JPS6342029A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS6342029A JPS6342029A JP18444186A JP18444186A JPS6342029A JP S6342029 A JPS6342029 A JP S6342029A JP 18444186 A JP18444186 A JP 18444186A JP 18444186 A JP18444186 A JP 18444186A JP S6342029 A JPS6342029 A JP S6342029A
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- Japan
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- magnetic disk
- high boiling
- acrylic resin
- boiling solvent
- magnetic
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は電子計算機の外部記憶装置として使用される磁
気ディスクの製造方法に関する。さらに詳しくは、磁気
ディスクの表面に潤滑膜が設けられた磁気ディスクの製
造方法に関する。
気ディスクの製造方法に関する。さらに詳しくは、磁気
ディスクの表面に潤滑膜が設けられた磁気ディスクの製
造方法に関する。
［従来の技術］
動作時に、磁気ディスクの回転に伴う空気流を利用して
、磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上させて読み書きを
行なうＣＳＳ ＜コンタクト スタート ストップ）
型の磁気ディスク装置においては、磁気ヘッドと磁気デ
ィスクの耐摩耗性と潤滑性が要求される。
、磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上させて読み書きを
行なうＣＳＳ ＜コンタクト スタート ストップ）
型の磁気ディスク装置においては、磁気ヘッドと磁気デ
ィスクの耐摩耗性と潤滑性が要求される。
従来、磁気ディスクおよび磁気ヘッドの耐摩耗性や表面
潤滑性を向上させるため、磁気ディスクの表面に潤滑剤
を塗布する方法が採られている。
潤滑性を向上させるため、磁気ディスクの表面に潤滑剤
を塗布する方法が採られている。
潤滑剤としてフッ素系樹脂の液体または固体状のものが
使用されており、このｉｌＩ滑剤は耐摩耗性や表面潤滑
性に優れていることは公知である（米国特許３．７７８
．３０８号明ｍ書参照）。
使用されており、このｉｌＩ滑剤は耐摩耗性や表面潤滑
性に優れていることは公知である（米国特許３．７７８
．３０８号明ｍ書参照）。
磁性粉体を樹脂に混合しディスクに塗布した磁気ディス
クは、耐摩耗性と耐久性について充分満足できる特性を
有している。しかし、近年磁気ディスクの高密度化に伴
いメツキ、蒸着またはスパッタリングなどにより形成さ
れた金属磁性膜からなる磁気ディスクは、フッ素系樹脂
の潤滑膜を設ける方法では潤滑剤の蒸発などにより潤滑
効果の低下が生じたり、磁気ディスク装置の保管などに
より長期の体止後作動させたばあい、吸着環象が生じる
という問題点があった。
クは、耐摩耗性と耐久性について充分満足できる特性を
有している。しかし、近年磁気ディスクの高密度化に伴
いメツキ、蒸着またはスパッタリングなどにより形成さ
れた金属磁性膜からなる磁気ディスクは、フッ素系樹脂
の潤滑膜を設ける方法では潤滑剤の蒸発などにより潤滑
効果の低下が生じたり、磁気ディスク装置の保管などに
より長期の体止後作動させたばあい、吸着環象が生じる
という問題点があった。
また耐摩耗性、潤滑性および吸着性の改善のためにディ
スクの表面に微小孔を形成し、その孔に潤滑剤を侵入さ
せる方法がある。孔を形成する方法としては、第２図に
示されるように基板（１）に孔を形成し、その孔が基板
上に設けられた金属磁性膜（２、保護膜（３ｂ）に順次
転写されて、孔が形成されている保Ｉ Ｉ！！ （３ｂ
）上に潤滑膜（４）を形成する方法（特公昭６０−１４
４０５号公報参照）や保護膜自体にスパッタリングによ
り孔を形成する方法（特開昭５８−７７０３１号公報参
照）がある。
スクの表面に微小孔を形成し、その孔に潤滑剤を侵入さ
せる方法がある。孔を形成する方法としては、第２図に
示されるように基板（１）に孔を形成し、その孔が基板
上に設けられた金属磁性膜（２、保護膜（３ｂ）に順次
転写されて、孔が形成されている保Ｉ Ｉ！！ （３ｂ
）上に潤滑膜（４）を形成する方法（特公昭６０−１４
４０５号公報参照）や保護膜自体にスパッタリングによ
り孔を形成する方法（特開昭５８−７７０３１号公報参
照）がある。
［発明が解決しようとする問題点］
上記の方法では金属磁性膜自体または保護膜自体に孔が
形成されているが、金属磁性膜に孔を形成する方法では
、磁性の均一性が失われ、また保護膜自体に孔を形成す
る方法では、磁気ディスクを長期使用したばあい、孔が
ヘッドとの８擦により消失するという問題点があった。
形成されているが、金属磁性膜に孔を形成する方法では
、磁性の均一性が失われ、また保護膜自体に孔を形成す
る方法では、磁気ディスクを長期使用したばあい、孔が
ヘッドとの８擦により消失するという問題点があった。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、金属磁性膜に孔を形成することなく、耐摩耗性
、潤滑性および吸着性を改善することができる磁気ディ
スクの製造方法をうろことを目的とする。
もので、金属磁性膜に孔を形成することなく、耐摩耗性
、潤滑性および吸着性を改善することができる磁気ディ
スクの製造方法をうろことを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
本発明は金属磁性膜上に高沸点溶剤に溶解させたアクリ
ル系紫外線硬化樹脂、ついでフッ素系樹脂を順次塗布し
たのち、フッ素系樹脂の上面に紫外線を照射することを
特徴とする磁気ディスクの製造方法に関する。
ル系紫外線硬化樹脂、ついでフッ素系樹脂を順次塗布し
たのち、フッ素系樹脂の上面に紫外線を照射することを
特徴とする磁気ディスクの製造方法に関する。
［作 用］
本発明におけるフッ素系樹脂は潤滑性の向上に寄与し、
アクリル系紫外線硬化樹脂の表面の酸素接触による未硬
化部分の発生を防ぐものである。
アクリル系紫外線硬化樹脂の表面の酸素接触による未硬
化部分の発生を防ぐものである。
アクリル系紫外線硬化樹脂は潤滑剤、を受は入れる孔を
形成する層となるものである。孔はアクリル系紫外線硬
化樹脂を溶解させるために用いられている高沸点溶剤が
、紫外線照射時に蒸発することによって保護膜に形成さ
れる。この孔は潤滑剤を侵入させるためのものである。
形成する層となるものである。孔はアクリル系紫外線硬
化樹脂を溶解させるために用いられている高沸点溶剤が
、紫外線照射時に蒸発することによって保護膜に形成さ
れる。この孔は潤滑剤を侵入させるためのものである。
［実施例］
まず、本発明では磁気ディスクの基板上に設けられた金
属磁性膜上に、高沸点溶剤に溶解させたアクリル系紫外
線硬化樹脂を塗布する。基板としては＃ −Ｈ（１合金
上にＮ１−Ｐメツキしたもの、また金属磁性膜としては
Ｃｏ−Ｐ 、 Ｃｏ−Ｎｉなどからなる厚さが３００〜
１０００人の従来より磁気ディスクに用いられているも
のが使用できる。また高沸点溶剤としては、トルエン、
メチルエチルケトン、キシレン、メチルイソブチルケト
ンなどの沸点が７０〜１５０℃のものが好ましく、これ
らの溶剤は単独または２種以上併用して用いられる。ア
クリル系紫外線硬化樹脂としては、エポキシアクリレー
ト（ネオボール８１０４、日本ユビカ社製など）１００
部４１部、以下同様）とトリエチルベンジルアンモニウ
ムクロライド０．１〜２部との混合物などを使用するこ
とができる。アクリル系紫外線硬化樹脂は高沸点溶剤に
濃度が０．０１〜１％（重ω％、以下同様）となるよう
に溶解させるのが好ましい。
属磁性膜上に、高沸点溶剤に溶解させたアクリル系紫外
線硬化樹脂を塗布する。基板としては＃ −Ｈ（１合金
上にＮ１−Ｐメツキしたもの、また金属磁性膜としては
Ｃｏ−Ｐ 、 Ｃｏ−Ｎｉなどからなる厚さが３００〜
１０００人の従来より磁気ディスクに用いられているも
のが使用できる。また高沸点溶剤としては、トルエン、
メチルエチルケトン、キシレン、メチルイソブチルケト
ンなどの沸点が７０〜１５０℃のものが好ましく、これ
らの溶剤は単独または２種以上併用して用いられる。ア
クリル系紫外線硬化樹脂としては、エポキシアクリレー
ト（ネオボール８１０４、日本ユビカ社製など）１００
部４１部、以下同様）とトリエチルベンジルアンモニウ
ムクロライド０．１〜２部との混合物などを使用するこ
とができる。アクリル系紫外線硬化樹脂は高沸点溶剤に
濃度が０．０１〜１％（重ω％、以下同様）となるよう
に溶解させるのが好ましい。
えられた溶液をスピンコード法、浸漬法などによって乾
燥後の厚さが５〜２０人となるように金属磁性膜上に塗
布したのち乾燥して孔が形成された保護膜を形成する。
燥後の厚さが５〜２０人となるように金属磁性膜上に塗
布したのち乾燥して孔が形成された保護膜を形成する。
ついでパーフルオロアルキルポリエーテル（ＫＲＹＴＯ
Ｘ １４３ＡＣ、７” ユボン社製など）なトノフッ素
系樹脂を、フロリナーｉ−（ＦＣ−７７、スリーエム社
製）などのフッ素系溶剤などに濃度が０．０１〜１％と
なるように溶解し、スピンコード法、浸漬法などによっ
て乾燥後の厚さが５〜２０人となるように保Ｉｌｌ上に
塗布したのち乾燥する。
Ｘ １４３ＡＣ、７” ユボン社製など）なトノフッ素
系樹脂を、フロリナーｉ−（ＦＣ−７７、スリーエム社
製）などのフッ素系溶剤などに濃度が０．０１〜１％と
なるように溶解し、スピンコード法、浸漬法などによっ
て乾燥後の厚さが５〜２０人となるように保Ｉｌｌ上に
塗布したのち乾燥する。
ついで高圧水銀ランプなどを用いてフッ素系樹脂の面に
紫外線を照射することにより磁気ディスクが製造される
。なお、照射条件はアクリル系紫外線硬化樹脂の種類、
露光装置の種類などにより異なるので適宜調整される。
紫外線を照射することにより磁気ディスクが製造される
。なお、照射条件はアクリル系紫外線硬化樹脂の種類、
露光装置の種類などにより異なるので適宜調整される。
以下、本発明を実施例に基づき説明するが、本発明はか
かる実施例のみに限定されるものではない。
かる実施例のみに限定されるものではない。
実施例１
アクリル系紫外線硬化樹脂としてネオボール８１０４
（日本ユビカ社！１Ｊ）３００部とトリエチルベンジル
アンモニウムクロライド１部との混合物をトルエン／メ
チルエチルケトンが１最止で２７１となるように調整し
た溶剤に濃度が０．０１％となるように溶解し、スピン
コード法によって乾燥後の厚さが２０人となるように磁
気ディスクの基板上に設けられた金属磁性薄膜に塗布し
たのち、５分間回転乾燥し保護膜を形成した。ついでパ
ーフルオロアルキルポリエーテル（ＫＲＹＴＯＸ １４
３ＡＣ，デュポン社製）の０．０１％フロリナート（Ｆ
Ｃ−７７、スリーエム社製）溶液をスピンコード法によ
って乾燥後の厚さが２０人となるように保護膜上に塗布
し、２分間回転乾燥した。ついで高圧水銀ランプを磁気
ディスクとの距［２０αの位置に設置し、フッ素系樹脂
の上面に、紫外線を定格２，５に−で３０秒間射照して
第１図に示されるような磁気ディスクを製造した。
（日本ユビカ社！１Ｊ）３００部とトリエチルベンジル
アンモニウムクロライド１部との混合物をトルエン／メ
チルエチルケトンが１最止で２７１となるように調整し
た溶剤に濃度が０．０１％となるように溶解し、スピン
コード法によって乾燥後の厚さが２０人となるように磁
気ディスクの基板上に設けられた金属磁性薄膜に塗布し
たのち、５分間回転乾燥し保護膜を形成した。ついでパ
ーフルオロアルキルポリエーテル（ＫＲＹＴＯＸ １４
３ＡＣ，デュポン社製）の０．０１％フロリナート（Ｆ
Ｃ−７７、スリーエム社製）溶液をスピンコード法によ
って乾燥後の厚さが２０人となるように保護膜上に塗布
し、２分間回転乾燥した。ついで高圧水銀ランプを磁気
ディスクとの距［２０αの位置に設置し、フッ素系樹脂
の上面に、紫外線を定格２，５に−で３０秒間射照して
第１図に示されるような磁気ディスクを製造した。
えられた磁気ディスクを用いてコンタクト スタート
ストップ（以下、Ｃ８Ｓという）試験と吸着試験を以下
の方法によって行なった。その結果を第１表に示す。
ストップ（以下、Ｃ８Ｓという）試験と吸着試験を以下
の方法によって行なった。その結果を第１表に示す。
（Ｃ３Ｓ試験）
コンタクト スタート ストップをｔｉ返し、ヘッドク
ラッシュするまでの回数を調べた。
ラッシュするまでの回数を調べた。
（吸着試験）
コンタクトした状態で２４時間置き、その後ディスクを
回転させヘッドクラッシュが生じるかどうかを調べた。
回転させヘッドクラッシュが生じるかどうかを調べた。
実１１［２
実施例１と同様の金属磁性薄膜を被覆した磁気ディスク
上に、アクリル系紫外線硬化樹脂として３０７０ （ス
リーボンド社製）を用い、トルエンに濃度が０．０１％
となるように溶解して用いたほかは、実施例１と同様に
して磁気ディスクを製造した。
上に、アクリル系紫外線硬化樹脂として３０７０ （ス
リーボンド社製）を用い、トルエンに濃度が０．０１％
となるように溶解して用いたほかは、実施例１と同様に
して磁気ディスクを製造した。
えられた磁気ディスクを用いて実施例１と同様にしてＣ
３Ｓ試験と吸着試験を行なった。その結果を第１表に示
す。
３Ｓ試験と吸着試験を行なった。その結果を第１表に示
す。
比較例１
実施例１と同様の金属磁性薄膜を被覆した磁気ディスク
上にパーフルオロアルキルポリエーテル（ＫＲＹＴＯＸ
１４３ＡＣ１デュポン社製）の０．０１％フロリナー
ト（ＦＣ−７７、スリーエム社製）溶液をスピンコード
法によって乾燥後の厚さが２０人となるように塗布し２
分間回転乾燥した。えられた磁気ディスクのＣ３Ｓ試験
と吸着試験を実施例１と同様にして行なった。その結果
を第１表に示す。
上にパーフルオロアルキルポリエーテル（ＫＲＹＴＯＸ
１４３ＡＣ１デュポン社製）の０．０１％フロリナー
ト（ＦＣ−７７、スリーエム社製）溶液をスピンコード
法によって乾燥後の厚さが２０人となるように塗布し２
分間回転乾燥した。えられた磁気ディスクのＣ３Ｓ試験
と吸着試験を実施例１と同様にして行なった。その結果
を第１表に示す。
第 １ 表
実施例１および２でえられた磁気ディスクはＣ３Ｓ試験
、吸着試験ともに良好な結果がえられた。
、吸着試験ともに良好な結果がえられた。
比較例１でえられた磁気ディスクはＣ８Ｓ試験では良好
な結果がえられたが、吸着試験では吸着する現象が生じ
た。
な結果がえられたが、吸着試験では吸着する現象が生じ
た。
［発明の効果〕
以上のように、アクリル系紫外線硬化樹脂層の上に、フ
ッ素系樹脂の潤滑膜を設け、フッ素系樹脂の上面に紫外
線を照射し硬化させる方法で、磁気ディスクを製造する
ことにより耐久性に優れ、しかも吸着の生じない磁気デ
ィスクがえられるという効果を奏する。
ッ素系樹脂の潤滑膜を設け、フッ素系樹脂の上面に紫外
線を照射し硬化させる方法で、磁気ディスクを製造する
ことにより耐久性に優れ、しかも吸着の生じない磁気デ
ィスクがえられるという効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例によってえられた磁気ディス
クの概略断面図であり、第２図は従来の磁気ディスクの
概略断面図である。 （図面の符号） （１）二基 板 （２：全屈磁性膜 （３ａ） ニアクリル系紫外線硬化樹脂（３ｂ） ：保
護膜 （４）：フッ素系樹脂
クの概略断面図であり、第２図は従来の磁気ディスクの
概略断面図である。 （図面の符号） （１）二基 板 （２：全屈磁性膜 （３ａ） ニアクリル系紫外線硬化樹脂（３ｂ） ：保
護膜 （４）：フッ素系樹脂
Claims (1)
- （１）金属磁性膜上に高沸点溶剤に溶解させたアクリル
系紫外線硬化樹脂、ついでフッ素系樹脂を順次塗布した
のち、フッ素系樹脂の上面に紫外線を照射することを特
徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18444186A JPS6342029A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18444186A JPS6342029A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6342029A true JPS6342029A (ja) | 1988-02-23 |
Family
ID=16153203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18444186A Pending JPS6342029A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6342029A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0371426A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-03-27 | Kubota Corp | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
-
1986
- 1986-08-05 JP JP18444186A patent/JPS6342029A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0371426A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-03-27 | Kubota Corp | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
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