JPS6333444A - 耐放射線性ポリオレフイン組成物 - Google Patents
耐放射線性ポリオレフイン組成物Info
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- JPS6333444A JPS6333444A JP61177324A JP17732486A JPS6333444A JP S6333444 A JPS6333444 A JP S6333444A JP 61177324 A JP61177324 A JP 61177324A JP 17732486 A JP17732486 A JP 17732486A JP S6333444 A JPS6333444 A JP S6333444A
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- C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
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- A61L31/00—Materials for other surgical articles, e.g. stents, stent-grafts, shunts, surgical drapes, guide wires, materials for adhesion prevention, occluding devices, surgical gloves, tissue fixation devices
- A61L31/14—Materials characterised by their function or physical properties, e.g. injectable or lubricating compositions, shape-memory materials, surface modified materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は耐放射線性ポリオレフィン組成物に関する。詳
しくは、特定の有機ホスファイト化合物を配合すること
により耐放射線性の改善されたポリオレフィン組成物に
関する。
しくは、特定の有機ホスファイト化合物を配合すること
により耐放射線性の改善されたポリオレフィン組成物に
関する。
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンは、
注射器、ピンセット、クランプ等の医療器具あるいは食
品包装材料に用いられており、これらは、殺菌を目的と
して放射線照射処理されることが多いが、ポリオレフィ
ンは放射線照射により劣化し、クラックを発生したり、
機械的強度が低下したり、あるいは変色したりする等の
問題があった。
注射器、ピンセット、クランプ等の医療器具あるいは食
品包装材料に用いられており、これらは、殺菌を目的と
して放射線照射処理されることが多いが、ポリオレフィ
ンは放射線照射により劣化し、クラックを発生したり、
機械的強度が低下したり、あるいは変色したりする等の
問題があった。
この放射線による劣化を防止するために、フェノール系
酸化防止剤、を機燐化合物あるいはヒンダードアミン系
光安定剤が夫々単独で又は互いに組み合わせて用いるこ
とが提案されている。
酸化防止剤、を機燐化合物あるいはヒンダードアミン系
光安定剤が夫々単独で又は互いに組み合わせて用いるこ
とが提案されている。
例えば特開昭５７−１７９２３４号公報Ｇこは、対称型
のトリアリールホスファイトを配合すること、特開昭５
８−４９７３７号公報には、ヒンダードアミン化合物及
び亜リン酸エステル系化合物を配合すること、特開昭６
１−１１８４４７号公報には、ヒンダードアミン化合物
及びビス（２，４−ジ第３ブチルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト又はビス（２−第３ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト等を配合することが提案されている。
のトリアリールホスファイトを配合すること、特開昭５
８−４９７３７号公報には、ヒンダードアミン化合物及
び亜リン酸エステル系化合物を配合すること、特開昭６
１−１１８４４７号公報には、ヒンダードアミン化合物
及びビス（２，４−ジ第３ブチルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト又はビス（２−第３ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト等を配合することが提案されている。
しかしながら、その効果は未だ不十分であり、更に改善
することが要望されていた。
することが要望されていた。
本発明者らはこれらの欠点を改善するために、鋭意検討
した結果、ポリオレフィンに対し、下記一般式（１）で
表される有機ホスファイト化合物を配合することにより
耐放射線性の改善されたポリオレフィン組成物が得られ
ることを見出し、本発明に到達した。
した結果、ポリオレフィンに対し、下記一般式（１）で
表される有機ホスファイト化合物を配合することにより
耐放射線性の改善されたポリオレフィン組成物が得られ
ることを見出し、本発明に到達した。
（式中、Ｒは炭素原子数１〜９のアルキル基を示す、）
以下に、本発明になるポリオレフィン組成物について詳
述する。
述する。
上記一般式（１）で表される化合物において、Ｒで表さ
れるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、第２ブチル、第３ブチル
、イソブチル、アミル、第３７ミル、ヘキシル、オクチ
ル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、第３オクチル
、第３ノニル等が挙げられる。
れるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、第２ブチル、第３ブチル
、イソブチル、アミル、第３７ミル、ヘキシル、オクチ
ル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、第３オクチル
、第３ノニル等が挙げられる。
本発明において使用される、上記一般式（１）で示され
る化合物の具体例としては、例えばビス（２，６一ジｍ
３ブチルー４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３ブチル−４−エ
チルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，６−ジ第３ブチル−４−イソプロピルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４，６−トリ第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３ブチル−４−
第２ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，６−ジ第３ブチル−４第３オクチルフ
エニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（
２，６−ジ第３ブチル−４−第３ノニルフエニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト等があげられる。
る化合物の具体例としては、例えばビス（２，６一ジｍ
３ブチルー４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３ブチル−４−エ
チルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，６−ジ第３ブチル−４−イソプロピルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４，６−トリ第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３ブチル−４−
第２ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，６−ジ第３ブチル−４第３オクチルフ
エニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（
２，６−ジ第３ブチル−４−第３ノニルフエニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト等があげられる。
本発明組成物は、耐γ線性を有しているので・医療分野
の外、Ｔ線照射設備で用いる容器分野などへの応用が可
能である。
の外、Ｔ線照射設備で用いる容器分野などへの応用が可
能である。
本発明で用いることができるポリオレフィンとしては、
エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、
４−メチルペンテン、ヘプテン、オクテン等のα−オレ
フィンの単独あるいは共重合体；これらのα−オレフィ
ンの過半重量と酢酸ビニル等のビニルエステル、アクリ
ル酸や無水マレイン酸やメタクリル酸メチル等の不飽和
有機酸類（塩、アミド、アミンも含む）、ビニルトリメ
トキシシラン等のビニルシランなどのランダム、ブロッ
クあるいはグラフト共重合体；もしくはこれらの重合体
の塩素化、スルホン化、酸化等の変性処理されたもの等
を挙げることができる。
エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、
４−メチルペンテン、ヘプテン、オクテン等のα−オレ
フィンの単独あるいは共重合体；これらのα−オレフィ
ンの過半重量と酢酸ビニル等のビニルエステル、アクリ
ル酸や無水マレイン酸やメタクリル酸メチル等の不飽和
有機酸類（塩、アミド、アミンも含む）、ビニルトリメ
トキシシラン等のビニルシランなどのランダム、ブロッ
クあるいはグラフト共重合体；もしくはこれらの重合体
の塩素化、スルホン化、酸化等の変性処理されたもの等
を挙げることができる。
具体的には、例えば低、中あるいは高密度ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン−プロピレン
ランダムあるいはブロック共重合体、エチレン−プロピ
レン−ブテン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エ
チレン−４−メチルペンテン共重合体、プロピレン−ヘ
キセン共重合体、プロピレン−ヘキセン−ブテン共重合
体などである。
、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン−プロピレン
ランダムあるいはブロック共重合体、エチレン−プロピ
レン−ブテン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エ
チレン−４−メチルペンテン共重合体、プロピレン−ヘ
キセン共重合体、プロピレン−ヘキセン−ブテン共重合
体などである。
これら重合体の中で特に効果の顕著なものは、ポリプロ
ピレン、プロピレン−エチレンランダムあるいはブロッ
ク共重合体、プロピレン−エチレン−ブテン共重合体、
プロピレン−ヘキセン−ブテン共重谷体等のプロピレン
系重合体である。
ピレン、プロピレン−エチレンランダムあるいはブロッ
ク共重合体、プロピレン−エチレン−ブテン共重合体、
プロピレン−ヘキセン−ブテン共重谷体等のプロピレン
系重合体である。
本発明組成物には、フェノール系又は硫黄系の酸化防止
剤を併用することが好ましい。
剤を併用することが好ましい。
フェノール系酸化防止剤としては、２．６−ジ第３ブチ
ル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタ
デシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第３ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジス
テアリル（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ホスホネート、チオジエチレングリコールビス（
（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート） 、４．４’−チオビス（６−第３ブチ
ル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６−ジ
（３，５−ジヒドロキシフエノキシ＞−ｓ−トリアジン
、２．２”−メチレンビス（４−メチル−６＝第３ブチ
ルフエノール） 、２．２’−メチレンビス（４−エチ
ル−６−第３ブチルフエノール）、ビス〔３，３−ビス
（４−ヒドロキシ−３−第３ブチルフエニル）ブチリッ
クアシッドコグリコールエステル、４，４゛−ブチリデ
ンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、２．２″
−エチリデンビス（４，６−ジ第３ブチルフェノール）
、２．２’−エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第
３ブチルフエノール）、■。
ル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタ
デシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第３ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジス
テアリル（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ホスホネート、チオジエチレングリコールビス（
（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート） 、４．４’−チオビス（６−第３ブチ
ル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６−ジ
（３，５−ジヒドロキシフエノキシ＞−ｓ−トリアジン
、２．２”−メチレンビス（４−メチル−６＝第３ブチ
ルフエノール） 、２．２’−メチレンビス（４−エチ
ル−６−第３ブチルフエノール）、ビス〔３，３−ビス
（４−ヒドロキシ−３−第３ブチルフエニル）ブチリッ
クアシッドコグリコールエステル、４，４゛−ブチリデ
ンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、２．２″
−エチリデンビス（４，６−ジ第３ブチルフェノール）
、２．２’−エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第
３ブチルフエノール）、■。
１．３−１−リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−
第３ブチルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−
４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−
５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１．
３．５−トリス（２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−
４−ｉ３ブチルベンジル）イソシアヌレート、１゜３．
５−）リス（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、１．３．５−トリス（３，
５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４
，６−１−リスチルベンゼン、１．３．５−トリス（（
３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テトラキス
〔メチレン−３−（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネートコメタン、２−第３ブチ
ル−４−メチル−６−（２’−アクリロイルオキシ−３
゛−第３ブチル−５°−メチルベンジル）フェノール、
３．９−ビス（１°、１゛−ジメチル−２”−ヒドロキ
シエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（
５，５）ウンデカンビス〔β−（３−第３３ブチル−４
−ヒドロキシ−５−メチルルフェニル）プロピオネート
等が挙げられる。
第３ブチルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−
４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−
５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１．
３．５−トリス（２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−
４−ｉ３ブチルベンジル）イソシアヌレート、１゜３．
５−）リス（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、１．３．５−トリス（３，
５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４
，６−１−リスチルベンゼン、１．３．５−トリス（（
３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テトラキス
〔メチレン−３−（３，５−ジ第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネートコメタン、２−第３ブチ
ル−４−メチル−６−（２’−アクリロイルオキシ−３
゛−第３ブチル−５°−メチルベンジル）フェノール、
３．９−ビス（１°、１゛−ジメチル−２”−ヒドロキ
シエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（
５，５）ウンデカンビス〔β−（３−第３３ブチル−４
−ヒドロキシ−５−メチルルフェニル）プロピオネート
等が挙げられる。
これらフェノール系酸化防止剤の添加量は、ポリオレフ
ィン１００重量部に対して０．００１〜５、好ましくは
０．０１〜３重量部である。
ィン１００重量部に対して０．００１〜５、好ましくは
０．０１〜３重量部である。
又、硫黄系酸化防止剤としては、例えばジラウリルチオ
ジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート
、シミリスチルチオジプロピオネート、ラウリル・ステ
アリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール・
テトララウリルチオプロピオネート等があげられる。
ジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート
、シミリスチルチオジプロピオネート、ラウリル・ステ
アリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール・
テトララウリルチオプロピオネート等があげられる。
これら硫黄系酸化防止剤の添加量は、ポリオレフィン１
００重量部に対して０．００１〜５、好ましくは０．０
１〜３重量部である。
００重量部に対して０．００１〜５、好ましくは０．０
１〜３重量部である。
更に、本発明組成物に２．２，６．６−チトラメチルピ
ペリジル基ををするヒンダードアミン系光安定剤を併用
することが好ましい。これらピペリジン骨格を有するヒ
ンダードアミンとしては、例えば、４−ベンゾイルオキ
シ−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン、ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（１，２゜２．６．６−ベンタメチルー４
−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカル
ボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ベン
タメチルー４−ピペリジル）ブタンテラカルボキシレー
ト、ビス（１゜２．２，６．６−ベンタメチルー４−ピ
ペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第３ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリ
デシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２
，２゜６．６−ベンタメチルー４−ピペリジル）・ジ（
トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、１−（２
−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジツール／コハク酸ジメチル縮金物、２−
第３オクチルアミノ−４，６−ジクロロトリアジン／ｌ
、６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルアミノ）ヘキサン縮金物、１，６−ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキ
サン／ジブロモエタン縮金物、Ｎ−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミ
ド、３．９−ビス〔１，１−ジメチル−２−トリス（２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカ
ルボニル）ブチルカルボニルオキシエチル）−２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、
３．９−ビス〔１，１−ジメチル−２−トリス（１，２
，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジルオキシカ
ルニル）ブチルカルボニルオキシエチル）−２，４，８
，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン等が
あげられる。
ペリジル基ををするヒンダードアミン系光安定剤を併用
することが好ましい。これらピペリジン骨格を有するヒ
ンダードアミンとしては、例えば、４−ベンゾイルオキ
シ−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン、ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（１，２゜２．６．６−ベンタメチルー４
−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカル
ボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ベン
タメチルー４−ピペリジル）ブタンテラカルボキシレー
ト、ビス（１゜２．２，６．６−ベンタメチルー４−ピ
ペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第３ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリ
デシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２
，２゜６．６−ベンタメチルー４−ピペリジル）・ジ（
トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、１−（２
−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジツール／コハク酸ジメチル縮金物、２−
第３オクチルアミノ−４，６−ジクロロトリアジン／ｌ
、６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルアミノ）ヘキサン縮金物、１，６−ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキ
サン／ジブロモエタン縮金物、Ｎ−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミ
ド、３．９−ビス〔１，１−ジメチル−２−トリス（２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカ
ルボニル）ブチルカルボニルオキシエチル）−２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、
３．９−ビス〔１，１−ジメチル−２−トリス（１，２
，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジルオキシカ
ルニル）ブチルカルボニルオキシエチル）−２，４，８
，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン等が
あげられる。
これらヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、ポリオ
レフィン１００重量部に対して０．００１〜５、好まし
くは０．０１〜３重量部である。
レフィン１００重量部に対して０．００１〜５、好まし
くは０．０１〜３重量部である。
本発明組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤、充填剤
、顔料、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤
、核剤、透明化剤、無滴剤、過酸化物架橋剤、金属石鹸
類等を目的に応じて含有させることができる。
、顔料、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤
、核剤、透明化剤、無滴剤、過酸化物架橋剤、金属石鹸
類等を目的に応じて含有させることができる。
以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明する。
しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例１
次の配合物を混合後、２１０℃の押出機械によりベレッ
ト化した。このペレットを用い、２８０℃で射出成形し
、４０Ｘ４０Ｘ１ｍｍの試験片を作成した。
ト化した。このペレットを用い、２８０℃で射出成形し
、４０Ｘ４０Ｘ１ｍｍの試験片を作成した。
この試験片をコバルト−６０線源を用い、２．５メガラ
ンドのＴ線を照射した。
ンドのＴ線を照射した。
照射前後の試験片の色差（ハンター色差、Ｌａｄ）を測
定した。尚、色差が１．５以下はほとんど変色が認めら
れず、１．５〜３．０は軽微な変色を示し、３．０以上
は変色の度合が大きいことを示す。
定した。尚、色差が１．５以下はほとんど変色が認めら
れず、１．５〜３．０は軽微な変色を示し、３．０以上
は変色の度合が大きいことを示す。
又、照射後の試験片を１３５℃のオーブン中に入れ、耐
熱性を測定した。
熱性を測定した。
その結果を表−１に示す。
〔配合〕 重量部プロピレン
−エチレン共！合体 ｔｏ。
−エチレン共！合体 ｔｏ。
（エチレン含量 ２．５重量％）
ステアリン酸カルシウム ０．１テトラキ
ス〔メチレン−３−（３，５０，０５−ジ第３ブチル−
４−ヒドロキシフ ェニル）プロピオネートコメタン 有機ホスファイト （表−１） ０．２表−
１ 実施例２ ポリプロピレン１００重量部にステアリン酸カルシウム
０．１重量部、ジベンジリデンソルビトール０．２重量
部及び次の表−２に示した添加剤を加え、実施例１と同
様にして試験片を作成した。
ス〔メチレン−３−（３，５０，０５−ジ第３ブチル−
４−ヒドロキシフ ェニル）プロピオネートコメタン 有機ホスファイト （表−１） ０．２表−
１ 実施例２ ポリプロピレン１００重量部にステアリン酸カルシウム
０．１重量部、ジベンジリデンソルビトール０．２重量
部及び次の表−２に示した添加剤を加え、実施例１と同
様にして試験片を作成した。
この試験片に３．５メガランドのＴ線を照射し、照射前
後の色差及び１２５℃のオーブン中での耐熱性を測定し
た。その結果を表−２に示す。
後の色差及び１２５℃のオーブン中での耐熱性を測定し
た。その結果を表−２に示す。
実施例１及び２の結果から、本願発明の組成物はＴ線照
射後の変色が著しく少なく、又、照射後の熱安定性も極
めて良好なことがわかる。
射後の変色が著しく少なく、又、照射後の熱安定性も極
めて良好なことがわかる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ポリオレフィンに対し、下記一般式（ I ）で表される
有機ホスファイト化合物を配合してなる、耐放射線性ポ
リオレフィン組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは炭素原子数１〜９のアルキル基を示す。）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61177324A JPH0776291B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 耐放射線性ポリオレフイン組成物 |
| KR1019870008027A KR950015139B1 (ko) | 1986-07-28 | 1987-07-23 | 내방사선성 폴리올레핀 조성물 |
| EP87110871A EP0255097A3 (en) | 1986-07-28 | 1987-07-27 | Process for improving resistance to deterioration when exposed to sterilizing radiation of polyolefin resins |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61177324A JPH0776291B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 耐放射線性ポリオレフイン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6333444A true JPS6333444A (ja) | 1988-02-13 |
| JPH0776291B2 JPH0776291B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=16028986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61177324A Expired - Lifetime JPH0776291B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 耐放射線性ポリオレフイン組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0255097A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0776291B2 (ja) |
| KR (1) | KR950015139B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0280439A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-03-20 | Borg Warner Specialty Chem Inc | ビス（トリ‐ｔ‐アルキルフエノキシ）ジホスフアスピロウンデカン |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6436634A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-07 | Adeka Argus Chemical Co Ltd | Polyolefin composition |
| CA1334115C (en) * | 1988-06-27 | 1995-01-24 | Robert J. Barsotti | Multi-component coating composition comprising an anhydride containing polymer, a glycidyl component and a polymer with multiple hydroxyl groups |
| EP0404960A4 (en) * | 1988-11-11 | 1992-05-06 | Shinto Paint Company, Limited | Thermosetting resin composition and powder coating material comprising same |
| KR930019742A (ko) * | 1992-03-05 | 1993-10-18 | 아더 엠 킹 | 폴리올레핀 조성물의 살균 방사선에 대한 색안정성의 향상방법 |
| KR20210136221A (ko) | 2020-05-06 | 2021-11-17 | 주식회사 나라코퍼레이션 | 과부하 방지 커플링 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5716043A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized halogen-containing resin composition |
| JPS60217265A (ja) * | 1984-03-20 | 1985-10-30 | チバ‐ガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | 放射線安定化組成物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56152863A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-26 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Synthetic resin composition |
-
1986
- 1986-07-28 JP JP61177324A patent/JPH0776291B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-07-23 KR KR1019870008027A patent/KR950015139B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-27 EP EP87110871A patent/EP0255097A3/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5716043A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized halogen-containing resin composition |
| JPS60217265A (ja) * | 1984-03-20 | 1985-10-30 | チバ‐ガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | 放射線安定化組成物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0280439A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-03-20 | Borg Warner Specialty Chem Inc | ビス（トリ‐ｔ‐アルキルフエノキシ）ジホスフアスピロウンデカン |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950015139B1 (ko) | 1995-12-22 |
| JPH0776291B2 (ja) | 1995-08-16 |
| KR880001744A (ko) | 1988-04-26 |
| EP0255097A2 (en) | 1988-02-03 |
| EP0255097A3 (en) | 1989-10-04 |
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