JPS63316704A - ピラゾ−ルスルホンアミド誘導体および除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なピラゾールスルホンアミド誘導体および
それらの農業的に適している塩類および当該化合物を有
効成分とする除草剤に関するものである。 （従来の技術） イネ、小麦、トウモロコシ、大豆、ワタ、ビート等重要
な作物を雑草害から守り増収をはかる為に除草剤を使用
することは欠くことができない。 特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在する耕地にお
いて作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても作物に対して
薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しうる選択性除草
剤が望まれている。また、環境汚染防止、輸送、散布の
際の経済コスト低減等の観点から、できるだけ低薬量で
高い除草効果をあげる化合物の探索研究が長年にわたり
続けられている。このような特性を有する化合物のいく
つかは選択性除草剤として現在使用されているが、依然
としてこれらの性質を備える新しい化合物の需要も存在
する。 本発明化合物に構造が類似する先行技術としては、例え
ば特開昭５９−１４８０号公報、特開昭５９−２１９２
８１号公報、特開昭６０−６７４７９号公報、特開昭６
１−１５１１７８号公報および特願昭６０−２９０９９
３号公報等にピラゾールスルホニルウレアが開示されて
いるが本発明化合物のごとく新規な置換基を有するピラ
ゾールスルホンアミド誘導体は従来知られていない。 〔発明の態様〕 本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたる研漕をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果一
般式（Ｉ）：賀

【式中Ｑは を示す。 Ａは水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、アルコキ
シアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスル
ホニルアルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカル
ボニルアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルカ
ルボニルアルキル基または−（Ｃｌｌ）ｆｌ−Ｊ　　を
示す。 Ｊは ｎは０．１または２の整数を示す。 Ｒ１は水素原子または低級アルキル基を示す。 Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または
ハロアルキル基を示す。 Ｒ３は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または
ニトロ基を示す。 Ｂは水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ア
ルケニル基、ハロアルキルＬ　−０Ｒ４、−５（０）　
、Ｒ４、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、−（ＣＨ
）、−Ｊ　（Ｊ、　ｌ？！およびｎは前記と同様の意味
を示す、）を示す。 Ｒ４はアルキル基またはハロアルキル基を示す。 アルキニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベン
ジル基またはフェニル基を示す。 Ｒは、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、−（Ｃ
Ｈ）　、％−Ｒ７、−０Ｒ４、−５Ｒ４、ＮＲ１Ｒ２（
ただし、Ｒが一０Ｒ４、−５Ｒ４、−ＮＲ１Ｒ２の場合
、−１は前述の−Ｎ−Ｒ５、Ｎ−Ｎ、　　　または−Ｎ
ＯＲ６を示す。）または、置換されていてもよいフラン
、チオフェン、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキ
サゾール、イミダゾール、チアゾール、トリアゾール、
チアジアゾール（置換基は低級アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基から選ばれる。）を示す。 Ｒ７は、アルコキシ基、アルキルスルフィニル基、アル
キルスルフェニル基、アルキルスルホニル基、アルコキ
シスルホニル基、ジアルキルアミノスルホニル基、ジア
ルキルアミノ基、シアノ基、−ＣＯＯＲ４、−ＣＯＲ４
、ＮＲＩＣＯＲ４、Ｎ（Ｒ１）ＯＲ４または０ＣＯＲ４
を示す。 Ｗは酸素原子または硫黄原子を示す。 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基また
は低級アルコキシ基を示す。 Ｘ　　　　　　　　　　　Ｘｉ 〔ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
アルコキシ基、ＮＲ８Ｒ９，０ＣＲ（Ｒ１）ＣＯＯＲＩ
、Ｃ００ＲＩ　、シクロプロピル基、ｃｏ（ｏＲｌＯ）
ｚ　、低級アルキルチオ基または低級ハロゲン化アルキ
ルチオ基を示す。 Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立して水素原子、低級アル
キル基または低級アルコキシ基を示す。 ＲＩＧは低級アルキル基を示す。 ＸｉおよびＹｌはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低
級アルコキシ基を示す。 ｘ２は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級
アルコキシ基を、Ｙ２は低級アルキル基を示す。 Ｚは窒素原子またはＣ−Ｒ１１を示す。 Ｒ１１は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはＹあ
るいはＹｌと共に酸素原子を含む５員環構造を示す。 ｘ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
キシアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Ｙ３ハ低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
示す。 Ｙ４はシアノ基、Ｃ０ＩＲＩ　、ニトロ基、５（０）、
ｌＲ１０、アルキル基またはハロゲン化アルキル基を示
す。 Ｚｌは窒素原子またはＣＨを示す。 ｘ４およびＹ５はそれぞれ独立して、低級アルキル基ま
たは低級アルコキシ基を示す。］】で表されるピラゾー
ルスルホンアミド誘導体およびそれらの農業的に適して
いる塩類（以下本発明化合物と称する）が土壌処理、茎
葉処理のいずれの場合にも多くの雑草に対して強い殺草
力を有しかつイネ、コムギ等の重要作物に対して高い安
全性を有することを見いだして本発明を完成した。 −古本発明化合物は従来の除草剤に比して非常に低薬量
で高い除草活性を示すことから果樹園、非耕地用の除草
剤としても有用である。 本発明のスルホンアミド誘導体はナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウムなどの
アルカリ土類金属塩あるいはジメチルアミン、トリエチ
ルアミン、イソプロピルアミンなどのアミン塩を形成す
ることもできる。 −ａ式（１）で表わされる本発明化合物は下記の反応式
１〜３のいずれかを選ぶことにより容易に製造できる。 反庭式土 ム （ｎ）　　　　　　　　　（ＩＩ） （式中、Ｑ、Ｗ、Ｅ、Ｇは前記と同様の意味を示す。〕 すなわち、ピラゾールスルホニル（チオ）イソシアネー
ト誘導体（ＩＩ）を、充分に乾燥したジオキサン、アセ
トニトリル等の不活性溶媒に溶かし、これに式（Ｉｌｌ
）で表わされるピリミジン、トリアジンまたはトリアゾ
ール誘導体を添加し、撹拌することにより、一般的に速
やかに反応して本発明化合物（Ｉ）・が得られる。反応
が進行しがたい場合には適当な塩基、例えばトリエチル
アミン、トリエチレンジアミン、ピリジン、ナトリウム
アルコキシド、水素化ナトリウム等の微少量を添加する
ことにより容易に反応が進行する。 反応式ｌ 賀 Ｑ−ＳＯｇＮＩＩｚ　　　　　　　　Ｑ−Ｓ０ｇＮＩＣ
ＯＲ１２（Ｖ）　　　　　　　　　　　（ＩＶ）し くＩ［Ｉ） 〔式中、Ｑ、　Ｗ、　Ｅ、　Ｇは前記と同様の意味を示
す、Ｒ１２は低級アルキル基またはフェニル基を示す、
〕 すなわち、ピラゾールスルホンアミド誘導体（Ｖ）を、
アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル等の溶
媒中、炭酸カリウム等の塩基の存在下クロルギ酸（チオ
）エステルもしくは炭酸（チオ）エステルと反応させる
ことにより化合物（ＩＶ）を得る０次いでトルエン等の
溶媒中にて化合物（Ｉ［Ｉ）と加熱することにより本発
明化合物（１）を得ることができる。 反応式１ し くＶ）　　　　　　　　（Ｖｌ） 〔式中、Ｑ、Ｅ、Ｇは前記と同様の意味を示す。〕すな
わち、ピラゾールスルホンアミド誘導体（Ｖ）を、アセ
トン、アセトニトリル、ジオキサン等の溶媒中、炭酸カ
リウム等の無機塩基あるいは、トリエチルアミン、ＤＢ
ｔｌ等の有機塩基の存在下、カーバメート誘導体（Ｖｌ
）と反応させることにより本発明化合物の一部である（
Ｉ）′を得ることができる。 反応式１〜３で用いられる原料のピラシーＪＰスルホニ
ル（チオ）イソシアナート（■）或いはピ・ラゾールス
ルホニル（チオ）カーバメート誘導体（ＩＶ）は以下に
記載する方法を適宜選択してピラゾールスルホンアミド
（Ｖ）を合成し、さらにヨーロッパ特許出願公開Ｎｏ、
８７．７８０号公報及び特開昭５５−１３２６６号公報
等に記載されている方法を参考にして合成できる。 本発明に用いられる中間体のピラゾールスルホンアミド
もまた新規化合物でありこれらは以下の反応式４〜１３
の方法およびヨーロッパ特許公開公報８７，７８０号公
報、特開昭６０−７８７８０号公報、特開昭６０−２０
８９７７号公報、特開昭６０−２５２４７９号公報、特
願昭６０−２９０９９３号公報等に記載の方法を適宜選
択することにより得ることができる。 反応犬土 （ａ） ローＮｌｌ！　　　　　　　　　　　　Ｑ−ＳＯｚｌｌ
ａｌ（ｂ） （Ｃ） Ｑ−５Ｏ，Ｎ１１□ （Ｖ） （ａ）　　ＮａＮ０＝　ＨＨＣｊｌ！　　ｏｒ　ＮａＮ
０ｚ　ＨＨＢｒ（ｂ）　　ｓｏ、・Ｃｕ塩 （ｃ）ＮＬＯＨまたは炭酸アンモニウム（ｃｔ）Ｃｕ塩 （ｅ）　　ＰＯＣｌ、　ｏｒ　ＰＯＢｒ＋（ｒ）　　Ｐ
、Ｓ。 （匂　Ｎａ５ＩＩ （ｈ）　　ＮａＯＨ・ＮＩ＋４０Ｈ−ＮａＯＣ１（ｉ）
　　Ｎａ５ＣＨｚＰｈ （ｊ）　　Ｃｊ！ｚ／Ｃｌｌ５ＣＯＯＨ−ＨｚＯ（２）
ＣＩ　ＣＨｚＰｈ／塩基 （１）酸化剤 （＋７１）　　１）（ＪＳＯ３Ｈ（２）ＳＯ（Ｊ！また
はＰ（ｌｓ）（ｎ）　　１）ＢｕＬｉまたはＬｉＮ（ｉ
−Ｐｒ）ｚ　　２）ＳＯ！３）Ｎ−クロルコハク酸イミ
ド （ｏ）　　Ｃ１Ｃ（＝Ｓ）ＮＭｅ＊／塩基栄）加熱 （ロ）ＫＳＣ（・５）Ｏｆ’ｔ／ＨｆｆｉＯ〔反応式４
〜９において、Ｑ、Ａ、Ｂ、ＷｌおよびＲは前記と同様
の意味を示す、〕 ■　反応式４に従えばアミノピラゾールを塩酸または臭
化水素酸等のなかで亜硝酸ナトリウム等でジアゾニウム
塩とし、銅塩等のジアゾニウム分解に通常用いられる触
媒存在下、二酸化イオウを作用させることで対応するピ
ラゾールスルホニルクロリドを得る。これにアンモニア
水を作用させると目的とするピラソ゛−ルスルホンアミ
ド（Ｖ）が得られる。同様に、反応式９に従えば、ジア
ゾニ　゛ラム塩をキサントゲン酸カリウムの存在下反応
させることにより、ピラゾール環にイオウ原子を導入す
ることができる。次いで、酢酸／水等の溶媒中、塩素で
酸化することによりピラゾールスルホニルクロライドを
得、更に、目的とするピラゾールスルホンアミド（Ｖ）
を得ることができる。 ■　反応式８に従えばヒドロキシピラゾールを出発原料
としてＯ−ピラゾールチオカーバメートを得、加熱して
転移させＳ−ピラゾールチオカーバメートとし、酢酸／
水等の溶媒中塩素で酸化することによりピラゾールスル
ホニルクロライドを得る。反応式４と同様、アンモニア
水を作用させると目的とするピラソ゛−ルスルホンアミ
ド（Ｖ）が得られる。これらの反応式４．８および９に
おいては、いずれもピラゾールの置換置値に左右されず
に、スルホンアミドを導入することができる。 ■　反応式５に従えば、５位のハロゲン化ピラゾールを
水硫化ソーダ、ベンジルメルカプタンナトリウム塩等で
処理することにより５位でイオウ原子を導入し、酢酸／
水等の溶媒中塩素で酸化することによりピラゾールスル
ホニルクロライドを得ることができる。反応式４と同様
、アンモニア水を作用させると目的とするピラゾールス
ルホンアミド（Ｖ）が得られる。中間で得られる５−メ
ルカプトピラゾールをスルフェンアミドとし、これを酸
化することにより目的のピラゾールスルホンアミド（Ｖ
）を得ることもできる。出発原料の５位のハロゲン化ピ
ラゾールは、アミノピラゾールのジアゾ分解、ヒドロキ
シピラゾールとオキシ塩化リン或いはオキシ臭化リンと
の反応によって得ることができる。 ■　１位に置換基がある場合通常ピラゾール環は５位の
水素またはハロゲン原子を反応式７に従ってブチルリチ
ウム、リチウムジイソプロピルアミド等の強塩基を用い
てアニオンとすることができさらに二酸化イオウ、Ｎ−
クロロコハク酸イミドを処理しピラゾールスルホニルク
ロライドとしアンモニア水を処理することにより目的と
するピラゾールスルホンアミド（Ｖ）を得ることができ
る。 ■　求核置換反応に比し、ピラゾール環に対する求電子
置換反応は通常４位で反応し易い。反応式６に従えば、
クロルスルホン酸で直接ピラゾール−４−スルホニルク
ロライドを得ることができる。 前述と同様アンモニア水と処理することにより目的とす
るピラゾールスルホンアミド（Ｖ）を得ることができる
。 反息人上立 ＾　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
Ａ（Ｖ） 〔式中、Ａは低級アルキル基を示し、Ｂは水素原子、低
級アルキル基、ハロゲン、原子、フェニル基またはピリ
ジル基を示し、Ｒは低級アルキル基、シクロアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシアルキル基
またはアルキルチオアルキル基を示す。］ 反応式１０に従えば、５−クロロ（又は無置換）ピラゾ
ールスルホンアミド誘導体をノルマルブチルリチウムと
処理し、次いで、適当な酸無水物又は、酸ハロゲン化物
と反応させることにより、ピラゾールの５位に、対応す
るカルボニル基を導入することが可能であり、目的とす
るピラゾールスルホンアミド（Ｖ）を得ることができる
。 ＾　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ａ（
Ｖ） 〔式中、Ａは低級アルキル基、フェニル基またはピリジ
ル基を示し、Ｂは水素原子、低級アルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子またはニトロ基を示す。Ｒ１３はシ
アノ基、クロロカルボニル基、アルコキシカルボニル基
を示し、Ｈａｔ　はハロゲン原子を示す、Ｒは低級アル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基またはアルコキシアルキル基を示す。〕 反応式１１に従えば、ピラゾールのシアン誘導体、酸ハ
ロゲン化物またはエステル誘導体を、適当なグリニヤー
ル（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬と処理することにより、ピ
ラゾールの４位に対応するカルボニル基を導入すること
が可能であり、次いで、反応式５の方法に従って目的と
するピラゾールスルホンアミド（Ｖ）を得ることができ
る。グリニヤール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）反応に関しては
、例えば、Ｔ、ミャサカ（Ｍｉｙａｓａｋａ）、　Ｃｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ＋　４４９　（１９８
６）またはＴ、ムカイヤマ（Ｍｕｋａｉｙａｍａ）、Ｊ
、Ａｍ、　Ｃｈｅｍ。 Ｓｏｃ、、　９５．４７６３　（１９７３）の方法も参
考にすることができる。 ■ 八 （Ｖ） ［式中、Ａは低級アルキル基、フェニル基またはピリジ
ル基を示し、Ｂは水素原子、低級アルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子またはニトロ基を示す。Ｒ１４はト
リメチルシリルオキシ基、アルコキシ基またはアルキル
チオ基を示し、Ｒ１５はヒドロキシ基、アルコキシ基ま
たはアルキルチオ基を示す。］ 反応式１２に従えば、Ａ、ウィスナー（Ｗｉｓｓｎｅｒ
）　＋Ｊ、　Ｏｒｇ、　ＣｈｅＩＩｌ、、　　４４　、
４６１７　（１９７９）の方法に準じ、ピラゾール酸ハ
ロゲン化物を原料にして、置換されたアルキルカルボニ
ル基を有するピラゾール誘導体が得られ、次いで反応式
５の方法に従い、目的とするピラゾールスルホンアミド
（Ｖ）を得ることができる。 ２叉息式」」− ＯＮ−Ｒ１６ Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　Ａ（Ｖ） Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　Ａ（Ｖ） Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　Ａ（Ｖ） 〔式中、Ａ、ＢおよびＲは前記と同様の意味を示す、宣
し、Ａ、ＢおよびＲがシアノ基、アルキルカルボニル基
、アルコキシカルボニル基、シアノアルキル基、アルキ
ルカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルアルキ
ル基またはアルコキシスルホニルアルキル基の場合は除
かれる。Ｒ１６はＩ Ｒ５，Ｎ＜　　　またはＯＲ６を示す、　Ｒ１，Ｒ５お
よびＲ６は前記と同様の意味を示す。〕 反応式１３に従えば、適当なカルボニル基を有するピラ
ゾールスルホンアミド誘導体を、−級のアミノ基を有す
るアミン類、ヒドラジン類または、アルコキシアミン類
と反応させることにより、種種置換されたイミノ基を有
するピラゾールスルホンアミド（Ｖ）を得ることができ
る。 通常当業者であれば、前記の記載および前述の公知技術
より実験条件等の検討を行うことにより、本発明化合物
の中間体を得ることは可能である。 以下に、本発明化合物（実施例１５〜１８）及び中間体
（実施例１−１４）のピラゾールスルホンアミドの合成
例を実施例として具体的に述べるが、本発明はこれらに
よって限定されるものではない。 実４Ｉ」１ ４−アセチル−１−メチルピラゾール−５−スルホンア
ミドの合成 （１）４−アセチル−５−クロロ−１−メチルピラゾー
ルの合成 ５−クロロ−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸ク
ロライド１７．９　ｇおよび塩化第２鉄０．３３ｇのエ
ーテル１００ｍ１溶液にメチルマグネシウムアイオダイ
ド（マグネシウム２．６３　ｇおよびヨウ化メチル１４
．５　ｇより調製）のエーテル６０ｍ１溶液を０°Ｃに
て１時間にわたり滴下した。滴下後、室温にて２時間撹
拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。水層をエ
ーテル抽出し、有機層を合せて水洗、飽和食塩水洗浄後
、乾燥し溶媒を減圧留去した。得られた油状物を減圧蒸
留することにより目的物１０．０　ｇを得た。 沸点　９０°Ｃ／　０．１　ｍｄｇ （２）４−アセチル−１−メチルピラゾール−５−スル
ホンアミドの合成 ４−アセチル−５−クロロ−１−メチルピラゾール３．
２ｇをジメチルホルムアミド２０ｓ＋ｊ！に溶解し、水
硫化ナトリウム（７０％含有）４．０ｇを室温にて加え
、２時間撹拌した。ジメチルホルムアミドを減圧留去し
残渣に氷水を加え、濃塩酸にて酸性とした後、クロロホ
ルム抽出した。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去
し、４−アセチル−５−メルカプト−１−メチルピラゾ
ールを含有する油状物４．０ｇを得た。得られた油状物
４．０ｇに水２０１ｍ１および酢酸２０ｓｉ、を加え、
１５℃以下にて、塩素ガスを１０分間吹き込んだ。その
後５℃にて３０分間撹拌し、大過剰の氷水を加え、エー
テル抽出した。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去
すると、粗製の４−アセチル−１−メチルピラゾール−
５−スルホニルクロライド３．０ｇを油状物として得た
。得られた粗スルホニルクロライド３．０ｇをテトラヒ
ドロフラン２（ｈｌに溶解し、アンモニア水（２８％）
５ａｊ！に、水冷上滴下した。室温撹拌３０分後、反応
混合物を減圧濃縮し、析出した結晶に少量の水を加え濾
過し、エーテルにて洗浄することにより、目的物１、１
　ｇを得た。　融点１７３〜１７５°Ｃスｍ ４−シアノ−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミ
ドの合成 （１）５−クロロ−４−シアノ−１−メチルピラゾール
の合成 ５−アミノ−４−シアノ−１−メチルピラゾール３４．
３　ｇを３５％塩酸２００ｓ／！に加えた０次にリン酸
６０＋ｓｌを加え＝ｌＯ°Ｃ以下にて亜硝酸ナトリウム
２５．２　ｇの６０ｍ１水溶液を滴下した。 同温度にて１時間撹拌した。得られたジアゾニウム塩溶
液を塩化第一銅２ｇと亜硫酸１７ｇを吸収させた１、２
−ジクロロエタン２００ｍｊ！溶液に２０°Ｃ以下にて
滴下した。室温で１時間撹拌後、水５００ＩＩ＋１を加
え有機層を分離した。水層にクロロホルム１００ｍ１を
加え抽出操作を行なった後、クロロホルム層を前の有ｅ
ｓｕｉと合わせ、水洗抜脱水、溶媒留去して目的物３０
ｇを得た。 融点６３〜６４℃ （２）　　５−ベンジルチオ−４−シアノ−１−メチル
ピラゾールの合成 ５０−２のエタノールに金属ナトリウム１．４５ｇを加
えナトリウムエトキサイドを調製し、次にジメチルホル
ムアミド ルを減圧留去した．得られた溶液にベンジルメルカプタ
ン８．　１　ｇを２０°Ｃ以下にて滴下した。次いで固
体の５−クロロ−４−シアノ−ｌ−メチルピラゾール８
．５ｇを少量ずつ加え、室温で８時間撹拌した。反応混
合物を氷水に注ぎ、ベンゼンにて抽出し、有機層を水洗
、乾燥後、溶媒を減圧留去すると粗製の目的物１　３．
　０　ｇを油状物として得た。 （３）４−シアノ−ｌ−メチルピラゾール−５−スルホ
ニルクロライドの合成 ５−ベンジルチオ−４−シアノ−１−メチルピラゾール
１１．７ｇを含水酢酸１００＋／！に溶解し、１５℃以
下にて塩素を吹き込み、１時間撹拌した。 反応混合物を氷水に注ぎエーテルにて抽出し、水洗、乾
燥後、溶媒を減圧留去すると粗製の目的物が得られ、析
出した結晶を濾過し、エーテル−ｎ−ヘキサンにて洗浄
することにより、目的物７．０ｇを得た。 （４）４−シアノ−１−メチルピラゾール−５−スルホ
ンアミドの合成 ４−シアノ−１−メチルピラゾール−５−スルホニルク
ロライド６．７ｇをアセトン３０１１に溶解し、炭酸水
素ナトリウム２．７ｇを加え、−１０°Ｃ以下にて、ア
ンモニア水（２８％）６．２ｇ１ｆ下した。室温にて１
．５時間撹拌後アセトンを減圧留去し、残渣に酢酸エチ
ルを加え、水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られ
た油状物より析出した結晶を濾過し、エーテルにて洗浄
することにより、目的物３．０ｇを得た。融点１４５．
５〜１４８°Ｃ尖旌貫主 ４−エチルカルボニル−１−メチルピラゾール−５−ス
ルホンアミドの合成 （１）　　５−クロロ−４−エチルカルボニル−１−メ
チルピラゾールの合成 エチルマグネシウムブロマイド（マグネシウム２．６ｇ
およびエチルブロマイド１１．０ｇより調製）のジエチ
ルエーテル溶液８０ｏ＋ｊ！中に、５−クロロ−４−シ
アノ−１−メチルピラゾール９．７ｇのテトラヒト０フ
ラン４０ｍｆ溶液を５〜７°Ｃにて滴下した。滴下後室
部にて１．５時間撹拌し、更に４０°Ｃにて２時間撹拌
した。反応後、氷水１５０１ｍｌに注ぎ、希硫酸（Ｉ硫
酸１０１１１１オヨび氷２０ｇより調製）を加え、室温
にて０．５時間撹拌した。 有機層を分離後、水層をクロロホルムにて抽出し、有機
層を合わせ、水洗、乾燥して溶媒を減圧留去した。得ら
れた油状物より析出した結晶を濾取し、イソプロピルエ
ーテルにて洗浄することにより目的物１１．０ｇを得た
。融点８７〜８８°Ｃ（２）　　４−エヂルカルポニル
ー１−メチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成 ５−クロロ−４−エチルカルボニル−１−メチルピラゾ
ール７．３ｇのジメチルホルムアミド３０ｍ１溶液に水
硫化ナトリウム（７０％含有）８．２ｇを少量づつ加え
た。反応混合物を６０°Ｃにて１時間撹拌後、氷水に注
ぎ、濃塩酸にて酸性とし、クロロホルムにて抽出した。 有機層を約１００ｍ　ｌまで濃縮し、水５０ｍＮおよび
濃塩酸３４．２　ｇを加え、次亜塩素酸ナトリウム液（
６％含有）１５３ｇを５°Ｃ以下にて滴下した。滴下後
、同温度にて２時間撹拌し、有機層を分離した。水層を
クロロホルムにて抽出し、有機層を合わせ水洗した。 得られた有機層にテトラヒドロフラン３０ｓｆを加え、
水冷下２８％アンモニア水１５＋ｆ！を滴下し、室温に
て１時間撹拌した。溶媒を減圧留去後、析出した結晶を
濾取し、水およびエーテルにて洗浄することにより、目
的物５．０ｇを得た。融点１１３〜１１５°Ｃ 尖旌倣土 ４−ｎ−プロピルカルボニル−１−メチルピラゾール−
５−スルホンアミドの合成 実施例３に準じ、５−クロロ−４−シアノ−１−メチル
ピラゾールおよびｎ−プロピルマグネシウムアイオダイ
ドを原料として得られた５−クロロ−４−ｎ−プロピル
カルボニル−１−メチルピラゾール（融点５９〜６０°
Ｃ）を中間体として目的物を得た。融点１０２〜１０３
°Ｃ 裏施貫ｉ ４−ホルミル−１−メチルピラゾール−５−スルホンア
ミドの合成 ４−シアノ−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミ
ドＩｇおよびラネーニッケルＩｇを７５％蟻酸１５＋＋
１１に加え９時間加熱還流した。冷却後不溶物を濾別し
濾液を減圧上溶媒留去した後、水１０ｍｊ！と酢酸エチ
ル２０ｍ１を加え抽出操作を行なった。有機層を分離後
無水硫酸ナトリウムで脱水、溶媒留去し、得られた残渣
を少量のアセトニトリルで洗浄して目的物０．３ｇを得
た。融点１５７〜１５９℃ ２益貫旦 １−メチル−４−（２−テノイル）ピラゾール−５−ス
ルホンアミドの合成 （１）１−メチル−５（２−テノイルオキシ）ピラゾー
ルの合成 １−メチル−５−ヒドロキシピラゾール塩酸塩２２、９
　ｇを水１０ｒｓｌに溶解し、０°Ｃに冷却して、無水
炭酸カリウム２３．５　ｇにて中和した。クロロホルム
１０ｍ１を加え、２−テノイルクロライド２５ｇを少量
づつ加え、３０°Ｃにて３時間撹拌した。クロロホルム
層を分離し、無水硫酸ナトリウムにて脱水後、溶媒留去
して油状の目的物３６．５ｇを得た。 （２）５−ヒドロキシ−１−メチル−４−（２−テノイ
ル）ピラゾールの合成 ジオキサン２５ｎ＋ｊ！に１−メチル−５−（２−テノ
イルオキシ）ピラゾール３６ｇを溶解し、無水炭酸カリ
ウム４７ｇを加え１２０〜１３０°Ｃにて１．５時間加
熱した。冷却後、得られた固体を水２００１Ｉｌｌに溶
かし、濃塩酸にて酸沈した。析出した結晶を濾取、水洗
、乾燥して目的物２０．５　ｇを得た。融点１１６〜１
１７°Ｃ （３）５−クロロ−１−メチル−４−（２−テノイル）
ピラゾールの合成 ５−ヒドロキシ−１−メチル−４−（２−テノイル）ピ
ラゾール２０ｇをオキシ塩化リン５０ｍｊ！に加え１時
間還流する。冷却後反応混合物を氷水にあけ、クロロホ
ルムを加えて不溶物を濾別した。 クロロホルム層を活性炭処理した後、無水硫酸ナトリウ
ムで脱水、溶媒留去して褐色タール状物を得た。このタ
ール状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液はクロロホルム）にて精製して目的物０．８ｇを得た
。融点１２２〜１２３°Ｃ（４）１−メチル−４−（２
−テノイル）ピラゾール−５−スルホンアミドの合成 ５−クロロ−１−メチル−４−（２−テノイル）ピラゾ
ール０．８ｇをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ＩＩ
＋２に溶かし、水硫化ナトリウム（７０％含有）０．７
ｇを加えて６０″Ｃにて０．５時間加熱した。 冷却後、反応混合物を水３０−１にあけ、濃塩酸にて酸
沈した。析出した結晶を濾取、水洗しｌ−メチル−５−
メルカプト−４−（２−テノイル）ピラゾールを得た。 融点１１９〜１２１°Ｃ０得られた１−メチル−５−メ
ルカプト−４−（２−テノイル）ピラゾールを酢酸８鵬
ｌと水２ｍ１．に懸濁させ、５°Ｃに冷却して塩素を発
熱がなくなるまで吹き込んだ。水３０Ｉｌｌとクロロホ
ルム３０ｔａｌを加え抽出操作を行ない有機層を分離し
た。有機層を飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後
、０°Ｃに冷却して２８％アンモニア水５ｍｌを加えた
。室温で１０分間撹拌後濃塩酸を加えて酸性にした後、
クロロホルム層を分離し、無水硫酸ナトリウムで脱水、
溶媒留去し、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄す
ることにより目的物０．５ｇを得た。融点１３３〜１３
７℃災施桝１ １−メチル−４−（１−メチル−４−ピラゾールカルボ
ニル）ピラゾール−５−スルホンアミドの合成 実施例６に準じて、１−メチル−５−ヒドロキシピラゾ
ール塩酸塩および５−クロロ−１−メチルピラゾーり−
４−カルボン酸クロライドを原料として合成した。各中
間体の物性を次に示−す。 １−メチル−５−（１−メチル−４−ピラゾールカルボ
ニルオキシ）ピラゾール　融点１２１〜１２３°Ｃ ５−ヒドロキシ−１−メチル−４−（１−メチル−４−
ピラゾールカルボニル）ピラゾール　融点１６４〜１６
６°Ｃ ５−クロロ−１−メチル−４−（ｌ−メチル−４−ピラ
ゾールカルボニル）ピラゾール　融点１６０〜１６１″
Ｃ １−メチル−５−メルカプト−４−（１−メチル−４−
ピラゾールカルボニル）ピラゾール　融点１５５〜１５
９°Ｃ １−メチル−４−（ｌ−メチル−４−ピラゾールカルボ
ニル）ピラゾール−５−スルホンアミド融点１８１〜１
８３°Ｃ ス崖貫■ ４−メトキシメチルカルボニル−１−メチルピラゾール
−５−スルホンアミドの合成 （１）５−クロロ−４−メトキシメチルカルボニル−１
−メチルピラゾールの合成 ５−クロロ−１−メチルピラゾール４−カルボン酸クロ
リド４　ｇ　（２２，３ｍｍｏｌ）　、２−メトキシ−
１，１−ビス（トリメチルシリルオキシ）エチレン１０
．５　ｇ　（４４，７ｍｍｏｌ）の混合物を１００°Ｃ
で４時間加熱、撹拌した。放冷後、０．６Ｎ塩酸１０ｍ
１およびジオキサン２５１１１１の混合液を滴下し、発
熱、発泡がおさまった後、８５°Ｃにて３０分間加熱、
撹拌した。放冷後、エーテルにて抽出し、有機層を、飽
和ＮａＨＣＯｓ水、及び飽和食塩水で滉浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧上留去し、残渣にイ
ソプロピルエーテルを加え、濾過することにより、目的
物１．５ｇを得た。融点９２〜９３℃ （２）５−メルカプト−４−メトキシメチルカルボニル
−１−メチルピラゾールの合成 ５−クロロ−４−メトキシメチルカルボニル−１−メチ
ルピラゾールメ３．７　ｇ　（１９，６ａ＋ｍｏｌ）を
ジメチルホルムアミド１５ａ＋１に溶解し、水硫化ナト
リウム（７０％含有）　３．９２　ｇ　（４９ｍｍｏｌ
）を加え、室温で１５分間撹拌後、６０℃にて１時間加
熱、撹拌した０反応液を氷水に注ぎ濃塩酸で酸性とし、
ベンゼンにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧上溶媒留去して、析出した結晶を
濾過することにより目的物１．０ｇを得た。融点９８〜
９９°Ｃ（３）４−メトキシメチルカルボ−シレー１−
メチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成５−メル
カプト−４−メトキシメチルカルボニル−１−メチルピ
ラゾール０．９　ｇ　（４，８３ａ＋ｍｏｌ）を１．２
−ジクロロエタン１０ａ＋１に溶解し、水５ｍｌ、濃塩
酸４　ｇ　（３８，７ｍｍｏｌ）を加えた。０°Ｃ〜５
°Ｃで１０％次亜塩素酸ナトリウム水溶液１２．６ｇ　
（１６，９ｍｍｏｌ）を撹拌しつつ滴下した。３０分間
撹拌後、有機層を分離し、水層を１，２−ジクロロエタ
ン１０＋ｗｊ２で抽出した。 有機層を水洗後、分離し、テトラヒドロフラン２０１１
１を加え、撹拌しつつ、−１０°Ｃで２８％アンモニア
水５　ｍｌを滴下し、室温まで昇温した。 ３０分間撹拌の後、減圧下で溶媒を留去した。残渣を酢
酸エチルにて抽出し、抽出液を水洗の後、減圧上溶媒留
去した。残渣をイソプロピルエーテルにて洗浄し、濾過
することにより目的物０．６ｇを得た。融点１４０〜１
４２°Ｃ ス１」Ｉ− メチル（ｌ−メチル−５−スルファモイルピラゾール−
４−イル）ケトンＮ、Ｎ−ジメチルヒドラゾンの合成 ４−アセチル−１−メチルピラゾール−５−スルホンア
ミド１　ｇ　（４，！１３＋ｍｏｌ）をテトラヒドロフ
ラン２０−２に番すんだ＜Ｌ、Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドラ
ジン０．５ｇを滴下した。室温で３０分、さらに６０°
Ｃモ３０分加熱撹拌した。放冷後、減圧下で溶媒留去し
、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムにて乾燥した。 溶媒を減圧留去後、残渣にクロロホルム少量を加え、不
溶物を濾別した。濾液を減圧留去し、析出した結晶を濾
過することにより目的物０．５ｇを得た。 裏施■工度 ４−（１−メトキシイミノプロピル）−１−メチルーラ
ゾール−５−スルホンアミド ４−エチルカルボニル−１−メチルピラゾール−５−ス
ルホンアミド０．５ｇ、メトキシアミン塩酸塩１．０ｇ
およびジメチルホルムアミドｌＯ蒙ｌの混合物にカリウ
ムターシャリ−ブトキシド０．８ｇを加え、７０℃にて
１時間撹拌した０反応混合物を氷水に注ぎ酢酸エチルに
て抽出し、有機層を水洗、乾燥し、溶媒を減圧留去した
。得られた油状物より析出した結晶を濾過しイソプロピ
ルエーテルにて洗浄することにより、目的物０．４ｇを
得た。融点１０９〜１１０℃ ス益貫１１ ４−（１−メトキシイミノエチル）−１−メチルピラゾ
ール−５−スルホンアミドの合成実施例１０に準じ、４
−アセチル−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミ
ドおよびメトキシアミン塩酸塩を原料として、目的物を
得た。融点１４３〜１４５℃ ２隻班工ｌ ４−（１−エトキシイミノエチル）−１−メチルピラゾ
ール−５−スルホンアミドの合成実施例１０に準じ、４
−アセチル−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミ
ドおよびエトキシアミン塩酸塩を原料として目的物を得
た。融点１０８〜１１０℃ 次崖班上ユ ４−（１−アリルオキシイミノエチル）−１−メチルピ
ラゾール−５−スルホンアミドの合成実施例１Ｏに準じ
、４−アセチル−１−メチルピラゾール−５−スルホン
アミドおよびアリルオキシアミン塩酸塩を原料として、
目的物を得た。 融点６６〜６８°Ｃ 尖侮伝上士 ４−エトキシイミノメチル−１−メチルピラゾール−５
−スルホンアミドの合成 実施例１０に準じ、４−ホルミル−１−メチルピラゾー
ル−５−スルホンアミド、およびエトキシアミン塩酸塩
を原料として、目的物を得た。融点５２〜５３°Ｃ 実施班土工（化合物Ｎα２） Ｎ−（（４，６−シメトキシビリミジンー２−イル）ア
ミノカルボニル〕−４−メチルカルボニル−１−メチル
ピラゾール−５−スルホンアミドの合成 ４−メチルカルボニル−１−メチルピラゾール−５−ス
ルホンアミド１．１ｇ、クロルギ酸メチル０．７７ｇ、
無水炭酸カリウム１．１　ｇおよびアセトニトリル２０
ｍＡの混合物を２時間加熱還流した。 反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣に氷水を加え、濃
塩酸にて酸性とすることにより析出した結晶を濾取した
。１．１５　ｇのＮ−（４−メチルカルボニル−１−メ
チルピラゾール−５−スルホニル）メチルカーバメート
（融点１２２〜１２４℃）を得た。 得られたカーバメート１．１ｇおよび２−アミノ−４，
６−シメトキシビリミジン０．６５　ｇをトルエン３０
ｍｆ中、トルエンを少量ずつ留去させながら２時間加熱
還流した。放冷後、析出した結晶を濾取することにより
目的物１．１ｇを得た。融点１８３〜１８５°Ｃ １隻貫上旦（化合物Ｎα５） Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）ア
ミノカルボニルツー４−エチルカルボニル−１−メチル
ピラゾール−５−スルホンアミドの合成 実施例１５に準じ４−エチルカルボニル−１−メチルピ
ラゾール−５−スルホンアミドを原料として得られたＮ
−（４−エチルカルボニル−１−メチルピラゾール−５
−スルホニル）エチルカーバメート（融点１２８〜１２
９℃）を中間体として目的物を得た。融点１７８〜１８
０°Ｃ実施貫エユ（化合物Ｎｏ、　２１　） Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）ア
ミノカルボニル）−４−（１−メトキシイミノプロピル
）−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成 ４−（ｌ−メトキシイミノプロピル）−１−メチルピラ
ゾール−５−スルホンアミド０．４ｇ５Ｎ−（４，６−
シメトキシピリミジンー２−イル）フェニルカーバメー
ト０．５３　ｇおよびアセトニトリル１ＯＩｌｌ！ノ混
合物に、ＤＢＵ　Ｏ，４ｍｌを滴下し、室温にて１５分
撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液に氷水を加え、濃
塩酸にて酸性とした。 析出した結晶を濾取し、水およびエーテルにて洗浄後、
乾燥することにより目的物０．６ｇを得た。 融点１４９〜１５１°Ｃ 災施桝土主（化合物Ｎα２０） Ｎ−（（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−イ
ル）アミノカルボニル）４−　（１−アリルオキシイミ
ノエチル）−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミ
ドの合成 実施例１７に準じ、４−（１−アリルオキシイミノエチ
ル）−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミドおよ
び、Ｎ−（４−メトキシ−６−メチルトリアジン−２−
イル）フェニルカーバメートを原料として目的物を得た
。融点１０８〜１０９°Ｃ実施例１５〜１８に準じて合
成した化合物の物性値を実施例１５〜１８の化合物も含
めて第１表に示す。 〔以　下　余　白〕 〔第１表〕　　　　　　賀ｌ ！Ｉ Ｎｏ、Ｂ　　　　　ＭＩ　　　　　　ＲＸ　　　　　　
　Ｙ　　　　　　　Ｚ　　　　ｓ＋、ｐ、（”Ｃ）次に
本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成した
化合物を含め以下の第２表より第６表に示すが本発明化
合物はこれらに限定されるものではない。 ただし、表中の記号はそれぞれ以下の意味を示す。 Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ−ｎ　：ノルマ
ルプロピル％、Ｐｒ−１：イソプロビル基、Ｐｈ：フェ
ニル基、Ｇｎは以下の意味を表す。 Ｇａ＝Ｇ１〜Ｇ３５　、Ｇｂ＝０１〜Ｇ６、Ｇｃ＝Ｇ１
〜Ｇ３ｂｑ　　　　　　　　ｂと　　　　　　」ＬＧ３
３　　　　　　Ｇ３４　　　　　　　Ｇ３５Ａ　　　　
　　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ　　　　　　ＲＧｎＡ　　
　　　　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎ
Ａ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　旧　　　　　ＲＧｎ
Ａ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　旧　　　　　　ＲＧ
ｎＡ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ　　　　　　
ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＭＩ　　
　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　
ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　
　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎ八ＢＷＩＲＧｎ Ａ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ　　　　　
　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ
　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　Ｂ　　　　　　
　ＭＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　Ｂ　　　
　　　　ＷＩ　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　Ｂ　　
　　　　　ＭＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　
　〇　　　　　　　　　ＭＩ　　　　　　　　ＲＧｎＡ
　　　　　　Ｂ　　　　　　ＷＩ　　　　　　ＲＧｎ八
〇ＷＩＲＧｎ Ａ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＭＩ　　　　　　
　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＭＩ　
　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　
　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　Ｂ　　
　　　　　ｋｌ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　
　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎ八　　
　　　　　　〇　　　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　
　ＲＧｎＡ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ　　　
　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　
ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　
　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎ八　　　　　　Ｂ
　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧ。 Ａ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＭＩ　　　　　
　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ
　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　
　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎ八　　　　　　　Ｂ　
　　　　　　ＭＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　
　　Ｂ　　　　　　　　ＭＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　
　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　
ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ　　
　　　　　ＲＧｎＰｈ　　　　　　　Ｍｅ　　　　　　
　ＯＭｅ　　　　　　　　　ＧｂＰｈ　　　　　　　Ｍ
ｅ　　　　　　　ＯＥｔ　　　　　　　　　ＧｂＰｈ　
　　　　　　ＨＯＰｒ−ｎ　　　　　　　ＧｃＰｈ　　
　　　　　ＨＯＰｒ−１Ｇｃ Ｐｈ　　　　　　　Ｍｅ　　　　　　　ＯＰｒ−ｎ　　
　　　　　ＧｃＰｈ　　　　　　　Ｍｅ　　　　　　　
ＮＯＭｅ　　　　　　Ｍｅ　　　　　　　　　Ｇｂ八　
　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＭＩ　　　　　　　Ｒ
Ｇ。 Ｐｈ−４−ＣＩ　　　　　Ｉｆ　　　　　　ＯＥｔ　　
　　　　　　ＧｃＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　
　１１１１　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　〔第３
表〕 Ａ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ　　　　　
　　ＲＧｎＭｅ　　　　　　　Ｉｆ　　　　　　　　Ｏ
Ｍｅ　　　　　　　　　ＧｂＭｅ　　　　　　　Ｍｅ　
　　　　　　ＯＭｅ　　　　　　　　　Ｇｂ八　　　　
　　Ｂ　　　　　　旧　　　　　ＲＧｎ八　　　　　　
　Ｂ　　　　　　　引　　　　　　ＲＧｎ八　　　　　
　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　
　　　　　　Ｂ　　　　　　　　旧　　　　　　ＲＧｎ
Ａ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＭＩ　　　　　　　
ＲＧｎＡ　　　　　　　〇　　　　　　　　ＭＩ　　　
　　　　ＲＧｎ＾　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　Ｗ
Ｉ　　　　　　　ＲＧｎＭｅ　　　　　　　Ｐｈ　　　
　　　　ＮＯＭｅ　　　　　　Ｍｅ　　　　　　　　　
Ｇｂ八Ｂｋ１Ｉ？Ｇｎ Ａ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　旧　　　　　　
ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　旧　　　
　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＭＩ　
　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　
　ＭＩ　　　　　　　ＲＧｎＭｅ　　　　　　　Ｐｈ　
　　　　　　Ｎ０Ｐｒ−ｎ　　　　Ｍｅ　　　　　　　
　　ＧｂＭｅ　　　　　　　Ｉｔ　　　　　　　　Ｎ０
Ｐｒ−ｉ　　　　Ｍｅ　　　　　　　　　ＧｂＭｅ　　
　　　　　ＨＮ０Ｐｒ−ｉ　　　　Ｅｌ　　　　　　　
　　ＧｂＭｅ　　　　　　　ＨＮ０Ｐｒ−ｉ　　　　Ｐ
ｒ−ｎ　　　　　　　ＧｂＭｅ　　　　　　　ＨＮ０Ｐ
ｒ−ｉ　　　　Ｐｒ−１Ｇ５Ａ　　　　　　　　Ｂ　　
　　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　　
　　Ｂ　　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　ＲＧｎＡ　
　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ　　　　　　　Ｒ
ＧｎＡ　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　ＭＩ　　　
　　　　ＲＧｎ＾　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＷＩ
　　　　　　　ＲＧｎＭｅ　　　　　　　Ｍｅ　　　　
　　　ＮＭｅ　　　　　　Ｅｔ　　　　　　　　　Ｇｂ
八へ賀ＩＲＧｎ ＾　　　　〔第４表〕 Ａ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　ＭＩ　　　　　　　
ＲＧｎＡ　　　　　　　Ｂ　　　　　　　Ｗｌ’　　　
　　　ＲＧｎ八　　　　　　　　Ｂ　　　　　　　　　
ＭＩ　　　　　　　　ＲＧｎＡ　　　　　〔第５表〕 八ＢＷＩＲＨＥＧｎ Ａ　　　　　　Ｂ　　　　ＭＩ　　　　　ＲＨＥ　　　
　Ｇｎ本発明化合物を除草剤として施用するにあたって
は一般には適当な担体、例えばクレー、タルク、ベント
ナイト、珪藻土等の固体担体あるいは水、アルコール（
メタノール、エタノール等）、芳香族炭化水素類（ベン
ゼン、トルエン、キシレン等）、塩素化炭化水素類、エ
ーテル類、ケトン類、エステル類（酢酸エチル等）、酸
アミド類（ジメチルホルムアミド等）などの液体担体と
混用して適用することができ、所望により乳化剤、分散
剤、懸濁剤、浸透剤、展着剤、安定荊などを添加し、液
剤、乳剤、水和剤、粉剤、粒剤、フロアブル等任意の剤
型にて実用に供することができる。 次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに限定されるものではない、なお、以下
の配合例において「部」は重量部を意味する。 父介■上　水和剤 本発明化合物　磁２−・・−・−・・−・・−−−一−
−・・２０部ジークライトＡ　　　・−−−−−−・・
−・・・・−・・・−・−７６部°（カオリン系クレー
；ジークライト工業■商品名）ツルポール５０３９　・
・・・・・・・・−・−−−−ｍ−−−・・・−２部（
非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合
物：東邦化学■商品名） カープレックス（固結防止剤）・・−２部（ホワイトカ
ーボン：塩野義製薬■商品名）以上を均一に混合粉砕し
て水和剤とする。 父企尉ｌ　水和剤 本発明化合物　Ｎα５　・・・・・−−−−−一・−・
・・・−−−−・　４０部ジークライトＡ　　　・・・
・・−・・・−・・−・−・・・・・−・−５４部（カ
オリン系クレー：ジークライト工業■商品名）ツルポー
ル５０３９・−・−・−・・・・・・−−−一−−−−
・−２部（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性
剤との混合物：東邦化学■商品名） カープレックス（固結防止剤）・・・　　４部（ホワイ
トカーボン：塩野義製薬■商品名）以上を均一に混合粉
砕して水和剤とする。 翫Ｂ【ＡＪ−乳剤 本発明化合物　Ｎａ２１−・・・−・−・・−・・・・
−５部キ　　シ　　し　　ン　　　　　　・−・・・・
・−−−一・・−・−・−・・　７５部ジメチルホルム
アミド・・−・・−・・・−・・・−・−・　１５部ツ
ルポール２６８０　・−・−・・−・・−・−・・・−
５部（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤と
の混合物：東邦化学■商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を１０〜１０．０００倍に希釈して有効成分量かへ
クタール当たり０．００５　ｋｇ〜１０ｋｇになるよう
に散布する。 配査貞土　フロアブル 本発明化合物　阻２２−・・・・−・・・・・−・−・
−２５部アゲリシールＳ−７１（１−・・−・・−・・
−・・　１０部（非イオン性界面活性剤：花王■商品名
）ルノックス１００ＯＣ−・−−−−−−・−・・・・
−・−・０．５部（アニオン性界面活性剤：東邦化学■
商品名）１％コドポール水　・・−・−・−・・−・−
・・−・・・−・・−・　２０部（増粘剤：ローン・ブ
ーラン社商品名）水　　　　　　　・・〜・−・・−・
−・・・−・−・−−−−−−−・−・・−４４，５部
以上を均一に混合してフロアブル剤とする。 Ｎ金貫ｉ　フロアブル 本発明化合物　Ｎａ２　−・・・・・・・−・−・・−
・・・・−４０部アゲリシールＳ−７１０・・−・・−
・・−・・・・・　１０部（非イオン性界面活性剤：花
王■商品名）ルノックス１００ＯＣ−・・−・・・・・
・・・−・−０，５部（アニオン性界面活性剤：東邦化
学■商品名）１％ロドポール水　−・−・・・・・・−
・−・−・・・　２０部（増粘剤：ローン・ブーラン社
商品名）水　　　　　　　−・・・・−・・・・−・−
・−・・・・・−・・・−一−−−・・・・　２９．５
部以上を均一に混合してフロアブル剤とする。 ａｌｄＬ例」−粒剤 本発明化合物　ＮｌＸ６−・・−・・−・・・・・−・
−・・−１部ベントナイト　　　−・・・・・・・・・
・−・・−・・−・・・　５５部タ　　ル　　り　　　
　　　　　−−−−・−・−・・・・・−・・・−・−
・−４４部以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加
えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して
粒剤にする。 また、本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に
他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混合
施用しても良い。 上記の他種の除草剤としては、例えば、ファーム・ケミ
カルズ、ハンドブック（Ｆａｒｓ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ
Ｈａｎｄｂｏｏｋ）　　１９８６年版に記載されている
化合物などがある。 なお、本発明化合物は畑地、水田、果樹園などの農園芸
分野以外に運動場、空地、線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たりｏ、ｏｏｓ〜１０ｋｇ程度が適当である。 次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。 試邊Ｕ舛二」よ　土壌処理による除草効果試験Ｎ　１５
　ｃｍ、横２２ｃｍ、深さ６ｃｍのプラスチック製箱に
殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリ
グサ、イヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、
トーモロコシ、コムギ、ダイス、ワタ、を混播し、約１
．５　ｃｍ覆土した後有効成分量が所定の割合となるよ
うに土壌表面へ均一に散布した。 散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布４週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従
い調査した。 結果は第７表に示す。（化合物Ｎαは第１表に対応する
。） 本発明化合物のいくつかは、ある種の作物に対して選択
性を有する。 判定基準 ５・・・殺草率　９０％以上（はとんど完全枯死）４・
・・殺草率　７０〜９０％ ３・・・殺草率　４０〜７０％ ２・・・殺草率　２０〜４０％ １・・・殺草率　　５〜２０％ ０・・・殺草率　　５％以下（はとんど効力なし）但し
、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重および無
処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求めた
ものである。 第７表 抜腋■二ｌ　茎葉処理による除草効果試験縦１５Ｃ１１
，横２２ｃｍ、深さ６ｃｍのプラスチック製箱に殺菌し
た洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリグサ、
イヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、トーモ
ロコシ、コムギ、ダイス、ワタ、ビートの種子をそれぞ
れスポット状に播種し約１．５　ｃｍ覆土した。各種植
物が２〜３葉期に達したとき、有効成分量が所定の割合
となるように茎葉部へ均一に散布した。散布の際の薬液
は、前記配合例の水和剤を水で希釈して小型スプレーで
各種雑草の茎葉部の全面に散布した。薬液散布４週間後
に稲および各種雑草に対する除草効果を試験例−１の判
定基準に従い調査した。結果は第８表に示す、（化合物
磁は第１表に対応する。）第８表 Ｕ列」−温水条件における除草効果試験１１５０００ア
ールのフグネルポット中に沖積土壌を入れた後、水を入
れて混和し水深２ｃｍの温水条件とする。タイヌビエ、
ホタルイ、キカシグサ、のそれぞれの種子を、上記のポ
ットに混播し、さらにウリカワ、ミズガヤツリの塊茎を
置床した。 さらに２．５葉期のイネ苗を移植した。翌日、その水面
へ所定の薬量になるように、薬剤希釈液をメスピペット
で滴下処理した。 薬液滴下後３週目に各種雑草に対する除草効果を試験例
１の判定基準に従って調査した。結果は第９表に示す。 （化合物漱は第１表に対応する。）〔以　下　余　白〕 手続補正書（自発） 昭和６３年　９月ｔ９日 特許庁長官　吉　１）文　毅　殿 １、事件の表示 昭和６２年特許願第１５２４４７号 ２、発明の名称 ピラゾールスルホンアミド誘導体および除草剤３、補正
をする者 事件との関係　　特許出願人 住所　東京都千代田区神田錦町３丁目７番地１４、補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ５、補正の内容 （１）明細書第５７頁第１表の最終行に、次に示す化合
物とその物性値を追加する。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 【式中Ｑは ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼または▲数式、化学式、表等があります
   ▼ を示す。 Ａは水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ア
   ルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスル
   ホニルアルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカル
   ボニルアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルカ
   ルボニルアルキル基または▲数式、化学式、表等があり
   ます▼を示す。 Ｊは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 ｎは０、１または２の整数を示す。 Ｒ１は水素原子または低級アルキル基を示す。 Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または
   ハロアルキル基を示す。 Ｒ３は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または
   ニトロ基を示す。 Ｂは水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ア
   ルケニル基、ハロアルキル基、−ＯＲ４、−Ｓ（Ｏ）＿
   ｎＲ４、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、−ＣＯＲ
   ４、−ＣＯ＿２Ｒ４、▲数式、化学式、表等があります
   ▼、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
   化学式、表等があります▼（Ｊ、Ｒ１およびｎは前記と
   同様の意味を示す。）を示す。 Ｒ４はアルキル基またはハロアルキル基を示す。 Ｗ１は酸素原子、イオウ原子、Ｎ−Ｒ５、▲数式、化学
   式、表等があります▼またはＮＯＲ６を示す。 Ｒ５は低級アルキル基、シクロアルキル基またはフェニ
   ル基を示す。 Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、アルケニル基、アル
   キニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル
   基またはフェニル基を示す。 Ｒは、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、
   アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、▲数式
   、化学式、表等があります▼、−ＯＲ４、−ＳＲ４、Ｎ
   Ｒ１Ｒ４（ただし、Ｒが−ＯＲ４、−ＳＲ４、−ＮＲ１
   Ｒ４の場合、Ｗ１は前述の−Ｎ−Ｒ５、▲数式、化学式
   、表等があります▼または−ＮＯＲ６を示す。）または
   、置換されていてもよいフラン、チオフェン、ピラゾー
   ル、イソチアゾール、イソオキサゾール、イミダゾール
   、チアゾール、トリアゾール、チアジアゾール（置換基
   は低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれ
   る。）を示す。 Ｒ７は、アルコキシ基、アルキルスルフィニル基、アル
   キルスルフェニル基、アルキルスルホニル基、アルコキ
   シスルホニル基、ジアルキルアミノスルホニル基、ジア
   ルキルアミノ基、シアノ基、−ＣＯＯＲ４、−ＣＯＲ４
   、ＮＲ１ＣＯＲ４、Ｎ（Ｒ１）ＯＲ４またはＯＣＯＲ４
   を示す。 Ｗは酸素原子または硫黄原子を示す。 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基また
   は低級アルコキシ基を示す。 Ｇは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
   式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 〔ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
   シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
   アルコキシ基、ＮＲ８Ｒ９、ＯＣＨ（Ｒ１）ＣＯＯＲ１
   、ＣＯＯＲ１、シクロプロピル基、ＣＨ（ＯＲ１０）＿
   ２、低級アルキルチオ基または低級ハロゲン化アルキル
   チオ基を示す。 Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立して水素原子、低級アル
   キル基または低級アルコキシ基を示す。 Ｒ１０は低級アルキル基を示す。 Ｘ１およびＹ１はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
   原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低
   級アルコキシ基を示す。 Ｘ２は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級
   アルコキシ基を、Ｙ２は低級アルキル基を示す。 Ｚは窒素原子またはＣ−Ｒ１１を示す。 Ｒ１１は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
   ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはＹあ
   るいはＹ１と共に酸素原子を含む５員環構造を示す。 Ｘ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
   キシアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Ｙ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
   子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
   示す。 Ｙ４はシアノ基、ＣＯ＿２Ｒ１、ニトロ基、Ｓ（Ｏ）＿
   ｎＲ１０、アルキル基またはハロゲン化アルキル基を示
   す。 Ｚ１は窒素原子またはＣＨを示す。 Ｘ４およびＹ５はそれぞれ独立して、低級アルキル基ま
   たは低級アルコキシ基を示す。〕】 で表されるピラゾールスルホンアミド誘導体およびそれ
   らの農業的に適している塩類。
2. （２）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 【式中Ｑは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ を示す。 Ａは水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ア
   ルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シアルキル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスル
   ホニルアルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカル
   ボニルアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルカ
   ルボニルアルキル基または▲数式、化学式、表等があり
   ます▼を示す。 Ｊは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 ｎは０、１または２の整数を示す。 Ｒ１は水素原子または低級アルキル基を示す。 Ｒ２は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または
   ハロアルキル基を示す。 Ｒ３は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または
   ニトロ基を示す。 Ｂは水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、ア
   ルケニル基、ハロアルキル基、−ＯＲ４、−Ｓ（Ｏ）＿
   ｎＲ４、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、−ＣＯＲ
   ４、−ＣＯ＿２Ｒ４、▲数式、化学式、表等があります
   ▼、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
   化学式、表等があります▼（Ｊ、Ｒ１およびｎは前記と
   同様の意味を示す。）を示す。 Ｒ４はアルキル基またはハロアルキル基を示す。 Ｗ１は酸素原子、イオウ原子、Ｎ−Ｒ５、▲数式、化学
   式、表等があります▼またはＮＯＲ６を示す。 Ｒ５は低級アルキル基、シクロアルキル基またはフェニ
   ル基を示す。 Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、アルケニル基、アル
   キニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ベンジル
   基またはフェニル基を示す。 Ｒは、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、
   アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、▲数式
   、化学式、表等があります▼、−ＯＲ４、−ＳＲ４、Ｎ
   Ｒ１Ｒ４（ただし、Ｒが−ＯＲ４、−ＳＲ４、−ＮＲ１
   Ｒ４の場合、Ｗ１は前述の−Ｎ−Ｒ５、▲数式、化学式
   、表等があります▼または−ＮＯＲ６を示す。）または
   、置換されていてもよいフラン、チオフェン、ピラゾー
   ル、イソチアゾール、イソオキサゾール、イミダゾール
   、チアゾール、トリアゾール、チアジアゾール（置換基
   は低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれ
   る。）を示す。 Ｒ７は、アルコキシ基、アルキルスルフィニル基、アル
   キルスルフェニル基、アルキルスルホニル基、アルコキ
   シスルホニル基、ジアルキルアミノスルホニル基、ジア
   ルキルアミノ基、シアノ基、−ＣＯＯＲ４、−ＣＯＲ４
   、ＮＲ１ＣＯＲ４、Ｎ（Ｒ１）ＯＲ４またはＯＣＯＲ４
   を示す。 Ｗは酸素原子または硫黄原子を示す。 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基また
   は低級アルコキシ基を示す。 Ｇは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
   式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 〔ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
   シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
   アルコキシ基、ＮＲ８Ｒ９、ＯＣＨ（Ｒ１）ＣＯＯＲ１
   、ＣＯＯＲ１、シクロプロピル基、ＣＨ（ＯＲ１０）＿
   ２、低級アルキルチオ基または低級ハロゲン化アルキル
   チオ基を示す。 Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立して水素原子、低級アル
   キル基または低級アルコキシ基を示す。 Ｒ１０は低級アルキル基を示す。 Ｘ１およびＹ１はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン
   原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低
   級アルコキシ基を示す。 Ｘ２は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級
   アルコキシ基を、Ｙ２は低級アルキル基を示す。 Ｚは窒素原子またはＣ−Ｒ１１を示す。 Ｒ１１は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
   ルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはＹあ
   るいはＹ１と共に酸素原子を含む５員環構造を示す。 Ｘ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコ
   キシアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Ｙ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
   子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
   示す。 Ｙ４はシアノ基、ＣＯ＿２Ｒ１、ニトロ基、Ｓ（Ｏ）＿
   ｎＲ１０、アルキル基またはハロゲン化アルキル基を示
   す。 Ｚ１は窒素原子またはＣＨを示す。 Ｘ４およびＹ５はそれぞれ独立して、低級アルキル基ま
   たは低級アルコキシ基を示す。〕】 で表されるピラゾールスルホンアミド誘導体およびそれ
   らの農業的に適している塩類の１種または２種以上を有
   効成分として含有することを特徴とする除草剤。