JPS63299036A

JPS63299036A - 真空装置

Info

Publication number: JPS63299036A
Application number: JP62135671A
Authority: JP
Inventors: Shuji Kikuchi; 菊池　修二
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1987-05-29
Filing date: 1987-05-29
Publication date: 1988-12-06
Anticipated expiration: 2010-06-07
Also published as: JPH0754681B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【発明の目的〕（産業上の利用分野）本発明は、真空装置に関する。

（従来の技術）一般に半導体集積回路の形成には、ボロンやリンなどを
シリコンに加え半導体特性を決めるイオン注入や高融点
金属または化合物薄膜を作るスパッタリング等の処理が
高真空中で行なわれている。

これらの処理を行うイオン注入装置やスパッタリング装
置等では内部の油回転ポンプや油拡散ポンプ、タライオ
ボンプ等真空ポンプで処理室である真空容器内の真空引
きを行う。

しかし、真空容器の中を真空ポンプで排気してやればす
ぐにポンプの到達真空度に達すわけではなく、特に真空
度が上がる程１種々の要因で真空引きが悪化する。その
主な原因として、容器の材料内部に含まれる気体分子や
表面に付着した異物による放出ガスやリークが考えられ
る。

このような、異物によるリーク等の防止例として実開昭
６１−１６２９４１号公報に開示されたものがある。

これによると、真空容器■と真空ポンプ０間の排気管■
に円板状異物流入防止用ネットに）が回転可能に設けら
れている。そして、異物流入防止用ネットに）により真
空ポンプ■側へ流入する異物を捕捉し、かつ、排気管■
の遮蔽量を切換え可能としている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、上記の真空装置では排気管遮蔽量の変更
に伴い異物捕捉範囲も変化し、異物を捕捉しきれないと
いう問題があった。また、異物流入防止用ネットを回転
させるので、捕捉した異物を放出したり１周辺に付着し
ている異物を巻き上げて、異物によるリークが再発する
という問題があった。

本発明は、上記点に対処してなされたもので、異物が真
空排気口付近に付着せず、異物によるリークの発生を防
止し、気密封止性を向上することのできる真空装置を提
供するものである。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段）本発明は、排気口と排気口密閉弁の排気口対向面に異物
の付着を防止する異物捕捉手段を真空容器内に設けたこ
とを特徴とする。

（作　用）本発明の真空装置では、真空容器内に設けた異物捕捉手
段により排気口と排気口密閉弁の排気口対向面に異物の
付着を防止することにより、排気口と排気口密閉弁によ
る気密性を向上させ、メインテナンス時や被処理部材の
搬入搬出時に真空ポンプ内の真空度を保つことができ、
真空容器の真空立ち上げ時間を短縮することを可能とす
るものである。

（実施例）以下、本発明の真空装置を図面を参照して実施例につい
て説明する。

種々の処理を行なう真空容器（１１）が気密に真空ポン
プ（１２）例えば油拡散ポンプと結合され、真空容器（
１１）内には円筒状排気口（１３）が設けられている。

そして、上気排気口（１３）に気密に係合する如く輪状
の０リング（１４）を備えた円板状排気口密閉弁（１５
）が、真空容器（１１）外の昇降機構（１６）により昇
降自在に設けられている。また、真空容器（ｌｌ）内に
は排気口（１３）および排気口密閉弁（１５）の近傍に
は真空容器（１１）内を処理部（１７）と分割する如く
、異物捕捉手段として多数の水平なフィン（１８）を備
えた方形状トラップ（１９）がネジ等により着脱自在に
設けられている。

次に、上述した真空装置の真空処理方法を説明する。

昇降機構（１６）により排気口密閉弁（１５）を下降し
。

排気口（１３）と排気口密閉弁（１５）を０リング（１
４）により気密に係合させ、真空ポンプ（１２）内の真
空度を保つことができる。この時、図示しないバルブに
より真空容器（１１）内の圧力を大気圧に戻し１図。

示しない真空容器開閉口を開け、被処理部材を搬出搬入
したり真空容器内のメインテナンス作業等を行なう。

そして１図示しないバルブと真空容器開閉口を閉じ、昇
降機構（１６）により排気口密閉弁（１５）を上昇し、
真空ポンプ（１２）により真空容器（１１）内を所望の
真空度にする。この後、真空容器内の処理部（１７）で
真空処理を行う、その時、処理部（１７）から発生する
異物は１図の矢印で示す如く上方の排気口密閉弁（１５
）と下方の排気口（１３）へ向かうものはトラップ（１
９）のフィン（１８）に捕捉され、水平方向に向かうも
のは壁面に当たり付着する。ここで、異物はイオンや微
細な粒子なので真空中で直進運動を行う。つまり、上記
異物捕捉手段により排気口（１３）近辺と排気口密閉弁
（１５）の排気口（１３）対向面に対して異物の付着を
防止し、クリーン度を保つことにより、排気口（１３）
と排気口密閉弁（１５）を閉じた時の気密性が向上する
。その結果、異物による放出ガスやリークが防止され、
所望の真空度への到達時間が速くなり、装置の稼働効率
が向上する。

また、真空処理が終了すると、再び真空容器内は大気圧
に戻され、被処理部材を搬出搬入したり、トラップ（１
９）を取り外して清掃するなどのメインテナンス作業を
行なう。

上記実施例では、異物捕捉手段として、水平フィンによ
るトラップで説明したが、排気口（１３）と排気口密閉
弁（１５）の排気口（１３）対向面に飛ぶ異物を捕捉で
きればよく、第２図の如く水平でないフィン構成でもよ
く、また、フィン形状はハニカム構造でもよく、網状フ
ィルターでもよく、上記実施例に限定されるものでない
ことは言うまでもない。　以上述べたようにこの実施例
によれば、排気口密閉弁が上昇して、真空容器内で真空
処理を行なう時に、排気口と排気口密閉弁の排気口対向
面に飛ぶ異物を異物捕捉手段であるフィン形状トラップ
で捕捉することにより、排気口密閉弁が下降して排気口
と形成する真空ポンプの気密度が向上し、そして、真空
容器の真空立ち上げ時間を速くすることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、排気口と排気口密
閉弁の排気口対向面に異物の付着を防止する異物捕捉手
段を真空容器内に設けたことにより、異物による放出ガ
スやリークの発生を防止し、気密封止性を向上し、その
結果、真空到達時間の速い効率的な真空処理を行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明である真空装置の一実施例を示す構成図
、第２図は第１図における異物捕捉手段の他の実施例を
示す図、第３図は従来の真空装置を示す構成図である。図において、１１・・・真空容器　　　　１３・・・排気口１５・・
・排気口密閉弁　　１７・・・処理部１８・・・フィン
　　　　　１９・・・トラップ特許出願人　　東京エレ
クトロン株式会社第１図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）真空容器が真空ポンプにより排気される装置にお
いて、真空容器内に排気口と排気口密閉弁を設け、上記
排気口と排気口密閉弁の排気口対向面に異物の付着を防
止する異物捕捉手段を真空容器内に設けたことを特徴と
する真空装置。
（２）異物捕捉手段を着脱自在としたことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の真空装置。
（３）異物捕捉手段はフィン形状のトラップであること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空装置。