JPS6330489A - スピロオキサジン系化合物および該化合物を使用した感光材料 - Google Patents
スピロオキサジン系化合物および該化合物を使用した感光材料Info
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- JPS6330489A JPS6330489A JP61175163A JP17516386A JPS6330489A JP S6330489 A JPS6330489 A JP S6330489A JP 61175163 A JP61175163 A JP 61175163A JP 17516386 A JP17516386 A JP 17516386A JP S6330489 A JPS6330489 A JP S6330489A
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- compound
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- spirooxazine
- resin
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、フォトクロミック性を有する新規なスピロオ
キサジン系化合物および該化合物を溶解あるいは分散し
た樹脂を含有する感光層を基板上に有する感光材料に関
するものである。
キサジン系化合物および該化合物を溶解あるいは分散し
た樹脂を含有する感光層を基板上に有する感光材料に関
するものである。
（従来の技術）
従来よりスピロオキサジン系化合物が光の照射により発
色又は消色するフォトクロミック性を有することは知ら
れておシ、これを使用したフォトクロミック感光材料が
種々提案されている。
色又は消色するフォトクロミック性を有することは知ら
れておシ、これを使用したフォトクロミック感光材料が
種々提案されている。
例えば、特公昭ダｊ−−ｔｔ９−号には、次式の様ナス
ピロナフトオキサジン系化合物を含有するフォトクロミ
ック材料が提案されている。
ピロナフトオキサジン系化合物を含有するフォトクロミ
ック材料が提案されている。
Ｈａ
（式中、Ｒ”は水素原子、ハロゲン原子、シアン基、炭
素数／〜にのアルキル基またはアルコキシ基を示す。） また、特公昭ダ９−’１１４３／号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン系化合物を高分子物質中に分散さ
せたフォトクロミック感光材料が提案されている。
素数／〜にのアルキル基またはアルコキシ基を示す。） また、特公昭ダ９−’１１４３／号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン系化合物を高分子物質中に分散さ
せたフォトクロミック感光材料が提案されている。
８口
（式中、沖は（−ｏｚ−）ｎＯＯＯＨ、（−ＯＨ，すｎ
ＣＮまたは−ｅｏＨｔ＋ｎ０ＯＯＲ（Ｒは炭素数ｌ〜Ｊ
のアルキル基）；ＲＣおよびＲｄは炭素数／〜ｊのアル
キル基；Ｒ・は水素原子、炭素数ｌ−３個のアルキル基
、ノ・ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数−〜６
個のアルコキシカルボニル基または炭素数７〜３個のア
ルコキシ基を示す、） また、特開昭３！１−ｊＡコｔＵ号には、次式の様なフ
ォトクロミック化合物が提案されている。
ＣＮまたは−ｅｏＨｔ＋ｎ０ＯＯＲ（Ｒは炭素数ｌ〜Ｊ
のアルキル基）；ＲＣおよびＲｄは炭素数／〜ｊのアル
キル基；Ｒ・は水素原子、炭素数ｌ−３個のアルキル基
、ノ・ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数−〜６
個のアルコキシカルボニル基または炭素数７〜３個のア
ルコキシ基を示す、） また、特開昭３！１−ｊＡコｔＵ号には、次式の様なフ
ォトクロミック化合物が提案されている。
ＯＥＩ。
（式中、ＨｆとＨｇのうちの一つはハロゲン原子又ハ低
級アルコキシ基で他の一つは水素原子であシ、又Ｈｈと
Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
又はハロゲン原子を示す、）また、Ｕ ８ Ｐ ｅ、３
１１２．４４１ Ｋは、次式の様なフォトクロミック化
合物が提案されている。
級アルコキシ基で他の一つは水素原子であシ、又Ｈｈと
Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
又はハロゲン原子を示す、）また、Ｕ ８ Ｐ ｅ、３
１１２．４４１ Ｋは、次式の様なフォトクロミック化
合物が提案されている。
ｎ
（式中、ＲｊとＲｋのうちの一つは）・ロゲン原子又は
低級アルコキシ基で、他の一つは水素原子であシ、また
、Ｒ１とＲｍは水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、又はハロゲン原子を示し、ｌｎは炭素数−から
ＩＱまでのアルキル基を示す。） また、Ｔｅｔｒａｈｓｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓココ巻
ＵＯ号Ｊｆ＃！ｊ頁には、次式の様なフォトクロミッ
ク化合物が提案されている。
低級アルコキシ基で、他の一つは水素原子であシ、また
、Ｒ１とＲｍは水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、又はハロゲン原子を示し、ｌｎは炭素数−から
ＩＱまでのアルキル基を示す。） また、Ｔｅｔｒａｈｓｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓココ巻
ＵＯ号Ｊｆ＃！ｊ頁には、次式の様なフォトクロミッ
ク化合物が提案されている。
バν
（式中、Ｒｐは水素原子またはニトロ基を示す。〕通常
、フォトクロミック感光材料は、上述の様に高分子化合
物にスピロオキサジン系化合物を溶解あるいは分散させ
たものをフィルム状に製膜して使用される。
、フォトクロミック感光材料は、上述の様に高分子化合
物にスピロオキサジン系化合物を溶解あるいは分散させ
たものをフィルム状に製膜して使用される。
しかし、従来のスピロオキサジン系化合物の場合、感光
波長が短く、しかも高分子化合物に対する相溶性・溶解
性が必ずしも十分ではなかったので、スピロオキサジン
系化合物の濃度なあまシ高くできず、従って、感度が高
く、発色・消色のコントラストが良好で大きな発色濃度
を示すフォトクロミック感光材料が得られていない。
波長が短く、しかも高分子化合物に対する相溶性・溶解
性が必ずしも十分ではなかったので、スピロオキサジン
系化合物の濃度なあまシ高くできず、従って、感度が高
く、発色・消色のコントラストが良好で大きな発色濃度
を示すフォトクロミック感光材料が得られていない。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、感光波長が長波長で、高分子化合物に対する
相溶性・溶解性に優れていることによって濃色でしかも
保存安定性が良く、発色・消色のくシ返し安定性の良好
なフォトクロミック性ヲ有するスピロオキサジン系化合
物および該化合物を含有する感光層よシ成る感光材料を
提供しようというものである。
相溶性・溶解性に優れていることによって濃色でしかも
保存安定性が良く、発色・消色のくシ返し安定性の良好
なフォトクロミック性ヲ有するスピロオキサジン系化合
物および該化合物を含有する感光層よシ成る感光材料を
提供しようというものである。
（問題点を解決するための手段〕
すなわち、本発明は一般式ＣＤ
（式中、Ｒ１及びＲｏは置換基を有していてもよいアル
キル基を示し、Ｈｔ 、 Ｒａ 、 Ｒ４及びＲｓは水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコ
キシスルホニル基、アルキルスルホニル基またはニトロ
基を示し、ｎは７〜グの整数を示す。〕 で表わされるスピロオキサジン系化合物およびそれを使
用した感光材料である。
キル基を示し、Ｈｔ 、 Ｒａ 、 Ｒ４及びＲｓは水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコ
キシスルホニル基、アルキルスルホニル基またはニトロ
基を示し、ｎは７〜グの整数を示す。〕 で表わされるスピロオキサジン系化合物およびそれを使
用した感光材料である。
本発明の一般式ＣＩ）で表わされるスピロオキサジン系
化合物において、Ｒ１およびＲ−で表わされる置換基を
有していてもよいアルキル基としでは、ビニル基等で置
換されていてもよいＯ，〜６．のアルキル基等が挙げら
れ、Ｒａ 、 Ｒ１、Ｒ４、Ｒａとしては水素原子；塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ＯＩ
〜、のアルキル基等のアルキル基；０．〜・のアルコキ
シ基等のアルコキシａ、ａ＋〜、のアルコキシアルキル
基等のアルコ：ニーキシアルキル基、または、０．〜．
のアルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基
またはメトキシスルホニル基、エトキシスルホニル差等
ノアルコキシスルホニル基、メチルスルホニル基、エチ
ルスルホニル基等のアルキルスルホニル基、ニトロ基が
挙げられる。
化合物において、Ｒ１およびＲ−で表わされる置換基を
有していてもよいアルキル基としでは、ビニル基等で置
換されていてもよいＯ，〜６．のアルキル基等が挙げら
れ、Ｒａ 、 Ｒ１、Ｒ４、Ｒａとしては水素原子；塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ＯＩ
〜、のアルキル基等のアルキル基；０．〜・のアルコキ
シ基等のアルコキシａ、ａ＋〜、のアルコキシアルキル
基等のアルコ：ニーキシアルキル基、または、０．〜．
のアルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基
またはメトキシスルホニル基、エトキシスルホニル差等
ノアルコキシスルホニル基、メチルスルホニル基、エチ
ルスルホニル基等のアルキルスルホニル基、ニトロ基が
挙げられる。
本発明の化合物は、例えば、次のようにして製造するこ
とができる。すなわち、下記一般式（式中、Ｒｆｉ 、
Ｒａ 、 Ｒａは前記定義に同じ。〕で表わされるコ
、３．３−トリメチルインドレニン誘導体に下記一般式
〔Ｉ〕 （式中、Ｊｊｌおよびｎは前記定義に同じ、）で表わさ
れるｐ−トルエンスルホン酸エステル類を反応させ〔ア
ルキル化反応〕、次いで、下記一般式（ＩＶ） Ｏ （式中、Ｒ４，Ｒ１は前記定義に同じ。）で表わされる
ニトロソ−７工ナンスロール誘導体を反応させることＫ
よって製造することができる。
とができる。すなわち、下記一般式（式中、Ｒｆｉ 、
Ｒａ 、 Ｒａは前記定義に同じ。〕で表わされるコ
、３．３−トリメチルインドレニン誘導体に下記一般式
〔Ｉ〕 （式中、Ｊｊｌおよびｎは前記定義に同じ、）で表わさ
れるｐ−トルエンスルホン酸エステル類を反応させ〔ア
ルキル化反応〕、次いで、下記一般式（ＩＶ） Ｏ （式中、Ｒ４，Ｒ１は前記定義に同じ。）で表わされる
ニトロソ−７工ナンスロール誘導体を反応させることＫ
よって製造することができる。
上記ｐ−）ルエンスルホン酸エステルニヨるアルキル化
反応は無溶媒あるいはクロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンなどの芳香族系溶媒などの非極性溶媒中、ざ０〜２０
０℃の反応温度で実施される。好ましくは無溶媒でｉ、
ｙｏ−ｉｊ。
反応は無溶媒あるいはクロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンなどの芳香族系溶媒などの非極性溶媒中、ざ０〜２０
０℃の反応温度で実施される。好ましくは無溶媒でｉ、
ｙｏ−ｉｊ。
℃で円滑に実施できる。
また、ニトロソ−７工ナンスロール誘導体との反応は、
ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等の塩基性触媒の
存在下、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、トリク
ロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの極性
又は非極性の溶媒中で実施される。反応温度はＯ〜−０
０℃の範囲で実施される。好ましくは、エタノール、メ
チルエチルケトン、アセトン中、ピペリジン触媒の存在
下ダＯ〜ｔａＯ℃で円滑に実施できる。
ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等の塩基性触媒の
存在下、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、トリク
ロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの極性
又は非極性の溶媒中で実施される。反応温度はＯ〜−０
０℃の範囲で実施される。好ましくは、エタノール、メ
チルエチルケトン、アセトン中、ピペリジン触媒の存在
下ダＯ〜ｔａＯ℃で円滑に実施できる。
本発明の化合物は、例えば、次のようにしても製造する
ことができる。すなわち、下記一般式〔Ｖ〕 （式中、Ｒ１、Ｒｓ 、 Ｒ１、Ｒ＠及びｎは前記定義
に同じ。〕で表わされる化合物と前示一般式ＣＶＤＯ （式中、Ｒ’、 Ｒ−は前記定義に同じ。）で表わされ
るニトロソ−フェナンスロール誘導体を反応させること
によって製造することができる。
ことができる。すなわち、下記一般式〔Ｖ〕 （式中、Ｒ１、Ｒｓ 、 Ｒ１、Ｒ＠及びｎは前記定義
に同じ。〕で表わされる化合物と前示一般式ＣＶＤＯ （式中、Ｒ’、 Ｒ−は前記定義に同じ。）で表わされ
るニトロソ−フェナンスロール誘導体を反応させること
によって製造することができる。
反応は通常、メタノール、エタノール、フロパノール、
ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、ト
リクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの
極性又は非極性溶媒中で実施される。反応温度は、Ｏ〜
−００℃の範囲で実施され、好ましくは、参〇〜ｌコＯ
℃で円滑に実施できる。
ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、ト
リクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの
極性又は非極性溶媒中で実施される。反応温度は、Ｏ〜
−００℃の範囲で実施され、好ましくは、参〇〜ｌコＯ
℃で円滑に実施できる。
本発明の化合物は新規な色素であシ、フォトクロミズム
を示す化合物である。すなわち、本化合物は紫外線照射
によシ濃い青色に発色し、次に可視光を照射するか、あ
るいは３０℃以上に加熱すると元の淡い青色の状態にな
シ、この変化なくシ返すことができる。
を示す化合物である。すなわち、本化合物は紫外線照射
によシ濃い青色に発色し、次に可視光を照射するか、あ
るいは３０℃以上に加熱すると元の淡い青色の状態にな
シ、この変化なくシ返すことができる。
本発明の新規な化合物を溶解あるいは分散した樹脂を含
有する感光層を基板上に有する感光材料は、公知の方法
に準じて得ることができる。
有する感光層を基板上に有する感光材料は、公知の方法
に準じて得ることができる。
本発明化合物を溶解あるいは分散する樹脂としてはポリ
エステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルプチラシ
ル樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリメ
タクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル、酢酸セルロース、
エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられ、用いる溶
媒としては、四塩化炭素、ベンゼン、シクロヘキサン、
メチルエチルケトン、テトラクロロエタン、トルエン、
エタノール、エチルセルソルブ等が挙げられる。
エステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルプチラシ
ル樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリメ
タクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル、酢酸セルロース、
エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられ、用いる溶
媒としては、四塩化炭素、ベンゼン、シクロヘキサン、
メチルエチルケトン、テトラクロロエタン、トルエン、
エタノール、エチルセルソルブ等が挙げられる。
本発明化合物の使用割合としては、樹脂に対して３〜Ｓ
Ｏ％、好ましくはｊ−２０９６である。
Ｏ％、好ましくはｊ−２０９６である。
本発明化合物と樹脂以外の他の添加剤としては、感光材
料の安定化や耐光性を向上させる目的で、−１項酸素ク
エンチャーとして遷移金属キレート化合物（たとえばア
セチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール
、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオール−α−
ジケトン等〕を含有せしめてもよい。
料の安定化や耐光性を向上させる目的で、−１項酸素ク
エンチャーとして遷移金属キレート化合物（たとえばア
セチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール
、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオール−α−
ジケトン等〕を含有せしめてもよい。
フィルムの形成方法としては、ドクターグレード法、キ
ャスト法、スピナー法、浸漬法等の一般に行なわれる塗
布方法が用いられる。
ャスト法、スピナー法、浸漬法等の一般に行なわれる塗
布方法が用いられる。
フィルムの厚さはＯ０ｊμ〜／、 ０ 闘、好ましくは
ｊμ〜ｉｏｏμである。
ｊμ〜ｉｏｏμである。
本発明における基板としては、透明または不透明のいず
れであってもよいが、感光面の両側に設ける時は少なく
とも片面は透明であることが必要である。基板の材質と
しては、ガラス、プラスチック、紙、板状もしくは箔状
の金属およびこれらの複合体等の支持体が用いられるが
、種々の点からしてガラスおよびプラスチックが好まし
い。そのプラスチックとしては、たとえば、アクリル樹
脂、メタアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹
脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリサルホン酸樹脂等があげられる。
れであってもよいが、感光面の両側に設ける時は少なく
とも片面は透明であることが必要である。基板の材質と
しては、ガラス、プラスチック、紙、板状もしくは箔状
の金属およびこれらの複合体等の支持体が用いられるが
、種々の点からしてガラスおよびプラスチックが好まし
い。そのプラスチックとしては、たとえば、アクリル樹
脂、メタアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹
脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリサルホン酸樹脂等があげられる。
（実施例）
以下、本発明を実施例によ）、更に具体的に説明するが
、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例／
下記構造式
で表わされる一、、７．．７−）リメチルインドレニン
／ｊ、９１および下記構造式 で表わされるｐ−トルエンスルホン酸メトキシエチルエ
ステ＃ ２．７．０１の混合物を７４１θ℃で３時間反
応させ、室温まで冷却後、メチルエチルケトンｓｏｏｍ
ｌ、ピペリジンヂＮおよび下記で表わされるニトロソ−
７エナンスロールーコ、ＪＩを加え、還流下、−時間反
応させた。冷却後クロロホルム−水を加えて抽出し、乾
燥して溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（溶離液：トルエン）で分離・精製し、下記構造式
で表わされるスピロオキサジン系化合物の無色の粉末ｔ
、、ｔｇを得た。
／ｊ、９１および下記構造式 で表わされるｐ−トルエンスルホン酸メトキシエチルエ
ステ＃ ２．７．０１の混合物を７４１θ℃で３時間反
応させ、室温まで冷却後、メチルエチルケトンｓｏｏｍ
ｌ、ピペリジンヂＮおよび下記で表わされるニトロソ−
７エナンスロールーコ、ＪＩを加え、還流下、−時間反
応させた。冷却後クロロホルム−水を加えて抽出し、乾
燥して溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（溶離液：トルエン）で分離・精製し、下記構造式
で表わされるスピロオキサジン系化合物の無色の粉末ｔ
、、ｔｇを得た。
融点は１ｉｅｔ〜ｌコ１℃を示し、物性値（マススペク
トル）は下記の通シである。（測定条件７０ ｅＶ、／
１，０℃） Ｖｅ 亭−一（Ｍ＋〕 、７７７ （Ｍ＋−Ｃ％０ＯＨａ） ／ ｊ ｇ （ｂａｓｓ ｐｅａｋ） 本化合物４Ａｌを用い、熱可塑性ポリエステル樹脂／ｌ
１ｌ（東洋紡社製パイロンーー〇〇）、溶媒メチルエテ
ルケトン１００１からなる溶液をポリエステルフィルム
（ダイヤホイル社製、厚さ１００μ）パーコーターＡｊ
を用いて塗布し、７Ｉ℃、１０分乾燥した。得られた試
料は通常の状態では淡い青色であるが、紫外線照射する
と濃度の高い青色（λｍａＦＡ ００ ｎｍ ）に発色
した。図１に紫外線照射時の発色状態の吸収スペクトル
を示し九。
トル）は下記の通シである。（測定条件７０ ｅＶ、／
１，０℃） Ｖｅ 亭−一（Ｍ＋〕 、７７７ （Ｍ＋−Ｃ％０ＯＨａ） ／ ｊ ｇ （ｂａｓｓ ｐｅａｋ） 本化合物４Ａｌを用い、熱可塑性ポリエステル樹脂／ｌ
１ｌ（東洋紡社製パイロンーー〇〇）、溶媒メチルエテ
ルケトン１００１からなる溶液をポリエステルフィルム
（ダイヤホイル社製、厚さ１００μ）パーコーターＡｊ
を用いて塗布し、７Ｉ℃、１０分乾燥した。得られた試
料は通常の状態では淡い青色であるが、紫外線照射する
と濃度の高い青色（λｍａＦＡ ００ ｎｍ ）に発色
した。図１に紫外線照射時の発色状態の吸収スペクトル
を示し九。
次に、可視光を照射するか、あるいは３０℃以上に加熱
すると元の淡い青色の状態になった。
すると元の淡い青色の状態になった。
この変化はくり返し行なうことができた。
実施例ａ
実施ｆｌＪ ／ Ｋおけるｐ−）ルエンスルホン酸メト
キシエチルエステルコｓ、ｏｉの代りにｐ−トルエンス
ルホン酸メトキシエトキシエチルエステルコ６．コ１を
用い、他は実施例１と同様にして、下記構造式で示され
るスピロオキサジン系化合物を得た。
キシエチルエステルコｓ、ｏｉの代りにｐ−トルエンス
ルホン酸メトキシエトキシエチルエステルコ６．コ１を
用い、他は実施例１と同様にして、下記構造式で示され
るスピロオキサジン系化合物を得た。
物性値（マススペクトル）は下記の通〕である。（測定
条件７０ａＶ、 ／ ｔ Ｏ℃〕ｒＩＶｅ ４’ Ａ
Ａ （Ｍ”） ダ！ｔ ／ （Ｍ＋−ＯＲ，） Ｊ ７ ？ （Ｍ” ０ＨａＯＯｗ＆ＯＯＨｍ ）／
ｊ ｇ （ｂａｓｅ ｐｅａｋ） 本化合物を用い、実施例１と同様にポリエステルフィル
ムに塗布したところ、紫外線照射によシ濃色の青色（λ
ｍａｘ＝４００ ｎｍ ） Ｉｃ発色した。
条件７０ａＶ、 ／ ｔ Ｏ℃〕ｒＩＶｅ ４’ Ａ
Ａ （Ｍ”） ダ！ｔ ／ （Ｍ＋−ＯＲ，） Ｊ ７ ？ （Ｍ” ０ＨａＯＯｗ＆ＯＯＨｍ ）／
ｊ ｇ （ｂａｓｅ ｐｅａｋ） 本化合物を用い、実施例１と同様にポリエステルフィル
ムに塗布したところ、紫外線照射によシ濃色の青色（λ
ｍａｘ＝４００ ｎｍ ） Ｉｃ発色した。
次に可視光を照射するか、あるいは３０℃以上に加熱す
ると元の淡い青色の状態になった。この変化はくり返し
行なうことができた。
ると元の淡い青色の状態になった。この変化はくり返し
行なうことができた。
実施例Ｊ
下記構造式
で表わされる化合物コａ、ｊｐをエタノールｊｏ。
ＲＩＫ溶解し、下記構造式
で表ワされるニトロソ−７エナンスロール、２コ、３Ｉ
を加え、還流下３時間反応させた。次いで室温まで冷却
し、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（使用溶
媒：ベンゼン〕で分離・精製し、下記構造式で示される
スピロオキサジン系化合物を得た。
を加え、還流下３時間反応させた。次いで室温まで冷却
し、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（使用溶
媒：ベンゼン〕で分離・精製し、下記構造式で示される
スピロオキサジン系化合物を得た。
Ｑム ○几
曽背
物性値（Ｙススベクトル〕は下記の通シである。（測定
条件りｏｅｖ、ｉｔｏ℃〕 ｒｎ／ｅ ＩＩま０ （Ｍ＋） ／ ｊ ｔ （ｂａｓｅ ｐｅａｋ） 本化合物を用い、実施例１と同様にポリエステルフィル
ムに塗布したところ、紫外線照射により、濃色の青色（
λｍａｘ＝ＡＯＯｎｍ）ＩＩＣ発色した。
条件りｏｅｖ、ｉｔｏ℃〕 ｒｎ／ｅ ＩＩま０ （Ｍ＋） ／ ｊ ｔ （ｂａｓｅ ｐｅａｋ） 本化合物を用い、実施例１と同様にポリエステルフィル
ムに塗布したところ、紫外線照射により、濃色の青色（
λｍａｘ＝ＡＯＯｎｍ）ＩＩＣ発色した。
次に可視光を照射するか、あるいはｓｏ℃以上に加熱す
ると元の淡い青色の状態になった。
ると元の淡い青色の状態になった。
この変化はくシ返し行なうことができた。
実施例グ
実施例１〜３に記載の方法に準じた方法によ）、前記一
般式ＣＤで示される下記第１表に記載の種々のスピロオ
キサジン系化合物を合成した。得られた化合物をポリエ
ステルフィルム上に塗布し、紫外線照射したところ各々
第７表に示す色調、λｍｅＬＸに発色した。次に可視光
を照射するか、あるいはｊＯ℃以上に加熱すると元の淡
い青色の状態になった。この変化はくシ返して行なうこ
とができた。
般式ＣＤで示される下記第１表に記載の種々のスピロオ
キサジン系化合物を合成した。得られた化合物をポリエ
ステルフィルム上に塗布し、紫外線照射したところ各々
第７表に示す色調、λｍｅＬＸに発色した。次に可視光
を照射するか、あるいはｊＯ℃以上に加熱すると元の淡
い青色の状態になった。この変化はくシ返して行なうこ
とができた。
第７表
ダ
（発明の効果）
本発明のスピロオキサジン系化合物はフォトクロミック
性を有し、感光波長が長波長で、高分子化合物に対する
相容性、溶解性に優れるため濃色でしかも保存安定性が
良く発色・消色のくシ返し安定性が良好である。このス
ピロオキサジン系化合物を溶解あるいは分散した樹脂を
含有する感光層を基板上に有する感光材料は、車載用お
よび建築材料用調光ガラス等の調光材料、光学フィルタ
ー、マスキング用材料、光量計用材料として使用するこ
とができる。
性を有し、感光波長が長波長で、高分子化合物に対する
相容性、溶解性に優れるため濃色でしかも保存安定性が
良く発色・消色のくシ返し安定性が良好である。このス
ピロオキサジン系化合物を溶解あるいは分散した樹脂を
含有する感光層を基板上に有する感光材料は、車載用お
よび建築材料用調光ガラス等の調光材料、光学フィルタ
ー、マスキング用材料、光量計用材料として使用するこ
とができる。
図／は、本発明のスピロオキサジン系化合物の一例の紫
外線照射時の発色状態の吸収スペクトルを示す。縦軸は
吸光度、横軸は波長を示す。 特許出願人 日産自動車株式会社 （ほか１名） 代 理 人 弁理士 良否用 − （ほか／名〕
外線照射時の発色状態の吸収スペクトルを示す。縦軸は
吸光度、横軸は波長を示す。 特許出願人 日産自動車株式会社 （ほか１名） 代 理 人 弁理士 良否用 − （ほか／名〕
Claims (3)
- （１）一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼……〔 I 〕 （式中、Ｒ＾１及びＲ＾６は置換基を有していてもよい
アルキル基を示し、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、ア
ルコキシスルホニル基、アルキルスルホニル基またはニ
トロ基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。） で表わされるスピロオキサジン系化合物。 - （２）一般式〔 I 〕におけるＲ＾４がメチル基である
特許請求の範囲第（１）項記載のスピロオキサジン系化
合物。 - （３）一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼……〔 I 〕 （式中、Ｒ＾１及びＲ＾６は置換基を有していてもよい
アルキル基を示し、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、ア
ルコキシスルホニル基、アルキルスルホニル基またはニ
トロ基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。） で表わされるスピロオキサジン系化合物を溶解あるいは
分散した樹脂を含有する感光層を基板上に有する感光材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61175163A JPS6330489A (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | スピロオキサジン系化合物および該化合物を使用した感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61175163A JPS6330489A (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | スピロオキサジン系化合物および該化合物を使用した感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6330489A true JPS6330489A (ja) | 1988-02-09 |
Family
ID=15991365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61175163A Pending JPS6330489A (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | スピロオキサジン系化合物および該化合物を使用した感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6330489A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1300145C (zh) * | 2004-05-31 | 2007-02-14 | 中国科学院理化技术研究所 | 吲哚啉螺菲并噁嗪化合物及其合成方法和用途 |
-
1986
- 1986-07-25 JP JP61175163A patent/JPS6330489A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1300145C (zh) * | 2004-05-31 | 2007-02-14 | 中国科学院理化技术研究所 | 吲哚啉螺菲并噁嗪化合物及其合成方法和用途 |
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