JPS6328452B2 - - Google Patents
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- JPS6328452B2 JPS6328452B2 JP56161294A JP16129481A JPS6328452B2 JP S6328452 B2 JPS6328452 B2 JP S6328452B2 JP 56161294 A JP56161294 A JP 56161294A JP 16129481 A JP16129481 A JP 16129481A JP S6328452 B2 JPS6328452 B2 JP S6328452B2
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- Japan
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- organic solvent
- film
- conductive
- fine particles
- coating
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明はプラスチツクフイルムの帯電防止に関
するものであり、特に帯電防止されたプラスチツ
クフイルムの製造方法に関するものである。 一般に、プラスチツクフイルムは、電気絶縁性
であり、各種の取扱いに於て、同種又は異種物質
との間で接触摩擦または剥離が起きると、静電荷
を帯び、塵埃を付着したり、作業者に電撃を与え
たり、あるいは放電を生じたりして重大な障害を
生ずることがしばしばある。 特にプラスチツクフイルムを写真感光材料用の
支持体として用いる場合はこの帯電現象は極めて
重大な問題である。 これらの静電気による障害をなくす最もよい方
法は、プラスチツクフイルム表面の電気伝導性を
上げて、静電荷を短時に漏洩させてしまうことで
ある。 その為、プラスチツクフイルムの帯電防止には
無機塩を吸湿性物質と共に塗布して導電層とした
り、界面活性剤や高分子電解質を単独あるいはバ
インダーと共に塗布し導電層としたりする方法が
よく知られている。 これらの方法については、たとえば丸茂：帯電
防止剤（幸書房）に詳しく記載されている。 しかし、これらのイオン性化合物を塗布して帯
電防止する方法では、帯電防止性能に湿度依存性
がある。 すなわち、塗布層の導電性は湿度が低くなると
ともに減少し、目的とする帯電防止性能を示さな
くなる欠点がある。 一方、例えば米国特許第3062700号、特開昭52
−113224号及び特開昭55−12927号等においては、
電子写真感光体あるいは静電記録体の導電性支持
体用の導電性素材として、その導電性が湿度にほ
とんど依存しない結晶性の酸化亜鉛、酸化第二錫
及び酸化インジユウム等の金属酸化物を用いる事
が記載されている。また特願昭55−47663には感
光性写真材料に導電性の結晶性金属酸化物微粒子
をバインダー中に分散し帯電防止層とすることが
記載されている。 これらの金属酸化物は導電性素材としてすぐれ
たものであるがこれらの導電性金属酸化物微粒子
をバインダーと混合し、導電性の塗布層を形成す
る場合、この塗膜の中で導電性微粒子は相互に接
触し連続相をつくる必要がある。連続相を作るた
めには導電性微粒子をバインダーに対して一定量
以上加え、一定量以上塗布する必要がある。しか
し、塗布量が多くなると金属酸化物微粒子による
着色、あるいは粒子による光の散乱にもとづくヘ
イズが発生し、透明性をそこなつたりし、品質上
好ましくないことがある。また塗布量増によるコ
ストの上昇もある。 従つて、本発明の目的は第１に、帯電防止され
たプラスチツクフイルムの製造方法を提供するこ
とにある。 第２に、低湿時に於ても帯電防止性のすぐれた
プラスチツクフイルムの製造方法を提供すること
にある。 第３に、着色及びヘイズの少ない帯電防止され
たプラスチツクフイルムの製造方法を提供するこ
とにある。 第４に帯電防止されたプラスチツクフイルム製
造方法を提供することにある。 第５に低湿時に於ても優れた帯電防止性を有
し、着色、ヘイズも少ない安価なプラスチツクフ
イルムを提供することにある。 本発明のこれらの目的は、Zn、Ti、Sn、In、
Si、Mo及びＷから選ばれる少なくとも１種の金
属の酸化物及び／又はこれらの金属の酸化物より
構成される１種以上の金属複合酸化物を主体とす
る導電微粒子を含有する層を少なくとも１層プラ
スチツクフイルム上に設ける製造方法において、
(1)前記導電性微粒子、有機溶剤可溶性ポリマー及
び前記ポリマーを溶解し、かつ沸点の異なる有機
溶剤を少なくとも２種含有する液の膜を形成した
後有機溶剤を除去して導電性膜を設けるか、また
は(2)前記導電性微粒子、有機溶剤可溶性ポリマー
及び前記ポリマーを溶解する有機溶剤を含有する
液の膜を形成した後有機溶剤を除去して導電性膜
を設け、かつ前記導電性膜を形成する前もしくは
同時もしくは後に有機溶剤可溶性ポリマー及び前
記ポリマーを溶解し、かつ導電性膜に用いた有機
溶剤とは沸点の異なる有機溶剤を含有した液の膜
を形成した後有機溶剤を除去して膜を設ける、(1)
または(2)の方法のいずれかによつて前記導電性微
粒子を含有する層にゆず膚を発生させる事を特徴
とする帯電防止されたプラスチツクフイルムの製
造方法により達成された。 本発明に用いられる導電性微粒子として好まし
いのは、結晶性の金属酸化物粒子であるが、酸素
欠陥を含むもの、及び用いられる金属酸化物に対
してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等
は一般的に云つて導電性が高いので好ましい。 金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、
SnO2、WO3、In2O3、SiO2、MoO3等あるいはこ
れらの複合酸化物が良く、特にZnO、TiO2及び
SnO2が好ましい。 異種原子を含む例としてはZnOに対してAl、
In等、TiO2に対してはNb、Ta等、SnO2に対し
てはSb、Nb、ハロゲン原子などが挙げられる。 異種原子の添加量は0.01〜30mol％の範囲が好
ましく、特に0.1〜10mol％であることが好まし
い。 本発明に於ける導電性金属酸化物微粒子のサイ
ズは光散乱をできるだけ小さくするために小さい
方が好ましい。 たとえば0.01〜5.0μｍ、特に0.1〜0.5μｍである
ことが好ましい。 本発明に使用される結晶性の金属酸化物から成
る導電性微粒子は主として次のような方法により
製造される。第１に金属酸化物微粒子を焼成によ
り作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下
で熱処理する方法、第２に焼成により金属酸化物
微粒子を製造する時に導電性を向上させる為の異
種原子を共存させる方法、第３に焼成により金属
粒子を製造するさい雰囲気中の酸素濃度を低下さ
せて、酸素欠陥を導入する方法等が容易である。 さらに詳しくは特願昭55−47663号明細書の記
載を参考にすることが出来る。 本発明に於る導電性金属酸化物微粒子の体積抵
抗率は107Ω−cm以下、特に105Ω−cm以下である
ことが好ましい。 又、その塗布量は１平方メートル当り0.05〜
10.0ｇ特に0.1〜５ｇであることが好ましい。 本発明の導電性金属酸化物微粒子はバインダー
中に分散してプラスチツクフイルム上に塗布され
る。 使用し得るバインダーとしては皮膜形成能のあ
る有機溶剤可溶性ポリマーならばよく、例えばア
セチルセルロース、アセチルプロピルセルロー
ス、アセチルブチルセルロース、アセチルフタリ
ルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロ
ース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導
体、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アルキル（ア
ルキル基の炭素水１〜４）アクリレート、メチル
アルキル（アルキル基の炭素水１〜４）アクリレ
ート、酢酸ビニル、無水マレイン酸、アクリル
酸、スチレン、ビニルピロリドン、アクリルアミ
ド、アクリロニトリルなどのホモポリマー又はこ
れらの共重合体、可溶性ポリエステル、可溶性ナ
イロンなどを挙げることができる。 かかるバインダーを溶解するのに用いる有機溶
剤（以下、「溶剤」と略す）としては例えば比較
的低沸点の溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノールなどのアルコール系、メチレン
クロライド、クロロホルム、エチレンジクロライ
ド、トリクロルエチレン、などの塩素化炭化水素
系、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、シクロヘキサン、ベンゼン、ヘプタン、オク
タンなどの炭化水素系、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、ギ酸エチルなどのエステル系、テトラヒドロ
フランなどを挙げることが出来る。 比較的高沸点の溶剤としてはシクロヘキサノ
ン、メチルイソブチル、ケトン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、乳酸エチル、メチルセロ
ソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト、トルエン、キシレン、四塩化エタンなどを挙
げることが出来る。 本発明の特徴は導電性金属酸化物微粒子を含む
層をプラスチツクフイルム上に設ける際、該層に
ゆず膚模様を生じせしめる点にある。 ゆず膚模様はVortex CellあるいはVenerd
Cellによるものであるが、例えば尾崎勇次：コー
テイング工学（朝倉書房）や植木他訳：塗料の流
動と顔料分散（共立出版）に詳しく記載されてい
る。 ゆず膚模様は導電性金属酸化物微粒子を含む層
を設ける際、乾燥時に多数の対流核を生ぜしめ、
環状うずを発達させることにより生ぜしめる事が
出来、この現象は、塗布液の溶剤組成と乾燥条件
により依存する。 たとえば、単層塗布の場合には、塗布液中に蒸
発速度の異なる２種以上の溶剤を存在せしめる事
により生ぜしめることが出来、重層塗布の場合に
は下層が完全に乾燥しないうちに上層を塗布する
ことにより生ぜしめることが出来る。 このゆず膚模様の程度は、混合溶剤系の溶剤の
組合せ選択、各塗布層の塗布液中の溶剤の組合せ
の選択により適宜コントロールすることが出来
る。 導電性金属酸化物微粒子を含む層にゆず膚模様
を生ずることによりかかるゆず膚模様がない場合
に比べて、該微粒子の塗布量が少なくても、該層
の電気抵抗値を減少せしめる事が出来る。 本発明のに用いられるプラスチツクフイルムと
しては、たとえばセルロースアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネート、セルロースアセ
テートブチレート、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ナイロンなどのフイルムを
挙げることが出来る。 これら支持体の上に導電性の金属酸化物をバイ
ンダー及び溶剤と混合し塗布するが、溶剤は単層
塗布の場合は沸点の異なる二種以上の溶剤を用
い、重層塗布の場合は下層と上層は沸点の異なる
溶剤を用いる。 塗布方法は特に制限なく例えばデイツプコー
ト、ローラーコート、バーコート、グラビアコー
ト、エアナイフコート、エクストル−ジヨンコー
トなどを挙げることが出来る。 この導電性を付与したプラスチツクフイルムは
写真用支持体、電子写真用支持体、包装用フイル
ム、マツトフイルム用支持体などに使用しうる。 本発明の帯電防止されたプラスチツクフイルム
を写真感光材料用の支持体として用いる場合は、
例えば、ポリエチレンテレフタレートフイルムの
一方の側に導電性金属酸化物微粒子を含む層を設
け、さらにその上に感光性ハロゲン化銀乳剤量、
中間層、保護層を設けてもよく、又は該導電性層
とは反対側の表面に下塗層を介して感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層等の写真層を設けてもよい。 これらの写真層を構成する各種添加剤、例えば
ハロゲン化銀粒子、化学増感剤、カブリ防止剤、
親水性コロイドバインダー、硬膜剤、カラーカプ
ラー、紫外線吸収剤、界面活性剤、マツト剤等に
関しては特に制限はなく、例えばリサーチ・デイ
スクロージヤー誌（Research Disclosure）第
176巻21〜29頁（1978年12月）の記載を参考にす
ることが出来る。 以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説
明するが本発明はこれに限定されるものではな
い。 実施例 １ 塩化第二錫 65重量部 塩化アンチモン 10 〃 エタノール 1000 〃 上の組成の液を0.5Nの水酸化ナトリウム水溶
液を加えPH３になるようにしてコロイド状沈澱を
作つた。 コロイド状沈澱を遠心分離により分離して続い
て過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え水洗し
た。過剰イオンを除去したコロイド状沈澱物100
重量部を水1000重量部に混合し700℃に加熱され
た焼成炉中に噴霧し、導電性の粉末を得た。粉末
の平均粒径は0.25μであつた。 上記粉末を用いＡ及びＢの塗布液を作つた。 Ａ 液 上記粉末 50重量部 スチレン−無水マレイン酸共重量体10 〃 メタノール 200 〃 アセトン 180 〃 エチルセロソルブ 120 〃 Ｂ 液 上記粉末 50重量部 スチレン−無水マレイン酸共重合体10 〃 エチルセロソルブ 500 〃 一方100μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムに次の組成の液を10c.c.／m2の割合で塗布し
130℃で10分間乾燥した。 セルロースアセテート １重量部 ポリエステル（イソフタール酸とエチレングリコ
ール及びトリエチレングリコール共重合体）
0.2重量部 メチレンヂクロライド 100 〃 メタノール 30 〃 エチレンヂクロライド 70 〃 ｍ−クレゾール 20 〃 このセルロースアセテート及びポリエステル混
合液を塗布した上に上記Ａ及びＢの液を第１表に
示す如く塗布量を変化させて塗布し、130℃で10
分間乾燥しサンプルを作つた。 塗布液Ａを使用したものはゆず膚模様がみられ
たが、塗布液Ｂを使用したものにはゆず膚模様の
発生はみられなかつた。 このようにして作つた各試料を25℃、10％RH
の条件下に２時間放置後、塗布膜の表面電気抵抗
値を絶縁抵抗計（川口電機(株)製VE−30型）によ
つて測定し第１表に示す結果を得た。 第１表から明らかな如く、ゆず膚模様が発生し
ている試料の方が低塗布量で抵抗値が低くなつて
いることが判る。
するものであり、特に帯電防止されたプラスチツ
クフイルムの製造方法に関するものである。 一般に、プラスチツクフイルムは、電気絶縁性
であり、各種の取扱いに於て、同種又は異種物質
との間で接触摩擦または剥離が起きると、静電荷
を帯び、塵埃を付着したり、作業者に電撃を与え
たり、あるいは放電を生じたりして重大な障害を
生ずることがしばしばある。 特にプラスチツクフイルムを写真感光材料用の
支持体として用いる場合はこの帯電現象は極めて
重大な問題である。 これらの静電気による障害をなくす最もよい方
法は、プラスチツクフイルム表面の電気伝導性を
上げて、静電荷を短時に漏洩させてしまうことで
ある。 その為、プラスチツクフイルムの帯電防止には
無機塩を吸湿性物質と共に塗布して導電層とした
り、界面活性剤や高分子電解質を単独あるいはバ
インダーと共に塗布し導電層としたりする方法が
よく知られている。 これらの方法については、たとえば丸茂：帯電
防止剤（幸書房）に詳しく記載されている。 しかし、これらのイオン性化合物を塗布して帯
電防止する方法では、帯電防止性能に湿度依存性
がある。 すなわち、塗布層の導電性は湿度が低くなると
ともに減少し、目的とする帯電防止性能を示さな
くなる欠点がある。 一方、例えば米国特許第3062700号、特開昭52
−113224号及び特開昭55−12927号等においては、
電子写真感光体あるいは静電記録体の導電性支持
体用の導電性素材として、その導電性が湿度にほ
とんど依存しない結晶性の酸化亜鉛、酸化第二錫
及び酸化インジユウム等の金属酸化物を用いる事
が記載されている。また特願昭55−47663には感
光性写真材料に導電性の結晶性金属酸化物微粒子
をバインダー中に分散し帯電防止層とすることが
記載されている。 これらの金属酸化物は導電性素材としてすぐれ
たものであるがこれらの導電性金属酸化物微粒子
をバインダーと混合し、導電性の塗布層を形成す
る場合、この塗膜の中で導電性微粒子は相互に接
触し連続相をつくる必要がある。連続相を作るた
めには導電性微粒子をバインダーに対して一定量
以上加え、一定量以上塗布する必要がある。しか
し、塗布量が多くなると金属酸化物微粒子による
着色、あるいは粒子による光の散乱にもとづくヘ
イズが発生し、透明性をそこなつたりし、品質上
好ましくないことがある。また塗布量増によるコ
ストの上昇もある。 従つて、本発明の目的は第１に、帯電防止され
たプラスチツクフイルムの製造方法を提供するこ
とにある。 第２に、低湿時に於ても帯電防止性のすぐれた
プラスチツクフイルムの製造方法を提供すること
にある。 第３に、着色及びヘイズの少ない帯電防止され
たプラスチツクフイルムの製造方法を提供するこ
とにある。 第４に帯電防止されたプラスチツクフイルム製
造方法を提供することにある。 第５に低湿時に於ても優れた帯電防止性を有
し、着色、ヘイズも少ない安価なプラスチツクフ
イルムを提供することにある。 本発明のこれらの目的は、Zn、Ti、Sn、In、
Si、Mo及びＷから選ばれる少なくとも１種の金
属の酸化物及び／又はこれらの金属の酸化物より
構成される１種以上の金属複合酸化物を主体とす
る導電微粒子を含有する層を少なくとも１層プラ
スチツクフイルム上に設ける製造方法において、
(1)前記導電性微粒子、有機溶剤可溶性ポリマー及
び前記ポリマーを溶解し、かつ沸点の異なる有機
溶剤を少なくとも２種含有する液の膜を形成した
後有機溶剤を除去して導電性膜を設けるか、また
は(2)前記導電性微粒子、有機溶剤可溶性ポリマー
及び前記ポリマーを溶解する有機溶剤を含有する
液の膜を形成した後有機溶剤を除去して導電性膜
を設け、かつ前記導電性膜を形成する前もしくは
同時もしくは後に有機溶剤可溶性ポリマー及び前
記ポリマーを溶解し、かつ導電性膜に用いた有機
溶剤とは沸点の異なる有機溶剤を含有した液の膜
を形成した後有機溶剤を除去して膜を設ける、(1)
または(2)の方法のいずれかによつて前記導電性微
粒子を含有する層にゆず膚を発生させる事を特徴
とする帯電防止されたプラスチツクフイルムの製
造方法により達成された。 本発明に用いられる導電性微粒子として好まし
いのは、結晶性の金属酸化物粒子であるが、酸素
欠陥を含むもの、及び用いられる金属酸化物に対
してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等
は一般的に云つて導電性が高いので好ましい。 金属酸化物の例としては、ZnO、TiO2、
SnO2、WO3、In2O3、SiO2、MoO3等あるいはこ
れらの複合酸化物が良く、特にZnO、TiO2及び
SnO2が好ましい。 異種原子を含む例としてはZnOに対してAl、
In等、TiO2に対してはNb、Ta等、SnO2に対し
てはSb、Nb、ハロゲン原子などが挙げられる。 異種原子の添加量は0.01〜30mol％の範囲が好
ましく、特に0.1〜10mol％であることが好まし
い。 本発明に於ける導電性金属酸化物微粒子のサイ
ズは光散乱をできるだけ小さくするために小さい
方が好ましい。 たとえば0.01〜5.0μｍ、特に0.1〜0.5μｍである
ことが好ましい。 本発明に使用される結晶性の金属酸化物から成
る導電性微粒子は主として次のような方法により
製造される。第１に金属酸化物微粒子を焼成によ
り作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下
で熱処理する方法、第２に焼成により金属酸化物
微粒子を製造する時に導電性を向上させる為の異
種原子を共存させる方法、第３に焼成により金属
粒子を製造するさい雰囲気中の酸素濃度を低下さ
せて、酸素欠陥を導入する方法等が容易である。 さらに詳しくは特願昭55−47663号明細書の記
載を参考にすることが出来る。 本発明に於る導電性金属酸化物微粒子の体積抵
抗率は107Ω−cm以下、特に105Ω−cm以下である
ことが好ましい。 又、その塗布量は１平方メートル当り0.05〜
10.0ｇ特に0.1〜５ｇであることが好ましい。 本発明の導電性金属酸化物微粒子はバインダー
中に分散してプラスチツクフイルム上に塗布され
る。 使用し得るバインダーとしては皮膜形成能のあ
る有機溶剤可溶性ポリマーならばよく、例えばア
セチルセルロース、アセチルプロピルセルロー
ス、アセチルブチルセルロース、アセチルフタリ
ルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロ
ース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導
体、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アルキル（ア
ルキル基の炭素水１〜４）アクリレート、メチル
アルキル（アルキル基の炭素水１〜４）アクリレ
ート、酢酸ビニル、無水マレイン酸、アクリル
酸、スチレン、ビニルピロリドン、アクリルアミ
ド、アクリロニトリルなどのホモポリマー又はこ
れらの共重合体、可溶性ポリエステル、可溶性ナ
イロンなどを挙げることができる。 かかるバインダーを溶解するのに用いる有機溶
剤（以下、「溶剤」と略す）としては例えば比較
的低沸点の溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノールなどのアルコール系、メチレン
クロライド、クロロホルム、エチレンジクロライ
ド、トリクロルエチレン、などの塩素化炭化水素
系、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、シクロヘキサン、ベンゼン、ヘプタン、オク
タンなどの炭化水素系、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、ギ酸エチルなどのエステル系、テトラヒドロ
フランなどを挙げることが出来る。 比較的高沸点の溶剤としてはシクロヘキサノ
ン、メチルイソブチル、ケトン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、乳酸エチル、メチルセロ
ソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト、トルエン、キシレン、四塩化エタンなどを挙
げることが出来る。 本発明の特徴は導電性金属酸化物微粒子を含む
層をプラスチツクフイルム上に設ける際、該層に
ゆず膚模様を生じせしめる点にある。 ゆず膚模様はVortex CellあるいはVenerd
Cellによるものであるが、例えば尾崎勇次：コー
テイング工学（朝倉書房）や植木他訳：塗料の流
動と顔料分散（共立出版）に詳しく記載されてい
る。 ゆず膚模様は導電性金属酸化物微粒子を含む層
を設ける際、乾燥時に多数の対流核を生ぜしめ、
環状うずを発達させることにより生ぜしめる事が
出来、この現象は、塗布液の溶剤組成と乾燥条件
により依存する。 たとえば、単層塗布の場合には、塗布液中に蒸
発速度の異なる２種以上の溶剤を存在せしめる事
により生ぜしめることが出来、重層塗布の場合に
は下層が完全に乾燥しないうちに上層を塗布する
ことにより生ぜしめることが出来る。 このゆず膚模様の程度は、混合溶剤系の溶剤の
組合せ選択、各塗布層の塗布液中の溶剤の組合せ
の選択により適宜コントロールすることが出来
る。 導電性金属酸化物微粒子を含む層にゆず膚模様
を生ずることによりかかるゆず膚模様がない場合
に比べて、該微粒子の塗布量が少なくても、該層
の電気抵抗値を減少せしめる事が出来る。 本発明のに用いられるプラスチツクフイルムと
しては、たとえばセルロースアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネート、セルロースアセ
テートブチレート、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ナイロンなどのフイルムを
挙げることが出来る。 これら支持体の上に導電性の金属酸化物をバイ
ンダー及び溶剤と混合し塗布するが、溶剤は単層
塗布の場合は沸点の異なる二種以上の溶剤を用
い、重層塗布の場合は下層と上層は沸点の異なる
溶剤を用いる。 塗布方法は特に制限なく例えばデイツプコー
ト、ローラーコート、バーコート、グラビアコー
ト、エアナイフコート、エクストル−ジヨンコー
トなどを挙げることが出来る。 この導電性を付与したプラスチツクフイルムは
写真用支持体、電子写真用支持体、包装用フイル
ム、マツトフイルム用支持体などに使用しうる。 本発明の帯電防止されたプラスチツクフイルム
を写真感光材料用の支持体として用いる場合は、
例えば、ポリエチレンテレフタレートフイルムの
一方の側に導電性金属酸化物微粒子を含む層を設
け、さらにその上に感光性ハロゲン化銀乳剤量、
中間層、保護層を設けてもよく、又は該導電性層
とは反対側の表面に下塗層を介して感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層等の写真層を設けてもよい。 これらの写真層を構成する各種添加剤、例えば
ハロゲン化銀粒子、化学増感剤、カブリ防止剤、
親水性コロイドバインダー、硬膜剤、カラーカプ
ラー、紫外線吸収剤、界面活性剤、マツト剤等に
関しては特に制限はなく、例えばリサーチ・デイ
スクロージヤー誌（Research Disclosure）第
176巻21〜29頁（1978年12月）の記載を参考にす
ることが出来る。 以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説
明するが本発明はこれに限定されるものではな
い。 実施例 １ 塩化第二錫 65重量部 塩化アンチモン 10 〃 エタノール 1000 〃 上の組成の液を0.5Nの水酸化ナトリウム水溶
液を加えPH３になるようにしてコロイド状沈澱を
作つた。 コロイド状沈澱を遠心分離により分離して続い
て過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え水洗し
た。過剰イオンを除去したコロイド状沈澱物100
重量部を水1000重量部に混合し700℃に加熱され
た焼成炉中に噴霧し、導電性の粉末を得た。粉末
の平均粒径は0.25μであつた。 上記粉末を用いＡ及びＢの塗布液を作つた。 Ａ 液 上記粉末 50重量部 スチレン−無水マレイン酸共重量体10 〃 メタノール 200 〃 アセトン 180 〃 エチルセロソルブ 120 〃 Ｂ 液 上記粉末 50重量部 スチレン−無水マレイン酸共重合体10 〃 エチルセロソルブ 500 〃 一方100μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムに次の組成の液を10c.c.／m2の割合で塗布し
130℃で10分間乾燥した。 セルロースアセテート １重量部 ポリエステル（イソフタール酸とエチレングリコ
ール及びトリエチレングリコール共重合体）
0.2重量部 メチレンヂクロライド 100 〃 メタノール 30 〃 エチレンヂクロライド 70 〃 ｍ−クレゾール 20 〃 このセルロースアセテート及びポリエステル混
合液を塗布した上に上記Ａ及びＢの液を第１表に
示す如く塗布量を変化させて塗布し、130℃で10
分間乾燥しサンプルを作つた。 塗布液Ａを使用したものはゆず膚模様がみられ
たが、塗布液Ｂを使用したものにはゆず膚模様の
発生はみられなかつた。 このようにして作つた各試料を25℃、10％RH
の条件下に２時間放置後、塗布膜の表面電気抵抗
値を絶縁抵抗計（川口電機(株)製VE−30型）によ
つて測定し第１表に示す結果を得た。 第１表から明らかな如く、ゆず膚模様が発生し
ている試料の方が低塗布量で抵抗値が低くなつて
いることが判る。
【表】
実施例 ２
酸化亜鉛 100重量部
Al（NO3）2・9H2Oの10％水溶液 ５ 〃
水 100 〃
上記混合液を20分間超音波照射し、均一分散液
を得た。この分散液を110℃で１時間乾燥後、１
×10-4Torr、600℃で、５分間焼成し、体積抵抗
率２×102Ω−cmの導電性酸化亜鉛を得た。平均
粒径は2μであつた。この粒子をボールミルで粉
砕し、平均粒径0.7μの粒子を得た。 この導電性酸化亜鉛を用いて、Ｃ液及びＤ液で
夫々２種作つた。 Ｃ 液 導電性酸化亜鉛 7.5重量部 15重量部 セルロースジアセテート
2 〃 2 〃 アセトン 100 〃 100 〃 エチルセロソルブ 50 〃 50 〃 Ｄ 液 導電性酸化亜鉛 7.5重量部 15重量部 セルロースジアセテート
2 〃 2 〃 エチルセロソルブ 170 〃 170 〃 上記の液を夫々120μの厚さのセルローストリ
アセテート支持体に乾燥塗布厚が0.8μになるよう
に塗布した。 Ｃ液を塗布した面は、ゆず膚が発生したが、Ｄ
液を塗布した面はゆず膚の発生はみられなかつ
た。 夫々の試料について表面抵抗率を25℃、25％
RHで測定した結果、次の通りであり、液Ｃの方
が導電性酸化亜鉛の塗布量が少いにもかかわら
ず、表面抵抗率は小さな値を示した。
を得た。この分散液を110℃で１時間乾燥後、１
×10-4Torr、600℃で、５分間焼成し、体積抵抗
率２×102Ω−cmの導電性酸化亜鉛を得た。平均
粒径は2μであつた。この粒子をボールミルで粉
砕し、平均粒径0.7μの粒子を得た。 この導電性酸化亜鉛を用いて、Ｃ液及びＤ液で
夫々２種作つた。 Ｃ 液 導電性酸化亜鉛 7.5重量部 15重量部 セルロースジアセテート
2 〃 2 〃 アセトン 100 〃 100 〃 エチルセロソルブ 50 〃 50 〃 Ｄ 液 導電性酸化亜鉛 7.5重量部 15重量部 セルロースジアセテート
2 〃 2 〃 エチルセロソルブ 170 〃 170 〃 上記の液を夫々120μの厚さのセルローストリ
アセテート支持体に乾燥塗布厚が0.8μになるよう
に塗布した。 Ｃ液を塗布した面は、ゆず膚が発生したが、Ｄ
液を塗布した面はゆず膚の発生はみられなかつ
た。 夫々の試料について表面抵抗率を25℃、25％
RHで測定した結果、次の通りであり、液Ｃの方
が導電性酸化亜鉛の塗布量が少いにもかかわら
ず、表面抵抗率は小さな値を示した。
Claims (1)
- １ Zn、Ti、Sn、In、Si、Mo、Ｗの中から選ば
れる少なくとも１種の金属の酸化物及び／又はこ
れらの金属の酸化物より構成される１種以上の金
属複合酸化物を主体とする導電性微粒子を含有す
る層を少なくとも１層プラスチツクフイルム上に
設ける製造方法において、(1)前記導電性微粒子、
有機溶剤可溶性ポリマー及び前記ポリマーを溶解
し、かつ沸点の異なる有機溶剤を少なくとも２種
含有する液の膜を形成した後有機溶剤を除去して
導電性膜を設けるか、または(2)前記導電性微粒
子、有機溶剤可溶性ポリマー及び前記ポリマーを
溶解する有機溶剤を含有する液の膜を形成した後
有機溶剤を除去して導電性膜を設け、かつ前記導
電性膜を形成する前もしくは同時もしくは後に有
機溶剤可溶性ポリマー及び前記ポリマーを溶解
し、かつ導電性膜に用いた有機溶剤とは沸点の異
なる有機溶剤を含有した液の膜を形成した後有機
溶剤を除去して膜を設ける、(1)または(2)の方法の
いずれかによつて前記導電性微粒子を含有する層
にゆず膚を発生させる事を特徴とする帯電防止さ
れたプラスチツクフイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56161294A JPS5863726A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 帯電防止されたプラスチツクフイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56161294A JPS5863726A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 帯電防止されたプラスチツクフイルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5863726A JPS5863726A (ja) | 1983-04-15 |
| JPS6328452B2 true JPS6328452B2 (ja) | 1988-06-08 |
Family
ID=15732369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56161294A Granted JPS5863726A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 帯電防止されたプラスチツクフイルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5863726A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58117228A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-12 | Mitsubishi Monsanto Chem Co | 赤外線の透過を抑制した透明なフイルム又は薄板の製造方法 |
| JPS62139547A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | Daicel Chem Ind Ltd | 帯電防止性を有する感光積層体 |
| JPH073770B2 (ja) * | 1987-07-30 | 1995-01-18 | 日本電気株式会社 | 防眩型陰極線管の製造方法 |
| JP4433300B2 (ja) * | 2005-01-05 | 2010-03-17 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS588498B2 (ja) * | 1974-06-13 | 1983-02-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真記録用材料 |
| JPS5825086B2 (ja) * | 1975-02-28 | 1983-05-25 | 旭化成株式会社 | 導電性高分子成形物の製造方法 |
| JPS5825087B2 (ja) * | 1975-03-26 | 1983-05-25 | 旭化成株式会社 | 導電性高分子成形物の製造方法 |
-
1981
- 1981-10-09 JP JP56161294A patent/JPS5863726A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5863726A (ja) | 1983-04-15 |
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