(メタ)アクリレート化
合物、G3)エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート
などのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート化
合物、(4) )リメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレートなどの多価(メタ)アクリレート化合物などで
ある。
(但し、(メタ)アクリレートはメタアリレートおよび
アクリレートを示す。) これらの光重合開始剤な化合物(n)の配合量は、光硬
化型樹脂組成物中の40〜95重量%であることが好ま
しい。
アクリレートを示す。) これらの光重合開始剤な化合物(n)の配合量は、光硬
化型樹脂組成物中の40〜95重量%であることが好ま
しい。
光重合開始剤とは、例えば、ベンゾイン系化合物、ベン
ゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物である。
ゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物である。
光重合開始剤の配合量は光硬化型樹脂組成物中1〜10
重量%であることが好ましい。光硬化型樹脂組成物(D
)の含育率は本発明のm成ペーストの5〜50重量%で
ある。含仔率が5ffi量%未膚の場合は、ペースト粘
度が高くなり印刷が困難であり、一方、50重量%を越
えると導電性の点で良好な回路を得ることが困難となる
。光硬化型樹脂組成物(D)には公知の熱重合禁止剤、
レベリング剤、消泡剤、揺変剤などを添加し、粘度、保
存安定性、印刷適性などを調節しして使用されるのが一
般的である。
重量%であることが好ましい。光硬化型樹脂組成物(D
)の含育率は本発明のm成ペーストの5〜50重量%で
ある。含仔率が5ffi量%未膚の場合は、ペースト粘
度が高くなり印刷が困難であり、一方、50重量%を越
えると導電性の点で良好な回路を得ることが困難となる
。光硬化型樹脂組成物(D)には公知の熱重合禁止剤、
レベリング剤、消泡剤、揺変剤などを添加し、粘度、保
存安定性、印刷適性などを調節しして使用されるのが一
般的である。
本発明では前記貴金属微粉末(A)、ガラス質フリッ)
(B )、金属酸化物(C)、光硬化型樹脂組成物(
D)を必須成分とする光硬化型導電性焼成ペーストを用
いて、アルミナなどのセラミック基板上に回路を印刷し
、光硬化後空気雰囲気で焼成して導体回路を得る。
(B )、金属酸化物(C)、光硬化型樹脂組成物(
D)を必須成分とする光硬化型導電性焼成ペーストを用
いて、アルミナなどのセラミック基板上に回路を印刷し
、光硬化後空気雰囲気で焼成して導体回路を得る。
本発明では印刷に使用する導電性焼成ペーストが光硬化
型導電性焼成ペーストであるため、溶剤を全く含まず、
従ってスクリーン版の目詰りによるピンホールや線中の
くずれを生じない。本発明のm成ペーストについては光
硬化する条件は特に制限はない。光照射に用いられる光
源としては太陽光、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧
水銀灯、メタルハライド、ランプ、キセノン、ランプな
どが使用される。基板としてはアルミナ基板、ホーロ基
板、バリリア基板、窒素アルミニウム基盤、炭化ケイ素
基板などが使用される。
型導電性焼成ペーストであるため、溶剤を全く含まず、
従ってスクリーン版の目詰りによるピンホールや線中の
くずれを生じない。本発明のm成ペーストについては光
硬化する条件は特に制限はない。光照射に用いられる光
源としては太陽光、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧
水銀灯、メタルハライド、ランプ、キセノン、ランプな
どが使用される。基板としてはアルミナ基板、ホーロ基
板、バリリア基板、窒素アルミニウム基盤、炭化ケイ素
基板などが使用される。
(実施例)
本発明を更に詳細に説明するために実施例を挙げるが、
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない。実施例中、単に部または%とあるのはそれぞれ
重量部、または重量%を示す。性能評価のための測定は
次の方法によった。
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない。実施例中、単に部または%とあるのはそれぞれ
重量部、または重量%を示す。性能評価のための測定は
次の方法によった。
印刷適性:第1図に示した回路パターン(縦3.5QI
X横3.0cm)を400メツシユのステンレス・スク
リーン版を用いて印刷し、ステンレス・スクリーン版の
目詰まり、または細線が火線するまでの印刷枚数により
印刷適性を測定した。
X横3.0cm)を400メツシユのステンレス・スク
リーン版を用いて印刷し、ステンレス・スクリーン版の
目詰まり、または細線が火線するまでの印刷枚数により
印刷適性を測定した。
表面平滑性:セラミック基板上に形成された導体の表面
粗度を測定した。
粗度を測定した。
導電性:セラミック基板上に形成された第1図の回路の
抵抗値を測定した。
抵抗値を測定した。
焼成性:第1図に示した回路パターンを印刷し、セラミ
ック基板を空気雰囲気中で15分間で室温まで冷却し、
ピンホールと回路欠株の有無を判定した。
ック基板を空気雰囲気中で15分間で室温まで冷却し、
ピンホールと回路欠株の有無を判定した。
製造例1゜
平均分子ff125,000のエチルセルロース12部
、テトラヒドロフルフリルアクリレート72部、ラウリ
ルアクリレート5部、ポリプロピレングリコール(プロ
ピレンオキサイド9モル付加物)ジアクリレート7部、
光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール2部、2
−エチルアントラキノ72部を室温で混合溶解し、光硬
化型樹脂組成物(a)を得た。
、テトラヒドロフルフリルアクリレート72部、ラウリ
ルアクリレート5部、ポリプロピレングリコール(プロ
ピレンオキサイド9モル付加物)ジアクリレート7部、
光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール2部、2
−エチルアントラキノ72部を室温で混合溶解し、光硬
化型樹脂組成物(a)を得た。
同様にして、セルロース系誘導体と光重合性化合物が第
1表に示される成分である光硬化型樹脂組成物(b)と
(C)を得た。尚、光m合間始剤は(a)と同じ化合物
を同量使用した。
1表に示される成分である光硬化型樹脂組成物(b)と
(C)を得た。尚、光m合間始剤は(a)と同じ化合物
を同量使用した。
次いで、銀微粉末80%、ガラス質フリット(ASF−
1480、旭硝子和製〕5%、および上記光硬化型樹脂
組成物(a)15%をセラミック3本ロールを用いてよ
く混練し、光硬化型導電性焼成ペースト(a′)を得た
。
1480、旭硝子和製〕5%、および上記光硬化型樹脂
組成物(a)15%をセラミック3本ロールを用いてよ
く混練し、光硬化型導電性焼成ペースト(a′)を得た
。
以 下 余 白
第 1 表
(京1)テトラヒドロフルフリルアクリレート(本2)
ラウリルアクリレート (京3)ポリプロピレングリコール〔(プロピレンオキ
サイド(PO)付加物リジアクリレート製造参考例1 平均分子ffi75,000のメタクリル酸メチル(M
M A )−メタクリル酸−n−ブチル(n−DMA
)共重合体(MMA/n−BMA=40/eOfff量
比)30部、テトラヒドロフルフリルアクリレート54
部、ラウリルアクリレート5部、ポリプロピレングリコ
ール(プロピレンオキサイド9モル付加物)ジアクリレ
ート7部、光重合開始剤としてペンジルジメチルケター
ル2部および2−エチルアントラキノン2部を室温で溶
解し、光硬化型樹脂組成物(d)を得た。
ラウリルアクリレート (京3)ポリプロピレングリコール〔(プロピレンオキ
サイド(PO)付加物リジアクリレート製造参考例1 平均分子ffi75,000のメタクリル酸メチル(M
M A )−メタクリル酸−n−ブチル(n−DMA
)共重合体(MMA/n−BMA=40/eOfff量
比)30部、テトラヒドロフルフリルアクリレート54
部、ラウリルアクリレート5部、ポリプロピレングリコ
ール(プロピレンオキサイド9モル付加物)ジアクリレ
ート7部、光重合開始剤としてペンジルジメチルケター
ル2部および2−エチルアントラキノン2部を室温で溶
解し、光硬化型樹脂組成物(d)を得た。
同様にして、表2に示される光硬化型樹脂組成物(e)
を得た。尚、光重合開始剤は(d)と同じ化合物を同量
使用した。
を得た。尚、光重合開始剤は(d)と同じ化合物を同量
使用した。
次いで、銅微粉末80%、ガラス質フリット(ASF−
1480・旭硝子■製〕5%、および光硬化型樹脂組成
物(d)をセラミック3本ロールを用いてよく混練し、
光硬化型導電性焼成ペース) (d ’)を得た。
1480・旭硝子■製〕5%、および光硬化型樹脂組成
物(d)をセラミック3本ロールを用いてよく混練し、
光硬化型導電性焼成ペース) (d ’)を得た。
同様にして、光硬化IJ1樹脂組成物(e)を用い、光
硬化型導電性焼成ペース) (e ’)を得た。
硬化型導電性焼成ペース) (e ’)を得た。
製造参考例2
平均分子ffi25,000のエチルセルロース(前出
)18部、溶剤(テルピネオール/トルエン=70/3
0重量比)82部を室温で溶解し溶剤型樹脂組成物<r
>を得た。
)18部、溶剤(テルピネオール/トルエン=70/3
0重量比)82部を室温で溶解し溶剤型樹脂組成物<r
>を得た。
次いで、銅微粉末80%、ガラス質フリット(ASF−
1480、旭硝子■製〕5%および溶剤型樹脂組成物1
5%をセラミック3本ロールを用いてよく混練し溶剤型
導電性焼成ペースト(r′)を得た。
1480、旭硝子■製〕5%および溶剤型樹脂組成物1
5%をセラミック3本ロールを用いてよく混練し溶剤型
導電性焼成ペースト(r′)を得た。
以 下 余 自
筆 2 表
(本4)メタクリル酸メチル−メタクリルル共重合体(
MMA/n−HMA=40/60、重量比) (15)テトラヒドロフルフリルメタクリレート(京6
)ラウリルメタクリレート (本7)ポリプロピレングリコール(プロピレンオキサ
イド9モル付加物)ジアクリレート(本8)テルピネオ
ール 量比) 実施例1 アルミナ基板(アルミナ含有率96%、縦5cm×横5
am X厚み0.6cm>上に、光硬化型導電性焼成
ペースト(a’)をステンレス・スクリーン版を用いて
回路パターンを連続印刷した。
MMA/n−HMA=40/60、重量比) (15)テトラヒドロフルフリルメタクリレート(京6
)ラウリルメタクリレート (本7)ポリプロピレングリコール(プロピレンオキサ
イド9モル付加物)ジアクリレート(本8)テルピネオ
ール 量比) 実施例1 アルミナ基板(アルミナ含有率96%、縦5cm×横5
am X厚み0.6cm>上に、光硬化型導電性焼成
ペースト(a’)をステンレス・スクリーン版を用いて
回路パターンを連続印刷した。
この場合、印刷枚数が500枚を越えてもスクリーン版
の目詰りや、細線の火線は全く発生しなかった。この印
刷されたアルミナ基板を5 、6 k w水冷式高圧水
銀灯下、151の距離で10秒間照射し、焼成ペースト
を硬化させた。次いで、このアルミナ基板を前出の焼成
条件で焼成したのち、表面平滑性、焼成性、導電性を測
定した。その結果を第3表に示した。
の目詰りや、細線の火線は全く発生しなかった。この印
刷されたアルミナ基板を5 、6 k w水冷式高圧水
銀灯下、151の距離で10秒間照射し、焼成ペースト
を硬化させた。次いで、このアルミナ基板を前出の焼成
条件で焼成したのち、表面平滑性、焼成性、導電性を測
定した。その結果を第3表に示した。
実施例2
実施例1における光硬化型導電性焼成ペースト(a′)
の代りに光硬化型導電性焼成ベース) (b ’)およ
び(C′)を用いアルミナ基板上に4体回路を形成した
。
の代りに光硬化型導電性焼成ベース) (b ’)およ
び(C′)を用いアルミナ基板上に4体回路を形成した
。
その結果を第3表に示した。
比較例1
実施例1のアルミナ基板上に光硬化型導電焼成ペースト
(d ’)をステンレス・スクリーン版を用いて回路バ
ター7を連続印刷した。印刷されたアルミナ基板を5.
ekw水冷式高圧水銀灯下、150の距離で10秒間照
射し硬化させた。次いで、印刷されたアルミナ基板を前
出の焼成条件で焼成したのち、表面平滑性、焼成性、導
電性を測定した。その結果をts4表に示した。
(d ’)をステンレス・スクリーン版を用いて回路バ
ター7を連続印刷した。印刷されたアルミナ基板を5.
ekw水冷式高圧水銀灯下、150の距離で10秒間照
射し硬化させた。次いで、印刷されたアルミナ基板を前
出の焼成条件で焼成したのち、表面平滑性、焼成性、導
電性を測定した。その結果をts4表に示した。
比較例2
比較例1における光硬化型導電性焼成ペースト(d′)
の代りに光硬化型4ffi性焼成ベース) (e ’)
を用いアルミナ基板上に導体回路を形成した。その結果
を第4表に示した。
の代りに光硬化型4ffi性焼成ベース) (e ’)
を用いアルミナ基板上に導体回路を形成した。その結果
を第4表に示した。
比較例3
実施例1のアルミナ基板上に、溶剤型導電性焼成ペース
)(f’)を用いて回路パターンを連続印刷した。この
印刷されたアルミナ基板を150℃×20分間で屹燥さ
せた。次いで印刷されたアルミナ基板を前出の焼成条件
で焼成したのち、表面平滑性、焼成性、導電性、を測定
した。その結果を第4表に示した。
)(f’)を用いて回路パターンを連続印刷した。この
印刷されたアルミナ基板を150℃×20分間で屹燥さ
せた。次いで印刷されたアルミナ基板を前出の焼成条件
で焼成したのち、表面平滑性、焼成性、導電性、を測定
した。その結果を第4表に示した。
第 3 表
第4表
(発明の効果)
本発明の光硬化型導電性焼成ペーストの優れた効果とし
て次の点が挙げられる。
て次の点が挙げられる。
(1) 使用する焼成ペーストが光硬化型nffl性
焼成ペーストであるため、全く溶剤を含有せず、スクリ
ーン版の目詰りによるピンホール、線巾の(ずれが生じ
ない。
焼成ペーストであるため、全く溶剤を含有せず、スクリ
ーン版の目詰りによるピンホール、線巾の(ずれが生じ
ない。
(2) そのため精密なパターンの連続印刷が可能であ
る。
る。
(3)導体が平滑なためワイヤー・ポンディング性に優
れる。
れる。
(Φ 光硬化型樹脂の熱分解性が良好なため焼成による
ピンホール発生やカーボン残存がない。
ピンホール発生やカーボン残存がない。
第1図は印刷回路パターンを示す。
Claims (1)
- (1)貴金属微粉末(A)、ガラス質フリット(B)、
金属酸化物(C)および光硬化型樹脂組成物(D)を含
む光硬化型導電性焼成ペーストにおいて、光硬化型樹脂
組成物(D)が、 ( I )セルロース系誘導体 (II)分子内に二重結合を有する光重合性化合物および (III)光重合開始剤 を含有することを特徴とする光硬化型導電性焼成ペース
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10257787A JPS63268773A (ja) | 1987-04-25 | 1987-04-25 | 光硬化型導電性焼成ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10257787A JPS63268773A (ja) | 1987-04-25 | 1987-04-25 | 光硬化型導電性焼成ペ−スト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63268773A true JPS63268773A (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=14331082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10257787A Pending JPS63268773A (ja) | 1987-04-25 | 1987-04-25 | 光硬化型導電性焼成ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63268773A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1575099A1 (de) * | 2004-03-09 | 2005-09-14 | RWE SCHOTT Solar GmbH | Verfahren zum Ausbilden einer Struktur |
| KR100756167B1 (ko) | 2003-08-21 | 2007-09-05 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 감광성 도전 조성물 및 플라즈마 디스플레이 패널 |
| DE102009043916A1 (de) | 2009-05-19 | 2010-12-16 | Schott Solar Ag | Verfahren zur Herstellung elektrischer Kontakte auf einem Halbleiterbauelement |
-
1987
- 1987-04-25 JP JP10257787A patent/JPS63268773A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100756167B1 (ko) | 2003-08-21 | 2007-09-05 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 감광성 도전 조성물 및 플라즈마 디스플레이 패널 |
| EP1575099A1 (de) * | 2004-03-09 | 2005-09-14 | RWE SCHOTT Solar GmbH | Verfahren zum Ausbilden einer Struktur |
| US7790508B2 (en) | 2004-03-09 | 2010-09-07 | Schott Solar Ag | Method for forming a structure |
| DE102009043916A1 (de) | 2009-05-19 | 2010-12-16 | Schott Solar Ag | Verfahren zur Herstellung elektrischer Kontakte auf einem Halbleiterbauelement |
| EP2280425A2 (de) | 2009-05-19 | 2011-02-02 | SCHOTT Solar AG | Verfahren zur Herstellung elektrischer Kontakte auf einem Halbleiterbauelement |
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