JPS634092A - 部分メツキプラスチツク成形品及びその製法 - Google Patents
部分メツキプラスチツク成形品及びその製法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 title 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 4
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、部分的にメッキを施したプラスック成形品及
びその製法に関する。
びその製法に関する。
(従来の技術)
従来よりプラスチック成形品に部分的にメッキを施すこ
とによって製品、例えばプリント基板を生産する例が知
られている(例えば特開昭58−120640号公報)
。この例によるプラスチック成形品の部分メッキ法とは
、成形品である基板の表面に、所望の回路パターンに対
応する形状に無電解メッキが付く性質を備えたアンダー
コート被膜をマスク印刷等の方法で部分的に形成し、被
膜乾燥後、成形品を周知の無電解界メッキ装置に通し、
アンダーコート被膜上にのみ金属膜が付着するようにし
たものである。
とによって製品、例えばプリント基板を生産する例が知
られている(例えば特開昭58−120640号公報)
。この例によるプラスチック成形品の部分メッキ法とは
、成形品である基板の表面に、所望の回路パターンに対
応する形状に無電解メッキが付く性質を備えたアンダー
コート被膜をマスク印刷等の方法で部分的に形成し、被
膜乾燥後、成形品を周知の無電解界メッキ装置に通し、
アンダーコート被膜上にのみ金属膜が付着するようにし
たものである。
(考案が解決しようとする問題点)
しかしながら、プラスチック成形品の形状が比較的単純
であり、大きさがあまり小さくないものでは、マスクを
利用する部分メッキ方法も特別な不都合は生じないが、
成形品の形状が例えば凹凸が多いもの、複雑なもの、球
体のように立体的なもの、そしてメッキ部分のパターン
が複雑できわめて精密なものである場合には、上記の方
法は採用できず、仮に採用できたとしても精度が出ず、
作業に大変な手間と時間がかかる。
であり、大きさがあまり小さくないものでは、マスクを
利用する部分メッキ方法も特別な不都合は生じないが、
成形品の形状が例えば凹凸が多いもの、複雑なもの、球
体のように立体的なもの、そしてメッキ部分のパターン
が複雑できわめて精密なものである場合には、上記の方
法は採用できず、仮に採用できたとしても精度が出ず、
作業に大変な手間と時間がかかる。
本発明の目的は、成形品の形状やメッキすべき部分のパ
ターンが複雑であっても、作業能率良く形成できるよう
にすることにある。
ターンが複雑であっても、作業能率良く形成できるよう
にすることにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明のプラスチック成形品は、メッキ適合材で構成し
たメッキ適合部2,12とメッキネ適合材で構成したメ
ッキネ適合部3,13とを備え、いずれか一方の複数部
分が他方の外面からそれぞれ露出した露出部21,21
a、121.123となっており、メッキ適合部の外表
面にメッキによる金属被膜4,14を形成したものであ
る。
たメッキ適合部2,12とメッキネ適合材で構成したメ
ッキネ適合部3,13とを備え、いずれか一方の複数部
分が他方の外面からそれぞれ露出した露出部21,21
a、121.123となっており、メッキ適合部の外表
面にメッキによる金属被膜4,14を形成したものであ
る。
本発明のプラスチックの成形品のメッキ方法は、メッキ
適合材で構成したメッキ適合部とメッキネ適合材で構成
したメッキネ適合部とを一体成形し、いずれか一方の複
数部分が他方の外面からそれぞれ露出部となるようにし
、その後メッキ適合部の外表面にメッキを施こしたもの
である。
適合材で構成したメッキ適合部とメッキネ適合材で構成
したメッキネ適合部とを一体成形し、いずれか一方の複
数部分が他方の外面からそれぞれ露出部となるようにし
、その後メッキ適合部の外表面にメッキを施こしたもの
である。
(実施例)
以下色発明の詳細な説明する。
まず、第1実施例として回路基板を例にとって第1〜6
図を参照して説明する。
図を参照して説明する。
第1〜3図に示すように、回路基板1の本体は絶縁性メ
ッキ適合部材で構成したメッキ適合部2と絶縁性メッキ
ネ適合部材で構成したメッキネ適合部3との二重構造で
ある。
ッキ適合部材で構成したメッキ適合部2と絶縁性メッキ
ネ適合部材で構成したメッキネ適合部3との二重構造で
ある。
メッキ適合部2は、第4〜6図に示すように板状に成形
し、中間部を中心として左側の上面に、また右側の下面
にそれぞれ回路パターンに対応した形状の線状の露出部
21.・・・、21a、・・・が所定の高さに突出しで
ある。両露出部21,218の対向端部に適合部2を厚
み方向に貫通する小孔22があけである。
し、中間部を中心として左側の上面に、また右側の下面
にそれぞれ回路パターンに対応した形状の線状の露出部
21.・・・、21a、・・・が所定の高さに突出しで
ある。両露出部21,218の対向端部に適合部2を厚
み方向に貫通する小孔22があけである。
またメッキネ適合部3はメッキ適合部2を覆っており、
上記露出部21,218のみが外表面より露出している
。
上記露出部21,218のみが外表面より露出している
。
露出部21,218の表面にメッキにより所定厚に形成
された金属被膜4(第2,3図)が付着しである。
された金属被膜4(第2,3図)が付着しである。
次に回路基板1の製法について説明する。
まず、絶縁性メッキ適合プラスチック材を用いて第4図
に示すように1次成形品としての板状のメッキ適合部2
を金型によって成形する。ついで、別の金型に上記メッ
キ適合部2をインサートしてから、絶縁性メッキネ適合
プラスチック材を注入して、2次成形品としての回路基
板を型成形する。
に示すように1次成形品としての板状のメッキ適合部2
を金型によって成形する。ついで、別の金型に上記メッ
キ適合部2をインサートしてから、絶縁性メッキネ適合
プラスチック材を注入して、2次成形品としての回路基
板を型成形する。
成形された回路基板の外表面にはメッキ適合部2の露出
部21.21aが露出している。その後、周知のプラス
チックメッキ法を適宜選択的に使用して、回路基板をメ
ッキする。こうすると、第2゜3図に示すようにメッキ
適合部2の露出部21゜21aの表面(小孔22の内周
面も含む)はメッキされて、所定厚の金属被膜4が形成
されて、第1図に示す回路基板1が形成される。
部21.21aが露出している。その後、周知のプラス
チックメッキ法を適宜選択的に使用して、回路基板をメ
ッキする。こうすると、第2゜3図に示すようにメッキ
適合部2の露出部21゜21aの表面(小孔22の内周
面も含む)はメッキされて、所定厚の金属被膜4が形成
されて、第1図に示す回路基板1が形成される。
製法としては上例の他に、例えば2色成形法を用いても
よい。この例においては、上記したように第一次工程と
しての板状のメッキ適合部2を成形する必要はなくなり
、−工程が省略できる。
よい。この例においては、上記したように第一次工程と
しての板状のメッキ適合部2を成形する必要はなくなり
、−工程が省略できる。
第2の実施例として、コネクタを例にとって、第7〜1
2図を参照して説明する。
2図を参照して説明する。
第7〜10図に示すようにコネクタ11の本体が絶縁性
のメッキ適合部12及びメッキネ適合部13の二重構造
であることは、上例と実質的に同一である。
のメッキ適合部12及びメッキネ適合部13の二重構造
であることは、上例と実質的に同一である。
メッキ適合部12は、第11.12図に示すように複数
のピン121と各ピンを連結する連結部122とからな
り、この両者の連結部分を補強部123で補強している
。
のピン121と各ピンを連結する連結部122とからな
り、この両者の連結部分を補強部123で補強している
。
メッキネ適合部13は第8〜10図に示すように連結部
122を覆っており、ピン121と補強部123の上下
両面とが外表面に露出した露出部となっている。なお、
メッキネ適合部13の上下両面と補強部123のそれと
は同一平面を形成している。
122を覆っており、ピン121と補強部123の上下
両面とが外表面に露出した露出部となっている。なお、
メッキネ適合部13の上下両面と補強部123のそれと
は同一平面を形成している。
131は、メッキネ適合部の上下両面に突設して必るリ
ブである。
ブである。
露出しているピン121及び補強部123の表面に金属
被膜14(第8,9図)が形成しである。
被膜14(第8,9図)が形成しである。
コネクタ11の製法は、上例と実質的に同一であり、第
11図に示す1次成形品としてのメッキ適合部12を成
形してから、メッキネ適合部13で覆い、メッキしても
よく、また適合部と不適合部とを2色成形法で成形して
から、本体をメッキしてもよい。
11図に示す1次成形品としてのメッキ適合部12を成
形してから、メッキネ適合部13で覆い、メッキしても
よく、また適合部と不適合部とを2色成形法で成形して
から、本体をメッキしてもよい。
成形品の種類によって、メッキ適合材及びメッキネ適合
材に絶縁性をもたせなくてもよく、また上記各側と反対
に不適合部の複数部分を適合部から露出させたものであ
ってもよい。
材に絶縁性をもたせなくてもよく、また上記各側と反対
に不適合部の複数部分を適合部から露出させたものであ
ってもよい。
(発明の効果)
本発明によれば、プラスチック成形品の形状やメッキす
べき部分のパターンが複雑であっても、従来例に比較し
て、作業性が良く、製品化できる。
べき部分のパターンが複雑であっても、従来例に比較し
て、作業性が良く、製品化できる。
また成形法として、1次成形品を成形するものを採用し
た場合には、メッキ適合部又はメッキネ適合部のいずれ
か一方の露出複数部分が連結されているので、金型内に
露出部を備えたメッキ適合部又はメッキネ適合部をイン
サートするだけでよく、メッキすべき複数の露出部を1
つ1つセットする必要がないから、作業効率がよい。
た場合には、メッキ適合部又はメッキネ適合部のいずれ
か一方の露出複数部分が連結されているので、金型内に
露出部を備えたメッキ適合部又はメッキネ適合部をイン
サートするだけでよく、メッキすべき複数の露出部を1
つ1つセットする必要がないから、作業効率がよい。
第1図〜第6図は本発明を回路基板に実施した例を示し
、第1図は正面図、第2図は第1図m−■線拡大断面図
、第3図は第1図■−■線拡大断面図、第4図は板状の
メッキ適合部の正面図、第5図は第4図V−V線拡大断
面図、第6図は第5図Vl −Vl線拡大断面図、 第7図〜第12図はコネクタに実施した例を示し、第7
図は正面図、第8図は第7図■−■線断面図、第9図は
第7図IX −IX線拡大断面図、第10図は第7図X
−X線拡大面面図、第11図はメッキ適合部の平面図、
第12図は第11図X■−X■線断面図である。 1.11・・・プラスチック成形品、 2.12・・・メッキ適合部、 3.13・・・メッキネ適合部、 21.21a、121,123・・・露出部、4.14
・・・金属被膜。 以上 第1図 第3図
、第1図は正面図、第2図は第1図m−■線拡大断面図
、第3図は第1図■−■線拡大断面図、第4図は板状の
メッキ適合部の正面図、第5図は第4図V−V線拡大断
面図、第6図は第5図Vl −Vl線拡大断面図、 第7図〜第12図はコネクタに実施した例を示し、第7
図は正面図、第8図は第7図■−■線断面図、第9図は
第7図IX −IX線拡大断面図、第10図は第7図X
−X線拡大面面図、第11図はメッキ適合部の平面図、
第12図は第11図X■−X■線断面図である。 1.11・・・プラスチック成形品、 2.12・・・メッキ適合部、 3.13・・・メッキネ適合部、 21.21a、121,123・・・露出部、4.14
・・・金属被膜。 以上 第1図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、メッキ適合材で構成したメッキ適合部とメッキ不適
合材で構成したメッキ不適合部とを備え、いずれか一方
の複数部分が他方の外面からそれぞれ露出した露出部と
なっており、メッキ適合部の外表面にメッキを施こして
あることを特徴とする部分メッキプラスチック成形品。 2、メッキ適合材で構成したメッキ適合部とメッキ不適
合材で構成したメッキ不適合部とを一体成形し、いずれ
か一方の複数部分が他方の外面からそれぞれ露出部とな
るようにし、その後メッキ適合部の外表面にメッキを施
こしたことを特徴とする部分メッキプラスチック成形品
の製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61146076A JPH0665756B2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | 部分メツキプラスチツク成形品及びその製法 |
| DE8888300082T DE3872505T2 (de) | 1986-06-24 | 1988-01-07 | Verfahren zur herstellung von partiell metallisierten gegossenen gegenstaenden. |
| EP88300082A EP0323685B1 (en) | 1986-06-24 | 1988-01-07 | Process for the production of molded articles having partial metal plating |
| HK104396A HK104396A (en) | 1986-06-24 | 1996-06-13 | Process for the production of molded articles having partial metal plating |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61146076A JPH0665756B2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | 部分メツキプラスチツク成形品及びその製法 |
| EP88300082A EP0323685B1 (en) | 1986-06-24 | 1988-01-07 | Process for the production of molded articles having partial metal plating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS634092A true JPS634092A (ja) | 1988-01-09 |
| JPH0665756B2 JPH0665756B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=39677692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61146076A Expired - Fee Related JPH0665756B2 (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | 部分メツキプラスチツク成形品及びその製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0323685B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0665756B2 (ja) |
| DE (1) | DE3872505T2 (ja) |
| HK (1) | HK104396A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4427983A1 (de) | 1994-08-08 | 1996-02-15 | Hoechst Ag | Thermoplastisches Material |
| DE19736093A1 (de) * | 1997-08-20 | 1999-02-25 | Bayer Ag | Herstellung dreidimensionaler Leiterplatten |
| DE102006030248A1 (de) | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Epcos Ag | Gehäuse zur Aufnahme eines elektronische Bauelements und elektronische Bauelementtaranordnung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1254308A (en) * | 1968-12-19 | 1971-11-17 | Bakelite Xylonite Ltd | Selective plating of plastics mouldings |
| EP0132485A1 (en) * | 1983-07-21 | 1985-02-13 | Celluloid I Gislaved Ab | A method of producing chromium-plated plastics materials or plastics details, and an apparatus for carrying the method into effect |
| GB2171355B (en) * | 1985-02-22 | 1989-11-22 | Kollmorgen Tech Corp | Molded articles suitable for adherent metallization, molded metallized articles and processes for making the same |
| IN167760B (ja) * | 1986-08-15 | 1990-12-15 | Kollmorgen Tech Corp |
-
1986
- 1986-06-24 JP JP61146076A patent/JPH0665756B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-01-07 EP EP88300082A patent/EP0323685B1/en not_active Expired
- 1988-01-07 DE DE8888300082T patent/DE3872505T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-06-13 HK HK104396A patent/HK104396A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0665756B2 (ja) | 1994-08-24 |
| EP0323685A1 (en) | 1989-07-12 |
| EP0323685B1 (en) | 1992-07-01 |
| DE3872505D1 (de) | 1992-08-06 |
| HK104396A (en) | 1996-06-21 |
| DE3872505T2 (de) | 1992-12-24 |
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