JPS6334147B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
目 的
カルバペネム誘導体が優れた抗菌活性を示すこ
とは知られており、その合成法は種々報告されて
いる。発明者等もその合成法を検討しペニシリン
誘導体を出発物質としてカルバペネム誘導体を合
成する場合、アゼチジノン誘導体1が重要な中間
体であることを見い出し本発明を完成した。 構 成 本発明は、式 を有するアゼチジノン誘導体に関する。 上記式中、R1は
とは知られており、その合成法は種々報告されて
いる。発明者等もその合成法を検討しペニシリン
誘導体を出発物質としてカルバペネム誘導体を合
成する場合、アゼチジノン誘導体1が重要な中間
体であることを見い出し本発明を完成した。 構 成 本発明は、式 を有するアゼチジノン誘導体に関する。 上記式中、R1は
【式】または
【式】基(R4は水素原子またはカルボキ
シ基の保護基を示す。)を示し、R2は水素原子ま
たは水酸基の保護基を示し、R3は水酸基、アル
コキシ基、アラルコキシ基、置換基を有してもよ
いアリールチオ基または置換基を有してもよいヘ
テロアリールチオ基を示す。 R2の水酸基の保護基は特に限定されることな
く一般的なアルコール性水酸基の保護基であり、
たとえばトリメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリル、トリフエニルシリル、t−ブトキシジメ
チルシリルもしくはt−ブトキシフエニルシリル
などのトリ置換シリル基;ベンジル、4−ニトロ
ベンジル、2−ニトロベンジルもしくは4−メト
キシベンジルなどのアラルキル基;ベンジルオキ
シカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、2−ニトロベワジルオキシカルボニル、ア
リルオキシカルボニル、2−クロルアリルオキシ
カルボニル、2−メチルアリルオキシカルボニ
ル、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニ
ル、t−ブトキシカルボニル、ジフエニルメトキ
シカルボニルもしくは2−(トリメチルシリル)
エトキシカルボニルなどの置換オキシカルボニル
基;テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、1
−エトキシエチルもしくは2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメチルなどのエーテル基またはクロ
ルアセチル基があげられる。 R3のアルコキシ基は、たとえばメトキシ、エ
トキシまたはt−ブトキシがあげられる。 R3のアラルコキシ基は、たとえばベンジルオ
キシまたは4−メトキシベンジルオキシがあげら
れる。 R3の置換基を有してもよいアリールチオ基の
置換基を有してもよいアリール基は、たとえばフ
エニル、4−ニトロフエニル、3カルボキシフエ
ニル、2ヒドロキシフエニル、4−メトキシフエ
ニル、3−エトキシカルボニルメチルフエニル、
1−ナフチルまたは2−ナフチルがあげられ;ヘ
テロアリールチオ基のヘテロアリール基は、たと
えばピリジル、ピリミジニル、トリアジニル、チ
エニル、フリル、チアゾリルまたはイミダゾリル
があげられ、これらのヘテロアリール基はアルキ
ル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、ジアルキルアミノ基、水酸基、アルカノイル
オキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子またはアルコ
キシカルボニル基のような置換基を1〜3個有し
てもよい。 上記アルキル基は、たとえばメチル、エチル、
プロピル基があげられ;アルコキシ基は、たとえ
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシがあげられ;
アルキルアミノ基は、たとえばメチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノがあげられ;ジアル
キルアミノ基は、たとえばジメチルアミノ、ジエ
チルアミノがあげられ;アルカノイルオキシ基
は、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシが
あげられ;ハロゲン原子は、たとえば弗素、塩
素、臭素があげられ;アルコキシカルボニル基
は、たとえば、メトキシカルボニル、t−ブトキ
シカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルがあげられる。 R4のカルボキシ基の保護基は、特に限定され
ることはなく一般的なカルボキシ基の保護基であ
り、たとえばメチル、t−ブチル、ベンジル、ジ
フエニルメチル、4−ニトロベンジル、2−ニト
ロベンジル、アリル、2−クロルアリル、2,
2,2−トリクロルエチル、2,2,2−トリブ
ロムエチルまたは2−(トリメチルシリル)エチ
ルがあげられる。 好適なR2は、水素原子、トリ置換シリル基ま
たは置換オキシカルボニルがあげられる。 好適なR3は、水酸基、メトキシ、ベンジルオ
キシ、置換基を有してもよいフエニルチオまたは
置換基を有してもよいピリジルチオがあげられ
る。 好適なR4は、ベンジル、4−ニトロベンジル、
2−ニトロベンジルまたはアリルがあげられる。 アゼチジノン誘導体1は、その不斉炭素に由来
する種々の立体異性体が存在するが式(1)はそれら
の一つの立体異性体またはそれらの混合物を示
す。好ましくは1R,3S,4Rの絶対配位を有する
ものである。 アゼチジノン誘導体1は下に示す式に従つて合
成される。 上記式中R2,R3およびR4は、前述したものと
同意義を示す。 ペニシリン誘導体から既知の方法(B.G.
Christensen et al.,J.Org。Chem.42,2960
(1977))で得られる化合物2を常法に従つて酸化
するとスルホキシド3が得られる、これと亜リン
酸トリメチルとを酢酸の存在下反応させるとアセ
トキシアゼチジノン4が得られる、これを塩基で
処理すると二重結合の移動したアセトキシアゼチ
ジノン5が得られる。これにトリメチルシリル酢
酸誘導体6または酢酸誘導体のトリメチルシリル
エノールエーテル7をトリフルオルメタンスルホ
ン酸のトリメチルシリルエステルの存在下反応さ
せるとアゼチジノン誘導体1″が得られる。 一方アセトキシアゼチジノン4とトリメチルシ
リル酢酸誘導体6または酢酸誘導体のトリメチル
シリルエノールエーテル7とをトリフルオルメタ
ンスルホン酸のトリメチルシリルエステルの存在
下反応させるとアゼチジノン誘導体1′が得られ
る。アゼチジノン誘導体1′を塩基で処理すると
二重結合の移動したアゼチジノン誘導体1″が得
られる。 なおR3が水酸基である化合物1は、R3がベン
ジルオキシ基である化合物1″のベンジル基を還
元的に除去するかあるいはR3がアルコキシ、ア
ラルコキシ、アリールチオ基である化合物1″を
アルカリ加水分解することによつて得られる。 発明の効果 アゼチジノン誘導体1′および1″は、次に示す
反応式に従つてカルバペネム誘導体9へ導くこと
ができる。 上記式中R1,R2,R3およびR4は、前述したも
のと同意義を示す。 すなわちアゼチジノン誘導体1′を塩基で処理
するとαβ−不飽和カルボン酸エステル1″が得ら
れ、これをオゾン酸化するとα−ケトカルボン酸
エステル8が得られる。次いでこれを亜リン酸ト
リエチルの存在下、加熱するとカルバペネム誘導
体9が得られる。 このカルバペネムの合成法において出発物質で
あるアゼチジノン誘導体1′は、ペニシリン誘導
体から導かれるアセトキシアゼチジノン4とトリ
メチルシリル酢酸エステル誘導体6または酢酸誘
導体のトリメチルシリルエノールエーテル7との
反応で得られる。 従つて本発明により、ペニシリン誘導体を出発
物質としてカルバペネム誘導体を合成することが
可能となつた。 以下に実施例および参考例をあげ本発明を具体
的に示す。 実施例 1 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−(1−メト
キシカルボニル−2−メチル−1−プロペニ
ル)−4−(ベンジルオキシカルボニルメチル)
−2−アゼチジノン (3R,4R)−4−アセトキシ−3−〔(R)−1
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−1−(1−メトキシカルボニル−2−メチル−
1−プロペニル)−2−アゼチジノン1.04g
(2.61mmole)、トリメチルシリル酢酸ベンジルエ
ステル1.74g(7.84mmole)を塩化メチレン12mlに
溶かし、ついでトリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリルエステル50mg(0.23mmol)を加
え、室温で7日間放置する。反応液を重曹水にあ
け有機層をわけ、水洗、乾燥後、溶媒を留去す
る。得られた残留物をローバーカラム−B(E.メ
ルク社製)を用いる液体クロマトグラフイーで分
離精製する。ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混
合溶媒で溶出し、出発原料アゼチジノン109mg
(8.6%)を回収して、ついで目的物693mg(収率
55%)を油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1740(br.) NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.09(6H,S),0.89(9H,s),1.23(3H,
d,J=6.5Hz),1.85(3H,s),2.10(3H,
s),2.67(2H,d,J=7Hz),2.85(1H,
dd,J=6.5,2.5Hz),3.64(3H,s),3.9〜
4.5(2H,m),4.90(1H,d,J=12Hz),
5.06(1H,d,J=12Hz),7.28(5H,s) 実施例 2 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−4−(カルボキ
シメチル)−1−(1−メトキシカルボニル−2
−メチル−1−プロペニル)−2−アゼチジノ
ン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−(1−メトキ
シカルボニル−2−メチル−1−プロペニル)−
4−(ベンジルオキシカルボニルメチル)−2−ア
ゼチジノン1.18gを酢酸エチル26mlに溶かし、10
%パラジウム−炭素500mgを加え、常圧水素下、
1.5時間撹拌した。反応終了後、触媒を去し、
液から溶媒を留去して目的物960mg(収率99%)
を無色油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:〜3300,1734,
1715 NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.10(6H,s)0.90(9H,s),1.26(3H,
d,J=6Hz),1.94(3H,s),2.18(3H,
s),2.71(2H,d,J=7Hz),2.94(1H,
dd,J=6.5,2.5Hz),3.76(3H,s),4.0〜
4.5(2H,m) 実施例 3 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)−1
−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−メチル−2−プロペニル〕−4−〔(フエニル
チオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン (3S,4RS)−4−アセトキシ−3−〔(R)−1
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−1−〔(R)−1−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチルプロプ−2−エニル〕−2
−アゼチジノン83mg(0.160mmole)と1−フエ
ニルチオ−1−(トリメチルシリルオキシ)エチ
レン54mg(0.24mmole)を乾燥塩化メチレン3ml
に溶かし、トリフルオルメタンスルホン酸 トリ
メチルシリルエステル6mg(0.027mmole)を加
え、窒素雰囲気下64時間静置する。反応終了後、
反応液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽出す
る。クロロホルムを留去して得られる残留物をシ
リカゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開
溶媒:ヘキサン−酢酸エチル(4:1)〕により
精製し、目的物86mg(収率88%)を油状物として
得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1750(sh.),1740
,
1695 比旋光度〔α〕25 D−50゜(C=1.04,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.03(3H,s),0.06(3H,s),0.85(9H,
s),1.18(3H,d,J=6Hz),1.85(3H,
br.s)2.86(1H,dd,J=15,7Hz),3.00
(1H,dd,J=5,2.5Hz),3.20(1H,dd,
J=15,5.5Hz),3.9〜4.6(2H,m),4.78
(1H,s),4.87(1H,br.s),5.02(1H,
br.),5.20(2H,s),7.36(5H,s)7.45
(2H,d),8.16(2H,d) 実施例 4 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔1−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メ
チル−1−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)1−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メ
チル−2−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン86mgを塩
化メチレン1.5mlに溶かし、トリエチルアミン15
mgを加えて室温下1時間静置する。溶媒を留去し
て得られる残留物をベンゼン−酢酸エチル(20:
1)混合溶媒に溶かし、シリカゲル1gのカラム
を通して精製する。目的物84mg(収率98%)を油
状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1750,1715(sh.)
,
1625 比旋光度〔α〕25 D+46゜〔C=1.32,CHCl3〕 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:0.00(3H,
s),0.05(3H,s),0.86(9H,s),1.25
(3H,d,J=6Hz),2.00(3H,s),2.20
(3H,S),2.90(1H,dd,J=6,2.5Hz),
2.95(2H,d,J=6.5Hz),4.15(1H,m),
4.40(1H,td,J=6.5,2.5Hz),5.26(2H,
s),7.33(5H,br.),7.52(2H,d),8.17
(2H,d) 実施例 5 (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−1−〔1−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチル−1−プロペニル〕−4
−〔(フエエニルチオ)カルボニルメチル〕−2
−アゼチジノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)−1−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メ
チル−2−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン64mg
(0.104mmole)をアセトニトリル1.5mlに溶かし、
−15℃で撹拌しながら三弗化ホウ素エーテル錯体
15mg(0.106mmole)を加える。30分後、反応液
に酢酸エチルを加えて希釈し、希重曹水で洗う。
溶媒を減圧下留去し、得られる残留物をシリカゲ
ルの範層クロマトグラフイー〔ベンゼン−酢酸エ
チル(2:3)〕で精製して、目的物48mg(収率
92%)を油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:3480,1748,1720
(sh.),1700(Sh.),1625 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:1.26(3H,
d,J=6.5Hz),1.99(3H,s)2.23(3H,
s),〜2.95(1H,m),2.97(2H,d,J=
6.5Hz),3.9−4.5(2H,m),5.24(2H,s),
7.35(5H,br.s)7.49(2H,d),8.17(2H,
d) 実施例 6 (3S,4R)−1−〔1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−メチル−1−プロペニ
ル〕−3−〔(R)−1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシ)エチル〕−4−〔(フエ
ニルチオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジ
ノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−1−〔1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−2−メチル−1−プロペニル)−4−
〔(フエニルチオ)カルボニルメチル〕−2−アゼ
チジノン44mg(0.088mmole)を塩化メチレン2
mlに溶かし、0℃で撹幻しながら、4−ジメチル
アミノピリジン32mg(0.26mmole)ついで4−ニ
トロベンジルオキシカルボニルクロリド57mg
(0.26mmole)を加える。同温度で3時間撹拌し
たのち、希重曹水にあけクロロホルムで抽出す
る。クロロホルム層を希塩酸、希重曹水で順次洗
い、乾燥後溶媒を留去する。残留物をシリカゲル
の薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒:ベンゼン
−酢酸エチル(3:1)〕により精製して目的物
21mg(収率35%)を油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1756,1720(sh.)
,
1700(sh.),1625 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:1.41(3H,
d,J=6.5Hz),1.96(3H,s),2.23(3H,
s),2.91(2H,d,J=6.5Hz),3.11(1H,
dd,J=8.5,2.5Hz),4.31(1H,td,J=
6.5,2.5Hz),5.08(2H,s),5.23(2H,s),
5.1(1H,m),7.32(5H,s),7.39(2H,
d),7.49(2H,d),8.15(4H,d) 実施例 7 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)−1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチル−2−プロペニル〕−4−〔(4−ピルジ
ルチオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノ
ン (3S,4RS)−4−アセトキシ−3−〔(R)−1
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−1−〔(R)−1−(4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチル−2−プロペニル〕−2−
アゼチジノン150mg(0.29mmole)と1−(4ピリ
ジルチオ)−1−(トリメチルシリルオキシ)エチ
レン130mg(0.58mmole)を乾燥塩化メチレン5
mlに溶かし、トリフルオルメタンスルホン酸トリ
メチルシリルエステル140mg(0.63mmole)を加
え、窒素雰囲気下65時間静置する。反応終了後、
反応液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽出す
る。クロロホルムを留去して得らる残留物をシリ
カゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶
媒:ヘキサン−酢酸エチル(2:1)〕により精
製し、目的物129mg(収率73%)を油状物として
得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1750(sh.),1740
,
1705 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:0.03(3H,
s),0.06(3H,s),0.85(9H,s),1.18
(3H,d,J=6Hz),1.85(3H,br.s),2.86
(1H,dd,J=15,7Hz),3.00(1H,dd,
J=5,2.5Hz),3.20(1H,dd,J=15,5.5
Hz),3.9〜4.6(2H,m),4.78(1H,s),
4.87(1H,br.s),5.02(1H,br.),5.20(2H,
s),7.33(2H,m),7.45(2H,d),8.16
(2H,d),8.61(2H,m) 参考例 1 (3R,4RS)−4−アセトキシ−3−〔(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕−1−〔(R)−1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−メチル−2−プロペニ
ル〕−2−アゼチジノン 6α−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕ペニシラン酸 4ニトロベンジ
ルエステル 1βオキシド511mg(1.00mmole)を
トルエン30mlに溶かし、亜リン酸トリメチル744
mg(6.00mmole)、酢酸240mg(4.00mmole)を加
えて90℃で5時間加熱する。反応終了後、溶媒を
減圧下留去し、残留物をシリカゲル10gを用いる
カラムクロマトグラフイーに付す。ベンゼン−酢
酸エチル(20:1)混合溶媒で溶出して標記物
479mg(収率92%)を油状物として得た。生成物
は4Rおよび4S配位を有する二異性体の約1:1
の混合物である。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1768(sh.),1745 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:(4R)一異
性体:0.02(3H,s),0.06(3H,s),0.84
(9H,s),1.26(3H,d,J=6Hz),1.83
(3H,hr.s),1.99(3H,s),3.09(1H,dd,
J=4.5,1.5Hz),4.2(1H,m)4.80(1H,
s),4.89(1H,br.s),5.00(1H,br),5.20
(2H,s)6.42(1H,d,J=1.5Hz),7.45
(2H,d),8.16(2H,d);(4S)一異性
体:0.04(3H,s),0.08(3H,s),0.84
(9H,s)1.34(3H,d,J=6Hz),2.08
(3H,s),3.35(1H,dd,J=8,4.5Hz),
4.2(1H,m),4.75(1H,s),4.89(1H,br.
S),5.00(1H,br.),5.20(2H,s),6.17
(1H,d,J=4.5Hz),7.45(2H,d),8.16
(2H,d) 参考例 2 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−(4−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル)−4−〔(フエニル
チオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−〔1−(4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−2−メチル−
1−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)カルボ
ニルメチル〕−2−アゼチジノン199mgを塩化メチ
レン25mlに溶かし、−78℃でオゾンを吹き込む。
反応液が青味を帯びたら、窒素ガスを吹き込んで
過剰のオゾンを追い出す。ジメチルスルフイド
0.2mlを加えて反応液を約5分間で室温に戻した
後、減圧下濃縮する。残留物をベンゼン−ヘキサ
ン(1:1)混合溶媒に溶かし2回水洗し、乾燥
後溶媒を留去して、標記物192mg(収率100%)を
油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1805,1757,1699,
1609,1522,1344 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:−0.02
(3H,s),0.04(3H.s),0.08(9H,s),
(1.14(3H,d,J=6Hz),3.11(1H,dd,
J=15,8Hz),3.35(1H,t,J=3Hz)
3.43(1H,dd,J=15,4Hz),4.29(qd,J
=6,3Hz),4.64(1H,ddd,J=8,4,
3Hz),5.37(2H,s)7.52(2H,d,J=8
Hz),8.16(2H,d,J=8Hz) 参考例 3 (5R,6S)−6−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−2−(フエニルチ
オ)カルバペン−2−エム−3−カルボン酸
4−ニトロベンジルエステル (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−(4−ニトロベ
ンジルオキシオキサリル)−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン114mg
(0.194mmole)と亜リン酸トリエチル285mg
(1.55mmole)のトルエン10ml溶液を窒素気流下
100℃で18時間撹拌する。溶剤を留去して得られ
る残渣をローバーカラム〔展開溶剤:ヘキサン−
アセトン(3.5:1)〕で精製し、標記物95mg(収
率88%)を結晶として得た。 IRスペクトル νnujol naxcm-1:1777,1697,1524 NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.06(6H,s),0.83(9H,s),1.15(3H,
d,J=6Hz),2.63(2H,d.J=10Hz),3.05
(1H,dd.J=4,2Hz),4.04(1H,dd.J=
10,2Hz),4.19(1H,dq,J=4.6Hz),5.22
(1H,d,J=14Hz),5.50(1H,d,J=
14Hz),7.2〜7.7(5H,m),7.64(2H,d,
J=9Hz),8.19(2H,d,J=9Hz)
たは水酸基の保護基を示し、R3は水酸基、アル
コキシ基、アラルコキシ基、置換基を有してもよ
いアリールチオ基または置換基を有してもよいヘ
テロアリールチオ基を示す。 R2の水酸基の保護基は特に限定されることな
く一般的なアルコール性水酸基の保護基であり、
たとえばトリメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリル、トリフエニルシリル、t−ブトキシジメ
チルシリルもしくはt−ブトキシフエニルシリル
などのトリ置換シリル基;ベンジル、4−ニトロ
ベンジル、2−ニトロベンジルもしくは4−メト
キシベンジルなどのアラルキル基;ベンジルオキ
シカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、2−ニトロベワジルオキシカルボニル、ア
リルオキシカルボニル、2−クロルアリルオキシ
カルボニル、2−メチルアリルオキシカルボニ
ル、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニ
ル、t−ブトキシカルボニル、ジフエニルメトキ
シカルボニルもしくは2−(トリメチルシリル)
エトキシカルボニルなどの置換オキシカルボニル
基;テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、1
−エトキシエチルもしくは2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメチルなどのエーテル基またはクロ
ルアセチル基があげられる。 R3のアルコキシ基は、たとえばメトキシ、エ
トキシまたはt−ブトキシがあげられる。 R3のアラルコキシ基は、たとえばベンジルオ
キシまたは4−メトキシベンジルオキシがあげら
れる。 R3の置換基を有してもよいアリールチオ基の
置換基を有してもよいアリール基は、たとえばフ
エニル、4−ニトロフエニル、3カルボキシフエ
ニル、2ヒドロキシフエニル、4−メトキシフエ
ニル、3−エトキシカルボニルメチルフエニル、
1−ナフチルまたは2−ナフチルがあげられ;ヘ
テロアリールチオ基のヘテロアリール基は、たと
えばピリジル、ピリミジニル、トリアジニル、チ
エニル、フリル、チアゾリルまたはイミダゾリル
があげられ、これらのヘテロアリール基はアルキ
ル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、ジアルキルアミノ基、水酸基、アルカノイル
オキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子またはアルコ
キシカルボニル基のような置換基を1〜3個有し
てもよい。 上記アルキル基は、たとえばメチル、エチル、
プロピル基があげられ;アルコキシ基は、たとえ
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシがあげられ;
アルキルアミノ基は、たとえばメチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノがあげられ;ジアル
キルアミノ基は、たとえばジメチルアミノ、ジエ
チルアミノがあげられ;アルカノイルオキシ基
は、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシが
あげられ;ハロゲン原子は、たとえば弗素、塩
素、臭素があげられ;アルコキシカルボニル基
は、たとえば、メトキシカルボニル、t−ブトキ
シカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルがあげられる。 R4のカルボキシ基の保護基は、特に限定され
ることはなく一般的なカルボキシ基の保護基であ
り、たとえばメチル、t−ブチル、ベンジル、ジ
フエニルメチル、4−ニトロベンジル、2−ニト
ロベンジル、アリル、2−クロルアリル、2,
2,2−トリクロルエチル、2,2,2−トリブ
ロムエチルまたは2−(トリメチルシリル)エチ
ルがあげられる。 好適なR2は、水素原子、トリ置換シリル基ま
たは置換オキシカルボニルがあげられる。 好適なR3は、水酸基、メトキシ、ベンジルオ
キシ、置換基を有してもよいフエニルチオまたは
置換基を有してもよいピリジルチオがあげられ
る。 好適なR4は、ベンジル、4−ニトロベンジル、
2−ニトロベンジルまたはアリルがあげられる。 アゼチジノン誘導体1は、その不斉炭素に由来
する種々の立体異性体が存在するが式(1)はそれら
の一つの立体異性体またはそれらの混合物を示
す。好ましくは1R,3S,4Rの絶対配位を有する
ものである。 アゼチジノン誘導体1は下に示す式に従つて合
成される。 上記式中R2,R3およびR4は、前述したものと
同意義を示す。 ペニシリン誘導体から既知の方法(B.G.
Christensen et al.,J.Org。Chem.42,2960
(1977))で得られる化合物2を常法に従つて酸化
するとスルホキシド3が得られる、これと亜リン
酸トリメチルとを酢酸の存在下反応させるとアセ
トキシアゼチジノン4が得られる、これを塩基で
処理すると二重結合の移動したアセトキシアゼチ
ジノン5が得られる。これにトリメチルシリル酢
酸誘導体6または酢酸誘導体のトリメチルシリル
エノールエーテル7をトリフルオルメタンスルホ
ン酸のトリメチルシリルエステルの存在下反応さ
せるとアゼチジノン誘導体1″が得られる。 一方アセトキシアゼチジノン4とトリメチルシ
リル酢酸誘導体6または酢酸誘導体のトリメチル
シリルエノールエーテル7とをトリフルオルメタ
ンスルホン酸のトリメチルシリルエステルの存在
下反応させるとアゼチジノン誘導体1′が得られ
る。アゼチジノン誘導体1′を塩基で処理すると
二重結合の移動したアゼチジノン誘導体1″が得
られる。 なおR3が水酸基である化合物1は、R3がベン
ジルオキシ基である化合物1″のベンジル基を還
元的に除去するかあるいはR3がアルコキシ、ア
ラルコキシ、アリールチオ基である化合物1″を
アルカリ加水分解することによつて得られる。 発明の効果 アゼチジノン誘導体1′および1″は、次に示す
反応式に従つてカルバペネム誘導体9へ導くこと
ができる。 上記式中R1,R2,R3およびR4は、前述したも
のと同意義を示す。 すなわちアゼチジノン誘導体1′を塩基で処理
するとαβ−不飽和カルボン酸エステル1″が得ら
れ、これをオゾン酸化するとα−ケトカルボン酸
エステル8が得られる。次いでこれを亜リン酸ト
リエチルの存在下、加熱するとカルバペネム誘導
体9が得られる。 このカルバペネムの合成法において出発物質で
あるアゼチジノン誘導体1′は、ペニシリン誘導
体から導かれるアセトキシアゼチジノン4とトリ
メチルシリル酢酸エステル誘導体6または酢酸誘
導体のトリメチルシリルエノールエーテル7との
反応で得られる。 従つて本発明により、ペニシリン誘導体を出発
物質としてカルバペネム誘導体を合成することが
可能となつた。 以下に実施例および参考例をあげ本発明を具体
的に示す。 実施例 1 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−(1−メト
キシカルボニル−2−メチル−1−プロペニ
ル)−4−(ベンジルオキシカルボニルメチル)
−2−アゼチジノン (3R,4R)−4−アセトキシ−3−〔(R)−1
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−1−(1−メトキシカルボニル−2−メチル−
1−プロペニル)−2−アゼチジノン1.04g
(2.61mmole)、トリメチルシリル酢酸ベンジルエ
ステル1.74g(7.84mmole)を塩化メチレン12mlに
溶かし、ついでトリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリルエステル50mg(0.23mmol)を加
え、室温で7日間放置する。反応液を重曹水にあ
け有機層をわけ、水洗、乾燥後、溶媒を留去す
る。得られた残留物をローバーカラム−B(E.メ
ルク社製)を用いる液体クロマトグラフイーで分
離精製する。ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混
合溶媒で溶出し、出発原料アゼチジノン109mg
(8.6%)を回収して、ついで目的物693mg(収率
55%)を油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1740(br.) NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.09(6H,S),0.89(9H,s),1.23(3H,
d,J=6.5Hz),1.85(3H,s),2.10(3H,
s),2.67(2H,d,J=7Hz),2.85(1H,
dd,J=6.5,2.5Hz),3.64(3H,s),3.9〜
4.5(2H,m),4.90(1H,d,J=12Hz),
5.06(1H,d,J=12Hz),7.28(5H,s) 実施例 2 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−4−(カルボキ
シメチル)−1−(1−メトキシカルボニル−2
−メチル−1−プロペニル)−2−アゼチジノ
ン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−(1−メトキ
シカルボニル−2−メチル−1−プロペニル)−
4−(ベンジルオキシカルボニルメチル)−2−ア
ゼチジノン1.18gを酢酸エチル26mlに溶かし、10
%パラジウム−炭素500mgを加え、常圧水素下、
1.5時間撹拌した。反応終了後、触媒を去し、
液から溶媒を留去して目的物960mg(収率99%)
を無色油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:〜3300,1734,
1715 NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.10(6H,s)0.90(9H,s),1.26(3H,
d,J=6Hz),1.94(3H,s),2.18(3H,
s),2.71(2H,d,J=7Hz),2.94(1H,
dd,J=6.5,2.5Hz),3.76(3H,s),4.0〜
4.5(2H,m) 実施例 3 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)−1
−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−メチル−2−プロペニル〕−4−〔(フエニル
チオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン (3S,4RS)−4−アセトキシ−3−〔(R)−1
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−1−〔(R)−1−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチルプロプ−2−エニル〕−2
−アゼチジノン83mg(0.160mmole)と1−フエ
ニルチオ−1−(トリメチルシリルオキシ)エチ
レン54mg(0.24mmole)を乾燥塩化メチレン3ml
に溶かし、トリフルオルメタンスルホン酸 トリ
メチルシリルエステル6mg(0.027mmole)を加
え、窒素雰囲気下64時間静置する。反応終了後、
反応液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽出す
る。クロロホルムを留去して得られる残留物をシ
リカゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開
溶媒:ヘキサン−酢酸エチル(4:1)〕により
精製し、目的物86mg(収率88%)を油状物として
得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1750(sh.),1740
,
1695 比旋光度〔α〕25 D−50゜(C=1.04,CHCl3) NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.03(3H,s),0.06(3H,s),0.85(9H,
s),1.18(3H,d,J=6Hz),1.85(3H,
br.s)2.86(1H,dd,J=15,7Hz),3.00
(1H,dd,J=5,2.5Hz),3.20(1H,dd,
J=15,5.5Hz),3.9〜4.6(2H,m),4.78
(1H,s),4.87(1H,br.s),5.02(1H,
br.),5.20(2H,s),7.36(5H,s)7.45
(2H,d),8.16(2H,d) 実施例 4 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔1−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メ
チル−1−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)1−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メ
チル−2−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン86mgを塩
化メチレン1.5mlに溶かし、トリエチルアミン15
mgを加えて室温下1時間静置する。溶媒を留去し
て得られる残留物をベンゼン−酢酸エチル(20:
1)混合溶媒に溶かし、シリカゲル1gのカラム
を通して精製する。目的物84mg(収率98%)を油
状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1750,1715(sh.)
,
1625 比旋光度〔α〕25 D+46゜〔C=1.32,CHCl3〕 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:0.00(3H,
s),0.05(3H,s),0.86(9H,s),1.25
(3H,d,J=6Hz),2.00(3H,s),2.20
(3H,S),2.90(1H,dd,J=6,2.5Hz),
2.95(2H,d,J=6.5Hz),4.15(1H,m),
4.40(1H,td,J=6.5,2.5Hz),5.26(2H,
s),7.33(5H,br.),7.52(2H,d),8.17
(2H,d) 実施例 5 (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−1−〔1−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチル−1−プロペニル〕−4
−〔(フエエニルチオ)カルボニルメチル〕−2
−アゼチジノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)−1−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メ
チル−2−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン64mg
(0.104mmole)をアセトニトリル1.5mlに溶かし、
−15℃で撹拌しながら三弗化ホウ素エーテル錯体
15mg(0.106mmole)を加える。30分後、反応液
に酢酸エチルを加えて希釈し、希重曹水で洗う。
溶媒を減圧下留去し、得られる残留物をシリカゲ
ルの範層クロマトグラフイー〔ベンゼン−酢酸エ
チル(2:3)〕で精製して、目的物48mg(収率
92%)を油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:3480,1748,1720
(sh.),1700(Sh.),1625 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:1.26(3H,
d,J=6.5Hz),1.99(3H,s)2.23(3H,
s),〜2.95(1H,m),2.97(2H,d,J=
6.5Hz),3.9−4.5(2H,m),5.24(2H,s),
7.35(5H,br.s)7.49(2H,d),8.17(2H,
d) 実施例 6 (3S,4R)−1−〔1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−メチル−1−プロペニ
ル〕−3−〔(R)−1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシ)エチル〕−4−〔(フエ
ニルチオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジ
ノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−1−〔1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−2−メチル−1−プロペニル)−4−
〔(フエニルチオ)カルボニルメチル〕−2−アゼ
チジノン44mg(0.088mmole)を塩化メチレン2
mlに溶かし、0℃で撹幻しながら、4−ジメチル
アミノピリジン32mg(0.26mmole)ついで4−ニ
トロベンジルオキシカルボニルクロリド57mg
(0.26mmole)を加える。同温度で3時間撹拌し
たのち、希重曹水にあけクロロホルムで抽出す
る。クロロホルム層を希塩酸、希重曹水で順次洗
い、乾燥後溶媒を留去する。残留物をシリカゲル
の薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒:ベンゼン
−酢酸エチル(3:1)〕により精製して目的物
21mg(収率35%)を油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1756,1720(sh.)
,
1700(sh.),1625 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:1.41(3H,
d,J=6.5Hz),1.96(3H,s),2.23(3H,
s),2.91(2H,d,J=6.5Hz),3.11(1H,
dd,J=8.5,2.5Hz),4.31(1H,td,J=
6.5,2.5Hz),5.08(2H,s),5.23(2H,s),
5.1(1H,m),7.32(5H,s),7.39(2H,
d),7.49(2H,d),8.15(4H,d) 実施例 7 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−〔(R)−1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチル−2−プロペニル〕−4−〔(4−ピルジ
ルチオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノ
ン (3S,4RS)−4−アセトキシ−3−〔(R)−1
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−1−〔(R)−1−(4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチル−2−プロペニル〕−2−
アゼチジノン150mg(0.29mmole)と1−(4ピリ
ジルチオ)−1−(トリメチルシリルオキシ)エチ
レン130mg(0.58mmole)を乾燥塩化メチレン5
mlに溶かし、トリフルオルメタンスルホン酸トリ
メチルシリルエステル140mg(0.63mmole)を加
え、窒素雰囲気下65時間静置する。反応終了後、
反応液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽出す
る。クロロホルムを留去して得らる残留物をシリ
カゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶
媒:ヘキサン−酢酸エチル(2:1)〕により精
製し、目的物129mg(収率73%)を油状物として
得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1750(sh.),1740
,
1705 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:0.03(3H,
s),0.06(3H,s),0.85(9H,s),1.18
(3H,d,J=6Hz),1.85(3H,br.s),2.86
(1H,dd,J=15,7Hz),3.00(1H,dd,
J=5,2.5Hz),3.20(1H,dd,J=15,5.5
Hz),3.9〜4.6(2H,m),4.78(1H,s),
4.87(1H,br.s),5.02(1H,br.),5.20(2H,
s),7.33(2H,m),7.45(2H,d),8.16
(2H,d),8.61(2H,m) 参考例 1 (3R,4RS)−4−アセトキシ−3−〔(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕−1−〔(R)−1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−メチル−2−プロペニ
ル〕−2−アゼチジノン 6α−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕ペニシラン酸 4ニトロベンジ
ルエステル 1βオキシド511mg(1.00mmole)を
トルエン30mlに溶かし、亜リン酸トリメチル744
mg(6.00mmole)、酢酸240mg(4.00mmole)を加
えて90℃で5時間加熱する。反応終了後、溶媒を
減圧下留去し、残留物をシリカゲル10gを用いる
カラムクロマトグラフイーに付す。ベンゼン−酢
酸エチル(20:1)混合溶媒で溶出して標記物
479mg(収率92%)を油状物として得た。生成物
は4Rおよび4S配位を有する二異性体の約1:1
の混合物である。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1768(sh.),1745 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:(4R)一異
性体:0.02(3H,s),0.06(3H,s),0.84
(9H,s),1.26(3H,d,J=6Hz),1.83
(3H,hr.s),1.99(3H,s),3.09(1H,dd,
J=4.5,1.5Hz),4.2(1H,m)4.80(1H,
s),4.89(1H,br.s),5.00(1H,br),5.20
(2H,s)6.42(1H,d,J=1.5Hz),7.45
(2H,d),8.16(2H,d);(4S)一異性
体:0.04(3H,s),0.08(3H,s),0.84
(9H,s)1.34(3H,d,J=6Hz),2.08
(3H,s),3.35(1H,dd,J=8,4.5Hz),
4.2(1H,m),4.75(1H,s),4.89(1H,br.
S),5.00(1H,br.),5.20(2H,s),6.17
(1H,d,J=4.5Hz),7.45(2H,d),8.16
(2H,d) 参考例 2 (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−(4−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル)−4−〔(フエニル
チオ)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−〔1−(4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−2−メチル−
1−プロペニル〕−4−〔(フエニルチオ)カルボ
ニルメチル〕−2−アゼチジノン199mgを塩化メチ
レン25mlに溶かし、−78℃でオゾンを吹き込む。
反応液が青味を帯びたら、窒素ガスを吹き込んで
過剰のオゾンを追い出す。ジメチルスルフイド
0.2mlを加えて反応液を約5分間で室温に戻した
後、減圧下濃縮する。残留物をベンゼン−ヘキサ
ン(1:1)混合溶媒に溶かし2回水洗し、乾燥
後溶媒を留去して、標記物192mg(収率100%)を
油状物として得た。 IRスペクトル νCHCl3 naxcm-1:1805,1757,1699,
1609,1522,1344 NMRスペクトル(CDCl3)δppm:−0.02
(3H,s),0.04(3H.s),0.08(9H,s),
(1.14(3H,d,J=6Hz),3.11(1H,dd,
J=15,8Hz),3.35(1H,t,J=3Hz)
3.43(1H,dd,J=15,4Hz),4.29(qd,J
=6,3Hz),4.64(1H,ddd,J=8,4,
3Hz),5.37(2H,s)7.52(2H,d,J=8
Hz),8.16(2H,d,J=8Hz) 参考例 3 (5R,6S)−6−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−2−(フエニルチ
オ)カルバペン−2−エム−3−カルボン酸
4−ニトロベンジルエステル (3S,4R)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−1−(4−ニトロベ
ンジルオキシオキサリル)−4−〔(フエニルチオ)
カルボニルメチル〕−2−アゼチジノン114mg
(0.194mmole)と亜リン酸トリエチル285mg
(1.55mmole)のトルエン10ml溶液を窒素気流下
100℃で18時間撹拌する。溶剤を留去して得られ
る残渣をローバーカラム〔展開溶剤:ヘキサン−
アセトン(3.5:1)〕で精製し、標記物95mg(収
率88%)を結晶として得た。 IRスペクトル νnujol naxcm-1:1777,1697,1524 NMRスペクトル(CDCl3)δppm: 0.06(6H,s),0.83(9H,s),1.15(3H,
d,J=6Hz),2.63(2H,d.J=10Hz),3.05
(1H,dd.J=4,2Hz),4.04(1H,dd.J=
10,2Hz),4.19(1H,dq,J=4.6Hz),5.22
(1H,d,J=14Hz),5.50(1H,d,J=
14Hz),7.2〜7.7(5H,m),7.64(2H,d,
J=9Hz),8.19(2H,d,J=9Hz)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 を有するアゼチジノン誘導体。 上記式中、R1は【式】または 【式】基(R4は水素原子またはカルボキ シ基の保護基を示す。)を示し、R2は水素原子ま
たは水酸基の保護基を示し、R3は水酸基、アル
コキシ基、アラルコキシ基、置換基を有してもよ
いアリールチオ基または置換基を有してもよいヘ
テロアリールチオ基を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61289698A JPS6322065A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | アゼチジノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61289698A JPS6322065A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | アゼチジノン誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57158604A Division JPS5951286A (ja) | 1982-08-24 | 1982-09-10 | カルバペネム誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6322065A JPS6322065A (ja) | 1988-01-29 |
| JPS6334147B2 true JPS6334147B2 (ja) | 1988-07-08 |
Family
ID=17746586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61289698A Granted JPS6322065A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | アゼチジノン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6322065A (ja) |
-
1986
- 1986-12-04 JP JP61289698A patent/JPS6322065A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6322065A (ja) | 1988-01-29 |
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