JPH0256349B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Description
本発明はカルバペネム誘導体の合成中間体であ
るアゼチジノン誘導体（Ｉ）およびその製造法に
関するものである。 チエナマイシンで代表されるカルバペネム骨格
を有する抗生物質は強力かつ広範囲な抗菌スペク
トルを有することが知られている。発明者等はそ
の骨格合成を試み鋭意努力した結果、カルバペネ
ム誘導体合成の重要中間体であるアゼチジノン誘
導体（Ｉ）を合成することに成功し本発明を完成
するに至つた。 一般式（Ｉ） を有する化合物においてR1は、水素原子を、低
級アルキル基としてはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチルまたはイソブチルなど
のアルキル基を；アシルアミノ基としては芳香環
に置換基（たとえばｏ、ｍあるいはｐ位にメチ
ル、メトキシ、クロル、ブロムまたはニトロ基な
ど）を有してもよいフエニルアセチルアミノ基
を、または芳香環に置換基（たとえばｏ，ｍある
いはｐ位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムま
たはニトロ基など）を有してもよいフエノキシア
セチルアミノ基を；アルキルアミノ基としてはト
リフエニルメチルアミノ基を；アラルキル基とし
ては、芳香環に置換基（たとえばｏ，ｍあるいは
ｐ位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムまたは
ニトロ基など）を有しても良いベンジル基を；ま
たは保護（保護基としてはたとえばトリメチルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、ベンジル、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルまたはアリ
ル基など）された１−ヒドロキシエチル基を示
す。 一般式（Ｉ）を有する化合物は以下に示す方法
に従つて製造することができる。 一般式（） を有する化合物においてR1は上述したものを示
し、R2は、低級アルキル基としてはメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチルまたはイ
ソブチルなどのアルキル基を；アリール基として
は置換基（ｏ，ｍあるいはｐ位にメチル、メトキ
シ、クロル、ブロムまたはニトロ基など）を有し
てもよいフエニル基を；アラルキル基としては置
換基（ｏ，ｍあるいはｐ位にメチル、メトキシ、
クロル、ブロムまたはニトロ基など）を有しても
よいベンジル基を、またはアリールオキシメチル
基としては置換基（ｏ，ｍまたはｐ位にメチル、
メトキシ、クロル、ブロムまたはニトロ基など）
を有してもよいフエノキシメチル基を示す。一般
式（）を有する化合物をクロロホルム、塩化メ
チレン、ベンゼンまたはテトラヒドロフランなど
の溶媒中、一般式（）、 Sn（CH2CH＝CH2）R3 3 （） 〔式中R3は、低級アルキル基としてはメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルまたは
イソブチルなどのアルキル基を、アリール基とし
ては置換基（ｏ，ｍまたはｐ位にメチルまたはメ
トキシなど）を有してもよいフエニル基を、アラ
ルキル基としては置換基（ｏ，ｍまたはｐ位にメ
チルまたはメトキシなど）を有してもよいベンジ
ル基を；またはアリル基を示す。〕を有する化合
物を0.2〜２モル当量をルイス酸、たとえばボロ
ントリフルオライドエーテルコンプレツクス、四
塩化チタンまたは四塩化スズなどの存在下、0゜〜
50℃で５時間〜24時間反応させることにより一般
式（）を有する化合物が得られる。一般式
（）におけるR1は前述したものと同意義を有す
る。なお化合物（）から混合物（）を得る反
応は新規反応であり、本反応は以下に述べるよう
にカルバペネム誘導体の合成において重要な反応
となつている。 一般式（）を有する化合物を、一般式（Ｖ） R4CO3H （Ｖ） 〔式中、R4はメチルまたはエチルなどの低級ア
ルキル基を、フエニルまたはｍ−クロルフエニル
などのアリール基を、またはトリフルオロメチル
などのトリハロメチル基を示す。〕を有する化合
物１〜３当量をクロロホルム、塩化メチレン、酢
酸エチル、ベンジンまたはこれらの混合溶媒中0゜
〜50℃で１時間〜20時間反応させることにより一
般式（）を有する化合物が得られる。一般式
（）におけるR1は前述したものと同意義を示
す。 一般式（）を有する化合物を、一般式（） Ｍ・CN （） 〔式中、Ｍはナトリウムまたはカリウムなどのア
ルカリ金属原子を示す〕を有する化合物１〜５当
量をジメチルホルムアミド−水または18−クラウ
ン−６乃至15−クラウン−５の存在下テトラヒド
ロフラン中、0゜〜50℃で１〜24時間反応させるこ
とにより一般式（）を有する化合物が得られ
る。こゝに得られる一般式（Ｉ）、（）および
（Ｖ）を有する化合物における好適なR1について
例示する。
るアゼチジノン誘導体（Ｉ）およびその製造法に
関するものである。 チエナマイシンで代表されるカルバペネム骨格
を有する抗生物質は強力かつ広範囲な抗菌スペク
トルを有することが知られている。発明者等はそ
の骨格合成を試み鋭意努力した結果、カルバペネ
ム誘導体合成の重要中間体であるアゼチジノン誘
導体（Ｉ）を合成することに成功し本発明を完成
するに至つた。 一般式（Ｉ） を有する化合物においてR1は、水素原子を、低
級アルキル基としてはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチルまたはイソブチルなど
のアルキル基を；アシルアミノ基としては芳香環
に置換基（たとえばｏ、ｍあるいはｐ位にメチ
ル、メトキシ、クロル、ブロムまたはニトロ基な
ど）を有してもよいフエニルアセチルアミノ基
を、または芳香環に置換基（たとえばｏ，ｍある
いはｐ位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムま
たはニトロ基など）を有してもよいフエノキシア
セチルアミノ基を；アルキルアミノ基としてはト
リフエニルメチルアミノ基を；アラルキル基とし
ては、芳香環に置換基（たとえばｏ，ｍあるいは
ｐ位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムまたは
ニトロ基など）を有しても良いベンジル基を；ま
たは保護（保護基としてはたとえばトリメチルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、ベンジル、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルまたはアリ
ル基など）された１−ヒドロキシエチル基を示
す。 一般式（Ｉ）を有する化合物は以下に示す方法
に従つて製造することができる。 一般式（） を有する化合物においてR1は上述したものを示
し、R2は、低級アルキル基としてはメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチルまたはイ
ソブチルなどのアルキル基を；アリール基として
は置換基（ｏ，ｍあるいはｐ位にメチル、メトキ
シ、クロル、ブロムまたはニトロ基など）を有し
てもよいフエニル基を；アラルキル基としては置
換基（ｏ，ｍあるいはｐ位にメチル、メトキシ、
クロル、ブロムまたはニトロ基など）を有しても
よいベンジル基を、またはアリールオキシメチル
基としては置換基（ｏ，ｍまたはｐ位にメチル、
メトキシ、クロル、ブロムまたはニトロ基など）
を有してもよいフエノキシメチル基を示す。一般
式（）を有する化合物をクロロホルム、塩化メ
チレン、ベンゼンまたはテトラヒドロフランなど
の溶媒中、一般式（）、 Sn（CH2CH＝CH2）R3 3 （） 〔式中R3は、低級アルキル基としてはメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルまたは
イソブチルなどのアルキル基を、アリール基とし
ては置換基（ｏ，ｍまたはｐ位にメチルまたはメ
トキシなど）を有してもよいフエニル基を、アラ
ルキル基としては置換基（ｏ，ｍまたはｐ位にメ
チルまたはメトキシなど）を有してもよいベンジ
ル基を；またはアリル基を示す。〕を有する化合
物を0.2〜２モル当量をルイス酸、たとえばボロ
ントリフルオライドエーテルコンプレツクス、四
塩化チタンまたは四塩化スズなどの存在下、0゜〜
50℃で５時間〜24時間反応させることにより一般
式（）を有する化合物が得られる。一般式
（）におけるR1は前述したものと同意義を有す
る。なお化合物（）から混合物（）を得る反
応は新規反応であり、本反応は以下に述べるよう
にカルバペネム誘導体の合成において重要な反応
となつている。 一般式（）を有する化合物を、一般式（Ｖ） R4CO3H （Ｖ） 〔式中、R4はメチルまたはエチルなどの低級ア
ルキル基を、フエニルまたはｍ−クロルフエニル
などのアリール基を、またはトリフルオロメチル
などのトリハロメチル基を示す。〕を有する化合
物１〜３当量をクロロホルム、塩化メチレン、酢
酸エチル、ベンジンまたはこれらの混合溶媒中0゜
〜50℃で１時間〜20時間反応させることにより一
般式（）を有する化合物が得られる。一般式
（）におけるR1は前述したものと同意義を示
す。 一般式（）を有する化合物を、一般式（） Ｍ・CN （） 〔式中、Ｍはナトリウムまたはカリウムなどのア
ルカリ金属原子を示す〕を有する化合物１〜５当
量をジメチルホルムアミド−水または18−クラウ
ン−６乃至15−クラウン−５の存在下テトラヒド
ロフラン中、0゜〜50℃で１〜24時間反応させるこ
とにより一般式（）を有する化合物が得られ
る。こゝに得られる一般式（Ｉ）、（）および
（Ｖ）を有する化合物における好適なR1について
例示する。
【式】
【式】
【式】
【式】
本発明によつて得られる一般式（Ｉ）を有する
化合物が容易にカルバペネム誘導体に導けること
を以下に示す。一般式（Ｉ）を有する化合物を加
水分解しβ−ヒドロキシアミド体を経由してβ−
ヒドロキシカルボン酸（）とし、これをエステ
ル化後酸化してβ−ケトエステル体（）とし以
下ジアゾ化、閉環反応によりカルバペネム誘導体
（Ｘ）に導ける。 また一般式（Ｉ）を有する化合物は接触還元に
よりβ−ヒドロキシアミノ体（XI）とした後アミ
ノ基を保護し、酸化することにより（XII）へ導
き、これにｐ−ニトロベンジルグリオキシレート
ハイドレートを反応させた後、塩化チオニル、ト
リフエニルホスフイン、塩基の順に反応させホス
ホラン（Ｘ）とし（Ｘ）を閉環することによ
りカルバペネム誘導体（Ｘ）へ導ける。 以下に実施例および参考例を示し更に本発明を
具体的に示す。 実施例 １ ４−アリルアゼチジン−２−オン ４−アセトキシアゼチジン−２−オン550mgを
無水塩化メチレン10mlに溶解し、テトラアリルス
ズ1.4gを加える。更にボロントリフロライド−エ
ーテルコンプレツクス（BF3−OEt2）60mgを加
え、20〜25℃にて15時間撹拌する。塩化メチレン
を加え、有機層を３回水洗。MgSO4にて乾燥後、
溶媒を留去して、残渣をシクロヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１の溶媒系を用いる分取用薄層クロマ
トグラフイー（メルク社製）にてRf＝0.2に対応
する所望の化合物を単離精製し、350mg（収率74
％）を得た。 NMR（CDCl3）δ：2.2〜2.5（2H、三重線様）、
2.4〜2.75（1H）、2.82〜3.21（1H）、3.45〜3.8
（1H、多重線）4.8〜6.05（3H、二重結合上の
Ｈ）、〜6.9（NH） 実施例 ２ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−11−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−エチル〕４−アリルア
ゼチジン−２−オン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−11
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−エチ
ル〕−アゼチジン−２−オン1gを無水塩化メチレ
ン20mlに溶解し、1.46gのテトラアリルスズを加
える。さらにBF3−OEt2190mgを加え窒素雰囲気
中15時間撹拌。塩化メチレンを更に加え、有機層
を３回水洗。硫酸マグネシウム上乾燥後、溶媒留
去。残渣をシリカゲルを用いるラピツト．クロマ
トグラフイーに付し、シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝５：１の溶媒系で留出させる事によりRf＝
0.22（シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に
対応する所望の化合物800mgを得た。 NMR（CDCl3）δ：0.06（Ｓ、6H）、0.87（ｓ、
9E）、1.19（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.2〜2.5
（2H、）、2.74（1H、d.d.d、Ｊ＝5.3及び1.5Hz）、
3.50〜3.85（1H）、3.95〜4.35（1H）、4.8〜5.9
（3H、二重結合上のＨ） mp 70〜77゜（石油エーテルより再結晶） 元素分析：C14H27NO2Siとして 計算値 Ｃ、62.40；Ｈ、10.10；Ｎ、5.20 実測値 Ｃ、62.47；Ｈ、10.05；Ｎ、5.24 この反応をBF3−OEt2の代りに１／10モル当
量のTiCl4を用いる事により所望の物質を45％で
又SnCl4を用いる事により30％でそれぞれ得られ
た。 実施例 ３ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−エチル〕４−アリルア
ゼチジン−２−オン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−11
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−エチ
ル〕アゼチジン−２−オン60mgを無水塩化メチレ
ン６mlに溶解し、トリノルマルブチルアリルチン
（
化合物が容易にカルバペネム誘導体に導けること
を以下に示す。一般式（Ｉ）を有する化合物を加
水分解しβ−ヒドロキシアミド体を経由してβ−
ヒドロキシカルボン酸（）とし、これをエステ
ル化後酸化してβ−ケトエステル体（）とし以
下ジアゾ化、閉環反応によりカルバペネム誘導体
（Ｘ）に導ける。 また一般式（Ｉ）を有する化合物は接触還元に
よりβ−ヒドロキシアミノ体（XI）とした後アミ
ノ基を保護し、酸化することにより（XII）へ導
き、これにｐ−ニトロベンジルグリオキシレート
ハイドレートを反応させた後、塩化チオニル、ト
リフエニルホスフイン、塩基の順に反応させホス
ホラン（Ｘ）とし（Ｘ）を閉環することによ
りカルバペネム誘導体（Ｘ）へ導ける。 以下に実施例および参考例を示し更に本発明を
具体的に示す。 実施例 １ ４−アリルアゼチジン−２−オン ４−アセトキシアゼチジン−２−オン550mgを
無水塩化メチレン10mlに溶解し、テトラアリルス
ズ1.4gを加える。更にボロントリフロライド−エ
ーテルコンプレツクス（BF3−OEt2）60mgを加
え、20〜25℃にて15時間撹拌する。塩化メチレン
を加え、有機層を３回水洗。MgSO4にて乾燥後、
溶媒を留去して、残渣をシクロヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１の溶媒系を用いる分取用薄層クロマ
トグラフイー（メルク社製）にてRf＝0.2に対応
する所望の化合物を単離精製し、350mg（収率74
％）を得た。 NMR（CDCl3）δ：2.2〜2.5（2H、三重線様）、
2.4〜2.75（1H）、2.82〜3.21（1H）、3.45〜3.8
（1H、多重線）4.8〜6.05（3H、二重結合上の
Ｈ）、〜6.9（NH） 実施例 ２ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−11−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−エチル〕４−アリルア
ゼチジン−２−オン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−11
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−エチ
ル〕−アゼチジン−２−オン1gを無水塩化メチレ
ン20mlに溶解し、1.46gのテトラアリルスズを加
える。さらにBF3−OEt2190mgを加え窒素雰囲気
中15時間撹拌。塩化メチレンを更に加え、有機層
を３回水洗。硫酸マグネシウム上乾燥後、溶媒留
去。残渣をシリカゲルを用いるラピツト．クロマ
トグラフイーに付し、シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝５：１の溶媒系で留出させる事によりRf＝
0.22（シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に
対応する所望の化合物800mgを得た。 NMR（CDCl3）δ：0.06（Ｓ、6H）、0.87（ｓ、
9E）、1.19（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.2〜2.5
（2H、）、2.74（1H、d.d.d、Ｊ＝5.3及び1.5Hz）、
3.50〜3.85（1H）、3.95〜4.35（1H）、4.8〜5.9
（3H、二重結合上のＨ） mp 70〜77゜（石油エーテルより再結晶） 元素分析：C14H27NO2Siとして 計算値 Ｃ、62.40；Ｈ、10.10；Ｎ、5.20 実測値 Ｃ、62.47；Ｈ、10.05；Ｎ、5.24 この反応をBF3−OEt2の代りに１／10モル当
量のTiCl4を用いる事により所望の物質を45％で
又SnCl4を用いる事により30％でそれぞれ得られ
た。 実施例 ３ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−エチル〕４−アリルア
ゼチジン−２−オン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−11
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−エチ
ル〕アゼチジン−２−オン60mgを無水塩化メチレ
ン６mlに溶解し、トリノルマルブチルアリルチン
（
【式】）200mgを加え、この溶液
にBF3−OEt210mgを加え、窒素雰囲気中16時間、
室温にて撹拌。塩化メチレンを加え有機層を水洗
３回。硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒留去。
残渣をシリカゲル分取用TLCに付しシクロヘキ
サン：酢酸エチル＝２：１の系にてRf＝0.4に対
応する所望の化合物40mgを得た。 mp 70〜77℃ 実施例 ４ （3S，4R）−４−（２，３−エポキシプロピル）
−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−エチル〕−アゼチジン−２−オン 実施例２により得た４−アリルアゼチジノン誘
導体800mgを200mlの無水塩化メチレンに溶解し、
氷冷下ｍ−クロル過安息香酸780mgを加え、室温
にて15時間撹拌。反応液を５％重ソウ水次いで水
洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥。溶媒留去する
と結晶性のエポキシド誘導体650mgをえた。石油
エーテルから再結晶する事によりジアステレオマ
ーの１つが純品となつた。 mp 83.5゜ TLC：Rf＝0.45（シクロヘキサン：酢酸エチル＝
１：２） NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.89（9H）、1.22
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.5〜2.1（2H）、2.3〜3.1
（5H）、3.6〜4.4（2H） IR（ヌジヨール）νcm-1：3080、3140、1760、
1712 元素分析：C14H27NO3Siとして 計算値 Ｃ、58.91；Ｈ、9.53；Ｎ、4.90 実測値 Ｃ、59.02；Ｈ、9.45；Ｎ、4.89 実施例 ５ （3S，4R）−４−（２−ハイドロキシ−３−シ
アノプロピル）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−エチル〕−アゼチジ
ン−２−オン 実施例３により得た４−エポキシアゼチジノン
誘導体500mgをDMF（３ml）及び水（１ml）の混
合液に溶解し、KCN250mgを加え室温にて15時間
撹拌する。酢酸エチルを加え、有機層を水洗、硫
酸マグネシウムにて乾燥。溶媒留去し、残渣をラ
ピツド・クロマトグラフイー（シリカゲル）に付
し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：２にて
Rf＝0.25に対応する所望の化合物420mgを得た。
酢酸エチル及び石油エーテルより再結晶する事に
よりジアステレオマーの１つが結晶として単離さ
れた。 mp 120〜125℃ NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.89（9H）、1.21
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.7〜2.1（2H）、2.45〜
3.0（3H）、3.5〜4.4（3H）、6.6（NH） IR（ヌジヨール）νcm-1：3330、2240、1700 元素分析：C15H28N2O3Siとして 計算値 Ｃ、57.66；Ｈ、9.03；Ｎ、8.96 実測値 Ｃ、57.87；Ｈ、9.05；Ｎ、8.92 実施例 ６ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（４−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
アリルアゼチジン−２−オン （3R，4R）−又は（3R，4S）−４−アセトキシ
−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル〕アゼチジン−２−オン
115mgを５mlの無水塩化メチレンに溶解し、115mg
をテトラアリルスズを加える。さらにBF3−
OEt220mgを加え窒素雰囲気中、室温５時間撹拌。
塩化メチレン10mlを加え、有機層を３回水洗。硫
酸マグネシウム上乾燥後、溶媒留去。残渣をメル
ク社製分取用シリカゲルTLCに付し、シクロヘ
キサン：酢酸エチル＝２：１の系で展開し、Rf
＝0.5の部分を分取、抽出し、所望の表記化合物
をいずれの出発物質からも101mg得た。収率92.6
％ IRν（ニート）cm-1：〜3300、〜1740、1605、
1520、1350 NMR（CDCl3）δ：1.42（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、
2.36（2H、ｔ、Ｊ＝6.5Hz）3.0（1H、dd、Ｊ＝
7.5and2.5Hz、D2O添加時）、4.9〜6.1（4H、ｍ）、
5.20（2H、ｓ）、6.25（1H、NH）、7.4〜8.3（4H、
A2B2型） この反応を上記出発物質の代りに（3R，4R）
−または（3R，4S）−４−ベンゾイルオキシ−３
−〔（Ｒ）−１−（４−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕アゼチジン−２−オンを用
いる事によつて所望の表記物質を97％収率で得る
事が出来た。 参考例 （3S，4R）−４−（２−ハイドロキシ−３−ア
ミノカルボニル）−プロピル−３−〔（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−エチ
ル〕−アゼチジン−２−オン 前記実施例のニトリル体390mgを12mlアセト
ン及び12ml水に溶解し550mgの炭酸ナトリウムを
加える。室温にてゆつくり30％過酸化水素水200
mgを加え、同温にて20時間はげしく撹拌する。酢
酸エチルを加え、有機層を水洗、５％ハイポ液、
水洗後硫酸マグネシウムにて乾燥。酢酸エチルに
てTLC上Rf＝0.1を示す所望の化合物170mg及び
出発物質であるニトリル体170mgをえた。 粗化合物のmp 124〜126℃ NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.86（9H）、1.2及
び1.24（共に1/2CH3、Ｊ＝６Hz）、1.6〜2.0
（2H）、2.2〜2.9（3H）、3.5〜4.4（3H）、6.15
（1H）、6.45（1H）、6.89（NH） 参考例 （3S，4R）−４−（２−ハイドロキシ−３−パ
ラニトロベンジルオキシカルボニル）−プロピ
ル−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−エチル〕−アゼチジン−２−オン 前記参考例で得たアミド体170mgを４mlのエ
タノールに溶解し、140mgのKOH4ml水溶液をゆ
つくり加え、室温にて24時間撹拌する。水を加
え、酢酸エチルにて未加水分解部の出発物質を２
度抽出する。酢酸エチルを加え二層となし水層を
氷冷下１％塩酸水にてゆつくり酸性となし（PH
２）、酢酸エチル層を分離し、更に抽出。抽出液
を濃食塩水にて洗滌後、硫酸マグネシウムにて乾
燥。溶媒留去後、残渣（140mg）を３mlのDMFに
溶解し、100mgの重ソウを加え200mgのパラニトロ
ベンジルブロマイドを加え、室温にて20時間撹拌
する。 酢酸エチルを加え、有機層を水洗三回、
MgSO4にて乾燥後、溶媒留去し、残渣をシクロ
ヘキサン：酢酸エチル＝１：４の系のTLCに付
しRf＝0.55の所望の化合物を単離した。100mg NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.88（9H）、1.23
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.6〜2.0（2H）、2.5〜2.9
（3H）、3.5〜4.4（3H）、5.27（2H）、6.38（NH）、
7.48〜8.33（4H） 参考例 （3S，4R）−４（２−オキソ−３−パラニトロ
ベンジルオキシカルボニル）プロピル−３−
〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−エチル〕−アゼチジン−２−オン 前記参考例で得たハイドロキシ体35mgを５ml
の無水塩化メチレンに溶解し、ピリジニウム、ク
ロロクロメート（PCC）120mgを加え、室温にて
８時間撹拌する。塩化メチレンを加えハイポ水溶
液にて過剰の酸化剤を還元後、反応混合液をセラ
イトろ過し、塩化メチレン層を水洗３回。硫酸マ
グネシウムにて乾燥後、溶媒留去し残渣をシクロ
ヘキサン：酢酸エチル＝１：４の系にてTLCに
付し、Rf＝0.61に対応する所望の化合物21mgをえ
た。 mp 74〜76゜（酢酸エチル：石油エーテル＝１：
20より再結晶） NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.88（9H）、1.17
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.4〜3.0（3H）、3.53
（Ｈ）、3.7〜4.3（2H）、5.21（2H）、6.03（NH）、
7.4〜8.3（4H） IR（ヌジヨール）νcm-1：3150、3100、1765、
1755、1750、1715、1608、1528、1350 元素分析：C22H32N2O7Siとして 計算値 Ｃ、56.88；Ｈ、6.94；Ｎ、6.03 実測値 Ｃ、57.08；Ｈ、6.87；Ｎ、6.04 参考例 （3S，4R）−４−（４−アミノ−２−ハイドロ
キシブチル−３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）アゼチジン−２−オン 821mgのハイドロキシニトリル体（実施例４で
得た）を氷酢酸８mlに溶解し、それに酸化白金42
mgを加え、水素雰囲気下５時間撹拌する。反応液
をろ過して触媒を除去した後、減圧下溶媒を留去
することにより、所望の標記化合物を得た。 参考例 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−ハイドロキシブチ
ル）−３−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）アゼチジン−２−オン 参考例により得たアミノアルコール体を５ml
の塩化メチレンに溶解し、850.7mgのパラニトロ
ベンジルオキシカルボニルクロライド及び1.02g
のジイソプロピルエチルアミンを加え、室温で終
夜撹拌する。50mlの酢酸エチルを加え、２回水洗
した後、有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾
燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をラピツド、
クロマトグラフイ−（シリカゲル；シクロヘキサ
ン：酢酸エチル＝1.10）にかけることにより所望
の物質613mgを油状でえた。 TLC（酢酸エチル）：Rf＝0.5 NMR（CDCl3）δ：0.08（6H、ｓ）、0.88（9H、
ｓ）、1.22（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.4〜2.1（4H、
ｍ）、2.6〜3.0（1H、ｍ）、3.0〜4.1（5H、ｍ）、
3.9〜4.3（1H、ｍ）、5.16（2H、ｓ）、5.66（1H、
ｔ、Ｊ＝６Hz）、6.65（1H、ｓ）、7.38、7.50、
8.08、8.11（ABq） 参考例 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）−
３−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリル
オキシエチル〕−アゼチジン−２−オン 参考例により得たアミノアルコールのPNZ
体36.86mgを塩化メチレン20mlに溶解しピリジニ
ウムクロロクロメート1.12gを加え室温にて３時
間撹拌する。反応液をセライトを通してろ過した
後、塩化メチレンを加え、２回水洗し、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥する。溶媒を減圧下留去し
た後、薄層クロマトグラフイー（シリカゲル；シ
クロヘキサン：酢酸エチル＝１：２）により分離
することにより所望の化合物242.9mg（66％）を
得た。 TLC Rf＝0.6（シクロヘキサン：酢酸エチル＝
１：２） NMR（CDCl3）δ：0.07（6H、ｓ）、0.86（9H、
ｓ）、1.19（2H、ｄ、Ｊ＝5.4Hz）、2.4〜3.0（4H、
ｍ）、3.42（2H、bq、Ｊ＝６Hz）、3.7〜4.1（1H、
ｍ）、3.9〜4.4（1H、ｍ）、5.13（2H、ｓ）、5.70
（1H、bt、Ｊ＝６Hz）、6.52（ｓ、1H）7.39、
7.52、8.09、8.12（ABq） 参考例 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）−
３−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−１−（１−ハイドロキシ−１−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）
アゼチジン−２−オン 参考例で得たケトン体242.9mg
（0.4297mmol）及びｐ−ニトロベンジルグリオキ
シレートハイドレート250mgをベンゼン100mlに懸
濁し終夜加熱還流する。トリエチルアミンを１滴
加え、６時間さらに還流する溶媒を減圧下留去し
た後薄層クロマトグラフイー（ヘキサン：酢酸エ
チル：アセトン＝８：６：３）により単離精製す
ることにより標記化合物258.1mg（86％）を得た。 Rf（ヘキサン：酢酸エチル：アセトン＝８：６：
３）0.55及び0.50 Rf値0.5のものに関してNMR（CDCl3）δ：0.02
（3H、ｓ）、0.05（3H、ｓ）、0.84（9H、ｓ）、
1.22（3H、ｄ，Ｊ＝6.4Hz）、1.7〜2.1（1H、ｍ）、
2.4〜3.2（4H、ｍ）、3.2〜4.5（5H、ｍ）、5.0〜
6.0（6H、ｍ）、7.2〜7.8（4H、ｍ）、7.9〜8.5
（4H、ｍ）…… 参考例 １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−１
−［〔3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）
−31−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）エチル）〕アゼチジン−２−オン−
１−イル］メチレントリフエニルホスホラン 参考例により得たハイドロキシケトン体
258.1mg（異性体混合物）（0.3677mmol）を無水
テトラヒドロフラン22mlに溶解し−30℃まで冷却
する。これに0.064mlのルチジン及び0.04mlの塩
化チオニルを加え、−30℃において１時間撹拌し、
TLCによりクロル体の生成を確認する。セライ
トを通してろ過した後、溶媒を留去する。クロル
体をジオキサン14mlに溶解し、トリフエニルホス
フイン192mgルチジン0.09mlを加え室温で終夜撹
拌する。酢酸エチルを加え、２回水洗し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥する。溶媒を減圧下留
去し、薄層クロマトグラフイー（ヘキサン：酢酸
エチル：アセトン＝10：６：３）にて単離精製す
ることにより、油状の標記化合物93.5mg（27％）
を得た。 （Rf＝0.4） 参考例 １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−１
−［〔3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）
−３−（（Ｒ）−１−ハイドロキシエチル）〕アゼ
チジン−２−オン−１−イル］メチレントリフ
エニルホスホラン 参考例で得たホスホラン93.5mg
（0.09884mmol）を５mlのメタノールに溶解し、
氷冷する。これに10％塩酸４mlを加え、氷冷下20
分、室温で１時間撹拌する。反応混合物を再び氷
冷し、飽和炭酸水素ナトリウム液37mlを加えて、
10分間撹拌し、酢酸エチルにて３回抽出する。有
機層の無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶
媒を留去（減圧下）する。残渣をシリカゲル薄層
クロマトグラフイー（酢酸エチル）にて分離し、
Rf＝0.1のものを単離することにより標記化合物
52.5mg（64％）を得た。 NMR（CDCl3）δ：1.09（3H、ｄ、Ｊ＝6.2Hz）、
1.5〜2.2（4H、ｍ）、2.2〜4.2（5H、ｍ）、5.17
（4H、ｓ）、5.1〜5.9（1H、bs）、7.0〜8.1（19H、
ｍ）、8.0〜8.5（4H、ｍ）、 参考例 10 （5R，6s）−６（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル−３−（２−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノエチル）−７
−オキソ−１−アザビシクロ〔３，２，０〕ヘ
プタ−２−エン 参考例８で得られたアゼチジノン（165.8mg）
を乾燥ベンゼン（80ml）に溶かし、これにハイド
ロキノン（５mg）を加える。この溶液を５時間加
熱還流する。溶媒を留去し得られる油状物をロー
バーカラム（S160、シクロヘキサン−酢酸エチル
２：３）で分離精製し油状物として表記化合物
（85mg、収率73％）が得られた。 Rf値（シクロヘキサン−酢酸エチル２：３）0.4 NMR（CDCl3）δ：0.09（6H、ｓ）、0.86（9H、
ｓ）、1.23（3H、ｄ、Ｊ＝6.6Hz）、2.4〜3.7（7H、
ｍ）、3.8〜4.5（2H、ｍ）、4.8〜5.4（1H、ｍ）、
5.08（2H、ｓ）、5.1〜5.4（2H、ｍ）、7.2〜7.8
（4H、ｍ）、7.8〜8.4（4H、ｍ）、 IR（neat）：3380cm-1、1765cm-1、1715cm-1 元素分析 計算値 Ｃ57.47 Ｈ6.03 Ｎ8.38 実測値 57.66 6.15 ８，81 参考例 11 （3S，4R）−３−（（Ｒ）−１−ハイドロキシエ
チル）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−２−オキソブチル）アゼチジ
ン−２−オン 参考例６で得られたアゼチジノン（248.9mg、
0.5049mmol）のアセトニトリル（６ml）溶液を
氷浴中冷却する。これに、三フツ化ボランエーテ
ル錯体（0.12ml）を加え、氷浴中18分間撹拌す
る。あらかじめ氷冷しておいて炭酸水素ナトリウ
ム水を加え、酢酸エチルにて抽出する。抽出液を
合わせ、水洗を２回する。無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した後ローバーカラム（塩化メチレン−
エタノール10：１）にて分離精製することにより
所望の表記化合物の白色結晶（165.5mg、90％）
を得た。 m.p.115〜116℃ Rf値（酢酸エチル）0.1 IR（KBr）：3340cm-1、175cm-1、1700cm-1、1680
cm-1 NMR（重アセトン）δ：1.18（3H、ｄ、Ｊ＝6.2
Hz）、2.5〜3.0（4H、ｍ）、2.89（2H、ｄ、Ｊ＝
6.2Hz）、３，１〜3.6（2H、ｍ）、3.6〜4.2（3H、
ｍ）、5.14（2H、ｓ）、7.3〜7.8（2H、ｍ）、8.0〜
8.4（2H、ｍ） 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ (%) 計算値 53.75 5.70 11.06 実測値 53.69 5.54 11.07 参考例 12 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）−
３−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル）アゼチジン−２−オン 参考例11で得られたハイドロキシアゼチジノン
（471.5mg、1.2918mmol）を塩化メチレン（３ml）
に溶解し、氷浴中冷却する。これに４−ジメチル
アミノピリジン（315.9mg）を加え、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルクロライド（1.39g、
6.4501mmol）の塩化メチレン溶液（５ml）を６
時間30分かけて滴下する。さらに、30分撹拌した
後、反応液を水洗し、希塩酸、希重ソウ水で洗浄
する。無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後ロー
バーカラム（酢酸エチル）により分離することに
より油状の表記化合物（465.2mg、0.8551mmol）
を得た。 NMR（CDCl3）δ：1.42（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
2.3〜4.1（9H、ｍ）、5.10（2H、ｓ）、5.18（2H、
ｓ）、4.2〜4.7（1H、ｍ）、6.50（1H、bs）、7.2〜
7.7（4H、ｍ）、7.9〜8.4（4H、ｍ） 参考例 13 （3S，4R）−１−（１−ハイドロキシ−１−ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）−
４−（４−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−２−オキソブチル）−３−（（Ｒ）−１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）アゼチジン−２−オン ｐ−ニトロベンジルグリオキシレートモノハイ
ドレート（387.9mg、1.7088mmol）を100mlのベ
ンゼンに溶解し、共沸により水を除く。これに参
考例12で得られたｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシエチル体（465mg）のベンゼン（５
ml）溶液を加え、トリエチルアミンを１滴加え
る。40℃にて５分間撹拌した後溶媒を留去し、ロ
ーバーカラム（塩化メチレン−テトラヒドロフラ
ン７：１）にて分離精製することにより、所望の
表記化合物のジアステレオマー２つI.208mg（32
％）および．322.1mg（49％）を得た。 Rf値（CH2Cl2−THF7：１）Ｉ：0.4、：0.3 Ｉ：NMR（CDCL3）、δ：1.39（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.2〜4.7（11H、ｍ）、5.10（2H、ｓ）、5.17
（2H、ｓ）、5.21（2H、ｓ）、4.7〜5.4（1H、ｍ）、
7.2〜7.6（6H、ｍ）、7.9〜8.3（6H、ｍ）、 ：NMR（CDCL3）、δ：1.39（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.4〜4.6（11H、ｍ）、5.10（2H、ｓ）、4.7
〜5.8（3H、ｍ）、5.17（2H、ｓ）、7.1〜7.8（6H、
ｍ）、7.8〜8.4（6H、ｍ） 参考例 14 １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−１
−〔（3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）
−３−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル）アゼチジン−２−オ
ン−１−イル〕メチレントリフエニルホスホラ
ン 参考例13で得られたハイドロキシ体（530mg）
をテトラヒドロフラン（７ml）に溶解し、−20℃
に冷却する。これにルチジン0.14ml塩化チオニル
0.07mlを加え30分撹拌する。生成した白色沈澱を
セライトろ過し、ろ液を濃縮することによりクロ
ル体を得る。 このクロル体のジオキサン（７ml）溶液にトリ
フエニルホスフイン（540.6mg、2.0633mmol）及
びルチジン（0.25ml）を加え、室温で３時間40℃
にて13時間撹拌する。室温まで反応液を冷却し、
酢酸エチルを加え２回水洗する。無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、溶媒を留去した後、ローバー
カラム（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：10）
にて分離精製することにより所望の表記化合物
（481mg、69％、oil）を得た。 Rf値；（酢酸エチル−シクロヘキサン10：１）0.3 NMR（CDCl3）δ：1.12（3H、ｄ、Ｊ＝6.2Hz）、
2.3〜3.0（5H、ｍ）、3.0〜3.7（4H、ｍ）、4.5〜
4.9（1H、ｍ）、4.9〜6.3（6H、ｍ）、7.1〜8.0
（21H、ｍ）、7.9〜8.3（6H、ｍ） 参考例 15 （5R，6S）−２−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−３−（２−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノエチル）−６−（（Ｒ）−１−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）−７−オキソ−１−アザビシクロ〔３，
２，０〕−ヘプタ−２−エン 参考例14で得られたホスホラン（503mg、
0.4973mmol）を無水ベンゼン（20ml）に溶解し、
触媒量のハイドロキノンを加える。反応液を５時
間加熱還流し、室温まで冷却して溶媒を減圧下留
去する。残渣をラピツドクロマト（シリカゲル、
塩化メチレン−エーテル20：１）にて分離精製す
ることにより所望の表記化合物（194.5mg、54％）
を得た。 Rf値（塩化メチレン−エーテル20：１）0.2 NMR（CDCl3）δ：1.46（3H、ｄ、Ｊ＝6.2Hz）、
2.3〜3.7（7H、ｍ）、3.7〜4.5（1H、ｍ）、4.7〜
5.4（8H、ｍ）、7.1〜7.8（6H、ｍ）、7.8〜8.4
（6H、ｍ） IR（neat）：3400cm-1、1775cm-1、1745cm-1、1720
cm-1 参考例 16 （5R，6S）−３−（２−アミノエチル）−６−
（（Ｒ）−１−ハイドロキシエチル）−７−キキソ
−１−アザビシクロ〔３，２，０〕ヘプタ−２
−エン−２−カルボン酸 参考例15で得られた１−アザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプテン（194.5mg、0.270mmol）をテ
トラヒドロフラン（3.8ml）に溶解し、リン酸バ
ツフアー（PH７、3.8ml）を加える。これに10％
パラジウム−活性炭（583.4mg）を加え、水素雰
囲気下２時間撹拌する。セライトを通して触媒を
除去した後、酢酸エチルにて洗浄し、凍結乾燥を
する。残渣を水に溶解し、HP−20のクロマトに
て分離（水）を精製することにより所望の表記化
合物（14.9mg、23％）を得た。 UVmax（H2O）：267nm 参考例 17 （5R，6S）−６−（（Ｒ）−１−ハイドロキシエ
チル）−３−（２−ホルムイミドイルアミノエチ
ル）−７−オキソ−１−アザビシクロ〔３，２，
０〕ヘプタ−２−エン−２−カルボン酸 参考例16で得たアザビシクロヘプテン体（10
mg、0.04167mmol）をPH７のリン酸バツフアーに
溶解し、氷冷下撹拌する。この溶液を10％
NaOHにてPH8.5とし、PH8.2〜8.8を保もちながら
メチルホルムイミデート及び10％NaOH水を加
える。添加終了後PH8.5にて10分間撹拌し、1N塩
酸でPH7.0とする。この溶液をHP−20のカラムに
よりクロマトで分離精製することにより所望の表
記化合物（７mg、63％）を得た。 UVmax（H2O）：247nm
室温にて撹拌。塩化メチレンを加え有機層を水洗
３回。硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒留去。
残渣をシリカゲル分取用TLCに付しシクロヘキ
サン：酢酸エチル＝２：１の系にてRf＝0.4に対
応する所望の化合物40mgを得た。 mp 70〜77℃ 実施例 ４ （3S，4R）−４−（２，３−エポキシプロピル）
−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−エチル〕−アゼチジン−２−オン 実施例２により得た４−アリルアゼチジノン誘
導体800mgを200mlの無水塩化メチレンに溶解し、
氷冷下ｍ−クロル過安息香酸780mgを加え、室温
にて15時間撹拌。反応液を５％重ソウ水次いで水
洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥。溶媒留去する
と結晶性のエポキシド誘導体650mgをえた。石油
エーテルから再結晶する事によりジアステレオマ
ーの１つが純品となつた。 mp 83.5゜ TLC：Rf＝0.45（シクロヘキサン：酢酸エチル＝
１：２） NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.89（9H）、1.22
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.5〜2.1（2H）、2.3〜3.1
（5H）、3.6〜4.4（2H） IR（ヌジヨール）νcm-1：3080、3140、1760、
1712 元素分析：C14H27NO3Siとして 計算値 Ｃ、58.91；Ｈ、9.53；Ｎ、4.90 実測値 Ｃ、59.02；Ｈ、9.45；Ｎ、4.89 実施例 ５ （3S，4R）−４−（２−ハイドロキシ−３−シ
アノプロピル）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−エチル〕−アゼチジ
ン−２−オン 実施例３により得た４−エポキシアゼチジノン
誘導体500mgをDMF（３ml）及び水（１ml）の混
合液に溶解し、KCN250mgを加え室温にて15時間
撹拌する。酢酸エチルを加え、有機層を水洗、硫
酸マグネシウムにて乾燥。溶媒留去し、残渣をラ
ピツド・クロマトグラフイー（シリカゲル）に付
し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：２にて
Rf＝0.25に対応する所望の化合物420mgを得た。
酢酸エチル及び石油エーテルより再結晶する事に
よりジアステレオマーの１つが結晶として単離さ
れた。 mp 120〜125℃ NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.89（9H）、1.21
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.7〜2.1（2H）、2.45〜
3.0（3H）、3.5〜4.4（3H）、6.6（NH） IR（ヌジヨール）νcm-1：3330、2240、1700 元素分析：C15H28N2O3Siとして 計算値 Ｃ、57.66；Ｈ、9.03；Ｎ、8.96 実測値 Ｃ、57.87；Ｈ、9.05；Ｎ、8.92 実施例 ６ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（４−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
アリルアゼチジン−２−オン （3R，4R）−又は（3R，4S）−４−アセトキシ
−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル〕アゼチジン−２−オン
115mgを５mlの無水塩化メチレンに溶解し、115mg
をテトラアリルスズを加える。さらにBF3−
OEt220mgを加え窒素雰囲気中、室温５時間撹拌。
塩化メチレン10mlを加え、有機層を３回水洗。硫
酸マグネシウム上乾燥後、溶媒留去。残渣をメル
ク社製分取用シリカゲルTLCに付し、シクロヘ
キサン：酢酸エチル＝２：１の系で展開し、Rf
＝0.5の部分を分取、抽出し、所望の表記化合物
をいずれの出発物質からも101mg得た。収率92.6
％ IRν（ニート）cm-1：〜3300、〜1740、1605、
1520、1350 NMR（CDCl3）δ：1.42（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、
2.36（2H、ｔ、Ｊ＝6.5Hz）3.0（1H、dd、Ｊ＝
7.5and2.5Hz、D2O添加時）、4.9〜6.1（4H、ｍ）、
5.20（2H、ｓ）、6.25（1H、NH）、7.4〜8.3（4H、
A2B2型） この反応を上記出発物質の代りに（3R，4R）
−または（3R，4S）−４−ベンゾイルオキシ−３
−〔（Ｒ）−１−（４−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕アゼチジン−２−オンを用
いる事によつて所望の表記物質を97％収率で得る
事が出来た。 参考例 （3S，4R）−４−（２−ハイドロキシ−３−ア
ミノカルボニル）−プロピル−３−〔（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−エチ
ル〕−アゼチジン−２−オン 前記実施例のニトリル体390mgを12mlアセト
ン及び12ml水に溶解し550mgの炭酸ナトリウムを
加える。室温にてゆつくり30％過酸化水素水200
mgを加え、同温にて20時間はげしく撹拌する。酢
酸エチルを加え、有機層を水洗、５％ハイポ液、
水洗後硫酸マグネシウムにて乾燥。酢酸エチルに
てTLC上Rf＝0.1を示す所望の化合物170mg及び
出発物質であるニトリル体170mgをえた。 粗化合物のmp 124〜126℃ NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.86（9H）、1.2及
び1.24（共に1/2CH3、Ｊ＝６Hz）、1.6〜2.0
（2H）、2.2〜2.9（3H）、3.5〜4.4（3H）、6.15
（1H）、6.45（1H）、6.89（NH） 参考例 （3S，4R）−４−（２−ハイドロキシ−３−パ
ラニトロベンジルオキシカルボニル）−プロピ
ル−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−エチル〕−アゼチジン−２−オン 前記参考例で得たアミド体170mgを４mlのエ
タノールに溶解し、140mgのKOH4ml水溶液をゆ
つくり加え、室温にて24時間撹拌する。水を加
え、酢酸エチルにて未加水分解部の出発物質を２
度抽出する。酢酸エチルを加え二層となし水層を
氷冷下１％塩酸水にてゆつくり酸性となし（PH
２）、酢酸エチル層を分離し、更に抽出。抽出液
を濃食塩水にて洗滌後、硫酸マグネシウムにて乾
燥。溶媒留去後、残渣（140mg）を３mlのDMFに
溶解し、100mgの重ソウを加え200mgのパラニトロ
ベンジルブロマイドを加え、室温にて20時間撹拌
する。 酢酸エチルを加え、有機層を水洗三回、
MgSO4にて乾燥後、溶媒留去し、残渣をシクロ
ヘキサン：酢酸エチル＝１：４の系のTLCに付
しRf＝0.55の所望の化合物を単離した。100mg NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.88（9H）、1.23
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.6〜2.0（2H）、2.5〜2.9
（3H）、3.5〜4.4（3H）、5.27（2H）、6.38（NH）、
7.48〜8.33（4H） 参考例 （3S，4R）−４（２−オキソ−３−パラニトロ
ベンジルオキシカルボニル）プロピル−３−
〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−エチル〕−アゼチジン−２−オン 前記参考例で得たハイドロキシ体35mgを５ml
の無水塩化メチレンに溶解し、ピリジニウム、ク
ロロクロメート（PCC）120mgを加え、室温にて
８時間撹拌する。塩化メチレンを加えハイポ水溶
液にて過剰の酸化剤を還元後、反応混合液をセラ
イトろ過し、塩化メチレン層を水洗３回。硫酸マ
グネシウムにて乾燥後、溶媒留去し残渣をシクロ
ヘキサン：酢酸エチル＝１：４の系にてTLCに
付し、Rf＝0.61に対応する所望の化合物21mgをえ
た。 mp 74〜76゜（酢酸エチル：石油エーテル＝１：
20より再結晶） NMR（CDCl3）δ：0.08（6H）、0.88（9H）、1.17
（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.4〜3.0（3H）、3.53
（Ｈ）、3.7〜4.3（2H）、5.21（2H）、6.03（NH）、
7.4〜8.3（4H） IR（ヌジヨール）νcm-1：3150、3100、1765、
1755、1750、1715、1608、1528、1350 元素分析：C22H32N2O7Siとして 計算値 Ｃ、56.88；Ｈ、6.94；Ｎ、6.03 実測値 Ｃ、57.08；Ｈ、6.87；Ｎ、6.04 参考例 （3S，4R）−４−（４−アミノ−２−ハイドロ
キシブチル−３−（（Ｒ）−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）アゼチジン−２−オン 821mgのハイドロキシニトリル体（実施例４で
得た）を氷酢酸８mlに溶解し、それに酸化白金42
mgを加え、水素雰囲気下５時間撹拌する。反応液
をろ過して触媒を除去した後、減圧下溶媒を留去
することにより、所望の標記化合物を得た。 参考例 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−ハイドロキシブチ
ル）−３−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）アゼチジン−２−オン 参考例により得たアミノアルコール体を５ml
の塩化メチレンに溶解し、850.7mgのパラニトロ
ベンジルオキシカルボニルクロライド及び1.02g
のジイソプロピルエチルアミンを加え、室温で終
夜撹拌する。50mlの酢酸エチルを加え、２回水洗
した後、有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾
燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をラピツド、
クロマトグラフイ−（シリカゲル；シクロヘキサ
ン：酢酸エチル＝1.10）にかけることにより所望
の物質613mgを油状でえた。 TLC（酢酸エチル）：Rf＝0.5 NMR（CDCl3）δ：0.08（6H、ｓ）、0.88（9H、
ｓ）、1.22（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.4〜2.1（4H、
ｍ）、2.6〜3.0（1H、ｍ）、3.0〜4.1（5H、ｍ）、
3.9〜4.3（1H、ｍ）、5.16（2H、ｓ）、5.66（1H、
ｔ、Ｊ＝６Hz）、6.65（1H、ｓ）、7.38、7.50、
8.08、8.11（ABq） 参考例 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）−
３−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリル
オキシエチル〕−アゼチジン−２−オン 参考例により得たアミノアルコールのPNZ
体36.86mgを塩化メチレン20mlに溶解しピリジニ
ウムクロロクロメート1.12gを加え室温にて３時
間撹拌する。反応液をセライトを通してろ過した
後、塩化メチレンを加え、２回水洗し、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥する。溶媒を減圧下留去し
た後、薄層クロマトグラフイー（シリカゲル；シ
クロヘキサン：酢酸エチル＝１：２）により分離
することにより所望の化合物242.9mg（66％）を
得た。 TLC Rf＝0.6（シクロヘキサン：酢酸エチル＝
１：２） NMR（CDCl3）δ：0.07（6H、ｓ）、0.86（9H、
ｓ）、1.19（2H、ｄ、Ｊ＝5.4Hz）、2.4〜3.0（4H、
ｍ）、3.42（2H、bq、Ｊ＝６Hz）、3.7〜4.1（1H、
ｍ）、3.9〜4.4（1H、ｍ）、5.13（2H、ｓ）、5.70
（1H、bt、Ｊ＝６Hz）、6.52（ｓ、1H）7.39、
7.52、8.09、8.12（ABq） 参考例 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）−
３−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−１−（１−ハイドロキシ−１−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）
アゼチジン−２−オン 参考例で得たケトン体242.9mg
（0.4297mmol）及びｐ−ニトロベンジルグリオキ
シレートハイドレート250mgをベンゼン100mlに懸
濁し終夜加熱還流する。トリエチルアミンを１滴
加え、６時間さらに還流する溶媒を減圧下留去し
た後薄層クロマトグラフイー（ヘキサン：酢酸エ
チル：アセトン＝８：６：３）により単離精製す
ることにより標記化合物258.1mg（86％）を得た。 Rf（ヘキサン：酢酸エチル：アセトン＝８：６：
３）0.55及び0.50 Rf値0.5のものに関してNMR（CDCl3）δ：0.02
（3H、ｓ）、0.05（3H、ｓ）、0.84（9H、ｓ）、
1.22（3H、ｄ，Ｊ＝6.4Hz）、1.7〜2.1（1H、ｍ）、
2.4〜3.2（4H、ｍ）、3.2〜4.5（5H、ｍ）、5.0〜
6.0（6H、ｍ）、7.2〜7.8（4H、ｍ）、7.9〜8.5
（4H、ｍ）…… 参考例 １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−１
−［〔3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）
−31−（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）エチル）〕アゼチジン−２−オン−
１−イル］メチレントリフエニルホスホラン 参考例により得たハイドロキシケトン体
258.1mg（異性体混合物）（0.3677mmol）を無水
テトラヒドロフラン22mlに溶解し−30℃まで冷却
する。これに0.064mlのルチジン及び0.04mlの塩
化チオニルを加え、−30℃において１時間撹拌し、
TLCによりクロル体の生成を確認する。セライ
トを通してろ過した後、溶媒を留去する。クロル
体をジオキサン14mlに溶解し、トリフエニルホス
フイン192mgルチジン0.09mlを加え室温で終夜撹
拌する。酢酸エチルを加え、２回水洗し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥する。溶媒を減圧下留
去し、薄層クロマトグラフイー（ヘキサン：酢酸
エチル：アセトン＝10：６：３）にて単離精製す
ることにより、油状の標記化合物93.5mg（27％）
を得た。 （Rf＝0.4） 参考例 １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−１
−［〔3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）
−３−（（Ｒ）−１−ハイドロキシエチル）〕アゼ
チジン−２−オン−１−イル］メチレントリフ
エニルホスホラン 参考例で得たホスホラン93.5mg
（0.09884mmol）を５mlのメタノールに溶解し、
氷冷する。これに10％塩酸４mlを加え、氷冷下20
分、室温で１時間撹拌する。反応混合物を再び氷
冷し、飽和炭酸水素ナトリウム液37mlを加えて、
10分間撹拌し、酢酸エチルにて３回抽出する。有
機層の無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶
媒を留去（減圧下）する。残渣をシリカゲル薄層
クロマトグラフイー（酢酸エチル）にて分離し、
Rf＝0.1のものを単離することにより標記化合物
52.5mg（64％）を得た。 NMR（CDCl3）δ：1.09（3H、ｄ、Ｊ＝6.2Hz）、
1.5〜2.2（4H、ｍ）、2.2〜4.2（5H、ｍ）、5.17
（4H、ｓ）、5.1〜5.9（1H、bs）、7.0〜8.1（19H、
ｍ）、8.0〜8.5（4H、ｍ）、 参考例 10 （5R，6s）−６（（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル−３−（２−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノエチル）−７
−オキソ−１−アザビシクロ〔３，２，０〕ヘ
プタ−２−エン 参考例８で得られたアゼチジノン（165.8mg）
を乾燥ベンゼン（80ml）に溶かし、これにハイド
ロキノン（５mg）を加える。この溶液を５時間加
熱還流する。溶媒を留去し得られる油状物をロー
バーカラム（S160、シクロヘキサン−酢酸エチル
２：３）で分離精製し油状物として表記化合物
（85mg、収率73％）が得られた。 Rf値（シクロヘキサン−酢酸エチル２：３）0.4 NMR（CDCl3）δ：0.09（6H、ｓ）、0.86（9H、
ｓ）、1.23（3H、ｄ、Ｊ＝6.6Hz）、2.4〜3.7（7H、
ｍ）、3.8〜4.5（2H、ｍ）、4.8〜5.4（1H、ｍ）、
5.08（2H、ｓ）、5.1〜5.4（2H、ｍ）、7.2〜7.8
（4H、ｍ）、7.8〜8.4（4H、ｍ）、 IR（neat）：3380cm-1、1765cm-1、1715cm-1 元素分析 計算値 Ｃ57.47 Ｈ6.03 Ｎ8.38 実測値 57.66 6.15 ８，81 参考例 11 （3S，4R）−３−（（Ｒ）−１−ハイドロキシエ
チル）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−２−オキソブチル）アゼチジ
ン−２−オン 参考例６で得られたアゼチジノン（248.9mg、
0.5049mmol）のアセトニトリル（６ml）溶液を
氷浴中冷却する。これに、三フツ化ボランエーテ
ル錯体（0.12ml）を加え、氷浴中18分間撹拌す
る。あらかじめ氷冷しておいて炭酸水素ナトリウ
ム水を加え、酢酸エチルにて抽出する。抽出液を
合わせ、水洗を２回する。無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した後ローバーカラム（塩化メチレン−
エタノール10：１）にて分離精製することにより
所望の表記化合物の白色結晶（165.5mg、90％）
を得た。 m.p.115〜116℃ Rf値（酢酸エチル）0.1 IR（KBr）：3340cm-1、175cm-1、1700cm-1、1680
cm-1 NMR（重アセトン）δ：1.18（3H、ｄ、Ｊ＝6.2
Hz）、2.5〜3.0（4H、ｍ）、2.89（2H、ｄ、Ｊ＝
6.2Hz）、３，１〜3.6（2H、ｍ）、3.6〜4.2（3H、
ｍ）、5.14（2H、ｓ）、7.3〜7.8（2H、ｍ）、8.0〜
8.4（2H、ｍ） 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ (%) 計算値 53.75 5.70 11.06 実測値 53.69 5.54 11.07 参考例 12 （3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）−
３−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル）アゼチジン−２−オン 参考例11で得られたハイドロキシアゼチジノン
（471.5mg、1.2918mmol）を塩化メチレン（３ml）
に溶解し、氷浴中冷却する。これに４−ジメチル
アミノピリジン（315.9mg）を加え、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルクロライド（1.39g、
6.4501mmol）の塩化メチレン溶液（５ml）を６
時間30分かけて滴下する。さらに、30分撹拌した
後、反応液を水洗し、希塩酸、希重ソウ水で洗浄
する。無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後ロー
バーカラム（酢酸エチル）により分離することに
より油状の表記化合物（465.2mg、0.8551mmol）
を得た。 NMR（CDCl3）δ：1.42（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
2.3〜4.1（9H、ｍ）、5.10（2H、ｓ）、5.18（2H、
ｓ）、4.2〜4.7（1H、ｍ）、6.50（1H、bs）、7.2〜
7.7（4H、ｍ）、7.9〜8.4（4H、ｍ） 参考例 13 （3S，4R）−１−（１−ハイドロキシ−１−ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）−
４−（４−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−２−オキソブチル）−３−（（Ｒ）−１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）アゼチジン−２−オン ｐ−ニトロベンジルグリオキシレートモノハイ
ドレート（387.9mg、1.7088mmol）を100mlのベ
ンゼンに溶解し、共沸により水を除く。これに参
考例12で得られたｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシエチル体（465mg）のベンゼン（５
ml）溶液を加え、トリエチルアミンを１滴加え
る。40℃にて５分間撹拌した後溶媒を留去し、ロ
ーバーカラム（塩化メチレン−テトラヒドロフラ
ン７：１）にて分離精製することにより、所望の
表記化合物のジアステレオマー２つI.208mg（32
％）および．322.1mg（49％）を得た。 Rf値（CH2Cl2−THF7：１）Ｉ：0.4、：0.3 Ｉ：NMR（CDCL3）、δ：1.39（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.2〜4.7（11H、ｍ）、5.10（2H、ｓ）、5.17
（2H、ｓ）、5.21（2H、ｓ）、4.7〜5.4（1H、ｍ）、
7.2〜7.6（6H、ｍ）、7.9〜8.3（6H、ｍ）、 ：NMR（CDCL3）、δ：1.39（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.4〜4.6（11H、ｍ）、5.10（2H、ｓ）、4.7
〜5.8（3H、ｍ）、5.17（2H、ｓ）、7.1〜7.8（6H、
ｍ）、7.8〜8.4（6H、ｍ） 参考例 14 １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−１
−〔（3S，4R）−４−（４−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２−オキソブチル）
−３−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル）アゼチジン−２−オ
ン−１−イル〕メチレントリフエニルホスホラ
ン 参考例13で得られたハイドロキシ体（530mg）
をテトラヒドロフラン（７ml）に溶解し、−20℃
に冷却する。これにルチジン0.14ml塩化チオニル
0.07mlを加え30分撹拌する。生成した白色沈澱を
セライトろ過し、ろ液を濃縮することによりクロ
ル体を得る。 このクロル体のジオキサン（７ml）溶液にトリ
フエニルホスフイン（540.6mg、2.0633mmol）及
びルチジン（0.25ml）を加え、室温で３時間40℃
にて13時間撹拌する。室温まで反応液を冷却し、
酢酸エチルを加え２回水洗する。無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、溶媒を留去した後、ローバー
カラム（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：10）
にて分離精製することにより所望の表記化合物
（481mg、69％、oil）を得た。 Rf値；（酢酸エチル−シクロヘキサン10：１）0.3 NMR（CDCl3）δ：1.12（3H、ｄ、Ｊ＝6.2Hz）、
2.3〜3.0（5H、ｍ）、3.0〜3.7（4H、ｍ）、4.5〜
4.9（1H、ｍ）、4.9〜6.3（6H、ｍ）、7.1〜8.0
（21H、ｍ）、7.9〜8.3（6H、ｍ） 参考例 15 （5R，6S）−２−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−３−（２−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノエチル）−６−（（Ｒ）−１−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）−７−オキソ−１−アザビシクロ〔３，
２，０〕−ヘプタ−２−エン 参考例14で得られたホスホラン（503mg、
0.4973mmol）を無水ベンゼン（20ml）に溶解し、
触媒量のハイドロキノンを加える。反応液を５時
間加熱還流し、室温まで冷却して溶媒を減圧下留
去する。残渣をラピツドクロマト（シリカゲル、
塩化メチレン−エーテル20：１）にて分離精製す
ることにより所望の表記化合物（194.5mg、54％）
を得た。 Rf値（塩化メチレン−エーテル20：１）0.2 NMR（CDCl3）δ：1.46（3H、ｄ、Ｊ＝6.2Hz）、
2.3〜3.7（7H、ｍ）、3.7〜4.5（1H、ｍ）、4.7〜
5.4（8H、ｍ）、7.1〜7.8（6H、ｍ）、7.8〜8.4
（6H、ｍ） IR（neat）：3400cm-1、1775cm-1、1745cm-1、1720
cm-1 参考例 16 （5R，6S）−３−（２−アミノエチル）−６−
（（Ｒ）−１−ハイドロキシエチル）−７−キキソ
−１−アザビシクロ〔３，２，０〕ヘプタ−２
−エン−２−カルボン酸 参考例15で得られた１−アザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプテン（194.5mg、0.270mmol）をテ
トラヒドロフラン（3.8ml）に溶解し、リン酸バ
ツフアー（PH７、3.8ml）を加える。これに10％
パラジウム−活性炭（583.4mg）を加え、水素雰
囲気下２時間撹拌する。セライトを通して触媒を
除去した後、酢酸エチルにて洗浄し、凍結乾燥を
する。残渣を水に溶解し、HP−20のクロマトに
て分離（水）を精製することにより所望の表記化
合物（14.9mg、23％）を得た。 UVmax（H2O）：267nm 参考例 17 （5R，6S）−６−（（Ｒ）−１−ハイドロキシエ
チル）−３−（２−ホルムイミドイルアミノエチ
ル）−７−オキソ−１−アザビシクロ〔３，２，
０〕ヘプタ−２−エン−２−カルボン酸 参考例16で得たアザビシクロヘプテン体（10
mg、0.04167mmol）をPH７のリン酸バツフアーに
溶解し、氷冷下撹拌する。この溶液を10％
NaOHにてPH8.5とし、PH8.2〜8.8を保もちながら
メチルホルムイミデート及び10％NaOH水を加
える。添加終了後PH8.5にて10分間撹拌し、1N塩
酸でPH7.0とする。この溶液をHP−20のカラムに
よりクロマトで分離精製することにより所望の表
記化合物（７mg、63％）を得た。 UVmax（H2O）：247nm
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（Ｉ） （式中、R1は水素原子、低級アルキル基、アシ
ルアミノ基、アルキルアミノ基、アラルキル基ま
たは保護されたヒドロキシエチル基を示す。）を
有する４−置換アゼチジノン誘導体。 ２ 一般式（） （式中、R1は水素原子、低級アルキル基、アシ
ルアミノ基、アルキルアミノ基、アラルキル基ま
たは保護されたヒドロキシエチル基を、R2は低
級アルキル基、アリール基、アラルキル基または
アリールオキシメチル基を示す。）を有する化合
物に、一般式（） Sn（CH2CH＝CH2）R3 3 （） （式中、R3は低級アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基またはアリル基を示す。）を有する化
合物を反応させ、一般式（） （式中、R1は前述したものと同意義を示す。）を
有する化合物とし、これに一般式（Ｖ） R4CO3H （Ｖ） （式中、R4は低級アルキル基、アリール基また
はトリハロゲノメチル基を示す。）を有する化合
物を反応させ一般式（） （式中、R1は前述したものと同意義を示す。）を
有する化合物とし、ついで化合物（）に一般式
（） Ｍ・CN （） （式中、Ｍはアルカリ金属原子を示す。）を有す
る化合物を反応させ一般式（Ｉ） （式中、R1は前述したものと同意義を示す。）を
有する化合物へ導くことを特徴とするアゼチジノ
ン誘導体（Ｉ）の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57206721A JPS5995264A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | ４−置換アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57206721A JPS5995264A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | ４−置換アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5995264A JPS5995264A (ja) | 1984-06-01 |
| JPH0256349B2 true JPH0256349B2 (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=16528002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57206721A Granted JPS5995264A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | ４−置換アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5995264A (ja) |
-
1982
- 1982-11-24 JP JP57206721A patent/JPS5995264A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5995264A (ja) | 1984-06-01 |
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