JPS6327740A - Ｘ線分光装置 - Google Patents
Ｘ線分光装置Info
- Publication number
- JPS6327740A JPS6327740A JP61172429A JP17242986A JPS6327740A JP S6327740 A JPS6327740 A JP S6327740A JP 61172429 A JP61172429 A JP 61172429A JP 17242986 A JP17242986 A JP 17242986A JP S6327740 A JPS6327740 A JP S6327740A
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- JP
- Japan
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- rays
- ray
- sample
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）や蛍
光Ｘ線分析装置等励起線で試料を照射し、試料より発生
する特性Ｘ線を検出して、試料を分析する装置における
Ｘ線分光装置に関する。
光Ｘ線分析装置等励起線で試料を照射し、試料より発生
する特性Ｘ線を検出して、試料を分析する装置における
Ｘ線分光装置に関する。
口、従来の技術
電子線マイクロアナライザや蛍光Ｘ線分析装置等励起線
で試料を照射し、試料より発生する特性Ｘ線を検出して
、試料中の目的元素の正確な濃度や濃度分布を求めるた
めには、各々の元素に対応する特性Ｘ線波長位置におい
て、Ｘ線のピークの強度（ＰＫ）とバックグランド強度
（ＢＧ）を測定し、両側定値の差（ＰＫ−ＢＧ）を用い
て、定量計算したり、濃度分布表示したりするべきであ
る。しかし、両者を測定するためにはＰＫに対応する波
長と、ＰＫに対応する波長から少し離れたＢＧの波長に
分光器を設定する必要がある。試料面の１点について行
う定量分析では、両者を測定するために要する波長走査
回数が少ないので測定が可能であるが、線分析１面分析
の場合には分析点数が多いので、両者の測定に要する波
長走査回数は多大となり現実的には不可能で殆ど行われ
ていないのが実情である。従って、線分析１面分析では
ピーク強度のみによって分析が行われているが、組成や
形態が大きく部位によって変化する試料や濃度変化が微
量な試料等の正確な分析を行うためには、各測定点にお
いて反射電子の発生率が異なったり、又試料面形状によ
って各種放射線の放射効率が放射角度によって異なった
りして、ＢＧが各測定点において異なるために、各測定
点でのＢＧ測測定必要であると云う問題がある。
で試料を照射し、試料より発生する特性Ｘ線を検出して
、試料中の目的元素の正確な濃度や濃度分布を求めるた
めには、各々の元素に対応する特性Ｘ線波長位置におい
て、Ｘ線のピークの強度（ＰＫ）とバックグランド強度
（ＢＧ）を測定し、両側定値の差（ＰＫ−ＢＧ）を用い
て、定量計算したり、濃度分布表示したりするべきであ
る。しかし、両者を測定するためにはＰＫに対応する波
長と、ＰＫに対応する波長から少し離れたＢＧの波長に
分光器を設定する必要がある。試料面の１点について行
う定量分析では、両者を測定するために要する波長走査
回数が少ないので測定が可能であるが、線分析１面分析
の場合には分析点数が多いので、両者の測定に要する波
長走査回数は多大となり現実的には不可能で殆ど行われ
ていないのが実情である。従って、線分析１面分析では
ピーク強度のみによって分析が行われているが、組成や
形態が大きく部位によって変化する試料や濃度変化が微
量な試料等の正確な分析を行うためには、各測定点にお
いて反射電子の発生率が異なったり、又試料面形状によ
って各種放射線の放射効率が放射角度によって異なった
りして、ＢＧが各測定点において異なるために、各測定
点でのＢＧ測測定必要であると云う問題がある。
ハ１発明が解決しようとする問題点
本発明は、上述したような問題を解消し、カラーコンテ
ントマツピング決算正確な定量的表示方法が確率されつ
つある中で、大きな課題となってきているＰＫ、ＢＧ測
測定能率化を計るために、能率良＜ＰＫ、ＢＧの両側室
が同時にできるようにすることを目的とする。
ントマツピング決算正確な定量的表示方法が確率されつ
つある中で、大きな課題となってきているＰＫ、ＢＧ測
測定能率化を計るために、能率良＜ＰＫ、ＢＧの両側室
が同時にできるようにすることを目的とする。
二０問題点解決のための手段
Ｘ線を分光する走査型Ｘ線分光器において、入射スリッ
ト板の分光結晶側表面にスリットと並置してＸ線検出器
を設けた。
ト板の分光結晶側表面にスリットと並置してＸ線検出器
を設けた。
ホ 作用
バックグランド強度は、試料より直接入射する反射電子
や分光結晶で反射した電子及び連続Ｘ線の直接入射や分
光結晶よりの散乱Ｘ線等の集合強度である。このバック
グランド強度を示すＸ線の分光器出射スリット移動軌跡
上の強度分布はゆるやかな変化を呈するから、特性Ｘ線
のピークの広がりが影響しない位置即ち特性Ｘ線の集光
位置くスリット位置）から一定の距離だけ離れた位置の
Ｘ線強度を測定すれば、それがＢＧである。従って、分
光器の出射スリットから一定の距離だけ離れた位置に検
出器を設けることにより、常にスリ・１１・に集光する
特性Ｘ線のＰＫと同時にＢＧも測定することが可能にな
る。このように本発明によれば、ＢＧ測測定ために波長
走査をしないでも、特性Ｘ線のＰＫを求めるための波長
走査だけで、各々の特性Ｘ線のＰＫ、ＢＧの両方の検出
値が入手でき、線分析や面分析においても正確な測定泣
である（ＰＫ−ＢＧ）を容易迅速に得ることができるよ
うになった。
や分光結晶で反射した電子及び連続Ｘ線の直接入射や分
光結晶よりの散乱Ｘ線等の集合強度である。このバック
グランド強度を示すＸ線の分光器出射スリット移動軌跡
上の強度分布はゆるやかな変化を呈するから、特性Ｘ線
のピークの広がりが影響しない位置即ち特性Ｘ線の集光
位置くスリット位置）から一定の距離だけ離れた位置の
Ｘ線強度を測定すれば、それがＢＧである。従って、分
光器の出射スリットから一定の距離だけ離れた位置に検
出器を設けることにより、常にスリ・１１・に集光する
特性Ｘ線のＰＫと同時にＢＧも測定することが可能にな
る。このように本発明によれば、ＢＧ測測定ために波長
走査をしないでも、特性Ｘ線のＰＫを求めるための波長
走査だけで、各々の特性Ｘ線のＰＫ、ＢＧの両方の検出
値が入手でき、線分析や面分析においても正確な測定泣
である（ＰＫ−ＢＧ）を容易迅速に得ることができるよ
うになった。
へ、実施例
第１図に本発明の一実施例を示す、この実施例はＥＰＭ
Ａにおいて本発明を実施したもので、第１図において、
Ｅは試料面に収束され試料Ｓを励起させる電子線、Ｓは
試料、１は試料Ｓから放出されるｘ１！を分光する分光
結晶、２は分光された特性Ｘ線だけをＸ線検出器３に入
射させる入射スリット板、４は半導体Ｘ線検出器で第２
図に示すように入射スリット板２のＸ線入射側表面でス
リット２Ａの両側にスリット２Ａと平行に張り１寸けら
れており、Ｘ線スペクトルのＢＧを測定する。
Ａにおいて本発明を実施したもので、第１図において、
Ｅは試料面に収束され試料Ｓを励起させる電子線、Ｓは
試料、１は試料Ｓから放出されるｘ１！を分光する分光
結晶、２は分光された特性Ｘ線だけをＸ線検出器３に入
射させる入射スリット板、４は半導体Ｘ線検出器で第２
図に示すように入射スリット板２のＸ線入射側表面でス
リット２Ａの両側にスリット２Ａと平行に張り１寸けら
れており、Ｘ線スペクトルのＢＧを測定する。
５は入射スリット板２及びＸ線検出器３を取付る固定板
で、入射スリット板２が分光結晶１と共に試料上の電子
線照射点を通る一つのローランド円上に位置しているよ
うに駆動される。６はＸ線検出器３及び半導体Ｘ線検出
器４で検出する信号を処理する信号処理系、８は検出デ
ータを基に正確な元素濃度値等を求めたり、濃度分布像
を画素データを格納したりするＣＰＵである。
で、入射スリット板２が分光結晶１と共に試料上の電子
線照射点を通る一つのローランド円上に位置しているよ
うに駆動される。６はＸ線検出器３及び半導体Ｘ線検出
器４で検出する信号を処理する信号処理系、８は検出デ
ータを基に正確な元素濃度値等を求めたり、濃度分布像
を画素データを格納したりするＣＰＵである。
上記の構成において、試料Ｓから放出されるＸ線を分光
結晶で分光した時、分光した特定Ｘ線は結晶の分解能や
ビーム照射点の拡がりのために、１点に集光できずある
巾をもってスリット部へ焦点を結ぶ、特性Ｘ線のピーク
値を検出する方が測定精度が安定するから、スリット巾
は通常この焦点中よりは狭くしである。ピーク巾の外側
には試料より直接入射する反射電子や分光結晶で反射し
た電子及び連続Ｘ線の直接入射や結晶よりの反射Ｘ線等
が入射している。これら全体の測定値がバックグランド
値であるから、上記ピーク巾の外側に検出器４を設ける
ことによって、スリット２Ａに集光する特性Ｘ線のＢＧ
を検出器４で測定することができる。
結晶で分光した時、分光した特定Ｘ線は結晶の分解能や
ビーム照射点の拡がりのために、１点に集光できずある
巾をもってスリット部へ焦点を結ぶ、特性Ｘ線のピーク
値を検出する方が測定精度が安定するから、スリット巾
は通常この焦点中よりは狭くしである。ピーク巾の外側
には試料より直接入射する反射電子や分光結晶で反射し
た電子及び連続Ｘ線の直接入射や結晶よりの反射Ｘ線等
が入射している。これら全体の測定値がバックグランド
値であるから、上記ピーク巾の外側に検出器４を設ける
ことによって、スリット２Ａに集光する特性Ｘ線のＢＧ
を検出器４で測定することができる。
しかし、検出器３と検出器４は検出面積や特性が異なる
ために、予め双方の波長感度比関係を調査してバックグ
ランド強度補正係数を決定しておく。
ために、予め双方の波長感度比関係を調査してバックグ
ランド強度補正係数を決定しておく。
ト、効果
本発明によれば、ＰＫ測定のための波長走査を行うこと
だけで、特性Ｘ線のＰＫとＢＧの双方を同時に測定する
ことが可能になり、線分析や面分析においても（ＰＫ−
ＢＧ）値を求めることが容易になり、測定精度及び測定
能率が向上した。
だけで、特性Ｘ線のＰＫとＢＧの双方を同時に測定する
ことが可能になり、線分析や面分析においても（ＰＫ−
ＢＧ）値を求めることが容易になり、測定精度及び測定
能率が向上した。
第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は入射スリ
ット板の正面図である。 Ｓ・・・試料、Ｅ・・・電子線、１・・・分光結晶、２
・・・入射並。 スリッピ３−Ｘ線検出器、４・・・半導体Ｘ線検出器、
５・・・固定板、６・・・信号処理系、７・・・ＣＰＵ
。
ット板の正面図である。 Ｓ・・・試料、Ｅ・・・電子線、１・・・分光結晶、２
・・・入射並。 スリッピ３−Ｘ線検出器、４・・・半導体Ｘ線検出器、
５・・・固定板、６・・・信号処理系、７・・・ＣＰＵ
。
Claims (1)
- 入射スリット板の分光結晶側表面にスリットと並置して
Ｘ線検出器を設けたことを特徴とするＸ線分光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61172429A JP2581677B2 (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | Ｘ線分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61172429A JP2581677B2 (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | Ｘ線分光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6327740A true JPS6327740A (ja) | 1988-02-05 |
| JP2581677B2 JP2581677B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=15941806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61172429A Expired - Lifetime JP2581677B2 (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | Ｘ線分光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2581677B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS515316A (ja) * | 1974-07-02 | 1976-01-17 | Fukuoka Tokushu Garasu Kk | Saikihanshayokokutsusetsuritsugarasu |
| JPS5637821A (en) * | 1979-09-03 | 1981-04-11 | Hitachi Ltd | Erasing head |
| JPS6014109A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-24 | Kawasaki Steel Corp | めつき鋼板のめつき付着量測定装置 |
-
1986
- 1986-07-21 JP JP61172429A patent/JP2581677B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS515316A (ja) * | 1974-07-02 | 1976-01-17 | Fukuoka Tokushu Garasu Kk | Saikihanshayokokutsusetsuritsugarasu |
| JPS5637821A (en) * | 1979-09-03 | 1981-04-11 | Hitachi Ltd | Erasing head |
| JPS6014109A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-24 | Kawasaki Steel Corp | めつき鋼板のめつき付着量測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2581677B2 (ja) | 1997-02-12 |
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