JPS6334723A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6334723A JPS6334723A JP61178544A JP17854486A JPS6334723A JP S6334723 A JPS6334723 A JP S6334723A JP 61178544 A JP61178544 A JP 61178544A JP 17854486 A JP17854486 A JP 17854486A JP S6334723 A JPS6334723 A JP S6334723A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- recording medium
- magnetic recording
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、コンピューター等の外部免税装置に用いられ
る、磁気ディスクに関するものであり、優れた磁気的お
よび機械的特性を有する合金薄膜を用いた磁気ディスク
に係るものである。
る、磁気ディスクに関するものであり、優れた磁気的お
よび機械的特性を有する合金薄膜を用いた磁気ディスク
に係るものである。
近年、磁気記録媒体として広く用いられているものはＴ
Ｆｅｗ Ｏｘ ＊ Ｃｏ−γ−Ｆｅｚｅｓ等の粒子
を塗布した、いわゆる塗布型ディスクである。しかし、
これらの塗布型ディスクでは、その磁性層の厚さを０
、２ ｔｔｍ以下にすることは技術的に困難であシ、そ
のため記録密度にも限界がある。
Ｆｅｗ Ｏｘ ＊ Ｃｏ−γ−Ｆｅｚｅｓ等の粒子
を塗布した、いわゆる塗布型ディスクである。しかし、
これらの塗布型ディスクでは、その磁性層の厚さを０
、２ ｔｔｍ以下にすることは技術的に困難であシ、そ
のため記録密度にも限界がある。
このような状況から、高密度記録用の新しい磁気記録媒
体としてメツキ法あるいはスパッター法によシ作成した
合金薄膜ディスクが提案され、すでに実用化されている
。
体としてメツキ法あるいはスパッター法によシ作成した
合金薄膜ディスクが提案され、すでに実用化されている
。
しかしながら、これら金属薄膜ディスクは、酸化物塗布
型ディスクと比べ、その信頼性においてやや問題がある
。すなわち、薄膜のため機械強度が弱く、ヘッドとの衝
突等によシ、ヘッドの破壊あるいは、媒体が傷ついたシ
し、コンタクト、スタート、ストップ（Ｃ３Ｓ）特性の
点で劣る。また、磁気特性は優れているが、薄膜のため
、腐蝕しゃすく、湿度の高い雰囲気で使用すると信頼性
に問題が生じたシした。
型ディスクと比べ、その信頼性においてやや問題がある
。すなわち、薄膜のため機械強度が弱く、ヘッドとの衝
突等によシ、ヘッドの破壊あるいは、媒体が傷ついたシ
し、コンタクト、スタート、ストップ（Ｃ３Ｓ）特性の
点で劣る。また、磁気特性は優れているが、薄膜のため
、腐蝕しゃすく、湿度の高い雰囲気で使用すると信頼性
に問題が生じたシした。
本発明は、上記実状に鑑みてなされたものであり、スパ
ッター法によシ耐食性および０８８％性の優れた磁気デ
ィスクを提供するものである。
ッター法によシ耐食性および０８８％性の優れた磁気デ
ィスクを提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
この目的を達成するために、本発明の磁気ディスクでは
、基板としてＭｇ２〜５ａｔ％を含むＡｌ合金を用い、
その表面を陽極酸化させ、その厚さが２〜２０μｍであ
シそれを封孔処理しアルマイトの穴を埋めその表面を同
心円状にテクスチャー加工し、磁性膜としてはスパッタ
ー東によりＮ１１５〜３０ａｔ％、Ｃｒ１〜１５ａｔ％
残部Ｃｏよりなる組成の薄膜をつけ、その厚さは２００
〜２０００Ｘ好ましくは２００〜１０００Ａを有し、か
つ保護膜としてカーボンを１００〜７００Ａつけさらに
そのカーボン保護膜上に、液体潤滑剤としてパーフロロ
アルキルポリエーテルあるいはその誘導体を６０〜２０
０Ｘ塗布したものである。
、基板としてＭｇ２〜５ａｔ％を含むＡｌ合金を用い、
その表面を陽極酸化させ、その厚さが２〜２０μｍであ
シそれを封孔処理しアルマイトの穴を埋めその表面を同
心円状にテクスチャー加工し、磁性膜としてはスパッタ
ー東によりＮ１１５〜３０ａｔ％、Ｃｒ１〜１５ａｔ％
残部Ｃｏよりなる組成の薄膜をつけ、その厚さは２００
〜２０００Ｘ好ましくは２００〜１０００Ａを有し、か
つ保護膜としてカーボンを１００〜７００Ａつけさらに
そのカーボン保護膜上に、液体潤滑剤としてパーフロロ
アルキルポリエーテルあるいはその誘導体を６０〜２０
０Ｘ塗布したものである。
本発明で陽極酸化膜を用いその厚さを２〜２０μとした
理由は、これ以下では、表面がやわらかくヘッドが媒体
に接触するさい基板が変形してしまい、出力のバラツキ
を生じやすいと同時に、ヘッドが当ってクラッシュを起
しやすいためであシ、２０μ以上では陽極酸化に時間が
かが９実用的でない。封孔処理をすることにより表面の
凹凸を少くし出力のバラツキを小さくする。またｔｏｘ
ｔｕｒｅ加工をすることにより、ヘッドが媒体に吸着す
ることを避けることができる。そして、磁性膜の組成を
上記に設定した理由は、磁気特性と耐食性によるもので
ある。すなわち、Ｎｉが１５ａｔ％以下では角型比が劣
るため出力は小さくなり３０ａｔ％を越えると、飽和磁
化の値が劣化し、出力は低下する。また、Ｃｒｌａｔ％
以下では耐食性が劣り腐食しやすくなり、１５ ａｔ％
以上では飽和磁化の値が小さくなシ出力の低下をきたす
。またカーボン保護膜の厚さが１００Ａ以下ではヘッド
との摩擦により、摩耗しＣ８５Ｗ性が劣る。７００Ｘ以
上ではヘッドと媒体の間隔が離れすぎて出力は低下する
。
理由は、これ以下では、表面がやわらかくヘッドが媒体
に接触するさい基板が変形してしまい、出力のバラツキ
を生じやすいと同時に、ヘッドが当ってクラッシュを起
しやすいためであシ、２０μ以上では陽極酸化に時間が
かが９実用的でない。封孔処理をすることにより表面の
凹凸を少くし出力のバラツキを小さくする。またｔｏｘ
ｔｕｒｅ加工をすることにより、ヘッドが媒体に吸着す
ることを避けることができる。そして、磁性膜の組成を
上記に設定した理由は、磁気特性と耐食性によるもので
ある。すなわち、Ｎｉが１５ａｔ％以下では角型比が劣
るため出力は小さくなり３０ａｔ％を越えると、飽和磁
化の値が劣化し、出力は低下する。また、Ｃｒｌａｔ％
以下では耐食性が劣り腐食しやすくなり、１５ ａｔ％
以上では飽和磁化の値が小さくなシ出力の低下をきたす
。またカーボン保護膜の厚さが１００Ａ以下ではヘッド
との摩擦により、摩耗しＣ８５Ｗ性が劣る。７００Ｘ以
上ではヘッドと媒体の間隔が離れすぎて出力は低下する
。
そして液体潤滑剤を塗布することによりＣ８Ｓ特性は向
上する。特に膜厚がＦＴＩＲで測定し３０Ｘ以上で効果
が著しい、７ｏｏｉ以上では液体であるためヘッドの吸
着を起しやすくなる。そして、液体潤滑剤としてはパー
フロロアルキルポリエーテルがあるいはその誘導体が最
も効果がある。
上する。特に膜厚がＦＴＩＲで測定し３０Ｘ以上で効果
が著しい、７ｏｏｉ以上では液体であるためヘッドの吸
着を起しやすくなる。そして、液体潤滑剤としてはパー
フロロアルキルポリエーテルがあるいはその誘導体が最
も効果がある。
以下実施例によって説明する。
Ａｌ基板を切削、研磨後アルマイト処理した。このとき
、溶としてはクローム酸を用い、その厚さを１５μｍと
した。このアルマイトの孔をＮｉＯで封孔処理し、孔を
埋めた。次に、この封孔された基板を、テクスチャー加
工をした。深さは最高で０．５μである。次にＮ中にて
Ｎｔ ２０ ａｔ％＊ Ｃｒ ７ ａｔ％。
、溶としてはクローム酸を用い、その厚さを１５μｍと
した。このアルマイトの孔をＮｉＯで封孔処理し、孔を
埋めた。次に、この封孔された基板を、テクスチャー加
工をした。深さは最高で０．５μである。次にＮ中にて
Ｎｔ ２０ ａｔ％＊ Ｃｒ ７ ａｔ％。
残部Ｃｏの磁性膜をスパッターで製膜した。膜厚は７０
０Ｘである。さらに磁性膜上にＣ保護膜を２０ＯＡスパ
ツターでつけた後、真空中で６６０℃で熱、処理をした
。次にＣ保護膜上に、パーフロロアルキルポリエーテル
をフレオンで希しやくし、スピンコード法で塗布した。
０Ｘである。さらに磁性膜上にＣ保護膜を２０ＯＡスパ
ツターでつけた後、真空中で６６０℃で熱、処理をした
。次にＣ保護膜上に、パーフロロアルキルポリエーテル
をフレオンで希しやくし、スピンコード法で塗布した。
厚さは１ｏｏｉつけたＯ
このようにして作成した磁気ディスクのＣ８Ｓテストを
した。その結果Ｃ８Ｓは６５に回を経てもヘッド、ディ
スクともに何ら損傷はなく、従来金属薄膜ディスクの１
０，０００〜１５ 、、０００回と比較してＣ８Ｓ％性
が優れていることがわかる。また２ Ｆ ２ 、５ＭＨ
ｚの出力は０ 、７６ ｍＶでオーバライ） −２９ｄ
Ｂ 、 Ｓ／Ｎ ３２ｄＢであった。
した。その結果Ｃ８Ｓは６５に回を経てもヘッド、ディ
スクともに何ら損傷はなく、従来金属薄膜ディスクの１
０，０００〜１５ 、、０００回と比較してＣ８Ｓ％性
が優れていることがわかる。また２ Ｆ ２ 、５ＭＨ
ｚの出力は０ 、７６ ｍＶでオーバライ） −２９ｄ
Ｂ 、 Ｓ／Ｎ ３２ｄＢであった。
次に耐食テストとして相対湿度８５％、８０℃で２００
時間保持して特性を測定した。出力は０．７５ｍＶ、オ
ーバライド−２９ｄＢ 、 Ｓ／Ｎ ３２ｄＢエラーの
増加はなかりた０ 〔発明の効果〕
時間保持して特性を測定した。出力は０．７５ｍＶ、オ
ーバライド−２９ｄＢ 、 Ｓ／Ｎ ３２ｄＢエラーの
増加はなかりた０ 〔発明の効果〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）Ａｌを主成分とする基板の表面を陽極酸化し、アル
マイト処理した後アルマイト表面を封孔処理し、基板を
研摩し必要に応じて、テクスチャー加工をし、その上に
組成がＮｉ１５〜３０ａｔ％、Ｃｒ１〜１５ａｔ％、残
部Ｃｏからなる磁性膜をつけ、２００〜２０００Å付着
させさらにその上に、保護膜をしてカーボンを５０〜５
００Å蒸着させさらに液体潤滑剤を塗布したことを特徴
とする磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項において、Ａｌ基板の成分は
Ｍｇ２〜５ｗｔ％、残部実質ＡｌよりなるＡｌ−Ｍｇ合
金であることを特徴とする磁気記録媒体。 ３）特許請求の範囲第１項において、薄膜の生成方法を
スパッター法を用いることを特徴とする磁気記録媒体。 ４）特許請求の範囲第１項において、保護膜のカーボン
はスパッターによって作成されたものであることを特徴
とする磁気記録媒体。 ５）特許請求の範囲第１項において、液体潤滑剤として
はパーフロロアルキルポリエーテルあるいはその誘導体
を用いていることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61178544A JPS6334723A (ja) | 1986-07-29 | 1986-07-29 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61178544A JPS6334723A (ja) | 1986-07-29 | 1986-07-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6334723A true JPS6334723A (ja) | 1988-02-15 |
Family
ID=16050334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61178544A Pending JPS6334723A (ja) | 1986-07-29 | 1986-07-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6334723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5108781A (en) * | 1990-03-12 | 1992-04-28 | Magnetic Peripherals Inc. | Process for manufacturing selectively textured magnetic recording media |
| US5328740A (en) * | 1990-02-06 | 1994-07-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and method for processing the surface |
-
1986
- 1986-07-29 JP JP61178544A patent/JPS6334723A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5328740A (en) * | 1990-02-06 | 1994-07-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and method for processing the surface |
| US5427833A (en) * | 1990-02-06 | 1995-06-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and method for processing the surface |
| US5108781A (en) * | 1990-03-12 | 1992-04-28 | Magnetic Peripherals Inc. | Process for manufacturing selectively textured magnetic recording media |
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