JPS6334937A - フイルムキヤリヤの製造方法 - Google Patents

フイルムキヤリヤの製造方法

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Publication number
JPS6334937A
JPS6334937A JP61179528A JP17952886A JPS6334937A JP S6334937 A JPS6334937 A JP S6334937A JP 61179528 A JP61179528 A JP 61179528A JP 17952886 A JP17952886 A JP 17952886A JP S6334937 A JPS6334937 A JP S6334937A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
photosensitive polyimide
film carrier
support
patterning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61179528A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Sairaku
西楽 ▲隆▼司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP61179528A priority Critical patent/JPS6334937A/ja
Publication of JPS6334937A publication Critical patent/JPS6334937A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体素子とリードフレームまたは配線回路
基板との電気接続に使用されるフィルムキャリヤの製造
方法に関するものである。
〔従来の技術〕
現在多用されている3層構造のフィルムキャリヤは、そ
の断面構造を第3図に示すように、導体リードとしての
銅箔1とポリイミド支持体2aを接着剤4によシ接着し
た構造を有している。この3層構造のものは、接着剤層
を有するため、イオン性不純物が多くなシ、リーク等の
原因となる。
また、ポリイミド支持体2亀のデバイスホール3は、金
型による打抜き加工で行なわれるため、高精度の加工が
困難であり、かつスルーホールや多層のものを製造する
ことが困難である。
これの改良型として2層構造のフィルムキャリヤも知ら
れている。このフィルムキャリヤは、その断面構造を第
4図に示すように、銅箔1とポリイミド支持体2bとを
接着剤を介せず直接接合したものであシ、その製造工程
の一例を第5図に示す。すなわち、第5図に示すように
、スリッティングした銅箔にポリイミド支持体を塗布し
、これを硬化した後、フォトエツチング法によりそれぞ
れ銅箔およびポリイミド支持体をパターンニングする方
法が採られている。この時、パターンニングにフォトエ
ツチング法を用いているので、高精度微細パターンの製
造が可能であるが、製造工程が多く、また、ポリイミド
支持体2bをヒドラジンtたはピリジン等でエツチング
することにより、デバイスホールやスプロケット等のパ
ターン加工を行なっている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、このような従来の2層構造の製造方法では、
ポリイミド支持体2bのフォトエツチングにおいて、エ
ッチャントとして化学的安定性の低いとドラジンまたは
ピリジン等を使用するので、その浴液が微量でも残存す
ると水分等の侵入により加水分解し、イオン性物質を生
成しリーク不良または腐蝕の原因となる問題点があった
本発明は上記のような問題点を解消するためになδれた
もので、その目的は、フィルムキャリヤの信頼性を高め
るとともに、製造工程の簡素化を図ったフィルムキャリ
ヤの製造方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係るフィルムキャリヤの製造方法は、銅箔に感
光性ポリイミド樹脂を塗布後、乾燥と露光および現像等
の工程によシデバイスホール、スプロケット等の部分を
パターン加工して感光性ポリイミド支持体を形成したう
え、でらに前記銅箔をフォトエツチング法によりパター
ンニングすることを特徴とするものである。
〔作用〕
本発明においては、ポリイミド支持体に感光性ポリイミ
ド樹脂を用いることによシ、この樹脂を乾燥、露光段階
すなわち硬化前にエツチング(現像)できるので、N−
メチル−2ピロリドンの如き化学的に安定なエッチャン
トを使用することが可能となる。
〔実施例〕
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
第1図は本発明の一実施例によるフィルムキャリヤの製
造方法を示す工程図で、第2図はその製造後のフィルム
キャリヤの断面構造図である。この実施例では、第1図
に示すように、まず厚ざ18μの銅箔1に、感光性ポリ
イミド支持体をロールコータ−によシ乾燥膜厚が12μ
になるよう塗布する(コーティング工程11)。次に、
この感光性ポリイミド樹脂を80℃で乾燥後、そのデバ
イスホールやスプロケット部分を選択的に露光する(工
程12)。次いで、N−メチル−2ピOIJトン等の溶
剤によシ露光していない部分の感光性ポリイミド樹脂を
浴解除去(現像)した後(エツチング工程13)、40
0℃の窒素雰囲気中で硬化を行なう(キユアリング工程
14)。以上の工程によシ感光性ポリイミド支持体2が
完成する。
次いで、このポリイミド支持体2の形成後、銅箔1のパ
ターン加工グ工程に入る。すなわち、両面に7オトレジ
ストを塗布しく工程15)、露光。
現像、さらに銅箔のエツチングによシ導体リードのパタ
ーンニングを行なう(工程16〜18)。そして、レジ
スト剥離を行なった後(工程19)、銅箔1に厚さ0.
5μの錫メツキを行なうことにより(工程20)、第2
図に示す如く、感光性ポリイミド支持体2と所定パター
ンの銅箔1を接合させた2層構造のフィルムキャリヤを
作成することができる。
このように、上記実施例によると、銅箔1に塗布するポ
リイミド支持体として感光性ポリイミド樹脂を用いるこ
とによシ、このポリイミド樹脂を硬化前にエツチングす
ることができるので、エッチャントとして従来のポリイ
ミド樹脂用のヒト2ジンまたはピリジンに代えて化学的
に安定なN−メチル−2ピロリドン等の溶剤を用いて容
易にエツチングができる。これによって、その溶液がエ
ツチング時に微量残存した場合でもリーク不良等の原因
になることはない。その結果、本実施例のフィルムキャ
リヤは、ボンディング性は従来の3層または2層構造の
ものと同等で、充分実用に耐える特性を示した。また、
感光性ポリイミド樹脂を使用することによシ、ポリイミ
ドの加工にフォトレジストが不要になり、製造プロセス
を大幅に簡素化できる利点を奏する。
彦お、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく
、フィルムキャリヤの感光性ポリイミド面にアディティ
ブプロセスにより銅配線を施したシ、するいはフィルム
キャリヤ上に感光性ポリイミド塗布、乾燥、露光および
現像等のプロセスとアディティブプロセスにより銅配線
を反復して施す多層フィルムキャリヤの製造にも同様に
適用することができる。
「発明の効果〕 以上のように本発明によるときは、ポリイミド支持体に
感光性ポリイミド樹脂を用いることによシ、そのエツチ
ングにN−メチル−2ピロリドン等の化学的に安定な溶
剤が使用できるので、イオン性不純物が大幅に減少して
リーク不良もなくフィルムキャリヤの信頼性を向上きせ
ることができるとともに、フォトエツチングプロセスの
簡素化が図れる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法の一実施例によるフィルムキャリヤ
の製造工程図、第2図は上記実施例により製造したフィ
ルムキャリヤの断面構造図、第3図は従来の3層構造の
フィルムキャリヤの断面構造図、第4図は従来の2層構
造のフィルムキャリヤの断面構造図、第5図は第4図の
フィルムキャリヤの製造工程図である。 1・・・・銅箔、2・・・・感光性ポリイミド支持体、
3・・・・デバイスホール。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)フィルムキャリヤの製造において、銅箔に感光性
    ポリイミド樹脂を塗布後、乾燥と露光および現像等の工
    程によりデバイスホール、スプロケット等の部分をパタ
    ーン加工して感光性ポリイミド支持体を形成したうえ、
    さらに前記銅箔をフォトエッチング法によりパターンニ
    ングすることを特徴とするフィルムキャリヤの製造方法
  2. (2)感光性ポリイミド樹脂のエッチャントとして、N
    −メチル−2ピロリドンの如き化学的に安定な溶剤を用
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のフィ
    ルムキャリヤの製造方法。
JP61179528A 1986-07-29 1986-07-29 フイルムキヤリヤの製造方法 Pending JPS6334937A (ja)

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JP61179528A JPS6334937A (ja) 1986-07-29 1986-07-29 フイルムキヤリヤの製造方法

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JPS6334937A true JPS6334937A (ja) 1988-02-15

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JP61179528A Pending JPS6334937A (ja) 1986-07-29 1986-07-29 フイルムキヤリヤの製造方法

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JP (1) JPS6334937A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02122532A (ja) * 1988-11-01 1990-05-10 Furukawa Electric Co Ltd:The テープキャリア
JPH07235569A (ja) * 1994-02-21 1995-09-05 Hitachi Cable Ltd 2層tabテープキャリアとその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02122532A (ja) * 1988-11-01 1990-05-10 Furukawa Electric Co Ltd:The テープキャリア
JPH07235569A (ja) * 1994-02-21 1995-09-05 Hitachi Cable Ltd 2層tabテープキャリアとその製造方法

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