JPS63273367A - 超伝導体用電極 - Google Patents

超伝導体用電極

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Publication number
JPS63273367A
JPS63273367A JP62109247A JP10924787A JPS63273367A JP S63273367 A JPS63273367 A JP S63273367A JP 62109247 A JP62109247 A JP 62109247A JP 10924787 A JP10924787 A JP 10924787A JP S63273367 A JPS63273367 A JP S63273367A
Authority
JP
Japan
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electrode
superconductor
contact resistance
resistance
shows
Prior art date
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Pending
Application number
JP62109247A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Kuroda
研一 黒田
Kazuyuki Moriwaki
森脇 和幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Publication of JPS63273367A publication Critical patent/JPS63273367A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0744Manufacture or deposition of electrodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、接触抵抗の少ない超伝導体用電極であって、
特に酸化物超伝導体に有用な電極に関するものである。
〔従来の技術と問題点〕
(La+−xBay) Cu2 o、やYBa2 Cu
s 04−Xなどのいわゆる高温超伝導体は、/9♂乙
年のBednorz等の発表 (J、G、  Bedn
ortz  et  all、 Z、Phys’、、 
 BAμ (°♂乙)7gり)をきっかけに研究が開始
され、超伝導遷移温度も100に以上のものも報告され
ている。
このような超伝導体を応用する場合に電流を流すために
外部電源と接続することが不可欠であり。
このような目的のための電極として白金ペースト。
銀ペーストが用いられることがもっばらであった。
また、 Au 、 AA、 Nb 、 Inなどのスパ
ッタや蒸着による薄膜が用いられる場合もあった。この
ような電極に要求される性質としては、接触抵抗ができ
るだけ小さいことである。従来のNb 、 Pb 或は
、Nb、 Sn等の金属超伝導体の場合は、表面の 酸
化物層を除去してやれば大半の金属を接した電極におい
て非常に小さな接触抵抗を実現できた。ところが、前述
の酸化物超伝導体においては、接触抵抗が大きいので表
面を紙ヤスリでこすり接触表面積を増大させることが必
要であった。前記酸化物超伝導体薄膜で、膜厚が薄く、
また主権面積が小さい場合には、この手法は使えず、従
来、O1’IAu 、 Nb 、 A、1のスパッタや
蒸着による薄膜が用いられてきたが、これらの金属を用
いた場合には、接触抵抗が非常に大きく、かつ、非線形
の抵抗が存在した。これは理由はよくわかっていないが
、表面に半導体的な変質層が存在し、そのためショット
キーバリアが金属界面との間に存在し、その特性が接触
抵抗に反映している可能性がある。第3図にそのような
典型的な接触抵抗の例を示す。
試料は、チタン酸ストロンチウム基板上の厚さaooo
λのLa+ Sr、 Cu、 Oから成る薄膜で、21
AKで抵抗ゼロの超伝導状態になることが、確認されて
いる。サイズは幅pm、長さiomである。
これにグ鰭×3Ilj+と/錦X/1111  の二つ
の厚さ、zoooh程度のAuパッドを間隔を31あけ
てリフトオフ法により形成する。AU膜形成は蒸着によ
うた。各パッドにAu線を銀ペーストによって接続し、
!端子間の電圧、N光特性を測定した。
第3図は442Kにおける電圧電流特性であり、電流が
小さな領域では、非常に大きな抵抗を有していることが
わかる。片方のバンドはもう一方に比して、70倍以上
面積が大きいので、この抵抗のほとんどは、小面積のパ
ッドの接触抵抗と考えられる。このような大きなコンタ
クト抵抗が存在すると、局所的に発熱したり、雑音の要
因になったりする。また、超伝導体から微弱な電流を外
部に導く際の障害となる。  。
第3図は、La、Sr+Ou+Oを含む材料であったが
、 Ba+ Sr+ La系列元素、Ou、OQ含む酸
化物超伝導体についても、Nb 、 /d−、Auの電
極金属に対して、同様の高い接触抵抗が認められた。
金属膜形成法としてスパッタと蒸着の間に差異は認めら
れなかった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、酸化物超伝導体において従来の材料で電極を
形成した場合には接触抵抗が大であった点を解決し、小
さな接触抵抗を有する電極を提供するものである。具体
的には電極用金属として、銀又は銅又はこれらを主成分
とする合金を用いることを主要な特徴とする。
〔実施例〕
試料の諸元としては、第3図の場合と同じとし、電極金
属としてCuおよびAgを用いた。第1図がAg、第;
図がCuの場合の電圧、電流特性である。
Agの場合、はとんど直線的であゃ、抵抗値はAuの場
合の約1OOOQ分の/である。Cuの場合はわずかに
非線形が存在するが、それでも原点付近の抵抗は、Au
の場合の2000分の/であり、いずれの場合も非常に
小さい。金属としてAg 、 C!uを主成分として含
んでいる合金を用いて電極を形成した場合も、はぼ同様
の特性が得られた。
〔発明の効果〕
以上、説明したように本発明の電極を用いれば、超伝導
体全外部を接続する部分の接触抵抗を小さくすることが
でき、発熱を防ぎ、寄生抵抗による雑音、デバイスの誤
動作等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例であり、試料サイズ!MX1
08のLa Sr Ou Oから成る超伝導体上の≠鴎
×3隨と/mX /atのAgからなるパッド間の電圧
電流特性、第2図は同じく本発明の実施例でパッドがO
uの場合、第3図は従来例であり、パッドがAuの場合
である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. M/−M2−M3−O系(M/は(Sc、Y、La、C
    e、Pr、Nd、Pm、Yb、Lu、B、Al、Ga、
    In、Tl、Es)からなる群から選ばれた一又は二以
    上の金属、M2は(Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Z
    n、Cd、Hg、Cf)からなる群から選ばれた一又は
    二以上の金属、M3はCu又はAg)酸化物超伝導体に
    接して形成された銀又は銅又はこれらを主成分とする合
    金からなる超伝導体用電極。
JP62109247A 1987-05-01 1987-05-01 超伝導体用電極 Pending JPS63273367A (ja)

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JP (1) JPS63273367A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03124075A (ja) * 1989-10-06 1991-05-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 超電導素子
WO1992019786A1 (en) * 1991-05-08 1992-11-12 Superconductor Technologies, Inc. Fabrication process for low loss metallizations on superconducting thin film devices

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH03124075A (ja) * 1989-10-06 1991-05-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 超電導素子
WO1992019786A1 (en) * 1991-05-08 1992-11-12 Superconductor Technologies, Inc. Fabrication process for low loss metallizations on superconducting thin film devices

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