JPS6332333B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学活性なホモアリルアルコール類の
不斉合成法に関する。更に詳細には、本発明は、
不記式（）で表わされる光学活性有機錫化合物
をルイス酸の存在下でアルデヒドまたは非対称ケ
トンと反応させた後、加水分解することを特徴と
する光学活性なホモアリルアルコール類の不斉合
成法である。 但し、上記式（）において、R¹は炭素数４
〜20の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族基、不
飽和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族
置換脂肪族基から選ばれ、且つ錫に結合する炭素
原子から炭素原子鎖に沿つてα−位、β−位また
はγ−位の炭素原子の少なくとも一つが不斉炭素
原子である有機基である。R²は塩素、臭素、沃
素から選ばれるハロゲン原子、または炭素数１〜
12の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族基、不飽
和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族
基、芳香族置換脂肪族基から選ばれる有機基であ
る。ｘおよびｙは、ｘ＋ｙ≦４を満足する１〜３
の正の整数である。 有機錫化合物の中には種々の有機反応に対する
反応試剤として、あるいはエステル化反応やエポ
キサイド類の開環重合反応等の触媒として重要な
用途を持つものが多い。しかし反応試剤や触媒と
して用いられている従来までの有機錫化合物は光
学的に不活性な化合物のみであり、一方の光学異
性体を優先的に与えるところのいわゆる不斉反応
の合成試剤や触媒としては全く効果がなかつた。 一方有機錫化合物と類似の反応性を示す光学活
性なアリルケイ素化合物や、アリルホウ素化合物
を用いた不斉アリル化反応が若干例見い出されて
いるが、有機ケイ素化合物ではアリル基がフエニ
ル置換された特殊なタイプのものに限られている
こと、有機ホウ素化合物では空気中での不安定性
のため取扱い上制約を受けること、あるいは試剤
の再使用がむずかしい事など、不満足な点が多か
つた。 今般本発明者らは不斉な有機基とアリル基とを
同時に含有する新規光学活性有機錫化合物を見い
出し、別途出願したが、本発明は、それらをアル
デヒド又はケトンのアリル化反応試剤として用い
ることにより、光学活性なホモアリルアルコール
類を得ることに成功し本発明を完成するに至つ
た。ホモアリルアルコール類は合成中間体として
重要なものが多い。 本発明の式（）で表わされる光学活性有機錫
化合物は、以下のような方法で製造される。 下記式（）で表わされる光学活性な有機基を
有する有機ハライドより常法によりグリニヤール
試薬を製造し、これを下記式（）で表わされる
アリル置換錫ハライドと適当な溶媒中で反応させ
ることによりアリル基含有光学活性有機錫化合物
が得られる。 R¹X （） 但、上記式（）において、Ｘは塩素、臭素、
沃素から選ばれるハロゲン原子を表わし、R¹は、
前記式（）のR¹と同じである。上記式（）
において、Ｘは塩素、臭素、沃素より選ばれるハ
ロゲン原子を表わし、R²は、前記式（）のR²
と同じである。ｘおよびｙは、前記式（）のｘ
およびｙと同じである。 上記反応において、溶媒としてはテトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等
が挙げられ、反応温度は−100〜120℃の適当な温
度が選ばれる。 また、式（）化合物の別な製造法としては、
公知の方法（J.S.Filippo、JrらJ.Am.Chem.Soc.
104、2831（1982））で得られる下記式（）で表
わされる光学活性フエニル錫化合物を臭素と反応
させて臭化錫化合物とし、これとアリルマグネシ
ウムハライドまたはトシラートを反応させると、
下記式（）で表わされる光学活性アリル錫化合
物が得られる。 （R¹）xSn（C₆H₅）₄−ｘ （） 但し、上記式（）および（）において、
R¹は、前記式（）のR¹と同じであり、ｘは１
または２を表わす。 上記反応において、臭素化反応は、四塩化炭
素、クロロホルム、エーテル等の溶媒中で行なう
ことができる。反応温度は、通常−100〜120℃の
範囲である。アリルグリニヤール試薬との反応
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン等の溶媒中で行なうことができ、反応温度
は、通常−100〜120℃の範囲である。 また、式（）化合物の別な製造法としては、
下記式（）で表わされる光学活性ジアリル錫化
合物を下記式（）で表わされる光学活性錫ハロ
ゲン化物と不均化反応させると、下記式（）で
表わされる光学活性モノアリル錫化合物が得られ
る。 （R¹）₂Sn（−CH₂CH＝CH₂）₂ （） （R¹）₂SnX₂ （） 但し、上記式（）〜（）において、R¹は、
前記式（）のR¹と同じであり、また式（）
及び式（）において、Ｘは塩素、臭素、沃素か
ら選ばれるハロゲン原子を表わす。 上記反応は、無溶媒またはエーテル、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼ
ン等の溶媒中で行なうことができる。反応温度
は、通常−80〜120℃の範囲である。 本発明の不斉合成によるホモアリルアルコール
類は、次式（）で示される反応によつて製造さ
れる。 但し、上記式（）において、R³とR⁴は水素
原子または炭素数１〜30の飽和鎖式脂肪族基、飽
和環式脂肪族基、不飽和鎖式脂肪族基、不飽和環
式脂肪族基、芳香族基、芳香族置換脂肪族基、ハ
ロゲン置換脂肪族基、ハロゲン置換芳香族基から
選ばれる互に異なる基を表わす。またR³とR⁴は
炭素−炭素結合により環を形成していてもよい。 上記式（）に示されるように、アルデヒド又
は非対称ケトンと式（）の光学活性アリル錫化
合物を反応させ、続いて反応物を加水分解すると
目的物である光学活性なホモアリルアルコールが
得られる。 上記反応は、無溶媒あるいはエーテル、ジメト
キシエタン、ジクロロメタン等の溶媒中で行なう
ことができる。反応温度は、通常−100〜120℃の
範囲が適当である。カルボニル化合物に対する式
（）化合物のモル比は、通常0.1〜10の範囲であ
る。反応はフツ化ホウ素エーテラート等のルイス
酸の存在下で行なわれ、カルボニル化合物に対す
るルイス酸の使用当量は0.01〜10の範囲である。 反応終了後、反応残液に適当な処理を施こすこ
とによつて光学活性な置換基は繰返し使用可能な
形で回収できる。 以下本発明を実施例によつて説明する。 式（）化合物の製造例 １ （＋）−１−クロロ−２−フエニルブタン（光
学純度97％）18.0ｇ（107ｍmol）から調製した
２−フエニルブチルマグネシウムクロライドのテ
トラヒドロフラン溶液20mlに、ジアリル錫ジブロ
マイド12.8ｇ（36ｍmol）を室温で加え、室温で
１時間撹拌した後30分間還流した。 反応混合物にヘキサン100mlを加えて濾過した
後、濾液を濃縮し、得られた油分を蒸留すると
（−）−ジアリルビス（２−フエニルブチル）錫
（（−）−〔C₂H₅（C₆H₅）CHCH₂〕₂Sn（CH₂CH＝
CH₂）₂）15.1ｇが得られた（収率90％、沸点210
℃／0.15mmHg、〔α〕²³ _D−38.1゜（C0.97、ベンゼン）
。
元素分析 実測値：炭素67.17％、水素7.94％
（C₂₆H₃₆Snとしての計算値：炭素66.83％、水素
7.77％） NMR（CCl₄溶媒TMS規準δ） 0.69（6H）、0.87〜1.93（12H）、2.02〜2.85（2H）、
4.40〜4.88（4H）、5.16〜6.03（2H）、7.00〜7.30
（10H） 式（）化合物の製造例 ２ （−）−（Ｒ）−２−オクチルトリフエニル錫
9.26ｇ（20ｍmol）の四塩化炭素溶液100mlに、
臭素3.36ｇ（42ｍmol）を０℃で滴下し、室温で
30分間反応後減圧下溶媒を留去すると、（−）−２
−オクチルフエニル錫ジブロマイド9.1ｇが得ら
れた（収率97％、〔α〕²³ _D−20.1゜（C4.00、ベンゼ
ン））。得られた（−）−２−オクチルフエニル錫
ジブロマイド9.0ｇ（19ｍmol）のテトラヒドロ
フラン溶液40mlを、アリルブロマイド9.2ｇ（76
ｍmol）から調製したアリルマグネシウムブロマ
イドのテトラヒドロフラン溶液60mlに−10℃で滴
下し、１時間還流後反応液にヘキサン100mlを加
えて濾過し、濾液の溶媒を減圧下留去し、残留物
を減圧蒸留すると、（−）−ジアリル（２−オクチ
ル）フエニル錫（（−）−（C₈H₁₇）（C₆H₅）Sn
（CH₂CH＝CH₂）₂）6.3ｇが得られた（収率85％、
沸点175〜180℃／0.2mmHg、〔α〕²³ _D−21.2゜（C3.52
、
ベンゼン））。（−）−ジアリル（２−オクチル）フ
エニル錫の核磁気共鳴スペクトル（CCl₄溶媒、
TMS規準）と赤外線吸収スペクトル（薄膜法）
を第１図及び第２図に示した。 式（）化合物の製造例 ３ 製造例１で得られた（−）−ジアリルビス（２
−フエニルブチル）錫4.7ｇ（10ｍmol）の四塩
化炭素溶液20mlに（−）−ビス（２−フエニルブ
チル）錫ジクロライド4.6ｇ（10ｍmol）を０℃
で加え、室温で１時間撹拌をつづけたのち溶媒を
留去すると、光学活性なアリルビス（２−フエニ
ルブチル）錫クロライド（（−）−〔C₂H₅（C₆H₅）
CHCH₂〕₂SnCl（CH₂CH＝CH₂））4.3ｇが得られ
た（収率95％）。 実施例 １ （−）−ジアリルビス（２−フエニルブチル）
錫5.05ｇ（10.8ｍmol）と三フツ化ホウ素エーテ
ラートの47％エーテル溶液1.06ml（5.4ｍmol）を
含むエーテル溶液20mlを−78℃に冷却し、プロピ
オンアルデヒド0.94ｇ（16.2ｍmol）を加え、こ
の温度で6.5時間撹拌した。 反応混合物を0.5NNaOH溶液30mlで加水分解
した後、続いて1NHCl溶液、水の順で洗浄した
後硫酸マグネシウムで乾燥し、エーテルを留去
し、残渣を蒸留すると、５−ヘキセン−３−オー
ル1.02ｇが得られた（収率63％、〔α〕²³ _D−2.97゜
（C10.7、ベンゼン）％ee49）。 ５−ヘキセン−３−オールの蒸留残渣を無水酢
酸10mlに溶かし１時間還流した後減圧下無水酢酸
を留去し、得られた残渣に１：２メタノール−
3NHCl溶液を加えて一夜撹拌する。反応液をジ
クロロメタンで抽出し、溶媒を留去すると、ビス
（２−フエニルブチル）錫ジクロライドが得られ
た。得られたビス（２−フエニルブチル）錫ジク
ロライドのエーテル溶液に２当量のアリルマグネ
シウムクロライドを−10℃で加え、１時間還流し
た後ジクロロメタンで抽出し、溶媒を留去し減圧
蒸留すると、（−）−ジアリルビス（２−フエニル
ブチル）錫3.28ｇが回収された（回収率65％）。 実施例 ２〜17 実施例１と同様な方法で、第１表に示す反応条
件にて光学活性アリル錫化合物によるカルボニル
化合物のアリル化反応を行ない、対応する光学活
性ホモアリルアルコール類を得た。その結果を第
１表に示す。 なお、第１表中、生成物の収率において、実施
例５〜17はカラムクロマトグラフイーで生成物を
分離した値である。 【表】 実施例 18 （−）−ジアリルビス（２−フエニルブチル）
錫5.05ｇと三フツ化ホウ素エーテラートの47％エ
ーテル溶液1.06mlを含むエーテル溶液20mlを−78
℃に冷却した後、非対称ケトンとしてβ−アセチ
ルナフタレン2.75ｇを加え、同温度で６時間撹拌
した。 反応混合物を0.5NNaOH溶液30mlを加えて加
水分解した後、1NHCl溶液及び水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでエーテルを
留去して残渣を蒸留すると、２−（β−ナフチル）
−４−ペンテン−２−オール2.40ｇが得られた
（収率70％、〔α〕²³ _D＋13.6゜（C6.89、ベンゼン）、
％
ee30）。 実施例 19 非対称ケトンとしてβ−アセチルナフタレン
2.75ｇの代りにアセトフエノン1.94ｇを用いた以
外は実施例18と同様にして目的物である２−フエ
ニル−４−ペンテン−２−オール1.81ｇを得た
（収率69％、〔α〕²³ _D＋11.4゜（C7.85、ベンゼン）、
％
ee55）。

【図面の簡単な説明】

第１図は（−）−ジアリル（２−オクチル）フ
エニル錫の核磁気共鳴スペクトルを示し、第２図
は同物質の赤外線吸収スペクトルを示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記式（）で表わされる光学活性有機錫化
   合物をルイス酸の存在下でアルデヒドまたは非対
   称ケトンと反応させた後、加水分解することを特
   徴とする光学活性なホモアリルアルコール類の不
   斉合成法。 但し、上記式（）において、R¹は炭素数４
   〜20の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族基、不
   飽和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族
   置換脂肪族基から選ばれ、且つ錫に結合する炭素
   原子から炭素原子鎖に沿つてα−位、β−位また
   はγ−位の炭素原子の少なくとも一つが不斉炭素
   原子である有機基である。R²は塩素、臭素、沃
   素から選ばれるハロゲン原子、または炭素数１〜
   12の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族基、不飽
   和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族
   基、芳香族置換脂肪族基から選ばれる有機基であ
   る。ｘおよびｙは、ｘ＋ｙ≦４を満足する１〜３
   の正の整数である。