JPS63304446A - 光カードの製造方法 - Google Patents
光カードの製造方法Info
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- JPS63304446A JPS63304446A JP14008587A JP14008587A JPS63304446A JP S63304446 A JPS63304446 A JP S63304446A JP 14008587 A JP14008587 A JP 14008587A JP 14008587 A JP14008587 A JP 14008587A JP S63304446 A JPS63304446 A JP S63304446A
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- JP
- Japan
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- gravure
- thin film
- coating liquid
- substrate
- gravure roll
- Prior art date
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光学的に情報の記録・再生を行なうカード状
の情報記録媒体の製造方法に関し、特にカードサイズ相
当の枚葉平伏基板に対して光記録膜用塗布液を均−薄膜
状に形成することができるように改良された光カードの
製造方法に関する。
の情報記録媒体の製造方法に関し、特にカードサイズ相
当の枚葉平伏基板に対して光記録膜用塗布液を均−薄膜
状に形成することができるように改良された光カードの
製造方法に関する。
(従来の技術)
従来、光ビームを用いて情報を記録し且つかくして記録
された情報を光ビームを用いて再生する記録媒体の形態
としで、カード状、ディスク状、テープ状等各種のもの
が昶られている。なかでも、カード状に形成された光学
的情報記録媒体(以下、「光カード」と称する〕は、製
造が容易で、携帯性が良く、アクセス性にも優れる記録
媒体として大きな需要が見込まれている。
された情報を光ビームを用いて再生する記録媒体の形態
としで、カード状、ディスク状、テープ状等各種のもの
が昶られている。なかでも、カード状に形成された光学
的情報記録媒体(以下、「光カード」と称する〕は、製
造が容易で、携帯性が良く、アクセス性にも優れる記録
媒体として大きな需要が見込まれている。
この光カードには、情報の書込み後、現像処理等の後工
程を必要とせず、書込まn文情報を直接読出すことので
きる所謂DRAW (Direct ReadAfte
r Write )型のものがある。このDRAW 型
光カードに情報を記録するには、記録膜に対してレーボ
ビーム等のエネルギービームをスポット状ニ照射しで、
記録膜の一部を状態変化させることにより行なわれる。
程を必要とせず、書込まn文情報を直接読出すことので
きる所謂DRAW (Direct ReadAfte
r Write )型のものがある。このDRAW 型
光カードに情報を記録するには、記録膜に対してレーボ
ビーム等のエネルギービームをスポット状ニ照射しで、
記録膜の一部を状態変化させることにより行なわれる。
この次め、DRAW型光カードの記録膜には熱的に変形
可能な所謂ヒートモード記録材料が用いられている。
可能な所謂ヒートモード記録材料が用いられている。
又、この光カードには、オートトラッキング制御のため
の案内溝(以下、「トラック溝」と称する)が基板上に
予め一定間隔を有して平面状に設けられており、スポッ
ト状に照射された光ビームがこのトラック溝に案内され
て高精度のトラック制御全可能とし、又トラック溝のな
い平面基板に比べて高速アクセスを可能とするものであ
る。
の案内溝(以下、「トラック溝」と称する)が基板上に
予め一定間隔を有して平面状に設けられており、スポッ
ト状に照射された光ビームがこのトラック溝に案内され
て高精度のトラック制御全可能とし、又トラック溝のな
い平面基板に比べて高速アクセスを可能とするものであ
る。
このトラック溝を形成する方法としては、従来から、基
板が熱可塑性樹脂である場合には、融点以上の温度下で
射出成形又は熱プレス成形によシスタンパ型を転写する
熱転写法、或いは基板上に熱硬化樹脂組成物金塗布した
後、メタン・母をこの塗布面上に密着させ、これに紫外
線を照射して該組成物を硬化させることによりスタンノ
や型を転写する光転写法が知ら九でいる。
板が熱可塑性樹脂である場合には、融点以上の温度下で
射出成形又は熱プレス成形によシスタンパ型を転写する
熱転写法、或いは基板上に熱硬化樹脂組成物金塗布した
後、メタン・母をこの塗布面上に密着させ、これに紫外
線を照射して該組成物を硬化させることによりスタンノ
や型を転写する光転写法が知ら九でいる。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、光カード等の光学的情報記録媒体の光記録膜
として用いる有機系薄膜形成用塗布液による薄膜形成法
としては、スピンナ一方式、ロールコータ一方式、ワイ
ヤーパ一方式、ディッピング方式、スゾレ一方式、グラ
ビア方式、スカリーン方式、スリットノズル方式等が知
ら汎ている。
として用いる有機系薄膜形成用塗布液による薄膜形成法
としては、スピンナ一方式、ロールコータ一方式、ワイ
ヤーパ一方式、ディッピング方式、スゾレ一方式、グラ
ビア方式、スカリーン方式、スリットノズル方式等が知
ら汎ている。
トラック溝を有するDRAW型光カードにおいては、光
記録膜を形成する際、上記形成方式により所望パターン
のみが形成されるのが好ましい。又、記録感度全長くす
るには、光記録膜が均一な膜厚を有して形成されるのが
好ましい。
記録膜を形成する際、上記形成方式により所望パターン
のみが形成されるのが好ましい。又、記録感度全長くす
るには、光記録膜が均一な膜厚を有して形成されるのが
好ましい。
ここで、上記の薄膜形成法のなかで比較的均一な膜厚が
得られるダイレクトグラビア方式についで、第2図を参
照しながら説明する。
得られるダイレクトグラビア方式についで、第2図を参
照しながら説明する。
第2図は、従来のダイレクトグラビア方式の模式図であ
る。
る。
同図においで、巻出し用ロール9に巻回されたフィルム
状基板11は、ここから供給されて巻取り用ロール10
で巻取られる。ロール9.10間ニハバックアッグロー
ル12及びこれと互いに接しながら回転するグラビアロ
ール1が設けられ、このパックアラグロール12とグラ
ビアロール1間にフィルム状基材11が挿入されている
。グラビアロール1の周゛上にはグラビア板目2が投げ
ら九でおり、インクツセン14中の塗布液13をくみ上
げることができる。グラビアロール10回転によりグラ
ビア板目2に付着した塗布液13のうち、余分なものは
ドクターグレード3によりかき落される。グラビア柾目
2に残留した途布液13はノ4ツクアップロール12に
押圧されてフ(ルム状基材11に転写され、これが乾燥
装置4を通過することにより薄膜が形成される。
状基板11は、ここから供給されて巻取り用ロール10
で巻取られる。ロール9.10間ニハバックアッグロー
ル12及びこれと互いに接しながら回転するグラビアロ
ール1が設けられ、このパックアラグロール12とグラ
ビアロール1間にフィルム状基材11が挿入されている
。グラビアロール1の周゛上にはグラビア板目2が投げ
ら九でおり、インクツセン14中の塗布液13をくみ上
げることができる。グラビアロール10回転によりグラ
ビア板目2に付着した塗布液13のうち、余分なものは
ドクターグレード3によりかき落される。グラビア柾目
2に残留した途布液13はノ4ツクアップロール12に
押圧されてフ(ルム状基材11に転写され、これが乾燥
装置4を通過することにより薄膜が形成される。
このダイレクトグラビア方式においで、所望のトラック
溝)9ターンをグラビア板目2に形成しておおけば光記
録層の薄膜形成と同時に所望・9ターンが形成される。
溝)9ターンをグラビア板目2に形成しておおけば光記
録層の薄膜形成と同時に所望・9ターンが形成される。
ところが、このダイレクトグラビア方式による薄膜形成
法は、上述■ように長尺のフィルム状基拐又は大型のシ
ート状基材への塗布しかできず、カードサイズ相当の枚
葉平伏基板に薄膜を形成することは不可能とされている
。
法は、上述■ように長尺のフィルム状基拐又は大型のシ
ート状基材への塗布しかできず、カードサイズ相当の枚
葉平伏基板に薄膜を形成することは不可能とされている
。
ところで、トラック溝の形成は、精度の点を考慮すれば
、カードサイズ相当の枚葉平伏基板に対して行なわれる
のが好ましい。
、カードサイズ相当の枚葉平伏基板に対して行なわれる
のが好ましい。
従っで、本発明は、従来のダイレクトグラビア方式を改
良しで、カードサイズ相当の枚葉平伏透明基板に対して
所望のパターンを形成しつつ光記録用有機系薄膜全簡便
かつ適確に形成することができる光カードの製造方法を
提供すること全目的とする。
良しで、カードサイズ相当の枚葉平伏透明基板に対して
所望のパターンを形成しつつ光記録用有機系薄膜全簡便
かつ適確に形成することができる光カードの製造方法を
提供すること全目的とする。
(問題点を解決する念めの手段)
上述した従来の問題点を解決する友めに、本発明の光カ
ードの製造方法は、円筒状グラビアロールの外周上に設
けられ友所望ノ!ターンを有するダ2ビア板目に有機系
薄膜形成用塗布液を必要量供給して該グラビアロールを
回転させ、この回転するグラビアロール外周上のグラビ
ア板目を枚葉平板状の光カード基板に押圧転写すること
により該基板面に前記ノ臂ターンを有する光記録層の有
機系薄膜を形成することを特徴とする。
ードの製造方法は、円筒状グラビアロールの外周上に設
けられ友所望ノ!ターンを有するダ2ビア板目に有機系
薄膜形成用塗布液を必要量供給して該グラビアロールを
回転させ、この回転するグラビアロール外周上のグラビ
ア板目を枚葉平板状の光カード基板に押圧転写すること
により該基板面に前記ノ臂ターンを有する光記録層の有
機系薄膜を形成することを特徴とする。
(作 用)
上述したように、本発明方法においで、グラビア板目は
円筒状グラビアロールの外周上に設けられ、このグラビ
ア板目には所望ノやターンが形成されている。従っで、
このグラビア板目に有機系薄膜形成用塗布液を供給しで
、グラビアロールを回転させながら、枚葉平板状の光カ
ード基板にグラビア板目を押圧することにより、グラビ
ア板目に形成された所望パターン及び光記録膜としての
有機系薄膜が転写される。
円筒状グラビアロールの外周上に設けられ、このグラビ
ア板目には所望ノやターンが形成されている。従っで、
このグラビア板目に有機系薄膜形成用塗布液を供給しで
、グラビアロールを回転させながら、枚葉平板状の光カ
ード基板にグラビア板目を押圧することにより、グラビ
ア板目に形成された所望パターン及び光記録膜としての
有機系薄膜が転写される。
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第1図(、)〜(c)は本発明方法による光記録用有機
系薄膜の形成工程を示す模式図である。これらの図にお
いで、1はアルミ製シリンダーに鋼メッキを施し、グラ
ビア板目2をエツチングし九後に表面をクロムメッキし
次円筒状グラビア(以下、「グラビアロール」と称する
)である。グラビア板目2には所望の薄膜パターンが所
要深さに形成さnている。8はニードルであり、このニ
ードル8から必要量の塗布液9がグラビアロール1のグ
ラビア板目2上に滴下される。この際の滴下位置は1図
示のように、グラビアロール1の回転方向(図中、矢印
で示す)におけるグラビア板目2の先端上とされている
。ニードル8からl’M下さ汎た塗布液9はグラビアロ
ール1の回転に伴っで、ドクターブレード3によりグラ
ビア板目2の中に押込まn、余分の残量が取り除かれる
。5は枚葉平伏透明基板(以下、「透明基板」と称する
)であシ、ゴム基板6全介してキャリッジ7上に設置さ
れている。キャリッジ7はグラビアロール1の下方を前
進することができ、この際キャリツノ7上の透明基板5
がグラビアロール10外周面に押圧される。このとき、
ゴム基板6はグラビアロール1の透明基板5に対する圧
力を吸収し、透明基板5及びグラビアロール1の周表面
の損St−防止することができる。
系薄膜の形成工程を示す模式図である。これらの図にお
いで、1はアルミ製シリンダーに鋼メッキを施し、グラ
ビア板目2をエツチングし九後に表面をクロムメッキし
次円筒状グラビア(以下、「グラビアロール」と称する
)である。グラビア板目2には所望の薄膜パターンが所
要深さに形成さnている。8はニードルであり、このニ
ードル8から必要量の塗布液9がグラビアロール1のグ
ラビア板目2上に滴下される。この際の滴下位置は1図
示のように、グラビアロール1の回転方向(図中、矢印
で示す)におけるグラビア板目2の先端上とされている
。ニードル8からl’M下さ汎た塗布液9はグラビアロ
ール1の回転に伴っで、ドクターブレード3によりグラ
ビア板目2の中に押込まn、余分の残量が取り除かれる
。5は枚葉平伏透明基板(以下、「透明基板」と称する
)であシ、ゴム基板6全介してキャリッジ7上に設置さ
れている。キャリッジ7はグラビアロール1の下方を前
進することができ、この際キャリツノ7上の透明基板5
がグラビアロール10外周面に押圧される。このとき、
ゴム基板6はグラビアロール1の透明基板5に対する圧
力を吸収し、透明基板5及びグラビアロール1の周表面
の損St−防止することができる。
ゴム基板6上に透明基板5を保持する方法としては、キ
ャリッジ7からのエアー吸引による方法、比較的粘着力
が弱い両面チーブをゴム基板6上に設け、こAK透明基
板5を貼着する方法、或いはゴム基板6として自己粘着
性を有する硬度の低いものを用い、゛これに透明基板5
を付着する方法等が好ましい。これらの方法によれば、
透明基板5に薄膜が形成された後、容易に新しいものと
交換することができ作業性が向上する。
ャリッジ7からのエアー吸引による方法、比較的粘着力
が弱い両面チーブをゴム基板6上に設け、こAK透明基
板5を貼着する方法、或いはゴム基板6として自己粘着
性を有する硬度の低いものを用い、゛これに透明基板5
を付着する方法等が好ましい。これらの方法によれば、
透明基板5に薄膜が形成された後、容易に新しいものと
交換することができ作業性が向上する。
4は、キャリッジ7の前進方向に設けられた乾燥装置で
あり、グラビア板目2から透明基板5上に転写された塗
布液を乾燥し、薄膜を形成する。
あり、グラビア板目2から透明基板5上に転写された塗
布液を乾燥し、薄膜を形成する。
次に、本発明方法の工程についで、第1図(、)〜(C
)を参照しながら説明する。
)を参照しながら説明する。
第1図に示す工程では、ニードル8から滴下された必袈
着の塗布液9がグラビア板目2の所定位置に滴下さnる
。一方、キャリッジ70ゴム基板6上には透明基板5が
セットされる。そしで、キャリッジ7の前進と同期しで
、グラビアロール1が矢印方向に回転するに伴い、塗布
液9がドクターブレード3によってグラビア板目2に押
込まれながら延展され、余分の残量が取り除かれる。
着の塗布液9がグラビア板目2の所定位置に滴下さnる
。一方、キャリッジ70ゴム基板6上には透明基板5が
セットされる。そしで、キャリッジ7の前進と同期しで
、グラビアロール1が矢印方向に回転するに伴い、塗布
液9がドクターブレード3によってグラビア板目2に押
込まれながら延展され、余分の残量が取り除かれる。
次に、第1図(b)に示す工程では、キャリッジ7の前
進により透明基板5がグラビアロール1に押圧される。
進により透明基板5がグラビアロール1に押圧される。
このとき、グラビア板目2より透明基板5・へ塗布液9
が転写され、所望の薄膜・ぐターンが形成される。
が転写され、所望の薄膜・ぐターンが形成される。
第1図(c)に示す工程では、さらにキャリッジ7が移
動して乾燥装置4中にまで前進され、薄膜・ぐターンに
形成さnた塗布液9が乾燥せしめられる。
動して乾燥装置4中にまで前進され、薄膜・ぐターンに
形成さnた塗布液9が乾燥せしめられる。
この時、グラビアロール1はグラビア板目2の先端部が
ニードル8の直下に位置するまで回転しており、次の塗
布に備えてニードル8から必を量の塗布液9が滴下さ九
る。又、乾燥装置4における乾燥が終了すると、キャリ
ッジ7は矢印の方向に移動し、元の位置に戻る。
ニードル8の直下に位置するまで回転しており、次の塗
布に備えてニードル8から必を量の塗布液9が滴下さ九
る。又、乾燥装置4における乾燥が終了すると、キャリ
ッジ7は矢印の方向に移動し、元の位置に戻る。
かくしで、上述した工程が繰り返されることにより、連
続的に薄膜が形成される。
続的に薄膜が形成される。
上述した工、111においては、透明基板5はキャリッ
ジ7上に平坦形状のままでセットすることがでさるから
、この基板面に所望/4’ターンを有する薄膜をグラビ
ア板目から転写した後、そのまま乾燥装置4に移すこと
ができ、より忠実なトラック溝形状の転写形成が可能と
なる。
ジ7上に平坦形状のままでセットすることがでさるから
、この基板面に所望/4’ターンを有する薄膜をグラビ
ア板目から転写した後、そのまま乾燥装置4に移すこと
ができ、より忠実なトラック溝形状の転写形成が可能と
なる。
しかも、本発明方法によれば、グラビアロール1は回転
するだけで、キャリッジ7を移動させることにより転写
が行なわれる構成とすることができるから、乾燥装置4
をキャリッジ7の移動経路中に設け、透明板5をキャリ
ッジ7にセットし次ままで乾燥することができる。
するだけで、キャリッジ7を移動させることにより転写
が行なわれる構成とすることができるから、乾燥装置4
をキャリッジ7の移動経路中に設け、透明板5をキャリ
ッジ7にセットし次ままで乾燥することができる。
又、塗布液9は、転写ごとに1回の転写に必要なだけの
量が供給されるようになっているから、この塗布液9は
常に一定の粘度を維持することができ、均一な薄膜形成
が可能となる。
量が供給されるようになっているから、この塗布液9は
常に一定の粘度を維持することができ、均一な薄膜形成
が可能となる。
なお、ゴム基板6の材質は、ブタジェン系、2レタン系
、シリコーン系と各種材料を使用できる。
、シリコーン系と各種材料を使用できる。
ただし、ゴム硬度については、50度以上120産以下
の硬度が良い。高い硬度では転写時の圧力により透明基
板にキズ等が入シやすく、低い硬度では転写に必要な圧
力が得られない。
の硬度が良い。高い硬度では転写時の圧力により透明基
板にキズ等が入シやすく、低い硬度では転写に必要な圧
力が得られない。
ドクターグレード3の材質は硬質樹脂系、金属系と各種
材料を使用できる。ただし、軟かい材質のものを使用す
ると、グラビア板目2の磨耗は少ないが、板目内の塗布
液までかき落してしまう。
材料を使用できる。ただし、軟かい材質のものを使用す
ると、グラビア板目2の磨耗は少ないが、板目内の塗布
液までかき落してしまう。
また硬い材質のものは磨耗が多く、キズ等も発生しやす
い。さらに振動によるスジが発生しやすい。
い。さらに振動によるスジが発生しやすい。
好ましくはステンレス材で刃先が研磨さnたもので厚さ
0.1乃至1.0−のものが良い。
0.1乃至1.0−のものが良い。
グラビア板目2は、ピラミッド形、円形のセル型や台形
長方形の線型を使用できる。版の深さは必要膜厚さと固
形分によって異るが、低粘度・低固形分の当該塗布液の
場合、60度の斜線型グラビアが良い。また、線型グラ
ビアにおいては、凹部と凸部と比率も転写性に大きく影
響する。当該塗布液の場合、使用溶媒の乾燥性を考慮す
ると、50対50乃至30対70が良い。
長方形の線型を使用できる。版の深さは必要膜厚さと固
形分によって異るが、低粘度・低固形分の当該塗布液の
場合、60度の斜線型グラビアが良い。また、線型グラ
ビアにおいては、凹部と凸部と比率も転写性に大きく影
響する。当該塗布液の場合、使用溶媒の乾燥性を考慮す
ると、50対50乃至30対70が良い。
透明基板5としては光学的な記録・再生に於いて不都合
の少ないものが好ましい、使用する光に対して透過率め
高いものでおれが良く、例えばアクリル系樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポ
リスルホン樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアセクール樹
脂′、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロー
ス誘導体等を用いることが出来る。
の少ないものが好ましい、使用する光に対して透過率め
高いものでおれが良く、例えばアクリル系樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポ
リスルホン樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアセクール樹
脂′、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロー
ス誘導体等を用いることが出来る。
エネルギービームで光学的な物性変化が可能な1機系薄
膜は、溶沼又は分散系による連続塗布が可能で量産製造
には好ましいものでおる。例えばアントラキノン誘導体
(特にインダスレン骨格を有する物)、ジオキサジン化
合物及びその誘導体、トリフエツジチアジン化合物、フ
ェナンスレン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化
合物、ピリリウム系化合物、キサンチン系化合物、トリ
フェニルメタン系化合物、クロロニウム系色素アゾ色素
、クロコン類、アノン類、インシー?イト類、メチン系
色素、アズレン類、スクアリウム誘導体、硫化染料及び
金属のジチオラート錯体などを挙げる事が出来る。
膜は、溶沼又は分散系による連続塗布が可能で量産製造
には好ましいものでおる。例えばアントラキノン誘導体
(特にインダスレン骨格を有する物)、ジオキサジン化
合物及びその誘導体、トリフエツジチアジン化合物、フ
ェナンスレン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化
合物、ピリリウム系化合物、キサンチン系化合物、トリ
フェニルメタン系化合物、クロロニウム系色素アゾ色素
、クロコン類、アノン類、インシー?イト類、メチン系
色素、アズレン類、スクアリウム誘導体、硫化染料及び
金属のジチオラート錯体などを挙げる事が出来る。
不発明においては、前記塗布液13は固形分濃度が10
%以下で、溶液粘度がl0PSC(20℃)以下を最l
1gImとする。この条件下において本発明方法によシ
形成された光記録層としての有機形薄膜の厚さは、概ね
500〜2000X程度のものを得ることができる。こ
の有機形薄膜の好ましい厚さは通常1000Xとされて
いるから、本発明により、はぼ好適するものが得られる
。ただし、この厚さは、記録感度の点からは薄い方が良
く、再生信号のS/N比の点からは厚い万が良く、色素
の種類によりその最適膜厚は異なる。
%以下で、溶液粘度がl0PSC(20℃)以下を最l
1gImとする。この条件下において本発明方法によシ
形成された光記録層としての有機形薄膜の厚さは、概ね
500〜2000X程度のものを得ることができる。こ
の有機形薄膜の好ましい厚さは通常1000Xとされて
いるから、本発明により、はぼ好適するものが得られる
。ただし、この厚さは、記録感度の点からは薄い方が良
く、再生信号のS/N比の点からは厚い万が良く、色素
の種類によりその最適膜厚は異なる。
(発明の効果)
以上説明し念ように、本発明方法によれば、カードサイ
ズ相当の枚葉平伏基板面に光記録層用の塗布液を均−薄
膜状に形成することができる。
ズ相当の枚葉平伏基板面に光記録層用の塗布液を均−薄
膜状に形成することができる。
又、本発明方法によnば、トラック溝への塗布液の押込
み、若しくは元込みがなく、トラック溝の形状が忠実に
再現できるため、位相差によるオートトラノキン信号が
取り易くなり、オートトラッキング信号はずれによるエ
ラーが発生し難くなる。又、これと同様の理由により、
記録膜の膜厚のコントロールが容易であり、且つ均一な
薄膜が得られる文め、オートフォーカス信号が取り易く
、記録再生信号のエラーが大幅に減少する。
み、若しくは元込みがなく、トラック溝の形状が忠実に
再現できるため、位相差によるオートトラノキン信号が
取り易くなり、オートトラッキング信号はずれによるエ
ラーが発生し難くなる。又、これと同様の理由により、
記録膜の膜厚のコントロールが容易であり、且つ均一な
薄膜が得られる文め、オートフォーカス信号が取り易く
、記録再生信号のエラーが大幅に減少する。
又、本発明方法によれば、塗布液の転写時Kかかる圧力
が垂直方向のみの線圧である之めに、基板O記録膜全傷
付ける事がなく、例えば、ワイヤーパ一方式による記録
膜形成に比べで、反射率比で約10%、コントラスト比
で約25%も高くなる。
が垂直方向のみの線圧である之めに、基板O記録膜全傷
付ける事がなく、例えば、ワイヤーパ一方式による記録
膜形成に比べで、反射率比で約10%、コントラスト比
で約25%も高くなる。
さらに、本発明方法によれば、記録膜形成に要する塗布
液は、必要量のみを転写ごとに供給することができるか
ら、源布液の固形分と粘度を一定に保つことができ、良
好な膜厚精度を保有したまま連続転写が可能となる。
液は、必要量のみを転写ごとに供給することができるか
ら、源布液の固形分と粘度を一定に保つことができ、良
好な膜厚精度を保有したまま連続転写が可能となる。
又、これと同様の理由によp、従来のように、長時間の
連続転写の未、塗布液の固形分の粘度が高くなっで、膜
厚が不均一になることがなくなる。
連続転写の未、塗布液の固形分の粘度が高くなっで、膜
厚が不均一になることがなくなる。
従っで、従来のように、大量の塗布液を使用して緩衝さ
せ次り、循環方式で固形分や粘度を再調整する必要がな
くなる。
せ次り、循環方式で固形分や粘度を再調整する必要がな
くなる。
又、本発明方法によれば、上述したように塗布液の使用
量が必要最小限ですむから、従来のように、大量の塗布
液を廃棄することがなく、低いコストにて光カード記録
膜の形成が可能となる。
量が必要最小限ですむから、従来のように、大量の塗布
液を廃棄することがなく、低いコストにて光カード記録
膜の形成が可能となる。
第1図(、)〜(C)は本発明方法による光カード記録
膜形成の工程を示す模式図であり、第2図は従来のダイ
レクトグラビア方式によるフィルム状基材への薄膜形成
方法を示す概略図である。 1・・・クラビアロール、2・・・グラビア板目、5・
・・透明基板、7・・・キャリッノ、9・・・塗布液。
膜形成の工程を示す模式図であり、第2図は従来のダイ
レクトグラビア方式によるフィルム状基材への薄膜形成
方法を示す概略図である。 1・・・クラビアロール、2・・・グラビア板目、5・
・・透明基板、7・・・キャリッノ、9・・・塗布液。
Claims (2)
- (1)円筒状グラビアロールの外周上に設けられた所望
パターンのグラビア版目に有機系薄膜形成用塗布液を必
要量供給して、該グラビアロールを回転させ、この回転
するグラビアロール外周上のグラビア版目を枚葉平板状
の光カード基板に押圧転写することにより該基板面に均
一な前記パターンを有する光記録層の有機系薄膜を形成
することを特徴とする光カードの製造方法。 - (2)前記有機系薄膜形成用塗布液は、固形分濃度が1
0%以下で、溶液粘度が10psc(20℃)以下であ
る特許請求の範囲第1項記載の光カードの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14008587A JPS63304446A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 光カードの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14008587A JPS63304446A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 光カードの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63304446A true JPS63304446A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15260609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14008587A Pending JPS63304446A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 光カードの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63304446A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003060014A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状被加工物のための保持具 |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP14008587A patent/JPS63304446A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003060014A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状被加工物のための保持具 |
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