JPS6341433A - ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 - Google Patents
４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法Info
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- JPS6341433A JPS6341433A JP61185221A JP18522186A JPS6341433A JP S6341433 A JPS6341433 A JP S6341433A JP 61185221 A JP61185221 A JP 61185221A JP 18522186 A JP18522186 A JP 18522186A JP S6341433 A JPS6341433 A JP S6341433A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は式（１１
で示される４、４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロヘキサ／−ルおよびその製造方法に関する。
シクロヘキサ／−ルおよびその製造方法に関する。
式（Ｉ）で示される本発明の化合物は、新規化合物であ
り、液晶用、耐熱性樹脂用のモノマー等として有用であ
る４、４′−ビフェノールの前駆物質として有用な化合
物である。
り、液晶用、耐熱性樹脂用のモノマー等として有用であ
る４、４′−ビフェノールの前駆物質として有用な化合
物である。
１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サン、または４−メチル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサ
ン環にアルキル基を持つ化合物は公知である。例えば、
■、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンは融点１８・１°Ｃを有する結晶であり、４−メチ
ル−１゜１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロ
ヘキサンや３，５−ジメチル−１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンは、それぞれ融点１
８０℃または１７４°Ｃを有する結晶である。〔メトー
デン デル オルガニイシエン ヒイミ＝（Ｍｅｔｈｏ
ｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ
、 Ｖｏ１６ 。
サン、または４−メチル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサ
ン環にアルキル基を持つ化合物は公知である。例えば、
■、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンは融点１８・１°Ｃを有する結晶であり、４−メチ
ル−１゜１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロ
ヘキサンや３，５−ジメチル−１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンは、それぞれ融点１
８０℃または１７４°Ｃを有する結晶である。〔メトー
デン デル オルガニイシエン ヒイミ＝（Ｍｅｔｈｏ
ｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ
、 Ｖｏ１６ 。
腐２，１ｏ２８）〕
〔目的及びこれを達成するための手段〕４．４−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサノールについ
ては、これまで全く知られていなかったのであるが、本
発明者等は、その合成に成功し、本発明はこの新規な化
合物及びその製造方法を提供することにある。
４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサノールについ
ては、これまで全く知られていなかったのであるが、本
発明者等は、その合成に成功し、本発明はこの新規な化
合物及びその製造方法を提供することにある。
すなわち、本発明は、式（Ｉ）
で示される４、４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロへキサノール、および上記式ＣＩ＋化合物を４−
ヒドロキシシクロヘキサノンとフェノールとを反応させ
ることにより得る製造方法に関する。
シクロへキサノール、および上記式ＣＩ＋化合物を４−
ヒドロキシシクロヘキサノンとフェノールとを反応させ
ることにより得る製造方法に関する。
本発明の４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シ
クロヘキサノールを製造する方法は、４−ヒドロキシシ
クロヘキサノンとフェノールとを酸性触媒の存在下に反
応させることにより得られる。
クロヘキサノールを製造する方法は、４−ヒドロキシシ
クロヘキサノンとフェノールとを酸性触媒の存在下に反
応させることにより得られる。
また、４−ヒドロキシシクロヘキサノンは、ハイドロキ
ノンを担体に担持されたパラジウム触媒を用いて水中で
水素と反応させる（特開昭５７−４９３２ ）。または
、シクロヘキサン−１，４−ジオールをクロム化合物を
用いて酸化する（特開昭５９−８８４５０）等の方法で
得ることができる。
ノンを担体に担持されたパラジウム触媒を用いて水中で
水素と反応させる（特開昭５７−４９３２ ）。または
、シクロヘキサン−１，４−ジオールをクロム化合物を
用いて酸化する（特開昭５９−８８４５０）等の方法で
得ることができる。
４−ヒドロキシシクロヘキサノンとフェノールとの本発
明反応に使用する触媒としては、塩酸のほか、硫酸、リ
ン酸、トルエンスルフォン酸。
明反応に使用する触媒としては、塩酸のほか、硫酸、リ
ン酸、トルエンスルフォン酸。
ＢＦ３． ＺｎＣ１ｚ 、 ＡｌＣｌ３．５ｎＣ１！４
及び移動酸性□基を有する陽イオン交換樹脂などが挙げ
られる。
及び移動酸性□基を有する陽イオン交換樹脂などが挙げ
られる。
これらの触媒の使用量は４−ヒドロキシシクロヘキサノ
ン１００重量部あたり０．１〜３０重量部の範囲である
。また、助触媒の添加により反応速度を高めることも可
能であり、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、
ロープロピルメルカプタン、イソプロとルメルカブタン
、ｎ−ブチル、〈ルカプタン、イソブチルメルカプタン
、ｔ−ブチルメルカプタンの如きアルキルメルカプタン
又は高分子量アルキルメルカプタンなどが活性な助触媒
である。
ン１００重量部あたり０．１〜３０重量部の範囲である
。また、助触媒の添加により反応速度を高めることも可
能であり、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、
ロープロピルメルカプタン、イソプロとルメルカブタン
、ｎ−ブチル、〈ルカプタン、イソブチルメルカプタン
、ｔ−ブチルメルカプタンの如きアルキルメルカプタン
又は高分子量アルキルメルカプタンなどが活性な助触媒
である。
また硫化水素、チオフェノール、チオアルコール、チオ
酸２重合体チオアセトン、ジアルキルスルフィドの如き
他のイオウ化合物やこれらと類似のセレン化合物もまた
用いることができる。
酸２重合体チオアセトン、ジアルキルスルフィドの如き
他のイオウ化合物やこれらと類似のセレン化合物もまた
用いることができる。
本発明反応においては、芳香族炭化水素、塩素化脂肪族
炭化水素、氷酢酸などのような反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒を用いて行なうこともできる。しかしながら、生
成物の収率を高め、かつ副反応を最少にするには過剰量
のフェノールを溶媒とするのが望ましい。使用するフェ
ノールの量は、４−ヒドロキシシクロへキサノン１重量
部あたり２重量部から１０重量部が適当である。
炭化水素、氷酢酸などのような反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒を用いて行なうこともできる。しかしながら、生
成物の収率を高め、かつ副反応を最少にするには過剰量
のフェノールを溶媒とするのが望ましい。使用するフェ
ノールの量は、４−ヒドロキシシクロへキサノン１重量
部あたり２重量部から１０重量部が適当である。
また本発明における反応温度は３０°Ｃから１００℃の
範囲、好ましくは４０°Ｃから７０°Ｃの範囲である。
範囲、好ましくは４０°Ｃから７０°Ｃの範囲である。
反応温度が高いと副生物が増え、収率が低下するので好
ましくない。
ましくない。
本反応によって生成した４、４−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−シクロヘキサノールは、例えばベンゼンな
どの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、反応マスを排
出し、冷却品出させることによって取出すことができる
。
フェニル）−シクロヘキサノールは、例えばベンゼンな
どの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、反応マスを排
出し、冷却品出させることによって取出すことができる
。
また過剰に使用したフェノールは、中和して晶出した塩
をろ別するか、あるいは減圧下で蒸留するなどの方法に
よって回収、再使用することができる。
をろ別するか、あるいは減圧下で蒸留するなどの方法に
よって回収、再使用することができる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
１００＋＋＋１反応フラスコに４−ヒドロキシシクロへ
キサノンＩＬ ４ ｇ（０，１０モル）、フェノール４
７．１．９（０，５０モル）、３６％塩酸６ｍｌを仕込
み、６０°Ｃで４時間撹拌して反応させた。反応終了後
、反応マスを３００ｍ／のベンゼンに排出した。室温で
２時間撹拌したのち、結晶をろ別した。さらに、酢酸エ
チル−ベンゼン中でスラッシングを行ない、ろ過、乾燥
して白６色結晶２２．３９を得た。
キサノンＩＬ ４ ｇ（０，１０モル）、フェノール４
７．１．９（０，５０モル）、３６％塩酸６ｍｌを仕込
み、６０°Ｃで４時間撹拌して反応させた。反応終了後
、反応マスを３００ｍ／のベンゼンに排出した。室温で
２時間撹拌したのち、結晶をろ別した。さらに、酢酸エ
チル−ベンゼン中でスラッシングを行ない、ろ過、乾燥
して白６色結晶２２．３９を得た。
この結晶をカラム分取して得た精結晶はＩＨ−ＮＭＲと
ＩＲにより４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロへキサノールと同定された。融点２１８°Ｃであ
った。
ＩＲにより４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロへキサノールと同定された。融点２１８°Ｃであ
った。
粗結晶の純度９８％、取り出し時の収率７７％であった
。
。
４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サノールの１Ｈ−ＮＭＲデータを表−１に示す。又、こ
れの赤外スペクトルを第１図に示した。
サノールの１Ｈ−ＮＭＲデータを表−１に示す。又、こ
れの赤外スペクトルを第１図に示した。
ｂ ３．４〜３．７
゜４．０〜４．１ −０Ｈ
（溶媒 ＤＭＳＯ）
第１図は実施例で得られた４、４−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロへキサノールの赤外スペクトル。
シフェニル）−シクロへキサノールの赤外スペクトル。
Claims (2)
- （１）、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シ
クロヘキサノール。 - （２）、４−ヒドロキシシクロヘキサノンとフェノール
とを反応させることを特徴とする４，４−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−シクロヘキサノールの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18522186A JPH0660118B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 |
| US07/062,674 US4723046A (en) | 1986-06-23 | 1987-06-16 | Process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| CA000540146A CA1267159A (en) | 1986-06-23 | 1987-06-19 | Process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| AU74516/87A AU603109B2 (en) | 1986-06-23 | 1987-06-19 | 4,4-Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexanol and process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| EP87305507A EP0251614B1 (en) | 1986-06-23 | 1987-06-22 | Process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| DE8787305507T DE3770059D1 (de) | 1986-06-23 | 1987-06-22 | Verfahren zur herstellung von 4,4'-bis-phenol. |
| KR1019870006365A KR900001284B1 (ko) | 1986-06-23 | 1987-06-23 | 4,4'-비페놀의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18522186A JPH0660118B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341433A true JPS6341433A (ja) | 1988-02-22 |
| JPH0660118B2 JPH0660118B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=16166996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18522186A Expired - Fee Related JPH0660118B2 (ja) | 1986-06-23 | 1986-08-08 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660118B2 (ja) |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP18522186A patent/JPH0660118B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0660118B2 (ja) | 1994-08-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |