JPS6341445A - 液晶組成物および液晶素子 - Google Patents
液晶組成物および液晶素子Info
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- JPS6341445A JPS6341445A JP61186579A JP18657986A JPS6341445A JP S6341445 A JPS6341445 A JP S6341445A JP 61186579 A JP61186579 A JP 61186579A JP 18657986 A JP18657986 A JP 18657986A JP S6341445 A JPS6341445 A JP S6341445A
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- Japan
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- formula
- optically active
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
汰A已■よ
木仝(!11は新規な液晶性化合物、それを含有する液
晶組成物および該液晶組成物を使用する液晶7Kr−に
関するものである。
晶組成物および該液晶組成物を使用する液晶7Kr−に
関するものである。
1正且遣
従来の液晶、に子としては1例えば工J・・シャット(
M、5chadt )とタブリュー・ヘルフリヒ(W、
He1frieh) ’A 、 ” アプライド、フィ
ズイクス、レターズ°゛ 18巻4号(” Appli
ed PhysicsLetters”、 Vol、I
8. No、4 ) (+971.2.15) 、
P。
M、5chadt )とタブリュー・ヘルフリヒ(W、
He1frieh) ’A 、 ” アプライド、フィ
ズイクス、レターズ°゛ 18巻4号(” Appli
ed PhysicsLetters”、 Vol、I
8. No、4 ) (+971.2.15) 、
P。
127〜128の「涙れネマチック液晶の電圧依存光学
卒f)JJ (” Voltage −Depen
dent 0pticalActivit7 at
a Ti+1sjed Nematic Liquid
Cr7stal°°)に記載されたTN(ツィステッ
ド・ネマチック)液晶を用いたものが知られている。し
かしながら、このTN液晶は1画素密度を高くしたマト
リクス電極構造を用いた時分113駆動の時、クロスト
ークを発生する問題点があるため、画素数が制限されて
いた。また、電界応答がどく視野角特性が、巴いために
デイスプレィとしての用途は限定されていた。
卒f)JJ (” Voltage −Depen
dent 0pticalActivit7 at
a Ti+1sjed Nematic Liquid
Cr7stal°°)に記載されたTN(ツィステッ
ド・ネマチック)液晶を用いたものが知られている。し
かしながら、このTN液晶は1画素密度を高くしたマト
リクス電極構造を用いた時分113駆動の時、クロスト
ークを発生する問題点があるため、画素数が制限されて
いた。また、電界応答がどく視野角特性が、巴いために
デイスプレィとしての用途は限定されていた。
更に、各画素に薄膜トランジスタによるスイッチング素
子を接続し、各画宋毎をスイッチングする方式の表示、
+3子が知られているが、ノ、(板」;に薄膜トランジ
スタを形成する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素
子を作成することが難しい問題点がある。
子を接続し、各画宋毎をスイッチングする方式の表示、
+3子が知られているが、ノ、(板」;に薄膜トランジ
スタを形成する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素
子を作成することが難しい問題点がある。
このような従来型の液晶素子の欠点を改Rするものとし
て、双安定性を有する液晶素子の使用が、クラーク(C
1ark)およびラガウェル(Lagerwall)に
より提案されている(特開昭56−10721fi号公
報、米国特許第4367924号明細、1)等)、双安
定性を右する液晶としては、一般に、カイラルスメタテ
ィックC相(SmC”)又はH相(SmH”)を有する
強誘電性液晶が用いられる。
て、双安定性を有する液晶素子の使用が、クラーク(C
1ark)およびラガウェル(Lagerwall)に
より提案されている(特開昭56−10721fi号公
報、米国特許第4367924号明細、1)等)、双安
定性を右する液晶としては、一般に、カイラルスメタテ
ィックC相(SmC”)又はH相(SmH”)を有する
強誘電性液晶が用いられる。
この強誘電性液晶は自発分極を有するために非常に速い
応答速度をイ1する」二にメモリー性のある双安定状態
を発現させることができさらに視テ?角特性もすぐれて
いることから人界!IX犬画面のデイスプレィとして適
している。
応答速度をイ1する」二にメモリー性のある双安定状態
を発現させることができさらに視テ?角特性もすぐれて
いることから人界!IX犬画面のデイスプレィとして適
している。
色几立ユ血
本発明は上記の点に鑑みなされたものである。
未発151は液晶状態の制御に有用な液晶性化合物およ
びこれを含む液晶組成物ならびに該液晶組成物を使用す
る液晶素子を提供することを目的とする。
びこれを含む液晶組成物ならびに該液晶組成物を使用す
る液晶素子を提供することを目的とする。
LLΩ〕L亥
すなわち、本発明は一般式(I)
(ただし、Rは(R素数1−18のアルキル基を示し、
C1は不斉炭素原子を示す R1は炭素数4〜18のフ
ルキルノ、(もしくはアルコ午シ基ヲ示し、舎は、−@
−もしくは(Nを示す、Xは0またはl、yは1〜8を
示す、) で表わされる光学活性な液晶性化合物を提供するもので
ある。
C1は不斉炭素原子を示す R1は炭素数4〜18のフ
ルキルノ、(もしくはアルコ午シ基ヲ示し、舎は、−@
−もしくは(Nを示す、Xは0またはl、yは1〜8を
示す、) で表わされる光学活性な液晶性化合物を提供するもので
ある。
また7に発1!IIは1−記光学活性な液晶性化合物を
少なくとも1種類配合成分として含有する液晶組成物な
らびに該液晶Ml成物を使用する液晶M子をも提供する
。
少なくとも1種類配合成分として含有する液晶組成物な
らびに該液晶Ml成物を使用する液晶M子をも提供する
。
夏 の 1− ・ LLi
本発明にしたがい、前記式(I)の液晶性化合物を製逍
する方法を説明する。
する方法を説明する。
まず出発D;〔料として下記一般式(II )CH。
嘗
HO(C1−[2)−V CH(CH2)−xOR(I
I)(ここで、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示し
、C1は不斉炭素原子を示す、Xは0またはt、yは1
〜8を示す、) で表わされる光学活性アルコールを用いる。この式(1
1)で示される光学活性アルコールは、一般式(ロ) (ここで、Roは低級アルキノレノ、(、C2は不斉1
欠素原子を示し、X、ZはOまたは1を示し、Xが0の
時ZはOまたはlであり、Xが1のとき2は0である。
I)(ここで、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示し
、C1は不斉炭素原子を示す、Xは0またはt、yは1
〜8を示す、) で表わされる光学活性アルコールを用いる。この式(1
1)で示される光学活性アルコールは、一般式(ロ) (ここで、Roは低級アルキノレノ、(、C2は不斉1
欠素原子を示し、X、ZはOまたは1を示し、Xが0の
時ZはOまたはlであり、Xが1のとき2は0である。
)
で表わされる化合物、!L体的には2−ヒドロキシプロ
ピオン酸アルキルエステル、3−ヒドロキシ酪酸アルキ
ルエステルおよび3−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
ン酸アルキルエステルより、下記反応丁程弐G、 l
)および(2)に従っであるいは工程式(2)を繰り返
すことによって容易に合成することができる。
ピオン酸アルキルエステル、3−ヒドロキシ酪酸アルキ
ルエステルおよび3−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
ン酸アルキルエステルより、下記反応丁程弐G、 l
)および(2)に従っであるいは工程式(2)を繰り返
すことによって容易に合成することができる。
工且−CH。
HO(CH2)7XCH(CH2)z Coo−Re
([[I)↓AgzO/Rx CH。
([[I)↓AgzO/Rx CH。
RO4CHt )x CH(CH2)Z C00RO↓
LiAl84 CH。
LiAl84 CH。
1104CH2) x CH(CH2) z CHx
Of((Iり −1北 ?・・ ↓GHz (COOC2Hs ) 2 CH。
Of((Iり −1北 ?・・ ↓GHz (COOC2Hs ) 2 CH。
■
R04CHt 3” X CH(CH2) z CH2
CH(COOC2Hs ) 2 ’LH2S
o。
CH(COOC2Hs ) 2 ’LH2S
o。
CH。
1AI84
CH。
曇
−0(CH2>−xCM(CHt)z CHt −Br
CH2 門 CH。
CH2 門 CH。
1(CH2)−、CH(CI、)z cti、CH2C
l、OHヒ記反15式におけるRIは炭素数の広い範囲
にわたって選択することが可能であり、囲体的にはヨー
ドブタン、ヨードペンタン、ヨードヘキサン、ヨードヘ
プタン、ヨードオクタン、ヨードノナン、ヨードデカン
、ヨードウンデカン、ヨードドデカン、ヨードトリデカ
ン、ヨードテトラデカン、ヨードペンタデカン、ヨード
ヘキサデカン。
l、OHヒ記反15式におけるRIは炭素数の広い範囲
にわたって選択することが可能であり、囲体的にはヨー
ドブタン、ヨードペンタン、ヨードヘキサン、ヨードヘ
プタン、ヨードオクタン、ヨードノナン、ヨードデカン
、ヨードウンデカン、ヨードドデカン、ヨードトリデカ
ン、ヨードテトラデカン、ヨードペンタデカン、ヨード
ヘキサデカン。
ヨードヘプタデカン、ヨードオクタデカン、ヨードノナ
デカン、ヨードエイコサン等の直鎖状飽和炭化水素ヨウ
化物:2−ヨードブタン、1−ヨード−2−メチルプロ
パン、l−ヨード−3−メチルブタン等の分岐状飽和炭
化水素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨードフェナシル、
3−ヨード−1−シクロヘキセン等の環状不飽和炭化水
素ヨウ化物:ヨードシクロペンタン、ヨードシクロヘキ
サン、1−ヨード−3−メチルシクロヘキサン。
デカン、ヨードエイコサン等の直鎖状飽和炭化水素ヨウ
化物:2−ヨードブタン、1−ヨード−2−メチルプロ
パン、l−ヨード−3−メチルブタン等の分岐状飽和炭
化水素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨードフェナシル、
3−ヨード−1−シクロヘキセン等の環状不飽和炭化水
素ヨウ化物:ヨードシクロペンタン、ヨードシクロヘキ
サン、1−ヨード−3−メチルシクロヘキサン。
ヨードシクロへブタン、ヨードシクロオクタン等の環状
飽和炭化水素ヨウ化物がある。
飽和炭化水素ヨウ化物がある。
式(II )で示される光学活性アルコールの代表的な
合成例を以下に示す。
合成例を以下に示す。
例」。
2−ブトキシプロパノールの合成(x=0.y= 1.
R= n−C4N9−) L−(十)−乳酸エチル31.5g、!=1−ヨードブ
タン107.3gを四ツロフラスコへ混合し、新しく合
成したAg2Oを2時間で加えた。
R= n−C4N9−) L−(十)−乳酸エチル31.5g、!=1−ヨードブ
タン107.3gを四ツロフラスコへ混合し、新しく合
成したAg2Oを2時間で加えた。
室温にて15 nNj間放間抜4後2001−テルにて
希釈し濾過したのちエーテルを留去した。残分を5%K
OH水溶液100壇1にて洗?’rl後、無水Na25
O*にて乾燥して減圧蒸ンL 10°C154mmHg
の留分を集めると23gの(−)−エチル−2−ブトt
−ジプロピオネートが得られた。旋光度[α声 =−7
3°。
希釈し濾過したのちエーテルを留去した。残分を5%K
OH水溶液100壇1にて洗?’rl後、無水Na25
O*にて乾燥して減圧蒸ンL 10°C154mmHg
の留分を集めると23gの(−)−エチル−2−ブトt
−ジプロピオネートが得られた。旋光度[α声 =−7
3°。
LiAlH42,0gを100傷lのエーテルに加え、
3時間撹拌したものへ、(−)−エチル−2−ブトキシ
プロピオネート12.7gを滴下した0滴下終了後15
分々袢をつづけた。その接水50m15J:び10%H
2So4水溶液501を加えた。エーテル層を分離し、
M g S O4にて乾燥した。濾過してエーテルを留
去した。収諺7.4g、旋光度[α]” : + 24
、4°。
3時間撹拌したものへ、(−)−エチル−2−ブトキシ
プロピオネート12.7gを滴下した0滴下終了後15
分々袢をつづけた。その接水50m15J:び10%H
2So4水溶液501を加えた。エーテル層を分離し、
M g S O4にて乾燥した。濾過してエーテルを留
去した。収諺7.4g、旋光度[α]” : + 24
、4°。
涯」
3−ペンチルオキシブタノールの合成(X=0、y=2
.R=n−Cs Ho−) (R)−(−)−3−ヒドロキシ醋酸メチル92.1g
とヨウ化ペンチル389gをフラスコへ加へN2気流下
で混合した。新しく合成したAgzo 271gを加
え、60〜65℃で26時間撹拌し、さらにAg2O5
4,2gを加え60〜65゛で58時間攪拌した。p通
接、濾過物をエーテルでよく洗い、p液のエーテルをq
1去した後、減圧蒸!WL、 112〜l 31 ’
C/ 59monHgの留分として64.6gのメチル
3−ペンチルオキシブチレートが得られた。
.R=n−Cs Ho−) (R)−(−)−3−ヒドロキシ醋酸メチル92.1g
とヨウ化ペンチル389gをフラスコへ加へN2気流下
で混合した。新しく合成したAgzo 271gを加
え、60〜65℃で26時間撹拌し、さらにAg2O5
4,2gを加え60〜65゛で58時間攪拌した。p通
接、濾過物をエーテルでよく洗い、p液のエーテルをq
1去した後、減圧蒸!WL、 112〜l 31 ’
C/ 59monHgの留分として64.6gのメチル
3−ペンチルオキシブチレートが得られた。
次にL i A I Ha 9 、4 gを310m1
のエーテルに加え、メチル3−ペンチルオキシブチレー
ト63.6gのエーテル61m1溶液を、10℃以下で
21141間かけて滴下した0滴下終了後20〜25℃
で2.5時間攪拌後、15時間放置した。
のエーテルに加え、メチル3−ペンチルオキシブチレー
ト63.6gのエーテル61m1溶液を、10℃以下で
21141間かけて滴下した0滴下終了後20〜25℃
で2.5時間攪拌後、15時間放置した。
その後、11!酸水溶液にて酸性としくpH1)。
エーテル8111出した。エーテル層を水、5%NaH
COs水溶液、水の順に洗い、Mg5O,にて乾燥した
。濾過して減圧蒸留し、127〜131”C/ 50
m m Hg (7)留分として3.4.2gの3−ペ
ンチルオキシブタノールが得られた。生成物について、
以下のIRデータがtltられた。
COs水溶液、水の順に洗い、Mg5O,にて乾燥した
。濾過して減圧蒸留し、127〜131”C/ 50
m m Hg (7)留分として3.4.2gの3−ペ
ンチルオキシブタノールが得られた。生成物について、
以下のIRデータがtltられた。
IR(cm−’):
3360.2970〜2870.1370、LO90゜
九」
3−エチルオキシ−2−メチルプロパツールの合成(x
=1.y=l、R=C2H5)(R)−C−)−3−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチルloogとヨ
ウ化エチル331gをフラスコへ加え、N2気流下で′
84合した。
=1.y=l、R=C2H5)(R)−C−)−3−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチルloogとヨ
ウ化エチル331gをフラスコへ加え、N2気流下で′
84合した。
新しく合成L タA g 20 294 gを加え、6
0〜65℃で20時間撹拌した。pi後、7j過物をエ
ーテルで洗い gj液のエーテル紮留去した後。
0〜65℃で20時間撹拌した。pi後、7j過物をエ
ーテルで洗い gj液のエーテル紮留去した後。
減圧ノqt:Rし、100−110℃/ L 50 m
m Hgの留分として、87gの3−エチルオキシ−
2−メチルプロピオン酸メチルが得られた。
m Hgの留分として、87gの3−エチルオキシ−
2−メチルプロピオン酸メチルが得られた。
次にL i A I Ha 18 、5 gを610
1111のエーテルに加え、3−エチルオキシ−2−メ
チルプロピオン酸メチル87gのエーテル1221溶液
を、10″C以下で6時間かけて滴下した0滴下後、2
0〜25℃で2.5時間撹拌した後、15時間室温で放
置した。その後5%塩酸水溶液にて酸性とし、エーテル
抽出した。エーテル層を水。
1111のエーテルに加え、3−エチルオキシ−2−メ
チルプロピオン酸メチル87gのエーテル1221溶液
を、10″C以下で6時間かけて滴下した0滴下後、2
0〜25℃で2.5時間撹拌した後、15時間室温で放
置した。その後5%塩酸水溶液にて酸性とし、エーテル
抽出した。エーテル層を水。
5%NaHCO,水溶液、水の順に洗い、Mg5o、に
て乾燥した。エーテル留去後、減圧蒸留し、tto N
115℃/155mmHgの留分として、39gの3−
エチルオキシ−2−メチルプロパツールが得られた。
て乾燥した。エーテル留去後、減圧蒸留し、tto N
115℃/155mmHgの留分として、39gの3−
エチルオキシ−2−メチルプロパツールが得られた。
I R: (am−’) :
3380.2980〜2870.1380.1110.
1040゜ 4−n−オクチルオキシペンタノール(X=0.7=3
、R=n−C6H13−) L−(+)−乳酸エチル98g、ヨウ化オクチル380
gおよび酸化ff1245gを加え、60℃で1611
シ間If ff−L、た、不溶物をp老後、減圧ノ本I
Wし、tto−、t3o℃/ 3 m m Hgの留分
として、2−オクチルオキシプロピオン酸エチル77g
を得た。
1040゜ 4−n−オクチルオキシペンタノール(X=0.7=3
、R=n−C6H13−) L−(+)−乳酸エチル98g、ヨウ化オクチル380
gおよび酸化ff1245gを加え、60℃で1611
シ間If ff−L、た、不溶物をp老後、減圧ノ本I
Wし、tto−、t3o℃/ 3 m m Hgの留分
として、2−オクチルオキシプロピオン酸エチル77g
を得た。
次に、ジエチルエーテル250m1にLiAIH,7,
5gを加え、しばらく攪キi後、」−記エステル体56
gのジエチルエーテル50m1溶液を5℃以下で2時間
かけて滴下し1滴下後室温で2時間攪拌し、さらに15
時間放とした0反応終了後5%塩酸30m1を加え、さ
らに6 N rg!酸で11!酸酸性(P H−1)と
し、エーテル抽出した。水洗後、乾燥し、溶媒を留去し
た。減圧蒸留し。
5gを加え、しばらく攪キi後、」−記エステル体56
gのジエチルエーテル50m1溶液を5℃以下で2時間
かけて滴下し1滴下後室温で2時間攪拌し、さらに15
時間放とした0反応終了後5%塩酸30m1を加え、さ
らに6 N rg!酸で11!酸酸性(P H−1)と
し、エーテル抽出した。水洗後、乾燥し、溶媒を留去し
た。減圧蒸留し。
107℃/ 3 +a++Hgの留分として2−オクチ
ルレオキシプロパツール39.5gを(すた。
ルレオキシプロパツール39.5gを(すた。
次に上記アルコール体70gにピリジン2301を加え
、攪拌下、トシルクロライド85[を10℃以下で30
分かけて加えた。この温度で15分攪拌後、昇温して2
0〜24℃で3.5時間攪拌した。冷水に注入後、ベン
ゼン抽出し、5%11!酸、木の順で洗tII+ L
、乾燥した。ベンゼンを留去し、(2−オクチルオキシ
プロピル)p−)ルエンスルホネー)127gを得た。
、攪拌下、トシルクロライド85[を10℃以下で30
分かけて加えた。この温度で15分攪拌後、昇温して2
0〜24℃で3.5時間攪拌した。冷水に注入後、ベン
ゼン抽出し、5%11!酸、木の順で洗tII+ L
、乾燥した。ベンゼンを留去し、(2−オクチルオキシ
プロピル)p−)ルエンスルホネー)127gを得た。
エタノール2201中に95%ナトリウムエトキシド2
6.7gを加え、攪拌下、98%マロン酸ジエチル73
.1gを36〜38@で50分かけて滴下した。さらに
30分攪拌後、」;記トシレート体127gを36〜3
8℃で1時間かけて滴下した。さらに15分攪拌後、昇
温し、18時間還流した0反応後氷水を注入し、ベンゼ
ン抽出し、水洗後、乾燥した。溶媒留去して、149g
の4−才クチルオキシ−2−エトキシカルボニル吉草酸
エチルを得た。
6.7gを加え、攪拌下、98%マロン酸ジエチル73
.1gを36〜38@で50分かけて滴下した。さらに
30分攪拌後、」;記トシレート体127gを36〜3
8℃で1時間かけて滴下した。さらに15分攪拌後、昇
温し、18時間還流した0反応後氷水を注入し、ベンゼ
ン抽出し、水洗後、乾燥した。溶媒留去して、149g
の4−才クチルオキシ−2−エトキシカルボニル吉草酸
エチルを得た。
次いで、85%KO388,5gを木90m1に溶かし
、上記エステル体149gを20〜25℃で50分かけ
て滴下し、30分攪拌後、2時間還流した。冷ノコ1後
、15℃以下に保ち、C硫酸153gを木1961に溶
かし、これを1時間かけて滴下した。30分攪拌後、3
時間還流した。室温まで冷却した後ベンゼンで抽出した
。ベンゼン層を5%NaOH水溶液で洗い、水層に加え
た。水層を6N塩酸で酸性(pH1)とし、ベンゼン抽
出、水洗を行い、無水Mg5O,で乾燥した。溶媒を留
ノiして、4−オクチルオキシ吉f:i酸54gを得た
。
、上記エステル体149gを20〜25℃で50分かけ
て滴下し、30分攪拌後、2時間還流した。冷ノコ1後
、15℃以下に保ち、C硫酸153gを木1961に溶
かし、これを1時間かけて滴下した。30分攪拌後、3
時間還流した。室温まで冷却した後ベンゼンで抽出した
。ベンゼン層を5%NaOH水溶液で洗い、水層に加え
た。水層を6N塩酸で酸性(pH1)とし、ベンゼン抽
出、水洗を行い、無水Mg5O,で乾燥した。溶媒を留
ノiして、4−オクチルオキシ吉f:i酸54gを得た
。
乾燥エーテル210s+l中にL i A I H41
0gを加え攪拌下、上記カルボン酸54gのエーテル7
0m1溶液を、2〜6℃に保ちながら70分かけて滴下
した。′tF4下後、23℃まで昇温し3時間攪拌した
。12時開放2H&、 5%塩酸を15℃以下に保ちな
がら加え、塩酸酸性とした後、エーテル抽出し、水、5
%NaOH水溶液、木の順に洗い、無水MgSO4で乾
燥した。溶媒留去し、ついで減圧蒸留し、150℃15
−■H,の留分として(S)−4−オクチルオキシペン
タノールlogを得た。
0gを加え攪拌下、上記カルボン酸54gのエーテル7
0m1溶液を、2〜6℃に保ちながら70分かけて滴下
した。′tF4下後、23℃まで昇温し3時間攪拌した
。12時開放2H&、 5%塩酸を15℃以下に保ちな
がら加え、塩酸酸性とした後、エーテル抽出し、水、5
%NaOH水溶液、木の順に洗い、無水MgSO4で乾
燥した。溶媒留去し、ついで減圧蒸留し、150℃15
−■H,の留分として(S)−4−オクチルオキシペン
タノールlogを得た。
IR(am−’):
3360.2970〜2860.1460゜1370.
1340、toao。
1340、toao。
前記一般式(11)に示される光学活性アルコールを用
い1次に示す反応工程式により、一般式(I)で示され
る光学11’i性な液晶性化合物をイl多ることができ
る。
い1次に示す反応工程式により、一般式(I)で示され
る光学11’i性な液晶性化合物をイl多ることができ
る。
本発明の液晶組成物は、上記一般式(I)で表わされる
光学活性な液晶性化合物を少なくとも1種類配合成分と
して含有するものである。
光学活性な液晶性化合物を少なくとも1種類配合成分と
して含有するものである。
L記組成物のうち下式(1)〜(13)に代表して示さ
れるような強誘電性液晶を配合成分とするものは、自発
分極を増大させることが可能でありさらに粘度を低下さ
せる効果とあいまって応答速度を、3.、;することが
でき好ましい、このような場合には一般式(I)で示さ
れる本発明の光学活性な液晶性化合物を、得られる液晶
組成物の001〜99重量%、特に1〜90@詐%とな
る割合で使用することが好ましい。
れるような強誘電性液晶を配合成分とするものは、自発
分極を増大させることが可能でありさらに粘度を低下さ
せる効果とあいまって応答速度を、3.、;することが
でき好ましい、このような場合には一般式(I)で示さ
れる本発明の光学活性な液晶性化合物を、得られる液晶
組成物の001〜99重量%、特に1〜90@詐%とな
る割合で使用することが好ましい。
フェニルエステル
42 43.5 58.5
62Cryst、 −一→SaC” −−→ S
mA−一→Ch、 −→Iso。
62Cryst、 −一→SaC” −−→ S
mA−一→Ch、 −→Iso。
フェニルエステル
Crygt、−ラ SmA −ラ Iso。
!6へ5IIIC” 、/43.5
フエニルエステル
Cryst、 −〉5elll: ” −−→SmA−
−ラrso。
−ラrso。
フェニルエステル
Sf ” 、/48
フェニルエステル
49 52 e5Cryst
、 −一→SaC” −一→、 S+aA−+rso
。
、 −一→SaC” −一→、 S+aA−+rso
。
−メチルブチルシンナメート(DOBAMBC)CH。
−COOCHt CHC2Hs
4.4′−7ゾキシシンナミツクアシツドービス(2−
メチルブチル)エステルオクチルオキシビフェニル−4
−カルポキシレートビフェニル−4′−カルボキンレー
ト 結晶 83.4”Cう コレステリック相 旦(19等
方相SmC’ 74.3 ”C二 S mA 81
.0℃また下式【)〜5)で示されるようなそれ自体は
カイラルでないスメクチック液晶に配合することにより
強誘電性液晶として使用可能な組成物が得られる。
メチルブチル)エステルオクチルオキシビフェニル−4
−カルポキシレートビフェニル−4′−カルボキンレー
ト 結晶 83.4”Cう コレステリック相 旦(19等
方相SmC’ 74.3 ”C二 S mA 81
.0℃また下式【)〜5)で示されるようなそれ自体は
カイラルでないスメクチック液晶に配合することにより
強誘電性液晶として使用可能な組成物が得られる。
この場合、一般式CI)で示される本発明の光学活性な
液晶性化合物を得られる液晶組成物の0.1〜99重駿
%、特に1〜90重量%で使用することが好ましい。
液晶性化合物を得られる液晶組成物の0.1〜99重駿
%、特に1〜90重量%で使用することが好ましい。
4.4゛−デシルオキシアゾギシベンゼンCr7sL、
7亘45m1ヶ迦Δ4Nぐ訟ビ%I30・フェニル
)ピリミジン Cryst、 120℃ Si 189”CSaA
一度シI so −−一−−−−謝 ・り 2−(4’−オクチルオキシフェニル)−5−ノニルピ
リミジンCryst、 33℃ SmC60℃
SmA 75℃ Iso。
7亘45m1ヶ迦Δ4Nぐ訟ビ%I30・フェニル
)ピリミジン Cryst、 120℃ Si 189”CSaA
一度シI so −−一−−−−謝 ・り 2−(4’−オクチルオキシフェニル)−5−ノニルピ
リミジンCryst、 33℃ SmC60℃
SmA 75℃ Iso。
−?(−一一一二ν 々−−−−り4′−ペンチ
ルオキシフェニル−4−オクチルオキシベンゾエートC
ryst、 58℃ 5lIIC64℃ SwA
86℃ N 85℃ Iso。
ルオキシフェニル−4−オクチルオキシベンゾエートC
ryst、 58℃ 5lIIC64℃ SwA
86℃ N 85℃ Iso。
−−一−=り −鴨 −−一−り −
−−−−さここで、記号は、それぞれ以下の相を示す。
−−−−さここで、記号は、それぞれ以下の相を示す。
Cryst、 :結晶相、 SaA :ス
メクチックA相。
メクチックA相。
5IIIO=スメクチックB相、5lIC:スメクチッ
クC相、N :ネマチック相、 Iso、二等
方相。
クC相、N :ネマチック相、 Iso、二等
方相。
また、上記一般式(1)の光学活性な液晶性化合物は、
ネマチック液晶に添加することにより、TN型セルにお
けるリバースドメインの発生を防+f−することに有効
である。
ネマチック液晶に添加することにより、TN型セルにお
けるリバースドメインの発生を防+f−することに有効
である。
この場合1式(I)の光学活性な液晶性化合物をネマチ
ック液晶に添加することにより得られる液晶組成物の0
.01〜50%量%の割合で式(I)の光学活性な液晶
性化合物を使用することが好ましい。
ック液晶に添加することにより得られる液晶組成物の0
.01〜50%量%の割合で式(I)の光学活性な液晶
性化合物を使用することが好ましい。
またネマチ7り液晶もしくはカイラルネマチッり液晶に
添加することにより、カイラルネマチック液晶として、
相転移型液晶素子やホワイ)−ティラー形ゲスト・ホス
ト型液晶素子に液晶組成物として使用することが可能で
ある。
添加することにより、カイラルネマチック液晶として、
相転移型液晶素子やホワイ)−ティラー形ゲスト・ホス
ト型液晶素子に液晶組成物として使用することが可能で
ある。
第1図は1強誘電性液晶の動作説明のために。
セルの例を模式的に描いたものである。11aと、ll
bは、それぞれI n203.5 n02あるいはI
T O(Indium −Tin 0w1de)iの薄
膜からなる透Ij+電極で被覆された基板(ガラス板)
であり、その間に液晶分子居12がガラス面に垂直にな
るよう配向したSmc”相又はSmH”相の液晶が封入
されている。太線で示した!i13が液晶分子を表わし
ており、この液晶分子13はその分子に直交した方向に
双極子モーメント(P工)14を有している。ノフ板2
1とttb上の電極間に一定の闇値以上の電圧を印加す
ると、液晶分子13のらせん構造がほどけ、双極子モー
メント(Pよ)14がすべて電界方向に向くよう、液晶
分子13は配向方向を変えることができる。液晶分子1
3は、細長い形状を有しており、その長袖方向と短軸方
向で屈折率異方性を示し、従って例えばガラス面の上下
に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、?11圧印加
極性によって光学特性が変わる液晶光学変調素子となる
ことは、容易に理解される。
bは、それぞれI n203.5 n02あるいはI
T O(Indium −Tin 0w1de)iの薄
膜からなる透Ij+電極で被覆された基板(ガラス板)
であり、その間に液晶分子居12がガラス面に垂直にな
るよう配向したSmc”相又はSmH”相の液晶が封入
されている。太線で示した!i13が液晶分子を表わし
ており、この液晶分子13はその分子に直交した方向に
双極子モーメント(P工)14を有している。ノフ板2
1とttb上の電極間に一定の闇値以上の電圧を印加す
ると、液晶分子13のらせん構造がほどけ、双極子モー
メント(Pよ)14がすべて電界方向に向くよう、液晶
分子13は配向方向を変えることができる。液晶分子1
3は、細長い形状を有しており、その長袖方向と短軸方
向で屈折率異方性を示し、従って例えばガラス面の上下
に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、?11圧印加
極性によって光学特性が変わる液晶光学変調素子となる
ことは、容易に理解される。
本発明の光学変調素子で好ましく用いられる液晶セルは
、その厚さを充分に薄く(例えば10終以下)すること
ができる、このように液晶層が薄くなるにしたがい、第
2図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメン)Paま
たはPbは上向き(24a)又は下向き(24b)のど
ちらかの状態をとる。このようなセルに、第2図に示す
如く一定の闇値以上の極性の異る電界Ea又はEbを電
圧印加手段21aと21bにより付与すると、双極子モ
ーメントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応し
て上向き24a又は下向き24bと向きを変え、それに
応じて液晶分子は。
、その厚さを充分に薄く(例えば10終以下)すること
ができる、このように液晶層が薄くなるにしたがい、第
2図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメン)Paま
たはPbは上向き(24a)又は下向き(24b)のど
ちらかの状態をとる。このようなセルに、第2図に示す
如く一定の闇値以上の極性の異る電界Ea又はEbを電
圧印加手段21aと21bにより付与すると、双極子モ
ーメントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応し
て上向き24a又は下向き24bと向きを変え、それに
応じて液晶分子は。
第1の安定状態23aかあるいは第2の安定状態23b
の何れか1方に配向する。
の何れか1方に配向する。
このような強誘電性を光学変調素子として用いることの
利点は、先にも述べたが2つある。
利点は、先にも述べたが2つある。
その第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2は
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を1例えば第2図によって更に説明すると、電界Ea
を印加すると液晶分子は第1の安定状態23aに配向す
るが、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向
きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態
23bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留っている。又。
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を1例えば第2図によって更に説明すると、電界Ea
を印加すると液晶分子は第1の安定状態23aに配向す
るが、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向
きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態
23bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留っている。又。
与える電界EaあるいはEbが一定の闇値を越えない限
り、それぞれ前の配向状態にやはり維持されている。こ
のような応答速度の速さと、双安定性が有効に実現され
るにはセルとしては出来るだけ薄い方が好ましく、一般
的には0.51L〜20終、特に1μ〜5#Lが適して
いる。
り、それぞれ前の配向状態にやはり維持されている。こ
のような応答速度の速さと、双安定性が有効に実現され
るにはセルとしては出来るだけ薄い方が好ましく、一般
的には0.51L〜20終、特に1μ〜5#Lが適して
いる。
次に強誘電性液晶の駆動法の具体例を、t53図〜第5
図を用いて説明する。
図を用いて説明する。
第3図は、中間に強誘電性液晶化合物(図示せず)が挾
まれたマトリクス電極構造を有するセル31の模式図で
ある。32は、走査電極群であり、33は信号電極群で
ある。最初に走査電極SIが選択された場合について述
べる。第4図(a)と第4図(b)は走査信号であって
、それぞれ選択された走査電極Slに印加される電気信
号とそれ以外の走査゛Iシ極(選択されない走査型J4
)S2 、St 、S4 ・拳・に印加される電気信号
を示している。第4図(C)と第4図(d)は、情ti
lI信号であってそれぞれ選択された信号電極I、、I
、、I、と選択されない信号電極I2.I、に与えられ
る電気信号を示している。
まれたマトリクス電極構造を有するセル31の模式図で
ある。32は、走査電極群であり、33は信号電極群で
ある。最初に走査電極SIが選択された場合について述
べる。第4図(a)と第4図(b)は走査信号であって
、それぞれ選択された走査電極Slに印加される電気信
号とそれ以外の走査゛Iシ極(選択されない走査型J4
)S2 、St 、S4 ・拳・に印加される電気信号
を示している。第4図(C)と第4図(d)は、情ti
lI信号であってそれぞれ選択された信号電極I、、I
、、I、と選択されない信号電極I2.I、に与えられ
る電気信号を示している。
第4図および第5図においては、それぞれ横軸が時間を
、縦軸が電圧を表す0例えば、動画を表示するような場
合には、走査電極群32は逐次。
、縦軸が電圧を表す0例えば、動画を表示するような場
合には、走査電極群32は逐次。
周期的に選択される。今、所定の電圧印加時間1、また
はt2に対して双安定性を有する液晶セルの、第1の安
定状態を与えるためのは1値電圧を−v th、とし、
2の安定状!Eを与えるための閏イ1/I電圧を+v
th2とすると、選択された走査電極32(S+)に与
えられる電極信号は、第4図(a)に示される如く位相
(時間)1+では、2Vを1位相(時間)t2では、−
2Vとなるような交番する電圧である。このように選択
された走査電極に互いに電圧の異なる複数の位相間隔を
有する電気信号を印加すると、光学的「暗」あるいは「
明」状態に相当する液晶のhl lあるいは第2の安定
状態間での状態変化を、速やかに起こさせることができ
るという重要な効果が得られる。
はt2に対して双安定性を有する液晶セルの、第1の安
定状態を与えるためのは1値電圧を−v th、とし、
2の安定状!Eを与えるための閏イ1/I電圧を+v
th2とすると、選択された走査電極32(S+)に与
えられる電極信号は、第4図(a)に示される如く位相
(時間)1+では、2Vを1位相(時間)t2では、−
2Vとなるような交番する電圧である。このように選択
された走査電極に互いに電圧の異なる複数の位相間隔を
有する電気信号を印加すると、光学的「暗」あるいは「
明」状態に相当する液晶のhl lあるいは第2の安定
状態間での状態変化を、速やかに起こさせることができ
るという重要な効果が得られる。
一方、それ以外の走査電極S2〜S、・・・は、i4図
(b)に示す如くアース状態となっており、電気信号O
である。また、選択された信号電極I4.13.Isに
午えられる電気信号は。
(b)に示す如くアース状態となっており、電気信号O
である。また、選択された信号電極I4.13.Isに
午えられる電気信号は。
第4図(C)に示される如くvであり、また選択されな
い信号電極I2.1.に与えられる電気信号は、第4図
(d)に示される如<−Vである。
い信号電極I2.1.に与えられる電気信号は、第4図
(d)に示される如<−Vである。
以上に於て各)/の電圧値は、以下の関係を満足する所
望のイ16に設定される。
望のイ16に設定される。
V < V th 2 < 3 V
−3V<−Vth、 <−V
この様な電気信号が享えられたときの各l1Ti素のう
ち1例えば第3図中の画素AとBにそれぞれ印加される
電圧波形を第5図(a)と(b)に示す、すなわち、第
5図(a)と(b)より明らかな如く1選択された走査
線上にある画素Aでは、位相t2に於て、閾値v th
2を越える電圧3■が印加される。また、同一走査線上
に存在する画素Bでは位相り、に於て閤(+fj −V
th、を越える電圧−3Vが印加される。従って1選
択された走査電極線上に於て、信号電極が選択されたか
否かに応じて、選択された場合には、液晶分子は第1の
安定状態に配向を揃え1選択されない場合には第2の安
定状態に配向を揃える。
ち1例えば第3図中の画素AとBにそれぞれ印加される
電圧波形を第5図(a)と(b)に示す、すなわち、第
5図(a)と(b)より明らかな如く1選択された走査
線上にある画素Aでは、位相t2に於て、閾値v th
2を越える電圧3■が印加される。また、同一走査線上
に存在する画素Bでは位相り、に於て閤(+fj −V
th、を越える電圧−3Vが印加される。従って1選
択された走査電極線上に於て、信号電極が選択されたか
否かに応じて、選択された場合には、液晶分子は第1の
安定状態に配向を揃え1選択されない場合には第2の安
定状態に配向を揃える。
一方、第5図(C)と(d)に示される如く、選択され
ない走査線上では、すべてのIi!i素に印加される電
圧はVまたは一■であって、いずれも闇値’+1Z圧を
越えない、従って1選択された走査線上以外の各画素に
おける液晶分子は、配向状態を変えることなく前回走査
されたときの信号状!Eに対応した配向を、そのまま保
持している。即ち、走査?lj、極が選択されたとさに
そのlライフ分の信号の古き込みが行われ、1フレーム
が終了して次回選択されるまでの間は、その信号状態を
保持し得るわけである。従って、走査電極数が増えても
、実質的なデユーティ比はかわらず、コントラストの低
下は全く生じない。
ない走査線上では、すべてのIi!i素に印加される電
圧はVまたは一■であって、いずれも闇値’+1Z圧を
越えない、従って1選択された走査線上以外の各画素に
おける液晶分子は、配向状態を変えることなく前回走査
されたときの信号状!Eに対応した配向を、そのまま保
持している。即ち、走査?lj、極が選択されたとさに
そのlライフ分の信号の古き込みが行われ、1フレーム
が終了して次回選択されるまでの間は、その信号状態を
保持し得るわけである。従って、走査電極数が増えても
、実質的なデユーティ比はかわらず、コントラストの低
下は全く生じない。
次に、デイスプレィ装置として駆動を行った場合の実際
に生じ得る問題点について考えてみる。
に生じ得る問題点について考えてみる。
第3図に於て、走査電極SL”S5 ・・・と信号電極
工1〜I、・・・の交点で形成する画素のうち、斜線部
の画素は「明」状態に、白地で示した画素は、r暗」状
態に対応するものとする。今、第3図中の信号電極■□
上の表示に注目すると。
工1〜I、・・・の交点で形成する画素のうち、斜線部
の画素は「明」状態に、白地で示した画素は、r暗」状
態に対応するものとする。今、第3図中の信号電極■□
上の表示に注目すると。
走査電極S1に対応する画素(A)では「明」状態であ
り、それ以外の画素(B)はすべてr l1llt J
状態である。この場合の駆動法の一例として、走査信号
と信号電極I、に与えられる情報信号及びII′ri素
Aに印加される電圧を時系列的に表したものが第6図で
ある。
り、それ以外の画素(B)はすべてr l1llt J
状態である。この場合の駆動法の一例として、走査信号
と信号電極I、に与えられる情報信号及びII′ri素
Aに印加される電圧を時系列的に表したものが第6図で
ある。
例えば第6[にのようにして、駆動した場合、走査信号
S1が走査されたとき、時間L2に於て画〕艇Aには、
閾値v th2を越える電圧3vが印加されるため、前
歴に関係なく1画素Aは一方向の安定状、+ai 、即
ち「明」状態に転移(スイッチ)する、その後は、S2
〜S、・・拳が走査される間は第6図に示される如(−
Vの電圧が印加され続けるが、これはIM(〆i −V
th、を越えないため1画素Aは「明」状態を保ち得
るはずであるが、実際にはこのように1つの信号電極上
で一方の信号(今の場合「暗」に対応)が与えられ続け
るような情報の表示を行う場合には、走査線数が極めて
多く、しかも高速駆動が求められるときには反転現象を
生じるが、前述した特定の液晶化合物またはそれを含有
した液晶組成物を用いることによって、この様な反転現
象は完全に防止される。
S1が走査されたとき、時間L2に於て画〕艇Aには、
閾値v th2を越える電圧3vが印加されるため、前
歴に関係なく1画素Aは一方向の安定状、+ai 、即
ち「明」状態に転移(スイッチ)する、その後は、S2
〜S、・・拳が走査される間は第6図に示される如(−
Vの電圧が印加され続けるが、これはIM(〆i −V
th、を越えないため1画素Aは「明」状態を保ち得
るはずであるが、実際にはこのように1つの信号電極上
で一方の信号(今の場合「暗」に対応)が与えられ続け
るような情報の表示を行う場合には、走査線数が極めて
多く、しかも高速駆動が求められるときには反転現象を
生じるが、前述した特定の液晶化合物またはそれを含有
した液晶組成物を用いることによって、この様な反転現
象は完全に防止される。
さらに1本発明では、前述の反転現象を防止する上で液
晶セルを構成している対向電極のうち少なくとも一方の
電極に絶縁物質により形成した絶縁11りを設けること
が好ましい。
晶セルを構成している対向電極のうち少なくとも一方の
電極に絶縁物質により形成した絶縁11りを設けること
が好ましい。
この際に使用する絶縁物質としては、特に制限されるも
のではないが、シリコン窒化物、水素を含有するシリコ
ン窒化物、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン1
々化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する
硼素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジ
ルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウム
などの無機絶縁物質、あるいはポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
ミン樹脂、ユリャ樹脂、アクリル樹脂やフォトレジスト
樹脂などの有機絶縁物質が絶縁膜として使用される。こ
れらの絶縁膜の膜厚は5000Å以下、好ましくは10
0人〜1000人、特に500人〜3000人が適して
いる。
のではないが、シリコン窒化物、水素を含有するシリコ
ン窒化物、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン1
々化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する
硼素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジ
ルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウム
などの無機絶縁物質、あるいはポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
ミン樹脂、ユリャ樹脂、アクリル樹脂やフォトレジスト
樹脂などの有機絶縁物質が絶縁膜として使用される。こ
れらの絶縁膜の膜厚は5000Å以下、好ましくは10
0人〜1000人、特に500人〜3000人が適して
いる。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
実JL例」2
4−(2−n−7’ロポキシプロピルオキシ)フェニル
−4′−(4”−n−オクチルオキシベンゾイルオキシ
)ベンゾニートノ合成。
−4′−(4”−n−オクチルオキシベンゾイルオキシ
)ベンゾニートノ合成。
(工程)l
P−ハイドロキノンモノ(2−プロポキシプロピル)エ
ーテルの合成。
ーテルの合成。
乾燥ピリジン140m1と2−プロピルオキシプロパノ
ール27.5gを混合し、水冷したものへP−トルエン
スルホン酸クロライl−’53.5gを30分間で添加
し、室温までもどした後、6時間攪拌させ、さらに15
時間放置した。冷水中へ反応物を加えた後、ベンゼンに
て抽出し、無水Na2SO4にて乾燥した。ベンゼンを
留去して油状の(2′−プロポキシプロピル)−P−ト
ルエンスルホネート59gを得た。
ール27.5gを混合し、水冷したものへP−トルエン
スルホン酸クロライl−’53.5gを30分間で添加
し、室温までもどした後、6時間攪拌させ、さらに15
時間放置した。冷水中へ反応物を加えた後、ベンゼンに
て抽出し、無水Na2SO4にて乾燥した。ベンゼンを
留去して油状の(2′−プロポキシプロピル)−P−ト
ルエンスルホネート59gを得た。
次にハイドロキノン35.9gと85%KOH14,9
gをエタノール318■1とメタノール621とともに
加え、5時間攪拌した。これに、」二記で得た2′−プ
ロポキシプロピル−P−)Jレニンスルホネート59g
を加え、60℃で2時間。
gをエタノール318■1とメタノール621とともに
加え、5時間攪拌した。これに、」二記で得た2′−プ
ロポキシプロピル−P−)Jレニンスルホネート59g
を加え、60℃で2時間。
76〜78°Cの還流下5時間反応させた後冷却した。
反I5物を水冷中に加えた後、+1!酸にて耐性とした
。n−へキサンで抽出した後、5%NaOH水溶液、水
により順次洗浄処理を行なった後、n −ヘキサンを留
去して結晶を得た。さらにn−ヘキサンにより再結晶を
行ない、13.6gのp−ハイドロキノンモノ(2−プ
ロポキシプロピル)エーテルを111だ。
。n−へキサンで抽出した後、5%NaOH水溶液、水
により順次洗浄処理を行なった後、n −ヘキサンを留
去して結晶を得た。さらにn−ヘキサンにより再結晶を
行ない、13.6gのp−ハイドロキノンモノ(2−プ
ロポキシプロピル)エーテルを111だ。
(工程2)
4−(2−n−プロポキシプロピルオキシ)フェニル−
4′−ヒドロキシベンゾニー1・の合成。
4′−ヒドロキシベンゾニー1・の合成。
p−ハイドロキノンモノ(2−プロポキシプロピル)エ
ーテル5gと、p−ヒドロキシ安息香酸2.7gとをト
ルエン1OOa+Iに溶解し、これに濃酸MO,Lg、
ホウ酸0.06gを加え、110〜115℃に加温し、
還流脱水による反応を18時間行なった。その後、冷却
し、冷水中に注油した。エーテルにより抽出し、5%N
aOH水溶液、水による洗浄処理を行なった後、エー
テルを留ノ」した、得られた油状物をベンゼンで溶解し
、活性炭カラムにて処理後、ベンゼンをj71去し、2
.5gの4−(2−n−プロポキシプロピルオキシ)フ
ェニル−4′−ヒドロキシベンゾエートを得た。
ーテル5gと、p−ヒドロキシ安息香酸2.7gとをト
ルエン1OOa+Iに溶解し、これに濃酸MO,Lg、
ホウ酸0.06gを加え、110〜115℃に加温し、
還流脱水による反応を18時間行なった。その後、冷却
し、冷水中に注油した。エーテルにより抽出し、5%N
aOH水溶液、水による洗浄処理を行なった後、エー
テルを留ノ」した、得られた油状物をベンゼンで溶解し
、活性炭カラムにて処理後、ベンゼンをj71去し、2
.5gの4−(2−n−プロポキシプロピルオキシ)フ
ェニル−4′−ヒドロキシベンゾエートを得た。
(工程3)
4−(2−n−プロポキシプロピルオキシ)フェニル−
4’−(4″′−n−オクチルオキシベンゾイルオキシ
)ベンゾエートの合成。
4’−(4″′−n−オクチルオキシベンゾイルオキシ
)ベンゾエートの合成。
4−(2−n−プロポキシプロピルオキシ)フェニル−
4−ヒドロキシベンゾエート1.5gをピリジン15.
5mlに溶解したち(7)へ、p−n−オクチルオキシ
安、9.香酸クロライド(p−n−オクチルオキシ安り
、香酸1.2gより合成)のトルエン10m1溶液を加
え、室温にて1時間攪拌した後、90〜95℃で2時間
攪拌し、冷却した6反応液を冷水中に加え、エーテルに
より抽出し、5%li!酸、水、5%NaOH水溶液、
水により順次洗節処理を行なった後、エーテルを留去し
て得られた結晶をエタノールでilT結晶し、白色結晶
0゜8gを得た。生成物の相転移温度を以下に示す。
4−ヒドロキシベンゾエート1.5gをピリジン15.
5mlに溶解したち(7)へ、p−n−オクチルオキシ
安、9.香酸クロライド(p−n−オクチルオキシ安り
、香酸1.2gより合成)のトルエン10m1溶液を加
え、室温にて1時間攪拌した後、90〜95℃で2時間
攪拌し、冷却した6反応液を冷水中に加え、エーテルに
より抽出し、5%li!酸、水、5%NaOH水溶液、
水により順次洗節処理を行なった後、エーテルを留去し
て得られた結晶をエタノールでilT結晶し、白色結晶
0゜8gを得た。生成物の相転移温度を以下に示す。
同様にして下記の化合物が合成される。
4− (2−メチルオキシプロピルオキシ)フェニル−
4’−(4”−n−デシルオキシベンゾイルオキシ)ベ
ンゾニー)、4− (2−エチルオキシプロピルオキシ
)フェニル−4′−(4“−n−へキシルオキシベンゾ
イルオキシ)ベンゾエート。
4’−(4”−n−デシルオキシベンゾイルオキシ)ベ
ンゾニー)、4− (2−エチルオキシプロピルオキシ
)フェニル−4′−(4“−n−へキシルオキシベンゾ
イルオキシ)ベンゾエート。
4− (2−ブチルオキシプロピルオキシ)フェニル−
4’−(4”−n−へブチルオキシベンツイルオキシ)
ベンゾニー1−,4−(2−ペンチルオキシプロピルオ
キシ)フェニル−4′−(4”−n−オクチルベンゾイ
ル才午シ)ベンゾエート、4−(2−オクチルオキシプ
ロピルオキシ)フェニル−4’−(4”−)ランス−プ
ロピル#キキシクロヘキシルカルポニルオキシ)ベンゾ
エート、4−(3−へブチルオキシブチルオキシ)フェ
ニル−4′−(4″−n−7’シルオキシベンゾイルオ
キシ)ベンゾエート、4− (4−プロビルオキシペン
チルオキン)フェニル−4’−(4’−トランス−n−
ヘキシルンクロヘキシル力ルポニルオキシ)ベンゾエー
ト、4− (6−ブチルオキシへ、ブチルオキシ)フェ
ニル−4’−(4″−プロビルベンゾイルオキシ)ベン
ゾエート、4(2−メチル−3−エチルオキシプロピル
オキシ)フェニル−4′−(4” −n−へキシルオキ
シベンゾイルオキシ)ベンゾエート。
4’−(4”−n−へブチルオキシベンツイルオキシ)
ベンゾニー1−,4−(2−ペンチルオキシプロピルオ
キシ)フェニル−4′−(4”−n−オクチルベンゾイ
ル才午シ)ベンゾエート、4−(2−オクチルオキシプ
ロピルオキシ)フェニル−4’−(4”−)ランス−プ
ロピル#キキシクロヘキシルカルポニルオキシ)ベンゾ
エート、4−(3−へブチルオキシブチルオキシ)フェ
ニル−4′−(4″−n−7’シルオキシベンゾイルオ
キシ)ベンゾエート、4− (4−プロビルオキシペン
チルオキン)フェニル−4’−(4’−トランス−n−
ヘキシルンクロヘキシル力ルポニルオキシ)ベンゾエー
ト、4− (6−ブチルオキシへ、ブチルオキシ)フェ
ニル−4’−(4″−プロビルベンゾイルオキシ)ベン
ゾエート、4(2−メチル−3−エチルオキシプロピル
オキシ)フェニル−4′−(4” −n−へキシルオキ
シベンゾイルオキシ)ベンゾエート。
見上1−?
リクソンGR−63(チッソ製ビフェニル液晶混合物)
99重1?一部に4−(2−n−プロポキシプロピルオ
キシ)フェニル−4’−(4″−n−オクチルオキシベ
ンゾイルオキシ)ベンゾエートを1重量部を加えた液晶
混合物を使用したTNセルは、この光学活性な液晶性化
合物を添加しないで製造したTNセルに比較してリバー
スドメインが大幅に減少していることが観察された。
99重1?一部に4−(2−n−プロポキシプロピルオ
キシ)フェニル−4’−(4″−n−オクチルオキシベ
ンゾイルオキシ)ベンゾエートを1重量部を加えた液晶
混合物を使用したTNセルは、この光学活性な液晶性化
合物を添加しないで製造したTNセルに比較してリバー
スドメインが大幅に減少していることが観察された。
見立1」
交差したセ1?状のITOで形成した対向マトリクス電
極のそれぞれに1000人の11り厚を右するポリイミ
ドII+2(ピロメリット酸無水物と4.4′−ジアミ
ノジフェニルエーテルとの結合物からなるポリ7ミンク
酸樹脂の5玉量%N−メチルピロリドン溶液を塗布し、
250’C!の温度で加熱閉環反応により形成した)を
設け、このポリイミド膜08面を互いに平行になる様に
ラビングし、セル厚を1=にしたセルを作成した。
極のそれぞれに1000人の11り厚を右するポリイミ
ドII+2(ピロメリット酸無水物と4.4′−ジアミ
ノジフェニルエーテルとの結合物からなるポリ7ミンク
酸樹脂の5玉量%N−メチルピロリドン溶液を塗布し、
250’C!の温度で加熱閉環反応により形成した)を
設け、このポリイミド膜08面を互いに平行になる様に
ラビングし、セル厚を1=にしたセルを作成した。
次いで、下記組成物Aを等方相下で前述のセル中に真空
注入法によって注入し、封口した。しがる後に、徐冷(
1”C/時間)によってSmC”の液晶セルを作成した
。
注入法によって注入し、封口した。しがる後に、徐冷(
1”C/時間)によってSmC”の液晶セルを作成した
。
12徂)I36
18爪量%
この液晶セルの両側にクロスニコルの偏光子と検光偵を
配置し、対向マトリクス電極間に第4図及び第5図に示
す波形の信号を印加した。この際、走査信号はft54
図(a)に示す+8ボルトと一8ボルトの交番波形とし
ill込み情報は、それぞれ+4ボルトと一4ボルト
とした。また、1フレ一ム期間を30mφsecとした
。
配置し、対向マトリクス電極間に第4図及び第5図に示
す波形の信号を印加した。この際、走査信号はft54
図(a)に示す+8ボルトと一8ボルトの交番波形とし
ill込み情報は、それぞれ+4ボルトと一4ボルト
とした。また、1フレ一ム期間を30mφsecとした
。
この結果、この液晶素子は前述のメモリー駆動型時分割
駆動を行なっても、書込み状態は、何ら反転することな
く正常な動画表示が得られた。
駆動を行なっても、書込み状態は、何ら反転することな
く正常な動画表示が得られた。
皿狡遺」
実施例3の液晶素子を作成する際に用いた液晶組成物中
の、前述の一般式(I)で示される光学l、η性な液晶
性化合物を省略した下記比較用液晶Bを調製し、比較用
液晶を用いて液晶素子を作成した。これらの液晶素子を
前述と同様の方法で駆動させたが1反転現象を生じてい
るために、正常な動画が表示されなかった。
の、前述の一般式(I)で示される光学l、η性な液晶
性化合物を省略した下記比較用液晶Bを調製し、比較用
液晶を用いて液晶素子を作成した。これらの液晶素子を
前述と同様の方法で駆動させたが1反転現象を生じてい
るために、正常な動画が表示されなかった。
第1図および第2図は1本発明で用いる時分割駆動用液
晶素子を模式的に表わす斜視図、第3図は1本発明で用
いるマトリクス電極構造のモ面図、第4図(a)〜(d
)は、マトリクス屯極に印加する電気信号を表わす説明
図、第5図(a)〜(d)は、マトリクス電極間に付与
された電圧の波形を表わす説明図、第6図は1本発明の
液晶素子に印加する電気信号を表わしたタイムチャート
の説I!1図である。 11a、llb・・一基板。 12・・・液晶分子層。 13・・・液晶分子。 14・・・双極子モーメント(r’i)、23a・・・
第1の安定状!島。 23b・・・第2の安定状態、 24a・・・上向き双極子モーメント、24b・・・下
向き双極子モーメント。 31・・・セル、 32・・・(S+ 、S2.s3、・・・)・・・走査
電極群。 33・・・(Il、I2.Il、 ・・・)・・・信
号電極群。 羊 I 図 第 2 図 33信号電極群 It 12 13 1415 −−−−第 3 日 (a) 品 4 図 (4) 名 5 日
晶素子を模式的に表わす斜視図、第3図は1本発明で用
いるマトリクス電極構造のモ面図、第4図(a)〜(d
)は、マトリクス屯極に印加する電気信号を表わす説明
図、第5図(a)〜(d)は、マトリクス電極間に付与
された電圧の波形を表わす説明図、第6図は1本発明の
液晶素子に印加する電気信号を表わしたタイムチャート
の説I!1図である。 11a、llb・・一基板。 12・・・液晶分子層。 13・・・液晶分子。 14・・・双極子モーメント(r’i)、23a・・・
第1の安定状!島。 23b・・・第2の安定状態、 24a・・・上向き双極子モーメント、24b・・・下
向き双極子モーメント。 31・・・セル、 32・・・(S+ 、S2.s3、・・・)・・・走査
電極群。 33・・・(Il、I2.Il、 ・・・)・・・信
号電極群。 羊 I 図 第 2 図 33信号電極群 It 12 13 1415 −−−−第 3 日 (a) 品 4 図 (4) 名 5 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示し、C
^*は不斉炭素原子を示す。R^1は炭素数4〜18の
アルキル基もしくはアルコキシ基を示し、▲数式、化学
式、表等があります▼は、▲数式、化学式、表等があり
ます▼もしくは▲数式、化学式、表等があります▼を示
す。xは0または1、yは1〜8を示す。) で表わされる光学活性な液晶性化合物。 2、下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示し、C
^*は不斉炭素原子を示す。R^1は炭素数4〜18の
アルキル基もしくはアルコキシ基を示し、▲数式、化学
式、表等があります▼は、▲数式、化学式、表等があり
ます▼もしくは▲数式、化学式、表等があります▼を示
す。xは0または1、yは1〜8を示す。) で表わされる光学活性な液晶性化合物を少なくとも1種
類含有することを特徴とする液晶組成物。 3、下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示し、C
^*は不斉炭素原子を示す。R^1は炭素数4〜18の
アルキル基もしくはアルコキシ基を示し、▲数式、化学
式、表等があります▼は、▲数式、化学式、表等があり
ます▼もしくは▲数式、化学式、表等があります▼を示
す。xは0または1、yは1〜8を示す。) で表わされる光学活性な液晶性化合物を少なくとも1種
類含有する液晶組成物を使用することを特徴とする液晶
素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61186579A JPS6341445A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 液晶組成物および液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61186579A JPS6341445A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 液晶組成物および液晶素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341445A true JPS6341445A (ja) | 1988-02-22 |
| JPH0466277B2 JPH0466277B2 (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=16191008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61186579A Granted JPS6341445A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 液晶組成物および液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6341445A (ja) |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP61186579A patent/JPS6341445A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0466277B2 (ja) | 1992-10-22 |
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