JPS63302597A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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Publication number
JPS63302597A
JPS63302597A JP13817587A JP13817587A JPS63302597A JP S63302597 A JPS63302597 A JP S63302597A JP 13817587 A JP13817587 A JP 13817587A JP 13817587 A JP13817587 A JP 13817587A JP S63302597 A JPS63302597 A JP S63302597A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
film
films
solution
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13817587A
Other languages
English (en)
Inventor
Riichi Okubo
利一 大久保
Teruaki Okada
岡田 晃明
Shoji Kawakubo
川窪 鐘治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP13817587A priority Critical patent/JPS63302597A/ja
Publication of JPS63302597A publication Critical patent/JPS63302597A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/428Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in substrates having a metal pattern

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 第1図を参照して各工程について分脱する:げ)回路パ
ターン部の形成 両面銅張積層板は、絶縁材(基材)10両面に銅箔2を
積層して成る周知のものである。絶縁相の材質及び銅箔
の厚さは任意である。
必要とされる回路パターン部Pがエツチングレジスト3
によシ被覆される。エツチングレジスト5は、印刷法或
いは写真法いずれによっても形成できる。前者の場合、
エツチングレジストが銅箔上にスクリーン印刷等によシ
印刷される。後者の場合、感光性エツチングレジスト被
覆、露光及び現像によシエッチングレジストが形成され
る。感光性エツチングレジストとしては、ドライフィル
ム及び液状フォトレジストいずれも使用可能である。そ
の後、エツチング液によシ銅箔の露出部分を溶解除去し
、最後にエツチングレジスト5を剥離すると(ロ)路/
!!ターン部Pが現出する。エツチング液としては、例
えば塩化第二鉄−塩酸溶液が使用されうる0本工程にお
ける、エツチングレジスト、エツチング液、剥離液(水
醜化アルカリ、トリクレン、塩化メチレン等)その他の
薬剤については、多くのものが知られておシ、本発明に
おいてはそれらのいずれをも使用できるので、これ以上
詳述しない。
(ロ)触媒液に対して安定な皮膜の形成「触媒液に対し
て安定な」とは、後に触媒液に浸漬されるに際し、触媒
液に浸されず、被Q下地と触媒液との接触を防止しうる
ということである。
この皮膜4の形成は、ドライフィルムラミネート法によ
っても行いうるが、もつとも簡便な方法として適宜のレ
ジスト溶液中に浸漬する浸流法の採用が好ましい。回路
パターン部形成ずみ積層板を、例えば溶剤可溶性または
アルカリ可溶性のレジストインキを溶媒で希釈した溶液
に浸漬し、その後乾燥する。どのようなインキを使用す
るかは、後に使用する触媒液がアルカリ性か酸性かによ
って決定される。通常は、アルカリ可溶性のインキが使
用される。例えは、太陽インキ(株)製X−87、As
−501)等が挙げられる。レジストインキ溶媒として
は、ブチルセロソルブ、メタノール、ラッカー等が用い
られる。
(ハ)スルーホールの形成 スルーホール5の形成のための穴あけは、ドリル(NC
ドリル)、パンチング等の加工によって実施される。
図面に示し九2つのスルーホールのうち右側のものは下
面においてランドが形成されていないことに注目された
い。本発明においては、第3図に示したような様々のラ
ンドの形成が可能であ)、パターン設計の融通性を増大
す乏。回路ノターン形成時のエツチング液と触媒との接
触の心配がまったく存在しないので自由なランド設計が
可能である。
に)触媒付与 適宜の前処理後、触媒液に浸漬する。例えば、触媒液が
O性であれは酸性の脱脂液に、アルカリ性であればアル
カリ性の脱脂液に浸漬し、水洗を行っておくことが好ま
しい。酸性触媒液としては、場化第1スズ、塩化パラジ
ウム及び塩酸を含む水溶液が代表的に使用される。日本
鉱業(株)製NC−5、シツゾレー社製キャタポジット
44等が使用されうる。スズ−パラジウムコロイド系の
触媒6が表面に付着する。ここで、触媒の促進化を行っ
てもよいし、次の皮膜剥離後に行ってもよい。
アルカリ性触媒液としては、シエーリング社りのアクチ
ベーターネオガントが挙げられる。
(ホ)皮膜の剥離 皮膜の性質に応じた剥離液中に浸漬し、揺動することに
より皮it−そこに付着する触媒と共に除去する。アル
カリ性触媒液のレジストインキ皮膜に対しては一般に1
〜10wt%のNaOH,KOH等のアルカリ溶液が用
いられ、溶剤可溶性レジストインキ皮膜に対しては適宜
のf&剤が用いられる。
こうしてスルーホール内壁及びそれにめっき必要部にの
み触媒が残留する。
(へ)無電解鋼めっき スルーホール内壁及び回路パターン部に無′Fi解銅め
pき皮H7を形成する。高速厚付無電解銅めつき液の使
用が好ましい。めっき液の組成例としては次のようなも
のがある。
Cu2+     α005〜α1 mol/jEDT
A      (LOl 〜α2 mat/jNaOH
によJ    p+4 1 to 〜1 &5 ニal
l!MHCHOa宜、好ましくはaO06−α06 m
ol/j日本鉱業(株)製KC−100が好適例である
以上の工程に加えて、回路パターン形成の為のエツチン
グレジストの剥離後に或いは(ホ)の皮膜剥離後に耐無
電解めっき性のレジストを印刷する工程を組込むことも
出来る。これは、非回路パターン部へのめっきの付着t
−確実に防止するためであるO こうして、基板の上下銅回路パターシラスルーホール内
胴めっき膜で導通しんプリント配、−板が完成する。
実施例 G−10グレードの両面鋼張積層板に常法によシエッチ
ングで銅回路パターンを描いた。この基板を、大腸イン
キのX−87t−メタノールで希釈した浴液に浸漬した
後、乾燥(80℃、10分)し、表面に、均一な皮膜管
得九。この基板の適切な位置にNCドリルにより穴を明
けた。そして、この基板を階柱の脱脂液に浸漬し、水洗
し、さらに、希塩醗浸漬、NC−5浸漬(日本鉱業)、
水洗、NR−5浸漬(日本鉱業)、水洗という工程を経
ることによシ触媒付与し、次に、2wt%NaOH治液
に浸漬して、インキを除去後水洗、乾燥した。
この基板には、耐めっき性レジストインキを印JtIl
jシた後、スルーホールの無電解銅めっきが行われた。
このめっきは、日本鉱業のxc−1oozが用いられ、
膜厚は35声とした。めっき後、基板の緒特性が試験さ
れ、下表の結果が得られた。
表 特性試験結果 抵抗率の値から導体間の絶縁性が高水準に保たれている
ことがわかる。即ち、導体間に触媒や銅の微粉の残留が
ない。
発明の効果 t 触媒の失活を防ぎ、無電解めっきの析出を完金なも
のとし、プリント基板の信頼性を高める。
2. スルーホールランド部の形状の融通性が大きく、
/ソターン設計の自由度を高める。
& 触媒付与〜触媒液に対し安定な皮膜の剥離〜無電解
めっきが連続工程であシ、自動搬送装置を用いて省力化
し、生産性を向上できる。
4、 触媒液に対し安定な皮膜の形成が、溶液への浸漬
によシ実施しうるので印桐等の必要がなく、総じて全体
プロセスの作業性が良く、生産性を向上する。
& スルーホールの内壁の工程液による汚染がない0
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明方法の工程順序を示すフローシート、
第2図は先行技術の70−シート、そして第5 (a)
 、(b)及び(e)図はスルーホールのランドの変更
例を示す。 1:絶縁材 2:銅箔 3:エツチングレジスト P:回路パターン部 4:触鰹液に対して安定な皮膜 5ニスルーホール 6:触媒 7:無電解鋼めっき 、  同        風  間  弘  凧   
)゛・、−し′ 7一 手続補正書 昭和62年10月26日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)(イ)両面銅張積層板に回路パターン部を形成し、 (ロ)該回路パターン部形成ずみ積層板の表面に触媒液
    に対して安定な皮膜を形成し、 (ハ)スルーホールを形成し、 (ニ)該スルーホールの内壁及び前記触媒液に対して安
    定な皮膜上に触媒付与を行い、 (ホ)該触媒液に対して安定な皮膜を剥離し、(ヘ)前
    記スルーホール内壁及び必要部に無電解鋼めっき膜を形
    成する 工程を包含するプリント配線板の製造方法。 2)(ロ)の触媒液に対して安定な皮膜の形成が溶剤可
    溶性またはアルカリ可溶性レジスト溶液中への浸漬によ
    りもたらされる特許請求の範囲第1項記載の方法。 3)(イ)の回路パターン部形成後或いは(ホ)の触媒
    液に対して安定な皮膜の剥離後耐無電解めっき性レジス
    トを無電解めっき不要部に形成する特許請求の範囲第1
    項記載の方法。
JP13817587A 1987-06-03 1987-06-03 プリント配線板の製造方法 Pending JPS63302597A (ja)

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