JPS63298301A - プラスチック製光学部品の反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、プロジェクションテレビ、ビデオカメラ、ス
チルカメラなどの光学系に使用されるプラスチック製光
学部品の反射防止膜に関するものである。

従来の技術 従来、レンズなどの光学部品には無機ガラスが多く使用
されてきたが、近年、軽量で加工が容易であり、かつ量
産に適している点ですぐれているプラスチックが光学部
品の素材として用いられるようになってきた。ところが
、プラスチックレンズなどのプラスチック製光学部品は
無機ガラスと同様に表面での光の反射が大きいという欠
点がある。この欠点を解消するために、プラスチック製
光学部品の表面に無機ガラス表面に形成される反射防止
膜と同様な反射防止膜を形成することによって表面反射
を防止することは一般技術としてよく知られている（た
とえば、「精密プラスチック光学レンズの設計、成形技
術とその問題点コトリケップス技術資料集磁８７　　Ｐ
６−１−Ｐ６−４）。

以下図面を参照しながら従来のプラスチック製光学部品
の反射防止膜について説明する。第２図はプラスチック
製光学部品の表面に無機ガラス表面に形成される反射防
止膜と同様なフッ化マグネシウムからなる反射防止膜を
形成した構造を示す図であり、第３図ｆｂｌはその分光
反射特性を示す図であり、比較のための第３図（Ｃ１は
反射防止膜を形成しない場合のプラスチック製光学部品
の分光反射特性を示す図である。第２図において、１は
プラスチック製光学部品、５はフッ化マグネシウムより
なる反射防止膜である。前記反射防止膜５は−ｍには真
空蒸着法によって形成されるが、最近では、反射防止膜
とプラスチック製光学部品との密着性や耐久性を向上さ
せるためにプラスチック製光学部品を６０℃〜８０℃に
加熱する方法やＲＦベイオンブレーティング法を用いて
反射防止膜を形成する方法が行なわれている。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記従来例において真空蒸着法によつて
フッ化マグネシウムからなる反射防止膜を形成する例で
は、プラスチックの流動温度、熱変形温度が低く、また
、プラスチック内部からの放出ガスの問題もあるため無
機ガラス基板に蒸着膜を形成する時のような基板加熱（
通常３００℃〜４００℃）を行なって強固な蒸着膜の形
成ができない、そのため、５０℃〜６０℃以下の低温で
プラスチック製光学部品の表面に反射防止膜を形成して
いたが、この低温で形成された反射防止膜はプラスチッ
ク表面との密着性も悪く、耐久性も低いものである。ま
た、前記のようにプラスチック製光学部品を６０℃〜８
０℃に加熱したりＲＦベイオンブレーティング法を用い
て反射防止膜を形成した場合には、反射防止膜にクラッ
クが生じやす（、また、形成時の条件を一定にし、かつ
プラスチック表面の状態を一定に保持するのも困難であ
り量産には適するものでない、さらに、第３図山）に示
すように、フン化マグネシウムの単層膜での反射防止膜
は、中心波長（λ。）において残存反射率が約１．５％
あり、プラスチック製光学部品の反射防止膜としては充
分の特性をもっていない。

以上のように従来のプラスチック製光学部品の反射防止
膜には、プラスチック表面との密着性が悪く、耐久性に
も劣り、反射防止膜としての光学特性も充分でないとい
う問題点を有していた。

本発明は上記問題点に鑑み、プラスチック製光学部品に
対して密着性、耐久性および光学特性に優れた反射防止
膜を提供するものである。

問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点を解決するために、プラスチック製
光学部品の表面に、表面側から空気側へ順に、第１層、
第２層、第３層の３層構造の蒸着膜を形成して反射防止
膜を構成する構造であって、第１層は一酸化ケイ素と二
酸化ケイ素の混合物。

第２層は酸化ジルコニウム、第３層は二酸化ケイ素から
なることを特徴とした反射防止膜を提供するものである
。

作用 本発明は、プラスチック製光学部品の表面に、それぞれ
−酸化ケイ素と二酸化ケイ素の混合物。

酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素からなる３層反射防止
膜を形成するものであり、その結果、密着性、耐久性お
よび光学特性に優れた反射防止膜を得ることができる。

実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。

第１図は本発明のプラスチック製光学部品の反射防止膜
の構成図であり、第３図Ｔａｌにその分光反射特性を示
す、第１図において、２は一酸化ケイ素と二酸化ケイ素
の混合物からなる第１Ｎ１３は酸化ジルコニウムからな
る第２Ｎ１４は二酸化ケイ素からなる第３層であり本発
明の実施例におけるその具体的内容は第１表に示すとお
りである。

（λ。−５５０ｎｍ） またそれぞれの層はプラスチック製光学部品を６０℃以
下に保持した状態の下で真空蒸着法により形成した。ま
た第１層は一酸化ケイ素と二酸化ケイ素の混合物の焼結
体を電子ビームを用いて蒸発させて形成したが、−酸化
ケイ素と二酸化ケイ素を別々の蒸発源から同時に蒸発さ
せて形成することも可能である。

上記本発明の実施例の反射防止膜と従来の反射防止膜と
の密着性、耐久性を比較するために行なった試験は、ｆ
ｌ＋セロテープ剥離試験（温度４０℃。

相対湿度８５％の高温・高温雰囲気中に３００時間放置
した後、セロテープをプラスチック製光学部品表面に密
着させ引きはがす）　、＋２３耐湿試験□（温度４０℃
、相対湿度９５％の高温・高温雰囲気中にｔｏｏｏ時間
放置”）　、（３）熱衝撃試験（温度−３０℃、７０℃
の低温および高温の雰囲気中に交互に３０分間ずつの放
置を約１００時間）であり、比較のための従来の反射防
止膜は、前記従来例の一つであるプラスチック製光学部
品の表面にフン化マグネシウムの反射防止膜を真空蒸着
法によって、光学的膜厚λ。／４（λ。−５５０ｎｍ）
の厚さに形成したものであり、第２図に示す構造のもの
である。密着性、耐久性試験の結果は第２表に示すとお
りである。第２表かられかるように本発明の反射防止膜
は従来の反射防止膜より密着性、耐久性の点ですぐれて
いる。

第２表 また分光反射特性も第３図（１１）かられかるように中
心波長（λ。−５５０ｎｍ）で反射率約０．６％であり
従来例より反射防止膜としてすぐれている。

さらに従来例は、反射防止膜形成時にクランクが発生す
ることがあったが本発明の実施例においては反射防止膜
は常時安定していた。

なお、前記実施例では各膜厚を第１表に示すようなもの
にしたが、膜厚は特に上記の値に限定されるものではな
（、設計波長に応じて変化させればよく、構造が第１図
に示すようなものになっていれば何でもよい。

発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明のプラスチック
製光学部品の反射防止膜は、−酸化ケイ素と二酸化ケイ
素の混合物からなる第ｉｎ、酸化ジルコニウムからなる
第２層、二酸化ケイ素からなる第３層という３層構造を
とることによって、プラスチック製光学部品との密着性
を高め、反射防止膜の耐久性を向上するとともに、分光
反射特性にもすぐれ、クランクの発生も阻止するので従
来例のもつ欠点を解消する効果を有する。また、本発明
のプラスチック製光学部品の反射防止膜は量産にも適し
ているためにその実用上の価値は大なるものがある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のプラスチック製光学部品の反射防止膜
の構成図、第２図は従来のプラスチック製光学部品の反
射防止膜の構成図、第３図は分光反射特性図である。 １・・・・・・プラスチック製光学部品、２・・・・・
・−酸化ケイ素と二酸化ケイ素の混合物からなる薄膜、
３・・・・・・酸化ジルコニウムからなる薄膜、４・旧
・・二酸化ケイ素からなる薄膜、５・・・・・・フン化
マグネシウムからなる薄膜。 代理人の氏名　弁理士　中尾敏男′　ほか１名第１ｔ”
’ｌ ５−−−フヮ化マグ茅ンウム Ｘ）１’）ｒＪる薄題呵 第２図 第３図 ：Ｘ　長（７２７７２）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. プラスチック製光学部品の表面に、前記表面側から空気
   側へ順に、第１層、第２層、第３層の３層構造の蒸着膜
   を形成して反射防止膜を構成する構造であって、前記第
   １層は一酸化ケイ素と二酸化ケイ素の混合物からなり、
   前記第２層は酸化ジルコニウム、前記第３層は二酸化ケ
   イ素からなることを特徴とするプラスチック製光学部品
   の反射防止膜。