JPS63300525A - ウエハの搬出入用検出装置 - Google Patents
ウエハの搬出入用検出装置Info
- Publication number
- JPS63300525A JPS63300525A JP62133286A JP13328687A JPS63300525A JP S63300525 A JPS63300525 A JP S63300525A JP 62133286 A JP62133286 A JP 62133286A JP 13328687 A JP13328687 A JP 13328687A JP S63300525 A JPS63300525 A JP S63300525A
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- Japan
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- wafer
- carrier
- arm
- wafers
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ウエハブローバ等の半導体ｉａ造用検出装置
において、キャリア内に収納されたウェハを確実に搬出
入するためのウェハの搬出入用検出装置の改良に関する
ものである。
において、キャリア内に収納されたウェハを確実に搬出
入するためのウェハの搬出入用検出装置の改良に関する
ものである。
（従来の技術）
従来、この種の検出装置は、第２図に示すように、複数
枚のウェハ１を収納したキャリア２からアーム機構３に
より所望のウェハ１を搬出入する場合、キャリア２内に
あるウェハ１の位置を、発光索子４と受光素子５並びに
反射鏡６よりなるウェハ位置検出器を使用して半導体メ
モリ等に記憶させ、そのデータをもとにして任意のウェ
ハ１の高さとアーム機構３の高さの相対位置を設定し、
次いで、第３図に示すように、ウェハ１をアーム機構３
にバキュームして搬出し、搬入する際は、ウェハ１をア
ーム機構３でバキュームしてからキャリア２の指定位ｂ
１に搬入するようにしている。
枚のウェハ１を収納したキャリア２からアーム機構３に
より所望のウェハ１を搬出入する場合、キャリア２内に
あるウェハ１の位置を、発光索子４と受光素子５並びに
反射鏡６よりなるウェハ位置検出器を使用して半導体メ
モリ等に記憶させ、そのデータをもとにして任意のウェ
ハ１の高さとアーム機構３の高さの相対位置を設定し、
次いで、第３図に示すように、ウェハ１をアーム機構３
にバキュームして搬出し、搬入する際は、ウェハ１をア
ーム機構３でバキュームしてからキャリア２の指定位ｂ
１に搬入するようにしている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、通常はキャリア２内にあるウエハｌの位
置を、発光素子４の光を反射鏡６により反射し、受光素
子５により検出しているため、キャリア２内に位置して
いるウェハ１が、誤って傾斜している状態で収納されて
いる場合、１系統だけのホトカプラでウェハ１の中心位
置を求めているため、ウェハ１が傾斜していても判別す
ることができない場合があり、ウェハ１をアーム機構３
により載せることができず、ストップしてしまうという
問題が発生していた。更に、ウェハ１がキャリア２内に
正規に収納されていてもウェハ１の１点だけの高さしか
測定していないため、アーム機構３が挿入されたとき、
傾斜状態のウェハ１の最下面と接触して塵を発生させる
ため、下方位置のウェハ１に塵が付着する等の問題が発
生していた。
置を、発光素子４の光を反射鏡６により反射し、受光素
子５により検出しているため、キャリア２内に位置して
いるウェハ１が、誤って傾斜している状態で収納されて
いる場合、１系統だけのホトカプラでウェハ１の中心位
置を求めているため、ウェハ１が傾斜していても判別す
ることができない場合があり、ウェハ１をアーム機構３
により載せることができず、ストップしてしまうという
問題が発生していた。更に、ウェハ１がキャリア２内に
正規に収納されていてもウェハ１の１点だけの高さしか
測定していないため、アーム機構３が挿入されたとき、
傾斜状態のウェハ１の最下面と接触して塵を発生させる
ため、下方位置のウェハ１に塵が付着する等の問題が発
生していた。
本発明は、上記のような問題点に鑑みて開発したもので
あり、ウェハがキャリア内に傾斜した状態で収納されて
いれば、ウェハを搬送する前に事前に察知可能であり、
更にキャリア内のウェハが若干傾斜していても、搬出機
構のアームはウェハに接触することなく確実にウェハを
搬出入するようにしたウェハの搬出入用検出装置を提供
することを目的としたものである。
あり、ウェハがキャリア内に傾斜した状態で収納されて
いれば、ウェハを搬送する前に事前に察知可能であり、
更にキャリア内のウェハが若干傾斜していても、搬出機
構のアームはウェハに接触することなく確実にウェハを
搬出入するようにしたウェハの搬出入用検出装置を提供
することを目的としたものである。
（問題点を解決するための手段）
上記の目的を達成するため、本発明は、ウェハを収納す
るキャリアと、このキャリアを載置する載置台と、キャ
リア内のウェハを搬出入するためのウェハ搬出入機構を
設けると共に、キャリア内のウェハを検出する少なくと
も２系統のウェハ位置検出機構を配設し、このウェハ位
置検出機構の出力によりウェハの搬出入の位置制御を行
なうようにした。そして、上記したウェハ位置検出機構
は光センサを用い、この光センサは、ウェハ搬出入機構
に設けた２個の発光部とこれと対をなす受光部を固定し
て設けると共に、キャリア載置台を昇降可能に設けるよ
うに構成している。
るキャリアと、このキャリアを載置する載置台と、キャ
リア内のウェハを搬出入するためのウェハ搬出入機構を
設けると共に、キャリア内のウェハを検出する少なくと
も２系統のウェハ位置検出機構を配設し、このウェハ位
置検出機構の出力によりウェハの搬出入の位置制御を行
なうようにした。そして、上記したウェハ位置検出機構
は光センサを用い、この光センサは、ウェハ搬出入機構
に設けた２個の発光部とこれと対をなす受光部を固定し
て設けると共に、キャリア載置台を昇降可能に設けるよ
うに構成している。
（作用）
本発明は上述のように構成したから１例えばキャリア内
のウェハの位置を検出する場合、キャリア載置台を昇降
させると共に、２系統のウェハ位置検出機構（光センサ
）でウェハの位置を検出して半導体メモリ等に記憶させ
る。仮に、ウェハが誤って傾斜状態にキャリア内に収納
されている場合、そのデータをもとにして、ウェハの傾
斜度を計算することにより、アームが搬出する前に誤っ
て収納されたウェハを検出することができる。更に、正
規に収納されていても若干傾斜しているウェハの場合、
ウェハの傾斜位置の高さとアームの高さの相対位置を設
定し、アームが傾斜状態のウェハの最下面と接触する状
態を回避して確実にウェハをバキュームしてキャリアよ
り搬出することができる。
のウェハの位置を検出する場合、キャリア載置台を昇降
させると共に、２系統のウェハ位置検出機構（光センサ
）でウェハの位置を検出して半導体メモリ等に記憶させ
る。仮に、ウェハが誤って傾斜状態にキャリア内に収納
されている場合、そのデータをもとにして、ウェハの傾
斜度を計算することにより、アームが搬出する前に誤っ
て収納されたウェハを検出することができる。更に、正
規に収納されていても若干傾斜しているウェハの場合、
ウェハの傾斜位置の高さとアームの高さの相対位置を設
定し、アームが傾斜状態のウェハの最下面と接触する状
態を回避して確実にウェハをバキュームしてキャリアよ
り搬出することができる。
（実施例）
次に、本発明ウェハの搬出入用検出装置の一実施例を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
ウェハ例えば半導体ウェハ１１は、キャリア１２内に所
定の間隔で設けられた各棚間に一枚づつ複数枚収納され
ている。このキャリア１２は、エレベータ方式の載置台
１６上に載置されており。
定の間隔で設けられた各棚間に一枚づつ複数枚収納され
ている。このキャリア１２は、エレベータ方式の載置台
１６上に載置されており。
この載置台１６は、パルスモータ１７ａの回転軸にロー
ラ径を変えた結合でベルト１７ｂにより係合し、このベ
ルト１７ａにより回転制御される如く直立したボールス
クリュー１７ｃ等に結合されている。このスクリュー１
７ｃの上方には、上記載置台６が螺合され、上記スクリ
ュー１７ｃの回転により昇降移動するごとく昇降機構が
構成されている。この昇降機構は、ウェハの位置検出情
報により制御するようにしている。
ラ径を変えた結合でベルト１７ｂにより係合し、このベ
ルト１７ａにより回転制御される如く直立したボールス
クリュー１７ｃ等に結合されている。このスクリュー１
７ｃの上方には、上記載置台６が螺合され、上記スクリ
ュー１７ｃの回転により昇降移動するごとく昇降機構が
構成されている。この昇降機構は、ウェハの位置検出情
報により制御するようにしている。
上記キャリア１２と対向した位置には、ウェハ１１を吸
着するアーム１３が設けられ、このアーム１３にはウェ
ハ１１をバキュームするための吸引パイプに連結したバ
キューム孔１３ａが形成され、ウエハプローバ等の本体
の固定部分１８ａに設けたウェハ搬出入機構１９の制御
によりウェハ１１の位置に搬入或は搬出するように構成
されている。
着するアーム１３が設けられ、このアーム１３にはウェ
ハ１１をバキュームするための吸引パイプに連結したバ
キューム孔１３ａが形成され、ウエハプローバ等の本体
の固定部分１８ａに設けたウェハ搬出入機構１９の制御
によりウェハ１１の位置に搬入或は搬出するように構成
されている。
上記ウェハ搬出入機構１９は固定部分１８ａに設けられ
たモータの回転軸にベルト結合されたローラに回転伝達
し、この回転はさらに上記アーム１３を矢印方向に移動
させるようにベルト結合機構が設けられている。上記ア
ーム１３は黒色塗布したＡＱ板で構成されているが、合
成樹脂でも良い。
たモータの回転軸にベルト結合されたローラに回転伝達
し、この回転はさらに上記アーム１３を矢印方向に移動
させるようにベルト結合機構が設けられている。上記ア
ーム１３は黒色塗布したＡＱ板で構成されているが、合
成樹脂でも良い。
このアーム１３の走行路でキャリア１２間にはウェハ位
置検出機構が設けられ、とのウェハ位置検出機構は光セ
ンサを用いており、収納されたウェハ１１を介在して一
方例えば上記アーム１３側には、発光素子を内蔵した発
光部１４ａ、１４ｂが２系統配設され、この発光部１４
ａ、１４ｂは本体の固定部分１８ａに設けられており、
この発光部と対を成す受光素子を内蔵した２系統の受光
部１５ａ、１５ｂはウェハ１１を介した反対側の固定部
分１８ｂに設けられている。
置検出機構が設けられ、とのウェハ位置検出機構は光セ
ンサを用いており、収納されたウェハ１１を介在して一
方例えば上記アーム１３側には、発光素子を内蔵した発
光部１４ａ、１４ｂが２系統配設され、この発光部１４
ａ、１４ｂは本体の固定部分１８ａに設けられており、
この発光部と対を成す受光素子を内蔵した２系統の受光
部１５ａ、１５ｂはウェハ１１を介した反対側の固定部
分１８ｂに設けられている。
上記ウェハ位置検出機構は、キャリアと独立してウェハ
の収納位置を介した位置であれば何れでも良く、また一
方を反射鏡を設置して発光、受光を同一方向に設置して
も良い。要するに、発光、受光の光学系平行状態を維持
する光路である。
の収納位置を介した位置であれば何れでも良く、また一
方を反射鏡を設置して発光、受光を同一方向に設置して
も良い。要するに、発光、受光の光学系平行状態を維持
する光路である。
次に上記の実施例の作用について説明する。
例えばキャリア１２内のウェハ１１の位置を検出する場
合、キャリア載置台１６を昇降させると共に、その際に
１発光部１４ａ、１４ｂと受光部１５ａ、１５ｂより成
る２系統の光センサでウェハ１１の位置と平行状態を検
出して半導体メモリ等に記憶する。即ち、載置台１６を
移動させ、最初に光路を遮断する位置と、次に開光する
位置をメモリに記憶し、上記２位置間の距にを演算して
傾きに換算することができる。このような機能を持つ光
学系としては半導体レーザ光などは好適である。仮に、
ウェハ１１が誤って傾斜状態にキャリア１２内に収納さ
れている場合、そのデータをもとにして、ウェハ１１の
傾斜度を計算することによりアーム１３が搬出する前に
誤って収納されたウェハ１１を検出することができる。
合、キャリア載置台１６を昇降させると共に、その際に
１発光部１４ａ、１４ｂと受光部１５ａ、１５ｂより成
る２系統の光センサでウェハ１１の位置と平行状態を検
出して半導体メモリ等に記憶する。即ち、載置台１６を
移動させ、最初に光路を遮断する位置と、次に開光する
位置をメモリに記憶し、上記２位置間の距にを演算して
傾きに換算することができる。このような機能を持つ光
学系としては半導体レーザ光などは好適である。仮に、
ウェハ１１が誤って傾斜状態にキャリア１２内に収納さ
れている場合、そのデータをもとにして、ウェハ１１の
傾斜度を計算することによりアーム１３が搬出する前に
誤って収納されたウェハ１１を検出することができる。
更に、正規に収納されていても若干傾斜しているウェハ
１１の場合、ウェハ１１の傾斜位置の高さとアーム１３
の高さの相対位置を設定し、アーム１３がウェハ１１と
接触する状態を回避して確実にウェハ１１をバキューム
してキャリア１２より搬出することができる。
１１の場合、ウェハ１１の傾斜位置の高さとアーム１３
の高さの相対位置を設定し、アーム１３がウェハ１１と
接触する状態を回避して確実にウェハ１１をバキューム
してキャリア１２より搬出することができる。
なお、上記の実施例以外に、第２図に示すようにアーム
機構の載置台を昇降可能に設け、ウェハを収納したキャ
リアを固定式にして、発光部と受光並びに反射鏡より成
るウェハ検出機構を、同様に少なくとも２系統配置する
ことにより上記の実施例と同様の作用効果を得ることも
可能である。
機構の載置台を昇降可能に設け、ウェハを収納したキャ
リアを固定式にして、発光部と受光並びに反射鏡より成
るウェハ検出機構を、同様に少なくとも２系統配置する
ことにより上記の実施例と同様の作用効果を得ることも
可能である。
（発明の効果）
以上のことから明らかなように、本発明は、キャリア内
のウェハを検出する少なくとも２系統のウェハ位置検出
機構を水平位置に配設したことを特徴とするものである
から、ウェハがキャリア内に傾斜した状態で収納されて
いても、少なくも２系統のウェハ位置検出機構（光セン
サ）の検出により、搬出入機構のアームはウェハの最下
面に確実に設定されるので、ウェハの下面に接触するこ
となくウェハをバキュームして搬出入することが可能と
なり、アームの接触によるウェハの発塵を防止したウェ
ハの搬出入用検出装置を提供することができる。
のウェハを検出する少なくとも２系統のウェハ位置検出
機構を水平位置に配設したことを特徴とするものである
から、ウェハがキャリア内に傾斜した状態で収納されて
いても、少なくも２系統のウェハ位置検出機構（光セン
サ）の検出により、搬出入機構のアームはウェハの最下
面に確実に設定されるので、ウェハの下面に接触するこ
となくウェハをバキュームして搬出入することが可能と
なり、アームの接触によるウェハの発塵を防止したウェ
ハの搬出入用検出装置を提供することができる。
第１図は、本発明におけるウェハの搬出入用検出装置の
一実施例を示した斜視図であり、第２図及び第３図は従
来例を示した斜視図である。 ＩＬ・・・ウェハ、１２・・・キャリア、１３−−−ア
ーム、１４ａ、１４ｂ−−−発光部、１５ａ、１５ｂ・
・・受光部、 １６・・・ウェハ載置台、 １７ａ、１７ｂ、１７ｃ・・・昇降機構。 特 許 出 願 人 東京エレクトロン株式会社、−一
ン、Ｖ−−′
一実施例を示した斜視図であり、第２図及び第３図は従
来例を示した斜視図である。 ＩＬ・・・ウェハ、１２・・・キャリア、１３−−−ア
ーム、１４ａ、１４ｂ−−−発光部、１５ａ、１５ｂ・
・・受光部、 １６・・・ウェハ載置台、 １７ａ、１７ｂ、１７ｃ・・・昇降機構。 特 許 出 願 人 東京エレクトロン株式会社、−一
ン、Ｖ−−′
Claims (2)
- （１）ウェハを収納するキャリアと、このキャリアを載
置する載置台と、キャリア内のウェハを搬出入するため
のウェハ搬出入機構を設けると共に、キャリア内のウェ
ハを検出する少なくとも２系統のウェハ位置検出機構を
配設し、このウェハ位置検出機構の出力によりウェハの
搬出入の位置制御を行なうことを特徴とするウェハの搬
出入用検出装置。 - （２）上記したウェハ位置検出機構は、光センサを用い
、この光センサは、ウェハ搬出入機構に設けた２個の発
光部とこれと対をなす受光部を固定して設けると共に、
上記キャリア載置台を昇降可能に設けた特許請求の範囲
第１項記載のウェハの搬出入用検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62133286A JPS63300525A (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | ウエハの搬出入用検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62133286A JPS63300525A (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | ウエハの搬出入用検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63300525A true JPS63300525A (ja) | 1988-12-07 |
Family
ID=15101094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62133286A Pending JPS63300525A (ja) | 1987-05-30 | 1987-05-30 | ウエハの搬出入用検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63300525A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02198152A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | カセット内ウェハのハンドリング方法および装置 |
| JPH02198926A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-07 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | カセット内のウェハ取出し制御方式 |
| JP3000001U (ja) * | 1994-01-01 | 1994-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置用配線 |
| EP0445651B1 (de) * | 1990-03-05 | 1996-07-10 | Tencor Instruments | Verfahren und Vorrichtung zum Halten und Transportieren von plattenförmigen Substraten |
| KR100614635B1 (ko) * | 1999-07-08 | 2006-08-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 공정에 사용되는 노광 시스템 |
| JP2018044858A (ja) * | 2016-09-14 | 2018-03-22 | 株式会社レクザム | ロボットのハンド部の傾き検査装置及びその傾き検査方法 |
| US20240071736A1 (en) * | 2020-10-15 | 2024-02-29 | Semes Co., Ltd | Apparatus for treating substrate and method for measuring degree of wear of consumable component |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61216442A (ja) * | 1985-03-22 | 1986-09-26 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | キヤリアの搬送装置 |
-
1987
- 1987-05-30 JP JP62133286A patent/JPS63300525A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61216442A (ja) * | 1985-03-22 | 1986-09-26 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | キヤリアの搬送装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2018044858A (ja) * | 2016-09-14 | 2018-03-22 | 株式会社レクザム | ロボットのハンド部の傾き検査装置及びその傾き検査方法 |
| US20240071736A1 (en) * | 2020-10-15 | 2024-02-29 | Semes Co., Ltd | Apparatus for treating substrate and method for measuring degree of wear of consumable component |
| US12580165B2 (en) | 2020-10-15 | 2026-03-17 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for treating substrate and method for measuring degree of wear of consumable component |
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