JPS6351394A - ピラゾ−ルスルホニルウレア - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分』 本発明は浸れた選択的除草活性を存する新規な”ピラゾ
ールスルホニルウレアに関する。

本発明のピラゾールスルホニルウレア（下記−般式（１
）で表されろ化合物またはその塩）は、除草剤として用
いられる。

従来技術 これまで除草作用を有する種々のピラゾールスルボニル
ウレアが報告されている（例えば特開昭６１−３７７８
２．同６０−２０８９７７、同６０−７８９８０．同５
９−２１９２８１．同５９−１２２４８８など）が、ピ
ラゾール環の４位に特定の置換基−ＣＩＩ　ｚＲｔ（ｒ
ｔ　ｔは下記一般式（Ｉ）において定義されるき味と同
じ）を有する本発明のピラゾール−５−スルホニルウレ
アは全く記載されていない。

発明が解決しようとする問題点 除草剤として多数の薬剤が使用されてきているが、雑草
に対する殺草効果、作物に対する薬害、哨乳動物や魚貝
類に対する毒性、環境汚染の而などでまだ十分とはいえ
ない。したがって毒性が少なく、しかし雑草に対して殺
草効果を示すが作物に対しては薬害のない、いわゆる選
択性除草剤の出現が望まれている。

問題点を解決するための手段 本発明は優れた殺草活性を有し、しかも作物に薬害のな
い一般式 ［式中、Ｒ１はアルキル基を、Ｒ，は式−Ｙ−Ｒ６（０
）ｎ （式中、ＹはＯまたはＳ　（式中、ｎは０．１または２
を示す）で表される基を、Ｒ６はアルキル基、ハロゲノ
アルキル基、アリール基、アシル基または５ないし６員
複素環基を示す）で表される基、エステル化されていて
もよいカルボキンル基、シアノ基。

式 ％式％ ＝■）（式中、Ｒ６はアルキル ＲＢ 基を示す）で表きれる基、置換されていてもよい５ない
し６員複索環基または置換されていてもよいアミノ基を
、ＸはＣＩまたはＮを、１１３　、　Ｒ、は低級アルキ
ル基または低級アルコキシ基をそれぞれ示す］で表され
る化合物またはその塩に関する。

本発明の化合物（＋）またはその塩は、ピラゾール環の
４位に式−〇Ｈ２Ｒ２で表される基（式中の記号は前記
と同、Ｇ義）を有するピラゾール−５−スルホニルウレ
アである点に構造上の特徴が有り、この特定の化学構造
に基づいて、優れた選択的除草効果を示す。

本発明は、このような優れた特徴を有する化合物（１）
またはその塩を堤供するものである。

上記一般式（１）において、Ｒ１，Ｒｓ　、　Ｒｅで示
されるアルキル基は、好ましくは炭素数１から６の直鎖
もしくは分枝状のアルキル基を意味し、例えばメチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ〜ブチル、イ
ソブヂル、５ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−
ペンデル、５ｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、ｎ−ヘキンル、イソヘキンル等、このうち特に好
ましくは低級アルキル基（下記Ｒ３、Ｒ−で定義される
ものと同意義）が用いられ、Ｒ５で示されるハロゲノア
ルキル基は好ましくはフッ素、塩素。

臭素、ヨウ素等のハロゲン原子で１ないし５個置換され
た炭素数１から６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基を
色味し、例えばフル才ロメヂル、ノフルオロメチル、ト
リフルオロメヂル、２．２．２−トリフルオロエヂル、
３−クロロプロピル、２−クロロ−１，１，２−トリフ
ルオロエチル、ｌＩ−フルオロブチル、３−フルオロペ
ンデル、６−ブロそれるアリール基は、好ましくは炭素
数６から１４のアリール基を示し、例えばフェニル、ナ
フチル。

ビフェニリル等が用いられ、Ｒ５で示されるアシル基は
、有機カルボン酸から誘導されるアシル基を示し、例え
ばアルカノイル基、好ましくは炭素数１から７のアルカ
ノイル基（例、ホルミル、アセチル、ヘキサノイル、ヘ
プタノイル等）、アリールカルボニル基、好ましくは炭
素数６から１４のアリール−カルボニル基（例、ベンゾ
イル等）、アラルキルカルボニル基、好ましくは炭素数
７から１９のアラルキル−カルボニル基（例、ベンジル
カルボニル等）、５ないし６員複素環カルボニル基（例
、３−１４−または５−ピラゾリルカルボニル、ｌ。

２．３−オキサジアゾール−４−または５−イルカルボ
ニル、Ｉ、２．４−オキサジアゾール−３−または５−
イルカルボニル、Ｉ、２．５−またはｌ。

３．４−オキザノアゾールカルポニル）、５ないし６Ｈ
複素環アセデル基（例、５−ピラゾリルアセチル、２−
ピロリルアセチル、３−イミダゾリルアセデル、５−イ
ソオキサシリルアセデル等）等、このうち特に好ましく
はアルカノイル基が用いられ、Ｒ２で示される５ないし
６員複素環基はたとえば、窒素、京間（オキシド化され
ていてらよい）、酸素原子、硫黄原子（オキシド化され
ていてもよい）などのへテロ原子を１〜４個含む５ない
し６員複素環基またはその縮合環基を示し、具体的には
３−１４−または５−ピラゾリル、２−．４−または５
−オキサゾリル、３−．４−または５−イソキサゾリル
！、２．３−オキサジアゾール−４−または５−イル、
１．２．４−才キサジアゾール−３−または５−イル、
１，２．５−または１．３．４−オキサノアゾリル、ピ
ラニル、ピリジル、デアゾリン−２−イル、ベンゾデア
ゾール−２−イルなど、このうち好ましくはピラニル、
ピリジル、チアゾリン−２−イル、ベンゾデアゾール−
２−イルなどが用いられる。

Ｒ７で示されるエステル化されたカルボキシル基は、た
とえば、アルコキシカルボニル基、好ましくは炭素数１
から６のアルコキシ−カルボニル基（例、メトキソ力ル
ボニル、エトキソ力ルボニル。

５ｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｎ−へキシル
オキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基、
好ましくは炭素数６から１４のアリールオキシ−カルボ
ニル基（例、フェノキノカルボニル基等）、アラルキル
オキンカルボニル基、好ましくは炭素数７から１９のア
ラルキルオキンーカルボニル基（例、ベンノルオキシカ
ルボニル、フェネヂルオキシ力ルボニル、ナフチルエヂ
ルオキノカルボニル等）、５ないし６員複’ｆ＝Ｑオキ
シカルボニル基（例、３−１・１−または５−ビラゾリ
ルオキン力ルボニル、１，２．３−オキサジアゾール−
４−または５−イルオキノ力ルボニル、１．２．４−オ
キサジアゾール−３−または５−イルオキン力ルポニル
、１，２．５−または１．３．４−オキザノアゾールオ
キンカルポニル）等、さらに好ましくはアルコキンカル
ボニル基が用いられる。

Ｒ６で示される置換されていてもよい５ないし６員）夏
素垣括における５ないし６員複素珂基はＲ，で定義され
たものと同様のものが用いられ、この５ないし６員複素
環基上の置換基としては例えば炭化水素基、アシル基１
式　−’ｒ−Ｑｏ（式中、Ｑ、は炭化水素基、複素環基
またはアシル基を、（０）ｎ Ｔは○、Ｓ　またはＳ−Ｓを、ｎは０，１．２を示す）
で表わされる基。

又はアシル基を、Ｑ、は炭化水素基又はアシル基（式中
、Ｑ、、Ｑ、は前記と同意義を示す）で表わされる基、
カルバモイル基、カルバモイルオキシ基。

ウレイド基、チオカルバモイル基、カルボキシル基。

式−ＯＳＯ＝　　Ｑｔ（式中Ｑ、は前記と同世義）で表
される基等が用いられ、ＱＱ、Ｑ、、Ｑ、で示される炭
化水素基とは直鎖２分枝状、環状の二重結合。

三重結合を有することもできる脂肪族基、あるいはアリ
ール基、アラルキル基を意味し、Ｑｏで示される複素環
基とは、■ないし４個の酸素原子、硫黄原子（オキシド
化されていてもよい）または／および窒素原子（オキシ
ド化されていてもよい）を含む５ないし６員複素環基を
意味し、Ｑ、、Ｑ、、Ｑ。

で示されるアシル基とは有機カルボン酸から誘導されろ
アシル基を色味する。　上記カルバモイル基、カルバモ
イルオキシ基、ウレイド店、チオカルバモイル基は、さ
らに適当な置換基（例、上記の炭化水素基、複素環基、
アンル基等）で１ないし２個置換されていてもよい。

上記Ｑ。におけろ複素環基は上記した炭化水素基、アシ
ル基１式【７ゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等）で１ないし３個置換されていてもよい。Ｑｏ、Ｑ
、、Ｑ２における炭化水素基は、具体的にはアルキル基
、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキ
ル基を意味し、アルキル基は、好ましくは炭素数Ｉから
６の直鎖１分枝状らしくは環状のアルキル基を示し、例
えばメチル、エチル、ｎ〜プロピル、イソブチル、　ｔ
ｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンデル、シクロペンチル、ロー
ヘキシル、ノクロヘキノル等が用いられ、アルケニル基
は、好ましくは炭素数３から６の直鎖１分枝状もしくは
環状のアルケニル基を示し、例えばアリル、イソプロペ
ニル１１−ブテニルが用いられ、アルキニル基は、好ま
しくは炭素数３から６のアルキニル基を示し、例えばプ
ロパルギル、２−ブチニル、３−ブチニル等が用いられ
、アリール基は、好ましくは炭素数６から１４のアリー
ル基を示し、例えばフェニル。

ナフチル、ビフェニリル等が用いられ、アラルキル基は
好ましくは炭素数７から１９のアラルキル基を示し、例
えばベンノル、フェネチル。フェニルプロピル、トリチ
ル等が用いられ、複素環基としては具体的には２−また
は３−ピロリル、３−．４−または５−ピラゾリル、２
−．４−または５−才キサゾリル、２−．４−または５
−イミダゾリルなどが用いられ、アシル基は、例えばア
ルカノイル基、好ましくは炭素数１から７のアルカイル
基（例、ホルミル、アセデル、プロピオニル、ブヂリル
、ペンタノイル、ヘキサノイル等）、アリールカルボニ
ル基、好ましくは炭素数６から１４のアリール−カルボ
ニル基（例、ベンゾイル等）、アルコキシカルボニル基
、好ましくは炭素数１から６のアルコキシ−カルボニル
基（例、メトキシカルボニル、エトキンカルボニル、プ
ロポキンカルボニル、ブトキシカルボニル等）、アリー
ルオキシカルボニル法、好ましくは炭素数６から１４の
アリールオキシ−カルボニル基（例、フェノキシカルボ
ニル基）、アラルキルカルボニル基、好ましくは炭素数
７から１９のアラルギル−カルボニル基（例、ベンジル
カルボニル、フェネヂルカルボニル等）が用いられる。

上記のうち、好ましくはアルキル基で置換されていても
よい５員複索環基であり、ここにおいて５員曳索環基は
好ましくは、ｌないし４個の酸素原子、硫黄原子（オキ
シド化されていてもよい）または／および窒素原子（オ
キシド化されていてらよい）を含む５員複素環基であり
、具体的には、３−３４−または５−ピラゾリル、３−
．４−または５−イソキザゾリル、１．２．４−オキサ
ノアゾール−３−または５−イル、　Ｉ　、２．５−ま
ｆこは１゜３．４−オキサジアゾリルなど、置換基のア
ルキル基は、好ましくは低級アルキル基（Ｒ３，１，で
定義されるものと同意義）が用いられろ。

Ｒ１で示される置換されたアミノ基としては例えばアル
キルアミノ基、好ましくはモノ〜ジ（炭素数１から６の
アルキル）アミノ基で例えば、メチルアミノ、エチルア
ミノ、ｎ−プロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、ｔｅｒ
ｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、ｎ−へキノル
アミノ、ジメヂルアミノ、ジエヂルアミノ、メチルエチ
ルアミノ、ジー（ｎ−プロピル）アミノ、ノー（ｎ−ブ
チル）アミン等、シクロアルキルアミノ基、好ましくは
モノ〜ノ（炭素数３から６のシクロアルキル）アミノ基
でたとえば、シクロプロピルアミノ、シクロへキンルア
ミノ、ジシクロへキノルアミノ等、アリールアミノ基、
好ましくは炭素数６から１４のアリールアミノ基でたと
えば、アニリノ等、アラルキルアミノ基、好ましくは炭
素数７から１９のアラルキルアミノ基でたとえば、ペン
ノルアミノ、１−フェニルエチルアミノ、２−フェニル
エヂルアミノ、ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ
等、Ｎ−アリール−Ｎ−アルキルアミノ基、好ましくは
Ｎ−（炭素数６から１４のアリール）−Ｎ−（炭素数１
から６のアルキル）アミノ基で、たとえばＮ−フェニル
−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルアミノ
基など、アシルアミノ基、具体的にはアセ、ドアミド、
プロピオンアミド、ブチリルアミノ、ペンタノイルアミ
ノ、ヘキザノイルアミノ、スクソンイミド、ベンジルカ
ルボニルアミノ（ベンジルカルボキサミド）、フエネヂ
ルカルボニルアミノ（フェネチルカルボキサミド）、ベ
ンゾイルアミノ（ベンズアミド）、ナフトイルアミノ１
フタルイミド、チェニルカルボニルアミノ（チェニルカ
ルボキサミド）。

ベンゾチェニルカルボニルアミノ（ペンゾヂエニル力ル
ポキサミド）等のアルキルカルボニルアミノ、アリール
カルボニルアミノ、複素環カルボニルアミノ（ただし、
ここでアルキル、アリール、複素環基は上記と同じらの
が好ましい）、環状イミド等、このうち特に好ましくは
Ｎ−アリール−Ｎ−アルキルアミノ基が用いられる。

１１３、Ｒ，で示される低級アルキル基は炭素数１から
４の直鎖ししくは分枝状のアルキル基を意味し、例えば
メチル、エチル、ロープロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、ｔｅｒｉ−ブチル等が用いられる。

Ｒ３、Ｒ−で示される低級アルコキン基は炭素数■から
４の直鎖もしくは分枝状のアルコキシ基を意味し、例え
ばメトキン、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキ
シ、ｎ−ブトキシ、イソブトキン。

５ｅｅ−ブトキン、　ｔｅｒｔ〜ブトキシ等が用いられ
る。

Ｒ３，Ｒ，は好ましくは、それぞれメチル基またはメト
キン基である。Ｘは好ましくはＣＩである。

上記のうち特に優れた化合物群を示せば、Ｒ１はアルキ
ル基、Ｒ７は　式−０−１１５’（式中、Ｒｓ’はアル
キル基、アルカノイル基または６員複素環基を示す）１
式−９−Ｒ，″（式中、Ｒ５″はアルキル基、アリール
基、ハロゲノアルキル基または５ないし６員複素環基を
示す）で表される基１式ＳＲｓ″′（式中、Ｒ６′はア
ルキル基、アリール基またはハロゲノアルキル基を示す
）で表され（Ｏ）。

る括１式−５Ｒｓ″″（式中、Ｒｓ′″はアルキル基ま
たはハロゲノアルキル基を示す）で表される基。

Ｎ−アリール−Ｎ−アルキルアミノ基１式％式％（ を示す）で表される基、ノアノ基、アルコキンカルボニ
ル基、アルキル基で置換されていてムよい５１１複素環
基、■（３は低級アルコキシ基、Ｒ４は低級アルキル基
または低級アルコキシ基、ＸはＣＩ■でアルカノイル基
、アーリール基、ハロゲノアルキル基。

５ないし６員複索環基は、Ｒ６で定義されたものと同様
のものが用いられる。

Ｒ６′で示される６貝複素環基は１ないし４個の酸素原
子、硫黄原子（オキシド化されていてらよい）または／
および窒素原子（オキシド化されていてもよい）を含む
６員復素環基、好ましくは、１個の酸素原子、硫黄原子
（オキシド化されていてもよい）または窒素原子（オキ
シド化されていてらよい）を含む６員復素環基を意味し
、具体的には、ピラニル、チオピラニル、ピペリジルな
どが用いられる。

Ｒ６′で示される低級アルキル基はＲ３，Ｒ４で定義さ
れたものと同様のものが用いられる。

さらに優れた化合物を具体的に示せば、Ｒ１はメチル基
であり、Ｒ２は式−０−Ｒ５’（式中、Ｒ５′はメチル
基、エチル基、アセチル基またはピラニル基を示す）で
表される基１式−９−４５″（式中、Ｒ２″はメチル基
、フェニル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロクロ
ロエチル基、チアゾリン−式−５−１１，′（式中、Ｒ
５′はメチル基、フェニル基またはジフルオロメチル基
を示す）で表さく０）。

れる基１式−９−Ｒ，”（式中、Ｒ６′はメチル基。

またはジフルオロメチル基を示す）で表される基。

Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ基、シェドキンホスホ
リル基、シアノ基、カルボエトキシ基、］、２゜４−オ
キサジアゾール−３−イル基、５−メチル−１，２，４
−オキサジアゾール−３−イル基であり、Ｒ１はメトキ
シ基であり、Ｒ４はメトキン基またはメチル基であり、
ＸはＣＩ−１である。

化合物（＋）の塩としては、無機酸付加塩、打機酸付加
塩などの酸付加塩や無機塩基塩、有機塩基塩などの塩Ｊ
□（塩が用いられる。化合物（１）の無機酸付加塩とし
ては、たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸
などとの塩が、化合物（１）の￥ＴＩ４酸付加塩として
はたとえばｐ−トルエンスルポン酸、メタンスルホン酸
、ギ酸、トリフルオロ酢酸などとの塩が用いられる。

化合物（１）の無機塩基塩としてはアルカリ金属（たと
えばナトリウム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（
たとえばカルシウムなど）、アンモニアなどとの塩が、
又化合物（［）の有機塩基塩としてはたとえばジメチル
アミン、トリエチルアミン、ピペラジン、ピロリノン１
ピペリジン、２−フェニルエチルベンジルアミン、ベン
ジルアミン、エタノールアミン、ジェタノールアミンと
の塩などが用いられる。

化合物（＋）またはその塩は、極めて低薬量で広範囲の
雑草、例えば、タイヌヒエ、クマガヤツリ。

イヌホタルイ、コナギ、ウリカワ、マツバイ、ミズガヤ
ツリ、クログワイ、ヘラオモダカ、オモダカ、タイワン
ヤマイ、アゼナ、キカシグサ、ヒルムシロ、チョウジタ
デ、ミゾハコベ等の水田雑草、メヒシバ、エノコログサ
、アオビユ、イチビ、アカザ、イヌタデ。

スベリヒュ、アメリカキンゴノガ、ンロバナチョウセン
アサガオ、マルバアサガオ、オナモミ、ヒメイヌビエ、
オオクサキビ、セイバンモロコシ、ハマスゲ、カラスム
ギ、ブラックグラス、ウマノヂャヒキ。

コハコベ、カラノナ類、エビスグサ、カミツレツユクザ
等の畑地雑草に対して浸れた殺草力を有するのみならず
、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、大豆等の作物に対し
て薬害はなく、高い安全性を示す。

化合物（１）またはその塩は、作物と各種雑草との間に
優れた選択的除草効果を示し、哺乳動物や魚貝類に対し
て低毒性で、環境を汚染することもなく、水田、畑、果
樹園或いは非農耕地用の除草剤として極めて安全に使用
することができる。

化合物（１）またはその塩を除草剤として使用するにあ
たっては、一般の農薬のとりうろ形態、即ち、化合物（
１）またはその塩の１種又は２種以上を使用目的によっ
て適当な液体担体に溶解するか分散さＵるか、または適
当な固体担体と混合するか吸着させ、乳剤、油剤、噴霧
剤、水和剤、粉剤、ＤＬ（ドリフトレス）車粉剤１粒剤
、微粒剤、微粒剤Ｆ。

錠剤などの製剤として使用する。これらの製剤は必要に
応じ、乳化剤１分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、粘漿
剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法で調
製することができる。使用する液体担体（溶剤）として
は、例えば水、アルコール類（例、メチルアルコール、
エヂルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、エチレングリコール等）、ケトン類（
例、アセトン、メチルエチルケトン等）、エーテル類（
例、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル等）、脂肪族炭化水素類（例、ケロシン、灯油、燃料
油１機械浦等）、芳香族炭化水素類（例、ヘンゼン、ト
ルエン、キシレン、ソルベントナフサ、メチルナフタレ
ン等）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素等）、酸アミド類（例、ジメ
チルホルムアミド、ジメヂルアセトアミド等）、エステ
ル類（例、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、
脂肪酸グリセリンエステル等）、ニトリル類（例、アセ
トニトリル、プロピオニトリル等）などの溶媒が適当で
あり、これらは１種または２種以上を適当な割合で混合
して使用する。

固体担体（希釈・増量剤）としては、植物性粉末ＣＦ！
ＡＩ、大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等）、鉱物性粉
末（例、カオリン、ベントナイト、酸性白土等のクレイ
類、滑石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉な
どのシリカ類等）、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが
適当であり、これらは１種又は２種以上を適当な割合で
混合して使用する。

乳化剤、展着剤、浸透剤１分散剤などとして使用される
界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポリオキ
シェヂレンアルキルアリールエー７−７．類「例、ツイ
、、＝ア、イー、ニー１４２ｏ。

第一工業製薬（株）製］、ボリオキシェヂレンアリール
エステル類「例、ノナール■、東邦化学（株）ッ１．ア
Ｊｌ／　−１−）Ｉｉ　、ｉヤｊ！ｉ［％Ｉ、工？−ｊ
ｐｔｏ０゜エマール４０　　、花王石鹸（株）製コ、ア
ルキルス、■ ルホン酸塩！Ａ［例、ネオゲノ　、ネオゲンＴｏ。

第一工業製薬（株）製２ネオベレ・シス０花王石鹸（株
）製］、ポリエチレングリコールエーテル類「例、ツユ
ボー、Ｌ＝８５．ツユボー、１ｕ１００ｏ。

ノーポール！６０”、工注化成（株）製」、多°価アル
ヨー２．エユカ７．類「例１、ウィー、２０ｏＪウィー
ン８０ｏ、花王石鹸（株）製」などの非相ン系及びアニ
オン系界面活性剤が用いられる。

化合物（１）またはその塩の除草剤中の含有割合は乳剤
、水和剤などは１から９０重量％程度が適当であり、油
剤、粉剤、ＤＬ（ドリフトレス）型扮剤などとしては　
０．０１から１０重量％程度か適当であり、微粒剤Ｆ１
粒剤としては００５から１０重量％程度が適当であるが
、使用目的によっては、これらの濃度を適宜変更しても
よい。乳剤、水和剤などは使用に際して、水などで適宜
希釈増量（たとえば約１００〜１０００００倍）して散
布する。

化合物（１）またはその塩を除草剤として用いる場合の
使用量は、適用場面、適用時期、施用方法。

対象草種、栽培作物等により差異はあるが一般に有効成
分（化合物（１）またはその塩）として水田１アール当
り０，０５から５０ｇ程度、好ましくは０．１から５ｇ
程度、畑地１アール当り０．０５から２０ｇ程度、好ま
しくは０．１から５ｇ程度である。

化合物（１）またはその塩は水田雑草用としては、発芽
前土壌処理あるいは茎葉兼土壌処理剤として使用するの
が適当である。

例えば本発明の除草剤は、田植直後或いは田植２〜３週
間後でも薬害を発現することなく安全に使用でき、長期
にわたって効果が持続する。

本発明の除！ユ剤は必要に応じ他種の除草剤、植物成長
調整剤、殺菌剤（例、有機塩素系殺菌剤、有機イオウ系
殺菌剤、アゾール系殺菌剤、抗生物質など）、殺虫剤（
例、ピレスロイド系殺虫剤、有機リン系殺虫剤、カルバ
メート系殺虫剤など）、その他殺ダニ剤、殺線虫剤、共
力剤、誘引剤、忌避剤１色素、肥料などを配合し、混合
使用することができる。

化合物（りまたはその塩は、自体公知の方法［例、特開
昭６０−７８９８０．特開昭６０−４５５７２、特開昭
５８−１６２５８７等に記載の方法コに従って製造でき
る。さらに例えば化合物（１）又はその塩は一般式 で表される化合物またはその塩と一般式で表される化合
物またはその塩 ［上記式中、Ａ、Ｗは一方がアミノ基で他方が、式　−
ＮＨＣ０Ｒｏ（式中、Ｒ，は炭化水素基を示す）で表わ
される基らしくは式　−Ｎ＝Ｃ＝０で表される基を、他
の記号は前記と同意義を示す］とを反応させることによ
り製造できる。

上記式中、Ｒ，で示される炭化水素基は、Ｑｏ。

Ｑ、、Ｑ、で定義されたものと同様のものが用いられる
。このうち特に好ましくは炭素数Ｉから４のアルキル基
（例、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル）
、炭素数６から１４のアリール基（例、フェニル、クロ
ロフェニル、トリル、ビフェニリル）等である。

化合物（１）またはその塩は詳しくは次の反応図式１〜
４に従って製造することができろ。

なお下記に示す化合物（［１’）、（ＩＩ″’）、（Ｉ
ＩＩ’）、（■″）の塩としては上記した化合物（１）
の塩と同様のちのが用いられる。

反応図式ｌ （ｎ’）　　　　　　　　　　（ＩＵ’）１式中の記号
はｉｉ？７記と同意義を示す〕本反応は通常、化合物（
■′）またはその塩を化合物（■′）またはその塩に対
して約０．８から１゜５倍モル用いろ。反応は反応に悪
影響を及ぼさない溶媒中で行なわれる。このような溶媒
としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キンレンなど
の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオギザ
ン、テトラヒドロフラン（以下Ｔ’ｌｌＦと略記する）
などのエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル
などのニトリル類、アセトン、メチルエチルケトンなど
のケトン類、酢酸エチル。酢酸ブチルなどのエステル類
、ツメチルホルムアミド（以下ＤＭＦと略記する）、ノ
メヂルスルホキンド（以下ＤＭＳＯと略記する）、スル
ホランなどが用いられる。これらの溶媒は一種或いは二
種以上適宜の割合で混合して用いてもよい。このうち好
適なものはクロロホルム、アセトニトリル、ジオキサン
である。本反応は塩基の存在下に有利に進行する。塩基
としてはたとえばトリエチルアミン。

トリーｎ−プロピルアミン、ピリジン、１．８−ジアザ
ビンクロ［５，４，０Ｊ〆ウンデク−７−エン（以下Ｄ
ＢＵと略記する）、１．４−ジアザビンクロロ２゜２．
２］オクタン（以下ＤＡＢＣＯと略記する）、１゜５−
ジアザビシクロ［４，３，０］ノン−５−エン（以下Ｄ
ＢＮと略記する）などの有機塩基、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属、例えば炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属、例えば
炭酸カルシウム等の炭酸アルカリ土類金属、水素化ナト
リウムなどの水素化アルカリ金属など無機塩基などが用
いられる。

塩基の使用量は通常化合物（■′）またはその塩１モル
に対し約０．８から５モル、好ましくは約１から３モル
である。反応温度は通常約−１０から１５０℃、好まし
くは約０から１００℃である。本反応は１０分から２４
時間程度で完結し、その終了は薄層クロマトグラフィー
、高速液体クロマトグラフィーなどにより確認すること
ができる。

反応図式２ ［式中の記号は前記と同意義を示す］ 本反応においては通常、化合物（■″）またはその塩は
化合物（■″）に対して、約０８から１．５倍モル用い
る。反応は反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行なわれ
る。適当な溶媒としては、反応図式！で示される反応と
同様の溶媒が用いられる。

本反応は一般に、塩基の添加により加速される。

このような塩基としては、たとえばトリエヂルアミン、
トリー〇−プロピルアミン、ピリジン、ＤＢＵ。

ＤＡＢＣＯ，ＤＢＮなどの有機塩基、水酸化アルカリ金
属塩（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、炭酸
アルカリ金属塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）
などの無機塩基が用いられる。塩基は化合物（■″）１
モルに対し通常約０．０１モルから３モル用いてもよい
。反応温度は通常約−１０から１５０°Ｃ５好ましくは
約０から１００℃である。

反応は３０分から２０時間程度で完結し、その終了は薄
層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィーな
どで確認することができる。

反応図式３ ［式中の記号は前記と同意義を示す］ 反応は通常、化合物（■′）またはその塩は化合物（Ｉ
ＩＩ＝’）に対して約０．８から１．５倍モルを用いて
行なわれる。本反応は反応に悪影響を及ぼさない溶媒中
で行なわれる。本反応は好ましくは塩基の存在下に実施
される。本反応に用いる溶媒、塩基の種類および使用量
は前記の反応図式ｌの反応の場合と同様である。

反応図式４ ［式中の記号は前記と同意義を示す］ 本反応は反応図式ｌの反応と同様に実施できる。

反応図式１〜４の反応により得られる化合物（１）は分
子中に酸性基を有する場合には塩基との塩として存在す
ることもあり、塩基性基を有する場合には酸付加塩とし
て存在することもある。塩基との塩として得られる場合
には必要に応じて、例えば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等
の無機酸、ギ酸、酢酸。

トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機
酸を添加することにより遊離型に導くことができる。酸
付加塩として得られる場合には上記した′ｉ′ｒ機、無
機塩基を加えて遊離型に導くことができる。化合物（ｆ
）が遊離型で得られる場合、上記した塩基を加えて塩基
塩とすることができ、父上記した無機酸や有機酸を加え
て酸付加塩とすることもできる。このようにして得られ
る化合物（１）またはその塩は自体公知の手段、たとえ
ば濃縮、減圧濃縮、抽出、転溶、結晶化、再結晶化、ク
ロマトグラフィーなどにより単離・精製することができ
る。

本発明方法に用いる原料化合物の化合物（Ｉｎ’）。

（ｍ″）またはこれらの塩及び化合物（■″′）は公知
か、あるいは公知の化合物から容易に製造できる。

化合物（■′）またはその塩はたとえば特開昭５８−２
３６７６、同５８−２１９１８０．同５９−５９６７１
　ザ・ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリック・コン
パウンダ（Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　ｌ１ｅ
ｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）第１６巻
　ザ・ピリミジンズ（Ｔｈｅ　Ｐｙｒｉｍｉｄｉｎｅｓ
）１９６２年、インターサイエンス・パブリッシャーズ
・ジョン・ウィリー・アンド、サンプ・インコーポレー
ション（Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　　Ｐｕｂｌｉｓｈ
ｅｒｓ、　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　５ｏｎｓ　
Ｉｎｃ、）に記載された方法またはそれに準じて製造で
きる。

化合物（■″）またはその塩は、たとえばザ・ケミスト
リー・才ブ・ヘテロサイクリック・コンパウンダ（イン
ターサイエンス・パブリッシャーズ・ニューヨーク・【
１ンドン）［Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆｌｌｅ
ｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　　（Ｉｎ
ｔｅｒｓｃｊｅｎｃｅＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ　
Ｙｏｒｋ　＆　Ｌｏｎｄｏｎ）コ　第１６巻、１９６２
年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（
Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＯｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ）第２８巻、　１８１２〜１８２１亘（１９６３年
）、Ｕ、Ｓ、Ｐ、　　３，１５４゜５４７に記載されて
いる方法、またはそれに準じて製造できる。

化合物（■″′）はたとえばアンゲバンテ・ヘミ−・イ
ンターナショナル・エディジョン・イン・イングリッシ
ュ（＾ｎｇｅｗａｎｄｔｅ　Ｃｈｅｍｉｅ、　Ｉｎｔｅ
ｒ−ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｄｉｔｉｏｎ　ｉｎ　Ｅｎｇ
ｌｉｓｈ）第１Ｏ巻４０２〜４０３頁（１９７１年）な
どに記載された方法またはそれに準じて製造できる。

化合物（■″）及び化合物（ｎ’）、（Ｕ″′）または
これらの塩は自体公知の方法（例えばニューヤー・メソ
ッズ・オブ・プレパラティブ・オーガニック・ケミスト
リー、アカデミイック・プレス・ニューヨーク・アンド
・ロンドン［Ｎｅｗｅｒ　！Ａｅｔｈｏｄｓ　ｏｆＰｒ
ｅｐａｒａｔｉｖｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ、　ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ　−ＮｅｗＹｏｒ
ｋ　ａｎｄ　Ｌｏｎｄｏｎ］第６巻、　２２３〜２４１
頁、特開昭５５−１３２６６、特開昭５９−３９８７８
の方法）に従って製造できる。

さらに、化合物（Ｈ′）または塩は下記図式に従って製
造することができる。

Ｒ，（Ｖ）　　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ，（■
）［上記式中、ｆｌりは低級アルキル基を、Ｒｇはアリ
ール基、低級アルキル基またはアラルキル基を、池の記
号は館記と同意義を示す。コ Ｒ７，ｎ、で示される低級アルキル基はＲ３，Ｒ，で定
義されたものと同様のものが用いられろ。

Ｒ２で示されるアリール基としては、フェニル基、ｐ−
ニトロフェニル基が用いられる。

Ｒ，で示されるアラルキル基としてはベンジル基、ｐ−
ニトロベンジル基が用いられる。

第１工程は、化合物（ＩＶ）とハロゲン化剤とを反応さ
せ、ついでアンモニアと反応させて化合物（■）を製造
する工程である。

本反応におけるハロゲン化剤としては塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン、塩化ヨウ素、臭化ヨウ素、塩化臭素
などのハロゲン化ハロゲン類、次亜塩素酸１次亜臭素酸
９次亜ヨウ素酸などの次亜ハロゲン酸類、および次亜ハ
ロゲン酸のナトリウム５カリウム、カルシウム、バリウ
ム、銅（第一および第二）などの金属塩類が用いられる
。

これらの試薬のうちハロゲン、ハロゲン化ハロゲン類は
、酸素、８酸化水素などの酸化剤と同時に用いるか、水
または酢酸と組みあイつ仕て用いろ。

ハロゲン化剤は化合物（＃）１モルに対して約３から１
０モル用いる。

反応は通常溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては、
例えば水、メチルアルコール。エチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ
−ブヂルアルコールなどのアルコール類、スルフ１；ラ
ン、ジオキサン、ＴＩ（Ｆ、アセトニトリル、アセトン
、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ベンゼ
ン、トルエン、酢酸などが単独でまたは混合して用いら
れる。反応温度は特に限定されないが、通常的０から７
０℃で行なわれ、ハロゲン化剤の種類によっては一８０
℃程変にまで冷却して行なってもよいし、また溶媒の還
流温度にまで加熱して行なってもよい。

反応時間は通常数分から２４時間程度である。

ついで得られる化合物をアンモニアと反応させる。

アンモニアは化合物（■）１モルに対して約Ｉから１０
０モル、好ましくは約２から３０モル用いる。

反応は通常溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては、
例えば、水、メチルアルコール。プロピルアルコール、
ブチルアルコール等のアルコール類、ＤＭＳ○、ＤＭＦ
、　ジメチルアセトアミド、メチルセロソルブ、ｌ、２
−ノメトキシェタン、ノエヂレングリコールジメチルエ
ーテル（ジグリム）等のグライム類、ジオキサン、Ｔ　
ＨＦ　、アセトニトリル等の極性溶媒、またはこれらの
混合溶媒、または、これらの極性溶媒とクロロホルム、
ジクロロメタン等の半極共溶媒との混合液を用いること
ができる。反応温度は特に限定されないが、通常的−６
０から１００℃で行なわれる。反応時間は通常、数分か
ら２４時間程度である。

第２工程は化合物（Ｖ）を還元剤で還元して化合物（Ｖ
ｌ）を製造する工程である。還元剤は化合物（７月モル
に対して０．２５からｌＯモル程度、好ましくは１から
４モル程度用いてもよい。適当な還元剤としては、水素
化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキソエ
トキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素すヂウ
ムなどの金属水素化物が用いられる。本反応は必要に応
じて、溶媒中で実施される。適当な溶媒としては、エチ
ルエーテル、ジオキサン、ＴＩ−ＬＰ、、ジメトキシエ
タン、ジグリムなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キンレンなどの芳香族炭化水素類などの不活性溶媒が
用いられる。反応温度は約−８０から＋５０°Ｃ１好ま
しくは約０から６０°Ｃである。反応時間は１０分から
２４時間程度である。

第３工程は化合物（Ｖｆ）を塩素化して化合物（■）を
製造ずろ工程である。本塩素化反応において、塩化ヂオ
ニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リンなどの
塩素化剤が用いられる。塩素化剤は化合物（Ｖ［）１モ
ルに対して約０２５から１０モル、好ましくは約１から
３モル用いる。本反応は必要に応じて溶媒中で実施され
る。適当な溶媒としては、上記第２工程で用いられる不
活性溶媒がここでら用いられる。反応を促進させろ為に
塩基を加えてら良い。

塩基の量は触媒ｍから化合物（ＶＴ）に対して当モル程
度で十分である。適当な塩基としては、化合物（■′）
と化合物（■′）とから化合物（１）を製造する反応で
用いられろ塩基がここでも用いることができる。反応温
度は約０から１５０℃である。反応時間は１０分から２
４時時間開である。

第４工程は化合物（■）を求核置換反応に付して化合物
（ｎ′）を製造する工程である。本反応において用いら
れる求核性化合物として、ｆことえば一般式Ｈ−Ｙ−４
５［式中の記号は前記と同意義］で表される化合物また
はその塩、チオ尿素、シアン酸またはその塩、アミン化
合物、亜リン酸エステルなどがあげられる。

（１）一般式）（−Ｙ−ｒ（、［式中の記号は前記と同
意義］で表される化合物またはその塩を用いる場合 一般弐〇−Ｙ−４５［式中の記号は前記と同意義］で表
される化合物としては、例えばメチルメルカプタン、エ
ヂルメルカブタン、ジフルオロメチルメルカプタン、２
−クロロ−１，１，２−トリフルオロエチルメルカプタ
ン、２−メルカプトチアゾリン、チオフェノール、２−
メルカブトベンゾヂアゾ−ＩＶ、２−メルカプトピリジ
ン等のメルカプト誘導体、メチルアルコール、エチルア
ルコール。

プロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸。

プロピオン酸などの脂肪酸等が用いられる。

一般式１−［−Ｙ−１１５［式中の記号は前記と同意義
］で表される化合物の塩としては、好ましくは例えばナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩などが用
いられる。

一般弐〇−Ｙ−４．［式中の記号は前記と同意義］で表
される化合物またはその塩は化合物（■）１モルに対し
て約Ｉから１０モル用いてもよい。

本反応は無溶媒または反応に不活性な溶媒中で行なわれ
る。このような溶媒としては、化合物（Ｈ′）と化合物
（■′）とから化合物（１）の製造において用いられる
ものが、ここでも用いられる。反応を促進させるために
相間移動触媒を共存させてらよい。適当な相間移動触媒
としては、例えば１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８
−クラウン−〇などのクラウンエーテル類、臭化テトラ
ブチルアンモニウムなどの４級アンモニウム塩などが用
いられる。相間移動触媒は、化合物（■）１モルに対し
て０．ＯＩから０．５モル程度用いてもよい。反応温度
は約０から２００°Ｃである。反応時間は１０分から７
２時間程度である。

又生成する化合物（■′）が基−３−４，［式中の記号
は前記と同意義］を存している場合、この基（０）ｎ’ 穿 は酸化剤で酸化することにより、基−９−Ｒ５［式中ｎ
′はＩまたは２を示ず］に変換することかできる。

本変換反応は溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては
ジクロロメタン、クロロポルム、アセトニトリル、ＴＨ
Ｆなどの非プロトン性極性溶媒または酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、水などのプロトン性溶媒が用いられる。酸化剤
としては過酢酸、過安息呑酸、メタクロロ過安息呑酸、
過酸化水素、過ヨウ素酸ナトリウムなどが用いられる。

基−９ｆｌｓを基−５−Ｒ，に変換するには酸化剤を化
合物（Ｉｆ’）に対して０．８から１．２倍当量程度使
用ずろ。反応温度は約０がら３０’Ｃである。

（Ｏ）。

基−Ｓ　　Ｒｓを基−９−Ｒ６に変換するには酸化剤を
化合物（Ｈ′）に対して２からｌＯ倍当量程度使用する
。反応温度は約５０から１５０°Ｃである。

反応時間はいずれの場合ら約１０分から２４時間である
。

（２）チオ尿素を用いる場合 本反応は化合物（■）とチオ尿素を反応さけ、ついてア
ルカリ水溶液で処理したのち、得られるヂオール化合物
をアルキル化剤と反応さ仕ることにより行なわれる。

チオ尿素は化合物（■）１モルに対して約１から１０モ
ル用いてもよい。化合物（■）とチオ尿素との反応は無
溶媒または反応に不活性な溶媒中で行なわれる。このよ
うな溶媒としては、化合物ＣＡ）の製造において用いら
れるものか、ここでも用いられる。反応温度は約０から
２００℃である。反応時間は１０分から７２時間程度で
ある。化合物（■）とヂオ尿素の反応により得られる化
合物は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カ
ルシウムなどのアルカリ水溶液と処理され、必要により
塩酸、硫酸、酢酸などの無機酸を加えてチオール化合物
として単離してもよい。得られるチオール化合物とアル
キル化剤との反応は、例えばトリエチルアミン、ピリジ
ン、ＤＢＵ、水素化ナトリウム。

ナトリウムメチラート、水酸化ナトリウムなどの塩基の
存在下、無溶媒またはアセトニトリル、ＴＨＰ、ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、水などの溶媒中で行なわ
れる。

アルキル化剤としては、クロロジフルオロメタン、ノブ
ロモフルオロメタン、クロロトリフルオロエチレン、テ
トラフルオロエチレン、１．１−ジクロロ−２，２−ジ
フルオロエチレンなどが用いられる。アルキル化剤は化
合物（■）１モルに対して約１から１０モル用いてらよ
い。反応温度は約Ｏから１００°Ｃ１好ましくは約５０
から８０℃である。反応時間は１０分からＩＯ時時間開
である。

ここで得られる化合物（■′）の基−９−ｎ、Ｆ式中の
記号は前記と同Ｑ義〕は上記（１）と同様にしく０）ｎ
’ て酸化剤で酸化することにより基−９−１１５［式中の
記号はｒｒｌｉ記と同意義］に変換することができる。

（３）シアン酸またはその塩を用いる場合シアン酸の塩
としては、好ましくはナトリウム。

カリウムなどのアルカリ金属との塩などが用いられる。

シアン酸またはその塩は化合物（■）１モルに対して約
１から１０モル用いてもよい。本反応は無溶媒または反
応に不活性な溶媒中で行なわれる。このような溶媒とし
ては、化合物（ｒ）の製造において用いられるものが、
ここでも用いられる。

反応を促進さけるために相間移動触媒を共存させてもよ
い。適当な相間移動触媒としては、例えばＩ８−クラウ
ン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６などのクラウン
エーテル類、臭化テトラブチルアンモニウムなどの４級
アンモニウム塩などが用いられる。相間移動触媒は、化
合物（■）１モルに対して０．Ｏｌから０．５モル程度
用いてもよい。

反応温度は約０から２００℃である。反応時間は１０分
から７２時間程度である。

得られるノアノ化合物は酸の存在下にアルコール類と反
応させてカルボン酸エステル化合物としてもよい。本変
換反応はメチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコールなどのアルコール溶媒中、硫酸、塩酸
、パラトルエンスルホン酸などの無機、有機酸の存在下
で行なわれる。

反応温度は約５０から１５０°Ｃである。反応時間は約
１から４８時間である。

（４）アミン化合物を用いる場合 アミン化合物としてはアンモニアやメチルアミン、ンメ
チルアミン、フェニルメチルアミン等のモノ−又はジ置
換アミンが用いられる。

アミン化合物は化合物（■）１モルに対して約１から１
０モル用いてもよい。本反応は無溶媒または反応に不活
性な溶媒中で行なわれる。このような溶媒としては、化
合物ＣＩ＞の製造において用いられるものが、ここで乙
用いられる。反応温度は約０から２００℃である。反応
時間は１０分から７２時間である。

（５）亜リン酸エステルを用いる場合 面リン酸エステルとしては、亜リン酸トリメチルエステ
ル、亜リン酸トリエチルエステル等の亜リン酸トリアル
キルニスデルが用いられる。亜リン酸エステルは化合物
０’１ｌ）１モルに対して約１から１０モル用いてもよ
い。本反応は無溶媒または反応に不活性な溶媒中で行な
われる。このような溶媒としては、化合物（１）の製造
において用いられるものが、ここでも用いられる。反応
温度は約０から２００℃である。反応時間は１０分から
７２時間程度である。

さらに化合物（■′）中のンアノ基、エステル化されて
いてもよいカルポギソル基は、自体公知の方法（たとえ
ば特開昭６Ｏ−８９４６７）に従ってオキサノアゾール
基、トリアゾール基、ヂアンアゾール基、チアゾール基
１オキザゾール基５ピリミジン基等に変換することかで
きる。

第５工程は、化合物（ＩＶ）を還元剤で還元して化合物
（■）を製造する工程である。本反応は第２工程の反応
と同様にして実施できる。

第６エ程は、化合物（■）をクロル化して化合物（ＩＸ
）を製造する工程である。本反応は第３工程の反応と同
様にして実施される。

第７エ程は、化合物（ＩＸ）を求核置換反応に付して化
合物（Ｘ）またはその塩を製造する工程である。

化合物（Ｘ）の塩は化合物（■′）の塩と同様のものが
用いられる。本反応は第４工程の反応と同様にして実施
される。

第８工程は、化合物（Ｘ）またはその塩をハロゲン化剤
と反応させ、ついでアンモニアと反応させて、化合物（
■′）またはその塩を製造する工程である。本反応は、
第１工程の反応と同様にして行うことができる。

第９工程は化合物（Ｖｌ）と環状エノールエーテルとを
反応させて化合物（■′）を製造する工程である。環状
エノールエーテルとしては例えば３，４−ジヒドロ−α
−ビラン、２．３−ジヒドロフランなどが用いられる。

環状エノールエーテルは化合物（Ｖｌ）１モルに対して
約１から１０モル用いる。

本反応は通常例えばｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トル
エンスルホン酸ピリジニウムなどの酸性触媒の存在下に
行なわれる。酸性触媒の量は化合物（■）１モルに対し
て約０．０１から１モル用いる。本反応は無溶媒または
必要に応じて溶媒の存在下に行なわれる。適当な溶媒と
してはエチルエーテル。

Ｔ　Ｉ−Ｉ　Ｆ　、ノオキサンなどのエーテル類が用い
られる。反応温度は約０から４０℃である。反応時間は
約０，５から２４時間である。

上記各工程で得られる化合物は、全て自体公知の単離精
製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、減圧蒸留。

液性変換、転溶、溶媒抽出、結晶化、再結晶、クロマト
グラフィー等により単離精製することができる。

発明の効果 本発明の化合物（１）またはその塩は、極めて低薬量で
水田雑草や畑地雑草に対して殺草力を示し、しかも、稲
、小麦、大麦、トウモロコシ、大豆等の作物に対して薬
害はなく、優れた選択的除草効果を示す。

哺乳動物や魚貝類に対して低毒性で、環境を汚染するこ
ともなく、安全に使用できる。

以下に参考例、実施例、製剤例、試験例を示し、本発明
をさらに具体的に説明する。

参考例、実施例中の記号は次のような意味を存する。

Ｓ　　ニシンブレット ｄ　　；ダブレット ｔ　　ニトリブレット ｑ　　：クワルテット ＡＢｑ：ＡＢ型クりルテット ｄｄ：ダブル　ダブレフト ｍ　　：マルヂブレット ｂｒ、　　：幅広い ｊ　　・カップリング定数 クロマトグラフィーの溶出溶媒において（）内に示した
数値は各溶媒の容量混合比である。％は特記のない限り
重量％を示す。

参考例１ （１）５−ベンジルチオ−１−メチルピラゾール−４−
カルボン酸エチル　７０ｇを酢酸＋００〃Ｊ及び水２０
０寸の混合溶媒に！！ｔ！濁させ水冷攪拌下、これに塩
素ガスを８０分間吹き込む（反応混合物の温度は２から
１２°Ｃに変化する）。反応混合物を室温上攪拌し、こ
れに窒素ガスを２５分間吹き込み残存する塩素ガスを除
去する。ついでジクロロメタンで抽出、水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去すると油
状物１００．８ｇが得られる。この油状物をアセトニト
リル２００蔵に溶解し、水冷攪拌下これに２５％アンモ
ニア水１００滅を３５分間で滴下する（反応混合物の温
度は２から２０℃に変化する）。更に１５分間水冷下Ｍ
ＨＩ≧した後、減圧下アセトニトリルを留去し、ついで
酢酸エチルｌ００ｙｕで抽出する。水層（ｐＩ−１約８
）に濃塩酸１５滅を加えて酸性（ｐＩ！約５）とし、更
に酢酸エチル５０Ｕで２回抽出する。抽出液を合わせて
飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下溶媒を留去する。残渣をろ取し、エチルエーテルで
洗ａト後、風乾すると白色結晶状の４−エトキシカルボ
ニル−！−メチルピラゾールー５−スルホンアミド３９
．３ｇが得られる。ｍｐ、　＋　０３−１０５℃（２）
上記（１）の操作を２回行ない得られる４−エトキシカ
ルボニル−１−メチルピラゾール−５＝スルホンアミド
６０ｇを乾燥ＴＨＦ３６０！に溶解し、水冷攪拌下、こ
れに水素化ホウ素すヂウム２０ｇのＴｌｌＰ２Ｏ０ｚＪ
１％濁液を滴下する。この混合物を浴温５５℃で７５分
間攪拌した後、減圧下ＴＨＦを留去する。残渣に氷水１
５０ｄ及び濃塩酸８０ｇを加え、酸性（ｐｒ−ｒ＋から
２）とする。

さらに浴温８０℃で数分間攪拌後反応液の温度を室温に
までもどす。炭酸水素ナトリウムで中和後、酢酸エチル
で抽出、抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下溶媒を留去し、得られる油状物に少量のエチルエー
テルを加えて結晶化させる。これをろ取し、エチルエー
テルで洗浄、風乾すると白色結晶状の４−ヒドロキシメ
チル−１−メチルビラゾール−５−スルポンアミド２９
．１ｇが得られろ。ｍｐ、Ｉ２２−１２４°Ｃ（３）４
−ヒトロキシメヂルー１−メヂルピラゾール−５−スル
ホンアミド２７ｇを水で冷却しながら、これに塩化チオ
ニル４２ｇ、’ｌ’ＨＦ　７０７ｎ１．及びピリンン７
滴を加える。浴温８０°Ｃで１時間攪拌後、減圧下溶媒
を留去する。残渣に氷水を加えて析出する結晶をろ取、
水洗後風乾すると微かっ色結晶状の４−クロロメチル−
ｌ−メチルピラゾール−５−スルフ１：ンアミド２０．
７ｇが得られる。

ｕ、ｌ３Ｏ−１３１’ｃ 参考例２ ４−クロロメチル−１−メチルピラゾール−５−スルホ
ンアミド３．０ｇをＴＨＦｌＯｍｎに溶解し、これに１
５％メヂメチルカブタンナトリウム水溶液１４ｇを加え
、室温で７０分間攪拌する。反応液に３Ｎ塩酸４．５蔵
を加えて中和し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去する。得
られる残渣３Ｉｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［溶出溶媒：ヘキサン−アセトン（１：１）］により
精製すると、白色結晶状の１−メチル−４−メチルチオ
メチルピラゾール−５−スルホンアミド１．６ｇが得ら
れる。ｍｐ、８６−８８°Ｃ 参考例３ （１）　　Ｉ−メチル−４−メチルチオメチルピラゾー
ル−５−スルホンアミド２．０ｇをアセトニトリル２０
旋に溶解し、これにメタクロロ過安息香酸（以下ＭＣＰ
ＢＡと略記用′７ｇを加え室温で２５時間攪拌する。析
出する結晶をろ取し、少量のアセトニトリルで洗浄、ろ
液を減圧下濃縮する。

得られる結晶状の残渣をろ取し、エチルエーテルで洗浄
、風乾すると白色結晶状の４−メタンスルフィニルメチ
ル−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミド１．３
ｇが得られる。ｍｐ、　Ｉ　２６−１２８℃ （２）Ｉ−メチル−４−メチルヂオメチルピラゾールー
５−スルホンアミド２．２ｇをアセトニトリル２０淑に
溶解し、これにＭＣＰＩ３Δ３．９ｇを加え、攪拌下２
．５時間加熱還流する。反応液を冷却後上記（１）と同
様の操作を行うと、白色結晶状の４−メタンスルホニル
メチル−１−メチルピラゾール−５−スルホンアミド１
．６ｇが得られる。

ｍｐ、　ｌ　７７−１８０°Ｃ 参考例４ ４−ヒドロキシメチル−Ｉ−メチルピラゾール−５−ス
ルホンアミド１．６ｇ、３．４−ノヒトａ−α−ピラン
０．９ｇ及び無水ｐ−トルエンスルホン酸を乾燥′Ｉ″
［Ｉ　Ｆ　３０　ｔｒｄｌに溶解し、室温で５．５時間
攪拌する。反応液を減圧下濃縮し、残渣に氷水及び少量
の炭酸水素ナトリウムを加えて弱アルカリ性（ｐト１約
８）とする。酢酸エチルで抽出、抽出液を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−［溶出溶媒：ヘキサン
−アセトン（２：ｌ）］により精製すると無色油状の１
−メヂルー４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキン
メチル）ピラゾール−５−スルホンアミド１．８ｇか得
られる。

ＩＲ（液膜）ｃｍ−’：　３２００．　１３５０．１１
６５Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）：　
　１．２−２．０（６１１，ｍ）。

３．３−４．０（２Ｈ，ｍ）、　　４．０２（３ｔｌ、
ｓ）、　　４．５５．４．７６（２１１゜１へＢｑｌ＝
　１３．２１１ｚ）、　４．５−４．８（ｌＩｌ、ｍ）
、　７．５０（ｌｉｔ、ｓ）。

７．８３（２１１，ｂｒ、ｓ） 参考例５ （１）４−クロロメチル−１−メチルピラゾール−５−
スルホンアミド５．０ｇをエタノール５５旋に溶解し、
これにチオ尿素１．８ｇを加え、Ｈ２押下１５時間加熱
還流する。反応液を減圧下濃縮すると暗かっ色樹脂状の
塩化５−（１−メチル−５−スルファモイルピラゾール
−４−イルメチル）イソヂオウロニウム８０ｇか得られ
る。

ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）：　　４．０
４（３１１，ｓ）、　４゜５６（２１１，ｓ）、　７．
６３（ｌｉｔ、ｓ）、　７．８−８．４（２１１，ｍ）
、　８．８−９．９（４１１，ｍ） （２）上記で得られる塩化５−（１−メチル−５〜スル
フアモイルピラゾール−４−イルメチル）イソヂオウロ
ニウム６，８ｇを４Ｎ水酸化ナトリウム水２５最に溶解
し、これにジオキサン３０滅を加え、浴温７０から８０
℃で攪拌下、フロン２２ガス（ＣＨＣＩＦｔ）を８時間
で吹き込む。ジオキサンを減圧下留去した後、濃塩酸２
滅を加えて酸性としくｐｌ−１３から４）、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を水洗、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧上溶媒を留去する。残渣をノリ力ゲル力ラム
クロマトグラフィー〔溶出溶媒：ヘキサン−アセトン（
１：ｌ）］によりＦｉｌ製すると結晶１．５ｇが得られ
ろ。これをクロロホルム３０成から再結晶すると白色結
晶状の４−ジフルオロメチルチオメチル−１−メチルピ
ラゾール−５−スルホンアミド０．９ｇが得られろ。ｍ
ｐ、１１６−１１７℃ 参考例６ （１）乾燥ＴｆｌＦ３２０ｄと水素化アルミニウムリヂ
ウム９．１ｇの混合物に水冷下攪拌しなから５−ベンジ
ルチオ−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸エチル
１００ｇの乾燥’１−ＩＰ１８０滅溶液を２５分間で滴
下する。ついで浴温６０°Ｃで１時間攪拌する。冷却後
反応液中の不溶物を傾斜法により除去し、ついで減圧上
溶媒を留去する。残渣に水１５０ｄ、濃塩酸３５蔵を加
えて酸性（ｐＨ約３）とし浴温８０から９０℃で数分間
かきまぜる。冷却後酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和
食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の
順に洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下溶
媒を留去すると、結晶状物が得られる。

これにエチルエーテルを加えて粉末化し、ろ取する。エ
チルエーテルで洗浄後風乾すると微黄色結メ＋Ｉし 品状、）５−ベアジ、、チオー４−ヒト。キ゛ンＣ１′
−メヂルピラゾール６４９ｇが得られろ。

ｍｐ、６０−６１’Ｃ （２）５−ベンジルチオ−４−ヒドロキシメチル−１−
メチルピラゾール５０．４ｇに水冷上塩化チオニル６０
ｇ、　ＴＨＦ’　Ｉ　Ｑ　Ｏ曜ついでピリジン２０ｆｊ
を加える。浴温８０’Ｃで２時間攪拌後、反応混合物を
減圧下濃縮する。残渣に氷水ｌｏａＭ／。

を加え酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−［
溶出溶媒：ヘキサンー酢酸エチル（３：　ｌ　）］によ
り精製すると暗かっ色透明浦状の５−ベンノルチオ−１
Ｉ−クロロメチル−１−メチルピラゾール４２．４ｇが
得られる。

ＮＭｆ？スペクトル（ＣＤＣｌ２．δ）：　　３．４２
（３１１，８）。

３．８８（２Ｈ，ｓ）、　４．４８（２１１，ｓ）、　
６．８−７．４（５１１，ｍ）。

７．５９（ＩＩＩ、Ｓ） 参考例７ （１）５−ペンジルチオ−４−クロロメヂルーｌ−メチ
ルピラゾール５０ｇ及び１８−クラウン−６０，５ｇを
アセトニトリル１２Ｍ１に溶解ずろ。

この溶液にシアン化カリウム２５ｇを加え室温で８時間
拒拌する。反応混合物をろ過して不溶物を除き、ろ液を
減圧下濃縮する。残渣に水２ｏ滅を加え酢酸エチルで抽
出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下濃縮する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー［溶出溶媒、ヘキサンー酢酸エチ
ル（３：　Ｉ　）］により精製するとかっ色Ａｂ状物の
５−ベンノルチオ−４−シアノメチル−１−メチルピラ
ゾール３２ｇが得られろ。

ＩＲＣ液ｖ、）ｃｍ−’：　２２３Ｏ ＮＭｆｌスペクトル（ＣＩ）ＣＩ、、δ）：　　３．２
０（２１１，ｓ）。

３．６０（３Ｈ，ｓ）、　　３．７９（２１１，ｓ）、
　　６．８−７．４（５１１，ｍ）、　　７．５２（ｉ
ｌｌｓ） （２）上記（１）の操作を２回行ない得られる５−ベン
ジルチオ−４−シアノメチル−１−メヂルピラゾール４
．４ｇおよびヒドロキ〉フミン塩酸塩１゜３ｇを乾燥エ
タノール７０−に溶解する。この溶ケ 液に２８．０％ナトリルムメチラートーメタノール溶液
７．Ｏｇを加え、攪拌しながら５．５時間加熱還流する
。反応液を減圧下ａ縮し、残渣に氷水５０滅を加え、酢
酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶出溶媒：
ヘキサン−アセトン（１：２）］により精製すると黄色
結晶状の５−ベンジルチオ−１−メチルピラゾール−４
−アセトアミドオキシム３．１ｇが得られる。

ｍｐ、８４−８６６Ｃ （３）上記操作を２回行ない得られる５−ベンジルチオ
−■−メチルピラゾールー４−アセトアミドオキンム３
．６ｇをオルトギ酸エチル３０歳に溶解する。この溶液
に三フッ化ホウ素・エチルエ７テル錯体３滴を加え、浴
温＋ＧＯ−１０５９Ｃで６５分間攪拌する。反応液を減
圧上濃縮し、残渣に氷水３０旋及び少量の炭酸水素ナト
リウムを加え、酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食
塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、誠圧下溶
媒を留去する。！５．渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー［溶出溶媒：ヘキサン−アセトン（２：Ｉ）］
により精製すると、かっ色透明油状の５−ベンジルチオ
−１−メヂルー４−（１，２，４−才キサジアゾール−
３−イルメチル）ピラゾール２．８ｇが得られる。

ＩＲ（液膜）ａｍ″″’：　１５５Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１ｆｆ、δ）：　　３．４７
（３１１，ｓ）。

３．８１（２Ｈ，ｓ）、　３．８８（２１１，ｓ）、　
６．９−７．４（５Ｈ，ｍ）、　７．５０（ｉｌｌ、ｓ
）、　８．６３（ＩＩＩ、５）（４）５−ベンジルチオ
−１−メチル−４−（＋　。

２．４−オキサジアゾール−３−イルメチル）ピラゾー
ル２．８ｇを酢酸２５成と水５０成の混合溶媒に溶解す
る。この溶液に水冷攪拌上塩素ガスを１０分間吹き込む
（反応混合物の温度は３から９℃に変化）。反応混合物
に室温上攪拌しながら、窒素ガスを１時間吹き込み残存
する塩素ガスを除去する。ジクロロメタンで抽出、抽出
液を飽和食塩水で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧上溶媒を留去すると油状物４．５ｇが得られ
る。

これにアセトニトリル４０旋を加えて溶解する。

この溶液に水冷攪拌下２５％アンモニア水１０ｄを３分
間で滴下する。更に５０分間水冷攪拌後、反応混合物を
減圧上濃縮する。残渣に水１５滅ついで１％塩酸８戒を
加えて酸性（ｐ　Ｈ約５）とし、酢酸エチルで抽出する
。抽出液を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧上溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー［溶出溶媒：ヘキサン−アセトン
（ＩＩＩ）］により精製すると微かっ色結晶状の１−メ
ヂルー４−（＋　、２．４−オキサノアゾール−３−イ
ルメチル）ピラゾール−５−スルポンアミド１．６ｇが
得られる。ｍｐ、９７−１０１℃ 参考例８ ４−クロロメチルー■−メチルピラゾール−５−スルホ
ンアミド３．０ｇをＴＨＦ３０ｂｕに溶解し、この溶液
に２８．０％ナトリウムメヂラートーメタノール溶液６
．０ｇを水冷下加え室温で８．５時間攪拌する。反応液
を減圧上濃縮し、残渣に水３０ｙ＝Ｉ２を加えた後、３
Ｎ塩酸７滅を加え、酸性（ｐＨ約３）とする。酢酸エチ
ルで抽出し、抽出液を水洗、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧上溶媒を留去して得られる粗生成物をシリカ
ゲル力ラメトキシメヂルーＩ−メチルピラゾール−５−
スルポンアミド２．０ｇが得られる。

ＩＲＣ液膜）ｃｍ−’＋　３３００．３２１０．　１３
５０．　１１６５ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２．δ）
：　３．３６（３１１，ｓ）、　４．０５（３１１，ｓ
）、　４．４９（２１１，ｓ）、　５．Ｌ６．４（２１
１，ｍ）、　７．４１（ｉｌｌ。

Ｓ） 参考例９ （１）５−ベンジルチオ−４−シアノメチル−ｌ−メメ
チピラゾール３．５ｇを９５％エタノール１３滅に溶解
する。この溶液に硫酸１．５滅を加え攪拌下４０時間加
熱還流する。反応混合物に少量の氷水を加え、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧上溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィｒＪリ 一［溶出溶媒：ヘキサン−アセトン＜３：＋＞遣Ｔｉす
ると微黄色油状の５−ベンジルチオ−■−メチルビラゾ
ールー４−酢酸エチル１．９ｇが得られる。

ＩＲ（液膜）ｃｍ−’：　１７３Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２．δ）：　１．２６（３
１１，ｔｌ＝７．１１１ｚ）、　３．４２（２１１，ｓ
）、　３．４３（３Ｈ１ｓ）、　３．７８（２Ｈ，ｓ）
、　４゜１７（２１１，Ｑｉ＝７．０１１ｚ）、　６．
９−７．４（５１１，ｍ）、　７．５２（ＬＨ。

（２）５−ペンジルチオ−１−メチルピラゾール−４−
酢酸エデル１．９ｇ、ジクロロメタン３０蔵。

水１５蔵及び濃塩酸２．２ｇの混合液に水冷上攪拌しな
がら、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（アンチホルミン）
１６ｇを４０分間で滴下する（反応混合物の温度は２か
ら４℃に変化）。更に４５分間攪拌を続けた後、少量の
亜硫酸水素すＩ・リウムを加えて２から３分間攪ｒＰす
る。有機層を分離し、水層をジクロロメタンで抽出する
。有機層を抽出液とあわ仕、水洗、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧上溶媒を留去すると油、状物２．５ｇ
が得られる。

この曲状物にアセトニトリル３０滅を加えて溶解し、水
冷上攪拌しながらこれに２５％アンモニア水１５ｙ４を
３分間で滴下する。１．５時間攪拌したのち反応混合物
を減圧上濃縮する。残渣に氷水ついで３Ｎ塩酸３−を加
え、酸性（叶Ｉ約１）とした後、酢酸エチルで抽出する
。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧上溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー［溶出溶媒：ヘキサン−アセト
ン（２：１）］により精製すると、かっ色結晶状の４−
エトキシカルボニルメチル−■−メチルピラゾールー５
−スルホンアミド０．７ｇが得られる。ｍｐ。

９３−９９°Ｃ 次に上記参考例に早じて製造される化合物を第１表に示
す。（ただし、第１表中の化合物のうち化合物Ｎｏ、ａ
及びｂは参考例Ｓ 化合物Ｎｏ、ｃ、　ｈ、　ｉ、　ｊ、　ｋ、　＋’７Ｔ
’を考例２化合物Ｎｏ、ｄ、　ｅ及びｒは参考例３化合
物Ｎｏ、ｇは参考例５ 化合物Ｎｏ、ｎは参考例７ に各々準じて製造される。） ＣＩ＋。

第１表 上記表中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｈはフ
ェニル基を示す。

実施例 実施例Ｉ Ｎ−［（４，６−シメトキシピリミノンー２−イル）ア
ミノカルボニルヨー１−メチル−４−メトキシメチルピ
ラゾール−５−スルホンアミド（化合物Ｎｏ、　ｌ　）
の製造 ４−メトキンメチル−１−メチルビラゾール−５−スル
ホンアミド１０ｇ及びフェニルＮ−（４゜６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）カルバメート１．４ｇをアセ
トニトリル＋５ｄに溶解し、ＤＢＵｏ、８ｇを加え、室
温で２時間攪拌する。反応液に水１５Ｍ１ついで３Ｎ塩
酸１．５ｄを加え、析出する結晶をろ取し、水およびエ
タノールで洗浄後、風乾すると表記化合物１．７ｇが得
られる。ｍｐ＋６５−１６７℃ 元素分析値　計算値（％）Ｃ：４０．４１；　ｌ（：４
．７１］；　Ｎ　：２１．７５゜実測値（％）Ｃ：４０
，６８；　１１　＋４．６９；　Ｎ　：２１．７４゜実
施例２ Ｎ−［（４，６−ジメトキンビリミノンー２−イル）ア
ミノカルボニル］−１−メチル−４−メチルチオメチル
ビラゾール−５−スルホンアミド（化合物■０２）の製
造 ４−メチルチオメチルー！−メチルピラゾール−５−ス
ルホンアミド０．８ｇ及びフェニルＮ−（４，６−シメ
トキシピリミノンー２−イル）カルバメート１．０ｇを
アセトニトリル１５＋Ｊに溶解し、ＤＢＵＯ１３ｇを加
え、室温で７５分間攪拌する。反応液に水１５滅ついで
３Ｎ塩酸１．５蔵を加え、析出する結晶をろ取し、水、
エタノールで洗浄後、風乾すると表記化合物１．４ｇが
得られろ。ｍｐ、　　１８５−１８８°Ｃ 元素分析値　計算値（％）Ｃ：３ｇ、８０：　Ｉ−（：
４．５１：　Ｎ　：２０．８８゜実測値（％）Ｃ：３８
．９４；　Ｈ：４．４６；　Ｎ’＋２０．８６゜実施例
Ｉまたは２と同様にして製造される化合物を第２表に示
す。

２２　１　ｐ（ｏＸｏＥｔ）ｔ　　　○Ｍｅ　　１３２
−１３４上記表中、Ｍｅはメチル基、ＥＬはエチル基、
Ｐｈはフェニル基を示す。

製剤例１ 乳剤 化合物Ｎｏ、　１　　　　　　　　　　　　２％キンレ
ン　　　　　　　　　　　　７５％ジメチルポルムアミ
ド　　　　　　１８％ポリエチレングリコールエーテル
（ノニボール８５　）　　　　　　　　　　　　　５％
を含有する乳剤。（水に適宜希釈して使用）製剤例２ 水和剤 化合物Ｎｏ、　ｌ　　　　　　　　　　　　５％リグニ
ンスルホン酸ナトリウム　　　５％ポリオキンエヂレン
グリコールエーテル（ノニボール８５　）　　　　　　
　　　　５％クレイ　　　　　　　　　　　　　　８０
％ホワイトカーボン　　　　　　　　　５％を混合粉砕
してなる水和剤。（水に適宜希釈して使用） 製剤例３ 粒剤 化合物Ｎｏ、　Ｉ　　　　　　　　　　　Ｏ，２５％リ
グニンスルホン酸ナトリウム　　　２％ベントナイト　
　　　　　　　　　５７．７５％タルク　　　　　　　
　　　　　　　４０％の混合物に水を加えてねり合せ造
粒してなる粒剤。

試験例１ １　／　１０００　’０アールワグネルポットに水田土
壌をつめ、クマガヤツリ及びコナギの種子をまき、約１
週間栽培後に水稲稚苗２株を移植する。別のポットには
タイヌビエとイヌホタルイの種子をまき、更に他のポッ
トにはマツバイ越冬茎を含む水田土壌をまき、ウリカワ
の萌芽塊茎を植付けた後ミズガヤツリの萌芽塊茎の芽を
地表に露出させて植付ける。いずれのポットも湛水３ｃ
ｍとし、水稲移植１週間後（タイヌビエ１葉期）に製剤
例３の方法で製剤化された化合物Ｎ０１１を含む粒剤お
よび対照薬剤シメトリン粒剤の所定量をそれぞれのポッ
トに施用する。

薬剤処理３週間後に各種雑草に対する除草効果および移
植水稲に対する薬害を次の基準によって評価する。

指数　　　効果　　　抑制率（殺草率）％０　　　　　
　無　　　　　　Ｏ ■　　　　微　　　　０．１〜５０ ２　　　　　小　　　　　５０．１〜７５３　　　　　
　中　　　　　　７’５．１〜８７．５４　　　　　　
大　　　　　８７．６〜９９．９５　　　　極大　　　
＋００ 柿に対する薬害は、次の指数で表示する。

指数　　　薬害　　　被害率％ ０　　　　　　無　　　　　０ １　　　　　＠　　　　　０．１〜１２５２　　　　　
小　　　　　１２．６〜２５３　　　　　　中　　　　
　　２５．１〜５０．０４　　　　　　大　　　　　　
５０．１〜９９．９５　　　　極大　　　１００ 結果を第３表に示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１はアルキル基を、Ｒ＿２は式−Ｙ−Ｒ＿
   ５（式中、ＹはＯまたはＳ（式中、ｎは０、１または２
   を示す）で表される基を、Ｒ＿５はアルキル基、ハロゲ
   ノアルキル基、アリール基、アシル基または５ないし６
   員複素環基を示す）で表される基、エステル化されてい
   てもよいカルボキシル基、シアノ基。 式 ▲数式、化学式、表等があります▼（式中、Ｒ＿６はア
   ルキル 基を示す）で表される基、置換されていてもよい５ない
   し６員複素環基または置換されていてもよいアミノ基を
   、ＸはＣＨまたはＮを、Ｒ＿３、Ｒ＿４は低級アルキル
   基または低級アルコキシ基をそれぞれ示す］で表される
   化合物またはその塩。