JPS6338340B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6338340B2 JPS6338340B2 JP60118759A JP11875985A JPS6338340B2 JP S6338340 B2 JPS6338340 B2 JP S6338340B2 JP 60118759 A JP60118759 A JP 60118759A JP 11875985 A JP11875985 A JP 11875985A JP S6338340 B2 JPS6338340 B2 JP S6338340B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- diasmonate
- cis
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 6-substituted tetrahydroindanone Chemical class 0.000 claims description 31
- BZKFMUIJRXWWQK-UHFFFAOYSA-N Cyclopentenone Chemical compound O=C1CCC=C1 BZKFMUIJRXWWQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 42
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 25
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 19
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- BGTOWKSIORTVQH-HOSYLAQJSA-N cyclopentanone Chemical class O=[13C]1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-HOSYLAQJSA-N 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- XCCYSLQYQQSNAN-UHFFFAOYSA-N 1-buta-1,3-dien-2-yloxybutane Chemical compound CCCCOC(=C)C=C XCCYSLQYQQSNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZTUUICGWFQIU-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4,5,6-hexahydroinden-1-one Chemical class C1CCC=C2C(=O)CCC21 JRZTUUICGWFQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKKSFXOEWMZVTO-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxybuta-1,3-diene Chemical compound CCOC(=C)C=C NKKSFXOEWMZVTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYGKSUOGJYYSOI-UHFFFAOYSA-N 2-methoxybuta-1,3-diene Chemical compound COC(=C)C=C LYGKSUOGJYYSOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical class C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- UQGOYQLRRBTVFM-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienoxy(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OC=CC=C UQGOYQLRRBTVFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCAXBFHXSEWJT-UHFFFAOYSA-N 1-buta-1,3-dienoxybutane Chemical compound CCCCOC=CC=C LNCAXBFHXSEWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGSKWRSFUOOZPU-UHFFFAOYSA-N 2-buta-1,3-dien-2-yloxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)OC(=C)C=C DGSKWRSFUOOZPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZFKPVYTPYYLDF-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxybuta-1,3-diene Chemical compound CC(C)OC(=C)C=C YZFKPVYTPYYLDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWKQWDPOHYXZJV-UHFFFAOYSA-N C(CC)[PH4] Chemical compound C(CC)[PH4] RWKQWDPOHYXZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 1
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- JRSISBAJIQOWPZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienoxysilane Chemical compound [SiH3]OC=CC=C JRSISBAJIQOWPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclo-pentanone Natural products O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000006345 epimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N lithium;diethylazanide Chemical compound [Li+].CC[N-]CC AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- WURFKUQACINBSI-UHFFFAOYSA-M ozonide Chemical compound [O]O[O-] WURFKUQACINBSI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012450 pharmaceutical intermediate Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は香料及び医薬品製造中間体、とくに香
料分野において有用なジヤスモン酸メチルの製造
中間体として注目される6−置換テトラヒドロイ
ンダノン及びそれらの製法に関する。
料分野において有用なジヤスモン酸メチルの製造
中間体として注目される6−置換テトラヒドロイ
ンダノン及びそれらの製法に関する。
更に詳しくは、本発明は下記(6)
但し式中、Rは低級アルキル基好ましくはC1
〜C4のアルキル基もしくは−SiR′3(ここで、R′は
低級アルキル基好ましくはC1〜C4のアルキル基
を示す)を示す、 で表わされる文献未記載の6−置換テトラヒドロ
インダノンに関する。
〜C4のアルキル基もしくは−SiR′3(ここで、R′は
低級アルキル基好ましくはC1〜C4のアルキル基
を示す)を示す、 で表わされる文献未記載の6−置換テトラヒドロ
インダノンに関する。
本発明はまた、下記式(7)
で表わされる2−シクロペンテノン及び下記式(8)
但し式中、Rは低級アルキル基もしくは−
SiR′3(ここでR′は低級アルキル基を示す)を示
す、 で表わされる2−置換ブタジエンを反応させるこ
とを特徴とする上記式(6)化合物の製法にも関する
る。
SiR′3(ここでR′は低級アルキル基を示す)を示
す、 で表わされる2−置換ブタジエンを反応させるこ
とを特徴とする上記式(6)化合物の製法にも関する
る。
本発明の上記式(6)化合物は、前記ジヤスモン酸
メチルの製造中間体として注目される下記式(4)′ 但し式中、RはC2以上の低級アルキル基、
好ましくはC2〜C4のアルキル基、もしくは−
SiR′3(ここで、R′は低級アルキル基、好ましくは
メチル基を示す)を示す、 で表わされる文献未記載のシス−2,3−ジ置換
シクロペンタノンを包含して、下記式(4) 但し式中、Rは式(6)についてのべたと同義、で
表わされるシス−2,3−ジ置換シクロペンタノ
ンの製造中間体として有用である。
メチルの製造中間体として注目される下記式(4)′ 但し式中、RはC2以上の低級アルキル基、
好ましくはC2〜C4のアルキル基、もしくは−
SiR′3(ここで、R′は低級アルキル基、好ましくは
メチル基を示す)を示す、 で表わされる文献未記載のシス−2,3−ジ置換
シクロペンタノンを包含して、下記式(4) 但し式中、Rは式(6)についてのべたと同義、で
表わされるシス−2,3−ジ置換シクロペンタノ
ンの製造中間体として有用である。
従来、上記式(4)化合物中、Rがメチル基である
化合物及びその製法に関しては知られている(J.
Org.Chem.、Vol.40、No.4、1975年)。この公知
方法によれば該化合物は、下記工程式、 で示される煩雑且つ多工程反応によつて製造され
ている。
化合物及びその製法に関しては知られている(J.
Org.Chem.、Vol.40、No.4、1975年)。この公知
方法によれば該化合物は、下記工程式、 で示される煩雑且つ多工程反応によつて製造され
ている。
本発明者等は、このような煩雑且つ多工程方式
の工業的に不利益な方法を回避して、上記化合物
を製造すべく研究を進めた。その結果、入手容易
な前記式(7)2−シクロペンテノン及び前記式(8)2
−置換ブタジエンを出発原料として、上記式(6)の
本発明6−置換テトラヒドロインダノンが、好収
率、好選択性をもつて容易に得られ、該式(8)化合
物を、例えばオゾンの如き温和な酸化剤で処理す
ることによつて、前記式(4)′化合物を包含して、
前記式(4)で表わされるシス−2,3−ジ置換シク
ロペンタノンが容易に製造できることを発見し
た。更に、該式(4)化合物から香料及び医薬中間体
として有用なジヤスモン酸メチルが工業的に有利
に製造でき、該式(4)化合物としてRがメチル基以
外の基である化合物を用いた場合にもジヤスモン
酸メチルが容易に得られることを発見した。
の工業的に不利益な方法を回避して、上記化合物
を製造すべく研究を進めた。その結果、入手容易
な前記式(7)2−シクロペンテノン及び前記式(8)2
−置換ブタジエンを出発原料として、上記式(6)の
本発明6−置換テトラヒドロインダノンが、好収
率、好選択性をもつて容易に得られ、該式(8)化合
物を、例えばオゾンの如き温和な酸化剤で処理す
ることによつて、前記式(4)′化合物を包含して、
前記式(4)で表わされるシス−2,3−ジ置換シク
ロペンタノンが容易に製造できることを発見し
た。更に、該式(4)化合物から香料及び医薬中間体
として有用なジヤスモン酸メチルが工業的に有利
に製造でき、該式(4)化合物としてRがメチル基以
外の基である化合物を用いた場合にもジヤスモン
酸メチルが容易に得られることを発見した。
従つて、本発明の目的は香料及び医薬品製造分
野において有用な6−置換テトラヒドロインダノ
ン及びそれらの製法を提供するにある。
野において有用な6−置換テトラヒドロインダノ
ン及びそれらの製法を提供するにある。
本発明の上記目的及び更に多くの他の目的なら
びに利点は、以下の記載から一層明らかとなるで
あろう。
びに利点は、以下の記載から一層明らかとなるで
あろう。
本発明式(6)化合物を用いて、前記式(4)′化合物
を包含して前記式(4)で表わされるシス−2,3−
ジ置換シクロペンタノンが、容易に形成できる。
この反応は、たとえば該式(6)で表わされる6−置
換テトラヒドロインダノンを、温和な酸化作用を
有する酸化剤で処理することにより、容易に行う
ことができる。本発明の式(6)6−置換テトラヒド
ロインダノンは、下記式(7)、 で表わされる2−シクロペンテノン及び下記式(8) 但し式中、Rは前記式(6)において定義したと同
義 で表わされる2−置換ブタジエンを反応せしめる
ことにより得ることができる。得られた本発明の
前記式(6)化合物は、たとえば酸化剤で処理するこ
とにより前記式(4)のシス−2,3−ジ置換シクロ
ペンタノンに容易に転化でき、該式(4)化合物は、
例えば、下記式(5)、 R″3P=CHCH2CH3 (5) 但し式中、R″は同一もしくは異つて、フエニ
ル基及びアルキル基たとえばC1〜C10アルキル基
よりなる群からえらばれた基を示す、 で表わされるウイツテツヒ試薬と反応せしめて、
下記式(2)、 但し式中、Rは低級アルキル基もしくは−
SiR′3(ここで、R′は低級アルキル基を示す)を示
す、 で表わされる2−エピ−ジヤスモン酸エステルに
容易に転化することができる。更に、この式(2)の
2−エピ−ジヤスモン酸エステルを、下記式(3)、 MOR (3) 但し式中、Mはアルカリ金属原子たとえばLi、
Na、K等を示し、Rは低級アルキル基好ましく
はメチル基を示す、 で表わされる金属アルコラートの存在下、メチル
アルコールと反応させることにより、下記式(1)、 で表わされるジヤスモン酸メチルに転化すること
ができる。
を包含して前記式(4)で表わされるシス−2,3−
ジ置換シクロペンタノンが、容易に形成できる。
この反応は、たとえば該式(6)で表わされる6−置
換テトラヒドロインダノンを、温和な酸化作用を
有する酸化剤で処理することにより、容易に行う
ことができる。本発明の式(6)6−置換テトラヒド
ロインダノンは、下記式(7)、 で表わされる2−シクロペンテノン及び下記式(8) 但し式中、Rは前記式(6)において定義したと同
義 で表わされる2−置換ブタジエンを反応せしめる
ことにより得ることができる。得られた本発明の
前記式(6)化合物は、たとえば酸化剤で処理するこ
とにより前記式(4)のシス−2,3−ジ置換シクロ
ペンタノンに容易に転化でき、該式(4)化合物は、
例えば、下記式(5)、 R″3P=CHCH2CH3 (5) 但し式中、R″は同一もしくは異つて、フエニ
ル基及びアルキル基たとえばC1〜C10アルキル基
よりなる群からえらばれた基を示す、 で表わされるウイツテツヒ試薬と反応せしめて、
下記式(2)、 但し式中、Rは低級アルキル基もしくは−
SiR′3(ここで、R′は低級アルキル基を示す)を示
す、 で表わされる2−エピ−ジヤスモン酸エステルに
容易に転化することができる。更に、この式(2)の
2−エピ−ジヤスモン酸エステルを、下記式(3)、 MOR (3) 但し式中、Mはアルカリ金属原子たとえばLi、
Na、K等を示し、Rは低級アルキル基好ましく
はメチル基を示す、 で表わされる金属アルコラートの存在下、メチル
アルコールと反応させることにより、下記式(1)、 で表わされるジヤスモン酸メチルに転化すること
ができる。
上記式(4)化合物から式(1)ジヤスモン酸メチルを
形成する利用例を加えて、式(6)の本発明化合物6
−置換テトラヒドロインダノンから式(4)′化合物
を包含して式(4)化合物の製法及び該式(6)本発明化
合物の製造例を示すと、下記工程図のように示す
ことができる。
形成する利用例を加えて、式(6)の本発明化合物6
−置換テトラヒドロインダノンから式(4)′化合物
を包含して式(4)化合物の製法及び該式(6)本発明化
合物の製造例を示すと、下記工程図のように示す
ことができる。
式(4)化合物の製造に用いる方式(6)
の本発明化合物6−置換テトラヒドロインダノ
ン、すなわち、6−アルコキシ−もしくは6−ト
リアルキルシリロキシ−4,5,8,9−テトラ
ヒドロインダノンは、上記式(7)の2−シクロペン
テノンと、式(8)の2−置換ブタジエンすなわち2
−アルコキシ−もしくは2−トリアルキルシリロ
キシ−ブタジエンとを、溶媒の存在下もしくは不
存在下にデイールス・アルダー反応せしめること
により容易に製造することができる。反応は、例
えば約80℃程度以上の加熱条件下に行うのがよ
く、約180℃以上の温度の採用が一層好ましく、
例えば、約180℃〜約400℃、一層好ましくは約
200〜約300℃程度の温度が最も屡々採用される。
反応は大気圧条件下でも加圧条件下でも行うこと
ができ、例えば耐圧容器内で自然発生圧条件下に
行うことができる。
ン、すなわち、6−アルコキシ−もしくは6−ト
リアルキルシリロキシ−4,5,8,9−テトラ
ヒドロインダノンは、上記式(7)の2−シクロペン
テノンと、式(8)の2−置換ブタジエンすなわち2
−アルコキシ−もしくは2−トリアルキルシリロ
キシ−ブタジエンとを、溶媒の存在下もしくは不
存在下にデイールス・アルダー反応せしめること
により容易に製造することができる。反応は、例
えば約80℃程度以上の加熱条件下に行うのがよ
く、約180℃以上の温度の採用が一層好ましく、
例えば、約180℃〜約400℃、一層好ましくは約
200〜約300℃程度の温度が最も屡々採用される。
反応は大気圧条件下でも加圧条件下でも行うこと
ができ、例えば耐圧容器内で自然発生圧条件下に
行うことができる。
上記式(8)の2−アルコキシ−ブタジエンの具体
例としては、例えば2−メトキシ−ブタジエン、
2−エトキシ−ブタジエン、2−n−プロポキシ
−ブタジエン、2−iso−プロポキシ−ブタジエ
ン、2−n−ブトキシ−ブタジエン、2−iso−
ブトキシ−ブタジエン、2−tert−ブトキシ−ブ
タジエン等が挙げられ、又、2−トリアルキルシ
リロキシブタジエンの具体例としては、例えば、
トリメチルシリロキシブタジエンが挙げられる。
例としては、例えば2−メトキシ−ブタジエン、
2−エトキシ−ブタジエン、2−n−プロポキシ
−ブタジエン、2−iso−プロポキシ−ブタジエ
ン、2−n−ブトキシ−ブタジエン、2−iso−
ブトキシ−ブタジエン、2−tert−ブトキシ−ブ
タジエン等が挙げられ、又、2−トリアルキルシ
リロキシブタジエンの具体例としては、例えば、
トリメチルシリロキシブタジエンが挙げられる。
又、上記溶媒としては不活性有機溶媒が利用で
き、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、n
−ヘキサン、n−ペプタン、等の炭化水素溶媒を
挙げることができる。これらの溶媒は、単独もし
くは2種以上の混合物であつても差しつかえな
い。
き、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、n
−ヘキサン、n−ペプタン、等の炭化水素溶媒を
挙げることができる。これらの溶媒は、単独もし
くは2種以上の混合物であつても差しつかえな
い。
デイールス・アルダー反応終了後、反応混合物
を例えば減圧下蒸留することにより本発明式(6)の
6−置換テトラヒドロインダノンすなわち6−ア
ルコキシ−、もしくは6−トリアルキルシリロキ
シ−4,5,8,9−テトラヒドロインダノンを
高純度で得ることができる。望むならば、更にシ
リカゲルカラム等により精製することも可能であ
る。
を例えば減圧下蒸留することにより本発明式(6)の
6−置換テトラヒドロインダノンすなわち6−ア
ルコキシ−、もしくは6−トリアルキルシリロキ
シ−4,5,8,9−テトラヒドロインダノンを
高純度で得ることができる。望むならば、更にシ
リカゲルカラム等により精製することも可能であ
る。
上記デイールス・アルダー反応により得ること
ができる本発明式(6)化合物の具体例としては、例
えば、前記した出発原料式(8)化合物の具体例とし
て挙げた2−アルコキシ−、もしくは2−トリア
ルキルシリロキシ−ブタジエンと式(7)の2−シク
ロペンテノンのアダクトである6−アルコキシ体
もしくは6−トリアルキルシリロキシ体を挙げる
ことができる。
ができる本発明式(6)化合物の具体例としては、例
えば、前記した出発原料式(8)化合物の具体例とし
て挙げた2−アルコキシ−、もしくは2−トリア
ルキルシリロキシ−ブタジエンと式(7)の2−シク
ロペンテノンのアダクトである6−アルコキシ体
もしくは6−トリアルキルシリロキシ体を挙げる
ことができる。
本発明において前記式(4)シス−2,3−ジ置換
シクロペンタノンを上記本発明式(6)6−置換テト
ラヒドロインダノンから製造するには、種々の可
及的温和な酸化作用を示す酸化剤が利用可能であ
る。式(4)化合物を容易に且つ好選択性で製造する
のにオゾン酸化が好ましい。例えば、オゾンガス
を低温で不活性有機溶媒にとかした本発明式(6)化
合物に通じてオゾナイドとした後、単離せずに還
元剤を加えることにより目的とする式(4)化合物を
高純度、高収率で得ることができる。可及的温和
な他の酸化剤の利用の場合には、還元剤の利用は
省略できる。
シクロペンタノンを上記本発明式(6)6−置換テト
ラヒドロインダノンから製造するには、種々の可
及的温和な酸化作用を示す酸化剤が利用可能であ
る。式(4)化合物を容易に且つ好選択性で製造する
のにオゾン酸化が好ましい。例えば、オゾンガス
を低温で不活性有機溶媒にとかした本発明式(6)化
合物に通じてオゾナイドとした後、単離せずに還
元剤を加えることにより目的とする式(4)化合物を
高純度、高収率で得ることができる。可及的温和
な他の酸化剤の利用の場合には、還元剤の利用は
省略できる。
反応は可及的低温で行うのがよく、室温以下の
温度の採用が好ましい。例えば、オゾンを用いる
場合には室温〜約−100℃、一層好ましくは約10゜
〜約−100℃、とくには約−20℃〜約−80℃程度
の低温条件でのオゾン酸化が採用される。還元剤
による還元に際しては、より高温が採用でき、約
−10℃〜室温が好ましく、一層好ましくは約−10
℃〜約20℃程度である。
温度の採用が好ましい。例えば、オゾンを用いる
場合には室温〜約−100℃、一層好ましくは約10゜
〜約−100℃、とくには約−20℃〜約−80℃程度
の低温条件でのオゾン酸化が採用される。還元剤
による還元に際しては、より高温が採用でき、約
−10℃〜室温が好ましく、一層好ましくは約−10
℃〜約20℃程度である。
又、使用する溶媒としては、反応温度で液体で
ある不活性有機溶媒、例えば、メタノール、エタ
ノール、酢酸エチル、塩化メチレン等のアルコー
ル類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類をあげ
ることができ、これらは単独もしくは混合して使
用することができる。還元剤としては、たとえ
ば、亜鉛末−酢酸或は亜リン酸エステル、トリフ
エニルホスフインなど三価のリン化合物、或はジ
メチルスルフイド等を利用できる。或は又、Pd
−C、Ptその他各種の還元触媒を用いて接触水
素還元することもできる。反応終了後、反応液中
に不溶性の固体の還元剤が残留している場合は
過し、水洗し、油相を採取して式(4)化合物を得る
ことができ、所望により、更に塩化メチレンで抽
出し、溶媒を除去して式(4)化合物を得ることもで
きる。更に望むならば、蒸留その他の手段により
一層精製することも可能である。斯くして得られ
る式(4)′を包含して上記式(4)化合物の具体例とし
ては、2,3−シス−3−カルボメトキシメチル
−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノン、 2,3−シス−3−カルボエトキシメチル−2
−ホルミルメチル−1−シクロペンタノン、 2,3−シス−3−カルボn−プロポキシメチ
ル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボiso−プロポキシメ
チル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボn−ブトキシメチル
−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノン、 2,3−シス−3−カルボiso−ブトキシメチ
ル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボtert−ブトキシメチ
ル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボトリメチルシリロキ
シメチル−2−ホルミルメチル−1−シクロペン
タノン 等を挙げることができる。
ある不活性有機溶媒、例えば、メタノール、エタ
ノール、酢酸エチル、塩化メチレン等のアルコー
ル類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類をあげ
ることができ、これらは単独もしくは混合して使
用することができる。還元剤としては、たとえ
ば、亜鉛末−酢酸或は亜リン酸エステル、トリフ
エニルホスフインなど三価のリン化合物、或はジ
メチルスルフイド等を利用できる。或は又、Pd
−C、Ptその他各種の還元触媒を用いて接触水
素還元することもできる。反応終了後、反応液中
に不溶性の固体の還元剤が残留している場合は
過し、水洗し、油相を採取して式(4)化合物を得る
ことができ、所望により、更に塩化メチレンで抽
出し、溶媒を除去して式(4)化合物を得ることもで
きる。更に望むならば、蒸留その他の手段により
一層精製することも可能である。斯くして得られ
る式(4)′を包含して上記式(4)化合物の具体例とし
ては、2,3−シス−3−カルボメトキシメチル
−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノン、 2,3−シス−3−カルボエトキシメチル−2
−ホルミルメチル−1−シクロペンタノン、 2,3−シス−3−カルボn−プロポキシメチ
ル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボiso−プロポキシメ
チル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボn−ブトキシメチル
−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノン、 2,3−シス−3−カルボiso−ブトキシメチ
ル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボtert−ブトキシメチ
ル−2−ホルミルメチル−1−シクロペンタノ
ン、 2,3−シス−3−カルボトリメチルシリロキ
シメチル−2−ホルミルメチル−1−シクロペン
タノン 等を挙げることができる。
以下、上述のようにして得られる式(4)のシス−
2,3−ジ置換シクロペンタノン利用の一例とし
て、該化合物から、前記式(1)のジヤスモン酸メチ
ルの製造を例に説明する。
2,3−ジ置換シクロペンタノン利用の一例とし
て、該化合物から、前記式(1)のジヤスモン酸メチ
ルの製造を例に説明する。
前記式(2)の2−エピ−ジヤスモン酸エステルの
製造は、式(4)化合物を下記式(5)、 R″3P=CHCH2CH3 (5) 式中、R″は前記したと同義である、 で表わされるウイツテツヒ試薬と反応せしめるこ
とにより、好収率好選択性をもつて容易に得るこ
とができる。該式(5)ホスホラン化合物(ウイツテ
ツヒ試薬)は、例えば、下記式(5)′、 R″3PCHCH2CH3X (5)′ 但し式中、R″は上記したと同義であり、Xは
ハロゲン好ましくはCl、BrもしくはIを示す、 に塩基を作用させて得ることができる。使用する
塩基の例としては、たとえば、ブチルリチウム、
フエニルリチウム、リチウムジエチルアミド、ナ
トリウムエトキサイド、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド、水素化カリウム、カリウムアミド
などをあげることができる。これらの塩基の使用
量については、とくべつな制約はないが、上記式
(5)′化合物に対して、ほぼ当量程度もしくは幾分
少な目で用いるのがよい。反応は、溶媒中で不活
性ガス雰囲気下に行うのが好ましく、例えば、窒
素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスを例示
することができる。反応は約0℃以上で行うのが
好ましく、例えば、約0℃〜約50℃程度の温度が
利用できる。又、溶媒はできるだけ無水のものが
好ましく、溶媒の具体例としては、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ペンタン、ベンゼン、トル
エン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルホキサイド、N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、ジグ
ライム等の有機溶媒を例示することができる。こ
れらは単独でも複数種併用してでも用いることが
できる。
製造は、式(4)化合物を下記式(5)、 R″3P=CHCH2CH3 (5) 式中、R″は前記したと同義である、 で表わされるウイツテツヒ試薬と反応せしめるこ
とにより、好収率好選択性をもつて容易に得るこ
とができる。該式(5)ホスホラン化合物(ウイツテ
ツヒ試薬)は、例えば、下記式(5)′、 R″3PCHCH2CH3X (5)′ 但し式中、R″は上記したと同義であり、Xは
ハロゲン好ましくはCl、BrもしくはIを示す、 に塩基を作用させて得ることができる。使用する
塩基の例としては、たとえば、ブチルリチウム、
フエニルリチウム、リチウムジエチルアミド、ナ
トリウムエトキサイド、水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド、水素化カリウム、カリウムアミド
などをあげることができる。これらの塩基の使用
量については、とくべつな制約はないが、上記式
(5)′化合物に対して、ほぼ当量程度もしくは幾分
少な目で用いるのがよい。反応は、溶媒中で不活
性ガス雰囲気下に行うのが好ましく、例えば、窒
素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスを例示
することができる。反応は約0℃以上で行うのが
好ましく、例えば、約0℃〜約50℃程度の温度が
利用できる。又、溶媒はできるだけ無水のものが
好ましく、溶媒の具体例としては、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ペンタン、ベンゼン、トル
エン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルホキサイド、N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、ジグ
ライム等の有機溶媒を例示することができる。こ
れらは単独でも複数種併用してでも用いることが
できる。
このようにして形成できる式(5)のウイツテツヒ
試薬と、式(4)のシス−2,3−ジ置換シクロペン
タノン、すなわち、シス−2,3−2−ホルミル
メチル−3−カルボアルコキシメチル−もしくは
シス−2,3−2−ホルミルメチル−3−カルボ
シリロキシメチル−1−シクロペンタノンとの反
応は、好ましくは上述の如き不活性ガス雰囲下
に、有機溶媒中で、式(4)化合物と式(5)化合物とを
接触せしめることにより行うことができる。溶媒
としては、上記式(5)化合物の形成について例示し
たと同様な有機溶媒が例示できる。溶媒の選択
は、式(5)化合物の形成に用いたと同じ溶媒を選択
しても、異つた溶媒を選択しても差支えない。で
きるだけ無水の溶媒の利用が好ましい。反応は、
室温でも充分進行するので、とくに加温もしくは
冷却の必要はないが、望むならば、そのような手
段を採用することもできる。例えば、約0℃乃至
用いた溶媒の還流温度程度の温度を例示すること
ができる。反応操作は、式(4)化合物及び式(5)化合
物のいづれか一方を、他方に滴下しながら行うの
が好ましい。式(4)化合物に対する式(5)ウイツテツ
ヒ試薬の使用量は適宜に選択でき、例えば、約1
〜約2倍モル程度の量、一層好ましくは約1〜約
1.5倍モル程度の量が、最も屡々採用される。
試薬と、式(4)のシス−2,3−ジ置換シクロペン
タノン、すなわち、シス−2,3−2−ホルミル
メチル−3−カルボアルコキシメチル−もしくは
シス−2,3−2−ホルミルメチル−3−カルボ
シリロキシメチル−1−シクロペンタノンとの反
応は、好ましくは上述の如き不活性ガス雰囲下
に、有機溶媒中で、式(4)化合物と式(5)化合物とを
接触せしめることにより行うことができる。溶媒
としては、上記式(5)化合物の形成について例示し
たと同様な有機溶媒が例示できる。溶媒の選択
は、式(5)化合物の形成に用いたと同じ溶媒を選択
しても、異つた溶媒を選択しても差支えない。で
きるだけ無水の溶媒の利用が好ましい。反応は、
室温でも充分進行するので、とくに加温もしくは
冷却の必要はないが、望むならば、そのような手
段を採用することもできる。例えば、約0℃乃至
用いた溶媒の還流温度程度の温度を例示すること
ができる。反応操作は、式(4)化合物及び式(5)化合
物のいづれか一方を、他方に滴下しながら行うの
が好ましい。式(4)化合物に対する式(5)ウイツテツ
ヒ試薬の使用量は適宜に選択でき、例えば、約1
〜約2倍モル程度の量、一層好ましくは約1〜約
1.5倍モル程度の量が、最も屡々採用される。
反応終了後、反応液をそのまま濃縮し、例えば
n−ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン等の
有機溶媒で抽出したり、或は又、希塩酸を添加し
て、過剰のホスホランを失活させ、上記溶媒で抽
出し、溶媒を回収した後、蒸留もしくはカラムク
ロマトグラフイーにより精製したりすることがで
きる。
n−ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン等の
有機溶媒で抽出したり、或は又、希塩酸を添加し
て、過剰のホスホランを失活させ、上記溶媒で抽
出し、溶媒を回収した後、蒸留もしくはカラムク
ロマトグラフイーにより精製したりすることがで
きる。
上述のようにして得られる式(2)の2−エピ−ジ
ヤスモン酸エステルの代表例としては、たとえ
ば、2−エピ−ジヤスモン酸メチル、2−エピ−
ジヤスモン酸エチル、2−エピ−ジヤスモン酸n
−プロピル、2−エピ−ジヤスモン酸イソプロピ
ル、2−エピ−ジヤスモン酸n−ブチル、2−エ
ピ−ジヤスモン酸イソブチル、2−エピ−ジヤス
モン酸第三ブチル、2−エピ−ジヤスモン酸トリ
メチルシリルエステル等を挙げることができる。
ヤスモン酸エステルの代表例としては、たとえ
ば、2−エピ−ジヤスモン酸メチル、2−エピ−
ジヤスモン酸エチル、2−エピ−ジヤスモン酸n
−プロピル、2−エピ−ジヤスモン酸イソプロピ
ル、2−エピ−ジヤスモン酸n−ブチル、2−エ
ピ−ジヤスモン酸イソブチル、2−エピ−ジヤス
モン酸第三ブチル、2−エピ−ジヤスモン酸トリ
メチルシリルエステル等を挙げることができる。
上述のようにして得られる前記式(2)の2−エピ
−ジヤスモン酸エステルを、前記式(3)MOR(式
中、MはLi、Na、Kの如きアルカリ金属原子を
示し、Rは低級アルキル基好ましくはメチル基を
示す)の金属アルコラートの存在下、メタノール
と反応させる。メタノールはメタノール含有有機
溶媒の形で利用することもできる。有機溶媒の例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−
ヘキサン、n−ヘプタンなどの炭化水素溶媒を挙
げることができる。
−ジヤスモン酸エステルを、前記式(3)MOR(式
中、MはLi、Na、Kの如きアルカリ金属原子を
示し、Rは低級アルキル基好ましくはメチル基を
示す)の金属アルコラートの存在下、メタノール
と反応させる。メタノールはメタノール含有有機
溶媒の形で利用することもできる。有機溶媒の例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−
ヘキサン、n−ヘプタンなどの炭化水素溶媒を挙
げることができる。
反応は、式(2)化合物とメタノールとを式(3)化合
物の存在下に接触せしめることにより容易に行う
ことができる。反応は室温でも進行するので、と
くに冷却もしくは加熱の必要はないが、望むなら
ばそのような条件を採用することもできる。例え
ば、約0℃〜約70℃程度の温度を例示することが
できる。この反応によつて側鎖エピメリ化を生じ
て、式(2)における五員環ケトンの側鎖がシスから
トランスに変換されると同時に、エステル交換反
応が併起して、式(2)中、Rがメチル以外の式(2)化
合物においても、Rがメチル基に転化し、下記式
に一例を示すようにジヤスモン酸メチルが得られ
る。
物の存在下に接触せしめることにより容易に行う
ことができる。反応は室温でも進行するので、と
くに冷却もしくは加熱の必要はないが、望むなら
ばそのような条件を採用することもできる。例え
ば、約0℃〜約70℃程度の温度を例示することが
できる。この反応によつて側鎖エピメリ化を生じ
て、式(2)における五員環ケトンの側鎖がシスから
トランスに変換されると同時に、エステル交換反
応が併起して、式(2)中、Rがメチル以外の式(2)化
合物においても、Rがメチル基に転化し、下記式
に一例を示すようにジヤスモン酸メチルが得られ
る。
上記反応において、式(3)金属アルコラートの使
用量は適宜に選択でき、触媒量で充分である。例
えば、式(2)2−エピ−ジヤスモン酸エステルに対
して約5〜約20重量%程度の使用量を例示するこ
とができる。一層好ましくは約5〜約15重量%程
度である。メタノールの使用量も適宜に選択でき
るが、通常、式(2)2−エピ−ジヤスモン酸エステ
ルに対して約50倍(重量)程度以上を用いるのが
よく、約100〜約200倍程度の量で使用が、屡々、
一層好ましい結果を与える。
用量は適宜に選択でき、触媒量で充分である。例
えば、式(2)2−エピ−ジヤスモン酸エステルに対
して約5〜約20重量%程度の使用量を例示するこ
とができる。一層好ましくは約5〜約15重量%程
度である。メタノールの使用量も適宜に選択でき
るが、通常、式(2)2−エピ−ジヤスモン酸エステ
ルに対して約50倍(重量)程度以上を用いるのが
よく、約100〜約200倍程度の量で使用が、屡々、
一層好ましい結果を与える。
反応後、金属アルコラートを、例えば希塩酸で
中和した後、塩化メチレン、ヘキサン、エーテル
等の如き有機溶媒によつて抽出し、例えば、溶媒
を減圧留去して、目的とするジヤスモン酸メチル
式(1)を、高純度、高収率で得ることができる。
又、望むならば、カラムクロマトその他の精製手
段により容易に精製することができる。
中和した後、塩化メチレン、ヘキサン、エーテル
等の如き有機溶媒によつて抽出し、例えば、溶媒
を減圧留去して、目的とするジヤスモン酸メチル
式(1)を、高純度、高収率で得ることができる。
又、望むならば、カラムクロマトその他の精製手
段により容易に精製することができる。
実施例 1
6−エトキシ−4,5,8,9−テトラヒドロ
インダノン〔式(6)〕の製法 100mlオートクレーブ中に、2−シクロペンテ
ノン16.0gと2−エトキシブタジエン57.0gを封
入し、240〜250℃で5分間反応させる。反応物を
冷後、減圧下精留することにより、目的物の6−
エトキシテトラヒドロインダノンが収率72%で
24.5g得られた。
インダノン〔式(6)〕の製法 100mlオートクレーブ中に、2−シクロペンテ
ノン16.0gと2−エトキシブタジエン57.0gを封
入し、240〜250℃で5分間反応させる。反応物を
冷後、減圧下精留することにより、目的物の6−
エトキシテトラヒドロインダノンが収率72%で
24.5g得られた。
B.p.:100〜105℃/1.5mmHg
IR(液膜):1738、1655cm-1
NMR(CCl4):δ4.38(1H、m)、3.60(2H、q)、
1.22(3H、t) 実施例 2 6−トリメチルシリロキシ−4,5,8,9−
テトラヒドロインダノン〔式(6)〕の製法 石英管中に、2−シクロペンテノン2.4gと2
−トリメチルシリロキシブタジエン11.4gを仕込
み、封管し、230〜240℃で10分間反応させる。反
応物を冷後、減圧下精留することにより、目的物
の6−トリメチルシリロキシテトラヒドロインダ
ノンを収率65%で3.2g得た。
1.22(3H、t) 実施例 2 6−トリメチルシリロキシ−4,5,8,9−
テトラヒドロインダノン〔式(6)〕の製法 石英管中に、2−シクロペンテノン2.4gと2
−トリメチルシリロキシブタジエン11.4gを仕込
み、封管し、230〜240℃で10分間反応させる。反
応物を冷後、減圧下精留することにより、目的物
の6−トリメチルシリロキシテトラヒドロインダ
ノンを収率65%で3.2g得た。
B.p.:92〜96℃/1.0mmHg
IR(液膜):1740、1655cm-1
NMR(CCl4):δ4.70(1H、m)、0.19(9H、s)
実施例 3
6−メトキシ−4,5,8,9−テトラヒドロ
インダノン〔式(6)〕及び6−n−ブトキシ−
4,5,8,9−テトラヒドロインダノン〔式
(6)〕の製法 2−シクロペンテノンと2−メトキシブタジエ
ン或いは2−n−ブトキシブタジエンを実施例2
と同様に反応させ、精留することにより、目的物
の6−メトキシテトラヒドロインダノン(収率68
%、b.p.80〜83℃/0.5mmHg)、或いは6−n−ブ
トキシテトラヒドロインダノン(収率62%、b.
p.82〜90℃/0.1mmHg)を得た。
インダノン〔式(6)〕及び6−n−ブトキシ−
4,5,8,9−テトラヒドロインダノン〔式
(6)〕の製法 2−シクロペンテノンと2−メトキシブタジエ
ン或いは2−n−ブトキシブタジエンを実施例2
と同様に反応させ、精留することにより、目的物
の6−メトキシテトラヒドロインダノン(収率68
%、b.p.80〜83℃/0.5mmHg)、或いは6−n−ブ
トキシテトラヒドロインダノン(収率62%、b.
p.82〜90℃/0.1mmHg)を得た。
参考例 1
2,3−シス−ホルミルメチル−3−カルボエ
トキシメチル−1−シクロペンタノン〔式(4)〕
の製法 6−エトキシテトラヒドロインダノン10.0gの
塩化メチレン200ml溶液中に、−70〜−78℃で所定
量のオゾンを通じる。次に、この反応溶液を亜鉛
末51.0gの酢酸130ml懸濁溶液中に加え、−10〜4
℃で2時間還元反応をする。反応物を水中に注入
し、塩化メチレン抽出し、有機層を重ソウ洗浄
し、水洗し、芒鎖乾燥後、溶媒を除去し、残渣を
減圧蒸留することにより目的物の2,3−シス−
2−ホルミルメチル−3−カルボエトキシメチル
−1−シクロペンタノンを82.1%の収率で9.6g
得た。
トキシメチル−1−シクロペンタノン〔式(4)〕
の製法 6−エトキシテトラヒドロインダノン10.0gの
塩化メチレン200ml溶液中に、−70〜−78℃で所定
量のオゾンを通じる。次に、この反応溶液を亜鉛
末51.0gの酢酸130ml懸濁溶液中に加え、−10〜4
℃で2時間還元反応をする。反応物を水中に注入
し、塩化メチレン抽出し、有機層を重ソウ洗浄
し、水洗し、芒鎖乾燥後、溶媒を除去し、残渣を
減圧蒸留することにより目的物の2,3−シス−
2−ホルミルメチル−3−カルボエトキシメチル
−1−シクロペンタノンを82.1%の収率で9.6g
得た。
B.p.:66〜68℃/0.04mmHg
IR(液膜):1741、1730、1722cm-1
NMR(CCl4):δ9.85、4.10、1.25
参考例 2
2,3−シス−2−ホルミルメチル−3−カル
ボトリメチルシリロキシメチル−1−シクロペ
ンタノン〔式(4)〕の製法 6−トリメチルシリロキシテトラヒドロインダ
ノン5.0gのメタノール100ml溶液中に、所定量の
オゾンを−70〜−78℃で通じ、次に、−10℃〜0
℃でジメチルスルフイド70mlを加え、2時間反応
する。反応物を減圧下精留することにより、目的
物の2,3−シス−2−ホルミルメチル−3−カ
ルボトリメチルシリロキシメチル−1−シクロペ
ンタノンを78%の収率で46g得た。
ボトリメチルシリロキシメチル−1−シクロペ
ンタノン〔式(4)〕の製法 6−トリメチルシリロキシテトラヒドロインダ
ノン5.0gのメタノール100ml溶液中に、所定量の
オゾンを−70〜−78℃で通じ、次に、−10℃〜0
℃でジメチルスルフイド70mlを加え、2時間反応
する。反応物を減圧下精留することにより、目的
物の2,3−シス−2−ホルミルメチル−3−カ
ルボトリメチルシリロキシメチル−1−シクロペ
ンタノンを78%の収率で46g得た。
B.p.:140〜143℃/0.1mmHg
IR(液膜):1741、1730、1720cm-1
NMR(CCl4):9.85(1H、s)、0.15(9H、s)
参考例 3
2,3−シス−2−ホルミルメチル−3−カル
ボメトキシメチル−1−シクロペンタノン〔式
(4)〕及び2,3−シス−2−ホルミルメチル−
3−カルボ−n−ブトキシメチル−1−シクロ
ペンタノン〔式(4)〕の製法 6−メトキシテトラヒドロインダノン及び6−
n−ブトキシテトラヒドロインダノンより、参考
例2と同様な操作で、目的物の2,3−シス−2
−ホルミルメチル−3−カルボメトキシメチル−
1−シクロペンタノン(収率85%、b.p.112〜114
℃/0.01mmHg)及び2,3−シス−2−ホルミ
ルメチル−3−カルボ−n−ブトキシメチル−1
−シクロペンタノン(収率74%、b.p.136〜140
℃/0.005mmHg)が得られた。
ボメトキシメチル−1−シクロペンタノン〔式
(4)〕及び2,3−シス−2−ホルミルメチル−
3−カルボ−n−ブトキシメチル−1−シクロ
ペンタノン〔式(4)〕の製法 6−メトキシテトラヒドロインダノン及び6−
n−ブトキシテトラヒドロインダノンより、参考
例2と同様な操作で、目的物の2,3−シス−2
−ホルミルメチル−3−カルボメトキシメチル−
1−シクロペンタノン(収率85%、b.p.112〜114
℃/0.01mmHg)及び2,3−シス−2−ホルミ
ルメチル−3−カルボ−n−ブトキシメチル−1
−シクロペンタノン(収率74%、b.p.136〜140
℃/0.005mmHg)が得られた。
参考例 4
2−エピ−ジヤスモン酸エチル〔式(2)〕及び2
−エピ−ジヤスモン酸−n−ブチル〔式(2)〕の
製法 十分に乾燥し、窒素置換した容器に、別にトリ
フエニルn−プロピルホスホニウムブロマイドよ
り製造した0.05モルに相当するトリフエニルn−
プロピルホスホランのジメトキシエタン溶液を
180ml加え、これに氷冷中10.1gの2,3−シス
−2−ホルミルメチル−3−カルボエトキシメチ
ル−1−シクロペンタノンを同じ溶媒100mlに溶
解したものを滴下し、室温で20分間反応させる。
反応終了後、反応液を希塩酸を加え、塩化メチレ
ンで抽出する。溶媒を回収した後、残渣を減圧下
精留することにより目的とする2−エピ−ジヤス
モン酸エチルが9.1g収率80.2%で得られる。
−エピ−ジヤスモン酸−n−ブチル〔式(2)〕の
製法 十分に乾燥し、窒素置換した容器に、別にトリ
フエニルn−プロピルホスホニウムブロマイドよ
り製造した0.05モルに相当するトリフエニルn−
プロピルホスホランのジメトキシエタン溶液を
180ml加え、これに氷冷中10.1gの2,3−シス
−2−ホルミルメチル−3−カルボエトキシメチ
ル−1−シクロペンタノンを同じ溶媒100mlに溶
解したものを滴下し、室温で20分間反応させる。
反応終了後、反応液を希塩酸を加え、塩化メチレ
ンで抽出する。溶媒を回収した後、残渣を減圧下
精留することにより目的とする2−エピ−ジヤス
モン酸エチルが9.1g収率80.2%で得られる。
IR(液膜)1745、1653cm-1
NMR(CCl4)5.80〜5.05(2H、m)、3.85(2H、
q)、1.07(3H、t) 沸点60゜〜65℃/0.15mmHg 上記例において2,3−シス−2−ホルミルメ
チル−3−カルボエトキシメチル−1−シクロペ
ンタノンの代りに、参考例3で得た2,3−シス
−2−ホルミルメチル−3−カルボ−n−ブトキ
シメチル−1−シクロペンタノンを用いるほかは
同様に行つて、2−エピ−ジヤスモン酸n−ブチ
ルが収率78%で得られた。沸点72゜〜76℃/0.01
mmHg。
q)、1.07(3H、t) 沸点60゜〜65℃/0.15mmHg 上記例において2,3−シス−2−ホルミルメ
チル−3−カルボエトキシメチル−1−シクロペ
ンタノンの代りに、参考例3で得た2,3−シス
−2−ホルミルメチル−3−カルボ−n−ブトキ
シメチル−1−シクロペンタノンを用いるほかは
同様に行つて、2−エピ−ジヤスモン酸n−ブチ
ルが収率78%で得られた。沸点72゜〜76℃/0.01
mmHg。
参考例 5
2−エピ−ジヤスモン酸トリメチルシリル〔式
(2)〕の製法 参考例4と同様の操作により2,3−シス−ホ
ルミルメチル−3−カルボトリメチルシリロキシ
メチル−1−シクロペンタノンを反応させた後、
十分に冷した水を加え、塩化メチレンで抽出した
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下精留する
ことにより2−エピ−ジヤスモン酸トリメチルシ
リル(収率60%、b.p.93〜96℃/0.2mmHg)が得
られる。
(2)〕の製法 参考例4と同様の操作により2,3−シス−ホ
ルミルメチル−3−カルボトリメチルシリロキシ
メチル−1−シクロペンタノンを反応させた後、
十分に冷した水を加え、塩化メチレンで抽出した
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下精留する
ことにより2−エピ−ジヤスモン酸トリメチルシ
リル(収率60%、b.p.93〜96℃/0.2mmHg)が得
られる。
参考例 3
ジヤスモン酸メチルの製法
2−エピ−ジヤスモン酸エチル24gを無水メタ
ノール100mlに溶解し、容器内を窒素置換し、ナ
トリウムメトキサイド0.56gを含むメタノール10
mlを加え、8時間加熱還流させる。反応液を希塩
酸で中和した後、塩化メチレンで抽出し、溶媒を
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を回収し、
減圧下精留することにより目的とするジヤスモン
酸メチルを21g、収率92.3%で得られる。
ノール100mlに溶解し、容器内を窒素置換し、ナ
トリウムメトキサイド0.56gを含むメタノール10
mlを加え、8時間加熱還流させる。反応液を希塩
酸で中和した後、塩化メチレンで抽出し、溶媒を
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を回収し、
減圧下精留することにより目的とするジヤスモン
酸メチルを21g、収率92.3%で得られる。
IR(液膜)1741、1650cm-1
NMR(CCl4)5.60〜5.12(2H、m)、4.60(3H、
s)、2.52〜1.33(12H、m)、1.0(3H、t) b.p.92℃/0.02mmHg 同様の操作によつて、2−エピ−ジヤスモン酸
トリメチルシリルより収率82.4%、2−エピ−ジ
ヤスモン酸n−ブチルより収率80%、2−エピ−
ジヤスモン酸メチルより収率90%でジヤスモン酸
メチルが得られる。
s)、2.52〜1.33(12H、m)、1.0(3H、t) b.p.92℃/0.02mmHg 同様の操作によつて、2−エピ−ジヤスモン酸
トリメチルシリルより収率82.4%、2−エピ−ジ
ヤスモン酸n−ブチルより収率80%、2−エピ−
ジヤスモン酸メチルより収率90%でジヤスモン酸
メチルが得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式(6) 但し式中、Rは低級アルキル基もしくは−
SiR′3(ここでR′は低級アルキル基を示す)を示
す、 で表わされる6−置換テトラヒドロインダノン。 2 下記式(7) で表わされる2−シクロペンテノン及び下記式(8) 但し式中、Rは低級アルキル基もしくは−
SiR′3(ここでR′は低級アルキル基を示す)を示
す、 で表わされる2−置換ブタジエンを反応させるこ
とを特徴とする下記式(6) 但し式中、Rは低級アルキル基もしくは−
SiR′3(ここでR′は低級アルキル基を示す)を示す で表わされる6−置換テトラヒドロインダノンの
製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60118759A JPS6117531A (ja) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | 6−置換テトラヒドロインダノン及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60118759A JPS6117531A (ja) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | 6−置換テトラヒドロインダノン及びその製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2215277A Division JPS53108950A (en) | 1977-03-03 | 1977-03-03 | Preparation cis-2,3-disubstituted cyclopentanone and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6117531A JPS6117531A (ja) | 1986-01-25 |
| JPS6338340B2 true JPS6338340B2 (ja) | 1988-07-29 |
Family
ID=14744353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60118759A Granted JPS6117531A (ja) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | 6−置換テトラヒドロインダノン及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6117531A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7649107B2 (en) | 2005-11-04 | 2010-01-19 | Firmenich Sa | Process for the preparation of cyclopentanone derivatives |
-
1985
- 1985-06-03 JP JP60118759A patent/JPS6117531A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6117531A (ja) | 1986-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Marino et al. | Chemistry of substituted [. alpha.-(carboethoxy) vinyl] cuprates and their synthetic application to cyclopentenone annulations | |
| Posner et al. | Asymmetric michael additions of ester enolates to enantiomerically pure vinylic sulfoxides: synthesis of 3-substituted glutarate esters in high enantiomeric purity | |
| JPH11349536A (ja) | 9,10―エンドエタノ―9,10―ジハイドロアントラセン―11,11―ジカルボン酸のモノエステルまたはジエステルの合成方法,この合成方法により得られる新規なモノエステルまたはジエステル、及びこれらの、均整または不整メチリデンマロネ―トの合成への応用 | |
| CN106660928B (zh) | 用于制备(e,z)-7,9-十二碳二烯基-1-乙酸酯的新方法 | |
| JPS6338340B2 (ja) | ||
| JPS628438B2 (ja) | ||
| JPS5826330B2 (ja) | 立体規制されたファルネシル酢酸エステルの製造方法 | |
| JPH0466216B2 (ja) | ||
| WO2004043942A1 (ja) | γ-ジャスモラクトンの製造方法 | |
| JPS5936898B2 (ja) | ジヤスモン酸メチルの製法 | |
| JPH0112750B2 (ja) | ||
| JPS5855129B2 (ja) | 2−置換または無置換のゲラニル酢酸エステル類の製造方法 | |
| HU214303B (hu) | Eljárás halogénezett alkoholok előállítására és az eljárással előállított termék | |
| EP0025638B1 (en) | Process for the production of 1-crotonoyl-2,6,6-trimethylcyclohexa-1,3-diene and esters of alkynylcyclohexane derivatives as intermediates therefor | |
| Danishefsky et al. | Nucleophilic additions to diethyl cyclopropylmethylidenemalonate | |
| JP7026361B2 (ja) | モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料としたペルフルオロアルキル化剤の新規製造法、及びそれらを用いた芳香族ペルフルオロアルキル化合物の製造方法 | |
| JPS6346058B2 (ja) | ||
| EP1122229B1 (en) | Process for the preparation of condensed cyclopentadiene derivatives, 1, 3 disubstituted derivatives and metallocene type compounds containing them as ligand | |
| JPH0145460B2 (ja) | ||
| JPS6230186B2 (ja) | ||
| JP2001172274A (ja) | 4−アセチルテトラヒドロピランの製法 | |
| JPS5826328B2 (ja) | リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウ | |
| JP3946363B2 (ja) | カロテノイド類およびその製造方法 | |
| JP4516831B2 (ja) | シス−ジャスモンの製造方法 | |
| JPS6148815B2 (ja) |