JPS6337064B2 - - Google Patents

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JPS6337064B2
JPS6337064B2 JP58241378A JP24137883A JPS6337064B2 JP S6337064 B2 JPS6337064 B2 JP S6337064B2 JP 58241378 A JP58241378 A JP 58241378A JP 24137883 A JP24137883 A JP 24137883A JP S6337064 B2 JPS6337064 B2 JP S6337064B2
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JP
Japan
Prior art keywords
silicon nitride
nitride ceramics
producing silicon
ceramics according
resintering
Prior art date
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Expired
Application number
JP58241378A
Other languages
English (en)
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JPS60131865A (ja
Inventor
Katsutoshi Yoneya
Hiroyasu Oota
Michasu Komatsu
Yasuhiro Itsudo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP58241378A priority Critical patent/JPS60131865A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕 本発明は窒化ケイ素セラミツクスの製造方法に
関する。 〔発明の技術的背景〕 窒化ケイ素を主成分としてなる焼結体(窒化ケ
イ素セラミツクス)は、1900℃程度の高温にまで
耐えるという優れた耐熱性を有すると共に、熱膨
張係数が低く、優れた耐熱衝撃性も備えている。
こうした窒化ケイ素セラミツクスは、デイーゼル
エンジン、ガスタービン等の高温時に高強度が要
求される構造部品や耐食、耐摩耗部品への応用が
試みられている。 ところで、窒化ケイ素セラミツクスの製造方法
としては、従来より窒化ケイ素が単独では焼結し
にくいために、これに希土類元素酸化物やマグネ
シア等の助剤を添加物として加え、常圧焼結、ホ
ツトプレス、HIPなどの緻密化焼結を行なう方法
が採用されている。 〔背景技術の問題点〕 窒化ケイ素セラミツクスを構造材料として用い
る場合は、常温及び高温での強度もさることなが
ら、高度な均質化が要求される。しかしながら、
上述した従来方法では高度に均質化した窒化ケイ
素セラミツクスを製造することは至難であつた。 〔発明の目的〕 本発明は高耐熱性、高強度性はもとより、強度
が均質化された窒化ケイ素セラミツクスの製造方
法を提供しようとするものである。 〔発明の概要〕 本発明者は以下に説明する研究により高度に均
質化された窒化ケイ素セラミツクスを製造し得る
方法を開発した。 α窒化ケイ素(α―Si3N4)―希土類元素酸化
物系を焼結すると、α→βの変換時に結晶粒が長
柱状に成長して強度が向上することが知られてい
る。しかしながら、かかる結晶粒の成長において
アスペクト比を制御することは大変難しく、強度
は特に長手方向の結晶粒径で決定されるので、必
然的にばらつきが生じる。 このようなことから、本発明者らはα―Si3N4
と希土類元素酸化物系の混合物を仮焼してα→β
の変換を行なつて長柱状に結晶粒を成長させた
後、この仮焼物を粉砕してアスペクト比を揃える
ことを行なつた。しかしながら、アスペクト比を
単に揃えた仮焼粉末を焼結してもかならずしも高
度に均質化された窒化ケイ素セラミツクスを得る
ことはできなかつた。 そこで、本発明者らは仮焼物の粉砕物について
粒成長を鋭意検討した結果、仮焼時のα/βの比
率が顕著に影響することを究明し、これに基づい
てα/βの比率を1〜0.1に規定し、これを粉砕
した粉末を用いて再焼結を行なつたところ、強度
のばらつきのない高均質な窒化ケイ素セラミツク
スが得られることを見い出した。 以下、本発明の製造方法を詳細に説明する。 まず、α含有率が80%以上、好ましくは85%以
上の窒化ケイ素粉末を用意する。この窒化ケイ素
粉末は平均粒径が2μm以下、好ましくは0.1〜
1μmのものを選ぶことが望ましい。つづいて、こ
の窒化ケイ素粉末に添加物を加えて原料粉末を調
製する。添加物としては、希土類元素酸化物単
独、或いは希土類元素酸化物とアルミナ、マグネ
シア、窒化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、
酸化ジルコニウム及び炭化モリブデンから選ばれ
る少なくとも1種との混合物等が用いられる。こ
うした添加物の窒化シリコン粉末への配合量は15
重量%以下、特に前記混合物を用いる場合は希土
類元素酸化物の量を8重量%以下にすることが好
ましい。なお、添加物の粒径は1μm以下のものを
用いればよい。 次いで、前記原料粉末を仮焼してα/β比率を
1〜0.1にまで変換する。仮焼によるα/β比率
を限定した理由はその比率が1を越えると、再焼
結に際し、残存したα―Si3N4のβへの変換によ
つて長柱状粒成長が生じ易くなり、強度のばらつ
きが大きくなる。かといつて、その比率を0.1未
満にすると、得られた窒化ケイ素セラミツクスの
強度低下を招く。なお、仮焼条件は窒素気流中、
1600〜1850℃、好ましくは1700〜1800℃に設定す
ることが望ましい。仮焼時の温度を1600℃未満に
すると、α―Si3N4からβ―Si3N4への変換が遅
く、粒成長も遅くなり、かといつて1850℃を越え
ると、Si3N4が分解し始じめる。 次いで、前記仮焼物を粉砕する。この時の粒径
は1〜50μmにすることが望ましい。この理由は
粉砕粉末の粒径を1μm未満にすると、アスペクト
比が小さくなつて強度向上が難しくなり、かとい
つてその粒径が50μmを越えると、欠陥が大きく
なつて強度低下を招き易くなる。 次いで、仮焼物の粉砕粉末を用いて常圧焼結或
いはホツトプレスを行なつて窒化ケイ素セラミツ
クスを製造する。この再焼結に際しては1700〜
1820℃の温度下にて行なうことが好ましく、1700
℃で未満では焼結が十分に進まず、一方1820℃を
越えると、Si3N4の分解が起こり始じめる。な
お、再焼結としてHIPや雰囲気加圧を採用する場
合は、更に高温側での処理が可能となる。 〔発明の実施例〕 次に、本発明の実施例を説明する。 実施例 1 まず、平均粒径1.0μm、α含有率92%のSi3N4
粉末92重量%と平均粒径0.9μmのY2O3粉末5重
量%と平均粒径0.3μmのAl2O3粉末3重量%とを
混合して原料粉末を調製した。つづいで、この原
料粉末を窒素気流中で1700℃の温度にて30分間仮
焼した。この仮焼物はα/βの比率が0.8のもの
であつた。次いで、仮焼物を平均粒径5.8μmにま
で粉砕した後、この粉砕粉末を1780℃、300Kg/
cm2の条件で90分間ホツトプレスした窒化ケイ素セ
ラミツクスを製造した。 得られた窒化ケイ素セラミツクスは密度が3.24
g/c.c.であつた。 また、窒化ケイ素セラミツクスを3×4×36mm
の寸法に切り出し、この試験片について3点曲げ
強度(σ),(m)を測定したところ、σRT=85
Kg/mm2、ワイブル係数(m)=21で、かつσ1200
82Kg/mm2、m=27と極めて高強度で、高均質性の
ものであることがわかつた。 実施例 2 実施例1と同様な原料粉末を温度条件を変えて
仮焼しα/βの比率が1,0.6,0.4,0.2,0.1の
仮焼物を作製した後、これら仮焼物を実施例1と
同様な処理を施して5種の窒化ケイ素セラミツク
スを製造した。 得られたセラミツクスの3点曲げ強度を測定
し、その結果を下記表に示した。
〔発明の効果〕
以上詳述した如く、本発明によれば高耐熱性、
高強度性はもとより、強度が均質化されたデイー
ゼルエンジン、ガスタービン等の構造材料として
有効な窒化ケイ素セラミツクスの製造方法を提供
できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 窒化ケイ素―添加物系の焼結体からなる窒化
    ケイ素セラミツクスの製造において、α含有率が
    80%以上の窒化ケイ素に添加物を混合する工程
    と、この混合物を仮焼してα/β比率を1〜0.1
    にまで変換する工程と、この仮焼物を粉砕した
    後、再焼結する工程とを具備したことを特徴とす
    る窒化ケイ素セラミツクスの製造方法。 2 添加物が希土類元素酸化物であることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の窒化ケイ素セ
    ラミツクスの製造方法。 3 添加物が希土類元素酸化物と、アルミナ、マ
    グネシア、窒化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタ
    ン、酸化ジルコニウム、及び炭化モリブデンから
    選ばれる少なくとも1種との混合物であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の窒化ケイ
    素セラミツクスの製造方法。 4 仮焼を1600〜1800℃の温度の窒素気流中で行
    なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の窒化ケイ素セラミツクスの製造方法。 5 仮焼物の粉砕により粒径を1〜20μmとする
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の窒
    化ケイ素セラミツクスの製造方法。 6 再焼結が常圧焼結であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の窒化ケイ素セラミツク
    スの製造方法。 7 再焼結がホツトプレスであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の窒化ケイ素セラミ
    ツクスの製造方法。
JP58241378A 1983-12-21 1983-12-21 窒化ケイ素セラミツクスの製造方法 Granted JPS60131865A (ja)

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