JPS61122925A - 記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関するも
のである。さらに詳しくは、磁気テープ、磁気ディスク
、磁気カード、光磁気ディスク等の磁気記録媒体の記録
層の保護膜形成方法およびその方法を用いて製造される
磁気記録媒体に関するものである。

従来例の構成とその問題点 従来より、磁気記録媒体には、大きく別けて塗布型と蒸
着型がある。

塗布型の磁気記録媒体では、一般にＦｅ２Ｏ，やＣ。

を添加したｒ−Ｆａ、Ｏ８等の磁性粉末をポリビニール
。

ブチラール、トリエン、メチルイソブチルケトン等に混
合分散して塗料化し、媒体基体表面に４〜６μ職の厚み
で塗布する方法であるが、この方法では製造が容易な半
面、磁性粉末を小さくすることに限界があり、高密度記
録用としては性能が不十分であった。

一方、蒸着型の磁気記録媒体では、記録密度は塗布型に
比べ良くなるが、磁性金属層が表面に出ているため耐久
性に問題がある。そこで、１０００〜２０００ｉの金属
を電子ビームやスパッタ法で蒸着した上へ、オーバーコ
ートを行い、さらに磁気記録媒体表面に潤滑性を与える
ために滑剤を塗布しているが、まだ十分な耐久性が得ら
れていない現状である。さらに、オーバーコートや滑剤
の塗布を薄く均一に行えないため、記録用の磁気ヘッド
と記録層のギャグが大きくなり、蒸着型本来の高密度記
録が十分発揮できない状況である。

発明の目的 以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発明の目的は、
オーバーコートや滑剤をより薄く均一に　Ｉ且つピンホ
ール無く行う方法を提供し、蒸着型磁気記録媒体の信頼
性を向上させると共に高密度記録を実現することにある
。

発明の構成 本発明は、媒体基体上に蒸着形成された磁気記録層へ、
シラン界面活性剤を化学吸着させて保護膜として用いる
方法、さらに、前記保護膜表面に反応性基を付加させて
おき、膜形成後エネルギービーム（光、電子ビーム、Ｘ
線、ｒ線、イオンビーム等）を照射あるいはプラズマ処
理を行うこと等により安定化させる方法を用いて製造さ
れたことを特徴とした高密度磁気記録媒体を提供するも
のである。

実施例の説明 以下、実施例を第１〜６図を用いて説明する。

例えば、１）１図に示すように、磁気記録用ディスク基
板（媒体基体）１上にスパッタ蒸着等により形成された
磁気記録層（１・−ＨＬ、Ｈｌ−Ｃｚ・山・・等の磁性
金属や磁性金！酸化膜）２が形成された後、全面化学吸
着法によりシラン界面活性剤を吸着させてシラン界面活
性剤よりなる単分子の保護膜３を形成する。例えば、シ
ラン界面活性剤としてａＨ，＝ＯＨ−（ＯＨ２）ｎ−８
ｉ０１．　（ｎ　：整数、１０−２０が程度が最も扱い
やすい）を用い、２×１０〜ｓ、ｏ　ｘ　１ｏ　　Ｍａ
ｔ／ｌ　程度の濃度で溶したＢＯ％ｎ−へ村ン、１２４
四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を調整し、前記磁気
記録層の形成された媒体基体を浸漬すると、磁気記録層
として蒸着された金属表面はナチュラルオキサイドが形
成されてが生成され、シラン界面活性剤による単分子膜
４よりなる保護膜３が一層（２０〜３０ｉの厚み）形成
される（第２図）。

なおこのとき、表面に並んだビニル基（（ｍ、４−）６
を、エネルギービーム（電子線、Ｘ線、ｒ線。

紫外線量イオン線等）で架橋６させることにより、単分
子膜４′を強化安定化できる（第３図）。さらにまた、
表面に並んだビニル基は、ＣＦ４等のフッ素を含んだプ
ラズマ中で処理することにより、Ｆの付加７や架橋を同
時に行うことができ、表面の滑性を向上させることも可
能である（第４図）。

一方、もう少し膜厚を厚くしたい場合には、単分子膜４
を一層形成させた後、室温でジボラン１Ｍｏ　／／ｌ！
　　のＴＨＦ溶液を用い、単分子膜４の形成された基板
を浸漬し、ざらにＮａＯＨｏ、１Ｎｏｔ／１３０％Ｈ２
Ｏ２水溶液に浸漬することにより、単分子膜４の表面の
ビニル基に水酸基（ＯＨ）３を付加させることができ（
第５図）、以下、同じ反応液を用い化学吸着工程および
ＯＨ付加工程をくり返すことにより必要な膜厚を得るこ
とができる（第５図）。

なお、上記実施例では、磁気ディスクを例にして説明し
たが、磁気テープ、磁気カード、さらに媒体基体にＰＭ
Ｍム等の透明体を用いれば光磁気記録媒体へ応用できる
ことは言うまでもない。

また、本方法は、磁気記録媒体の保護膜形成以外にも、
光記録媒体や半導体素子の保護膜としても応用可能であ
る。

発明の効果 以上述べてきた方法により、磁気記録媒体等の表面に高
密度の有機薄膜をピンホール無く、均一厚みで、非常に
薄く形成できる。従って、基体が磁気記録媒体等の場合
、記録再生ヘッドの効率が向上し、ノイズも減少でき、
効果大なるものである。すなわち、本発明の方法により
基体表面に超薄膜をコートすることにより、ピンホール
フリーで均一膜厚の有機薄膜が得られ、しかも、さらに
その有機薄膜をプラズマやエネルギービームで照射重合
させることにより緻密な膜としたことができる。さらに
またフッ素を含むガス中でプラズマ処理することにより
、有機薄膜表面に滑性を持たせることができ、ヘッドの
滑り性の向上すなわち、耐磨耗性上効果大なるものであ
る。

以上述べてきた実施例は、基体として磁気記録媒体を用
いて説明してきたが、光ディスク、レコード等耐磨耗性
を向上したり、表面保護を目的とした全てのものに使用
できることは明らかである。

なお、化学吸着用の材料として、ジアセチレン系の誘導
体〔例えば ａｌｌ、＝ｃｕ−（ａｎ、　）ｎ−ａｇｅ−ｃ＝ａ−（
ａｎ２）、−５ｉｃｚ。

（ｎ、ｍ：整数）等〕を用いた場合には、紫外線照射に
より架橋を生成させ面方向の導電性を持たすことができ
、基体表面の帯電を防止することも可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図は本発明の詳細な説明するための磁気記
録媒体断面図を示し、第１図は概念図、第２図〜第５図
は第１図中○印ム部を分子レベルまで拡大した工程断面
図である。 １・・・・・・媒体基体、２・・・・・・磁気記録層、
３・・・・・・保護膜、５・・・・・・単分子膜。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 第　３　因

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）任意の媒体基体上に形成された磁気記録層表面に
   シラン界面活性剤よりなる保護膜が形成されていること
   を特徴とした磁気記録媒体。
2. （２）シラン界面活性剤として、ＣＨ＿２＝ＣＨ−（Ｃ
   Ｈ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３（ｎ：整数）で表わされる
   化学物質を用いることを特徴とした特許請求の範囲第１
   項記載の磁気記録媒体。
3. （３）媒体基体として光学的に透明な材料を用いたこと
   を特徴とした特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
   。
4. （４）媒体基体表面に磁性金属膜または磁性金属酸化膜
   等の磁気記録層を形成する工程と、シラン界面活性剤を
   化学吸着させて単分子膜の保護膜を形成する工程を含む
   ことを特徴とした磁気記録媒体の製造方法。
5. （５）シラン界面活性剤として、ＣＨ＿２＝ＣＨ−（Ｇ
   Ｈ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３（ｎ：整数）で表わされる
   化学物質を用い、化学吸着後、前記シラン界面活性剤の
   それぞれのビニル基を架橋反応させて安定化する工程を
   含むことを特徴とした特許請求の範囲第４項記載の磁気
   記録媒体の製造方法。
6. （６）エネルギービーム照射又はフッ素を含むガス中で
   プラズマ処理して安定化させることを特徴とした特許請
   求の範囲第５項記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. （７）シラン界面活性剤として、ＣＨ＿２＝ＣＨ−（Ｃ
   Ｈ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３（ｎ：整数）を用い、１層
   化学吸着を行った後、ジボランおよびアルカリ性過酸化
   水素に浸漬し前記シラン界面活性剤のビニル基に水酸基
   を付加させてさらにシラン界面活性剤を化学吸着させる
   工程を複数回くり返すことを特徴とした特許請求の範囲
   第４項記載の磁気記録媒体の製造方法。