JPS635517A - 拡散酸化炉 - Google Patents
拡散酸化炉Info
- Publication number
- JPS635517A JPS635517A JP15034586A JP15034586A JPS635517A JP S635517 A JPS635517 A JP S635517A JP 15034586 A JP15034586 A JP 15034586A JP 15034586 A JP15034586 A JP 15034586A JP S635517 A JPS635517 A JP S635517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- furnace core
- furnace
- diffusion
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000005239 tubule Anatomy 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は拡散酸化炉に関し、特に半導体装置の製造に用
いられ炉芯管のガス流出の均一化を図った拡散酸化炉に
関する。
いられ炉芯管のガス流出の均一化を図った拡散酸化炉に
関する。
半導体装置の製造工程においては、半導体ウェハ(以下
単にウェハという)に不純物を拡散酸化炉を用いて拡散
する工程及びウェハを酸化する工程がある。従来、この
種の拡散酸化炉は、炉芯管の終端部から所望のガスを流
出させ、拡散あるいは酸化を行うようになっていた。
単にウェハという)に不純物を拡散酸化炉を用いて拡散
する工程及びウェハを酸化する工程がある。従来、この
種の拡散酸化炉は、炉芯管の終端部から所望のガスを流
出させ、拡散あるいは酸化を行うようになっていた。
上述した従来の拡散酸化炉は、炉芯管の終端部からガス
を流出させているので、炉芯管の先端部から終端部まで
のガス濃度の不均一性により、同一に処理したウェハ間
の拡散後の表面濃度や酸化後の膜厚が不均一になるとい
う欠点がある。従来はこの問題を解決する為に、炉芯管
の両端部にダミーとなるウェハを置き、製品となるウェ
ハは比較的ガス濃度分布が均一な中央部のみに置いて作
業を行っていた。
を流出させているので、炉芯管の先端部から終端部まで
のガス濃度の不均一性により、同一に処理したウェハ間
の拡散後の表面濃度や酸化後の膜厚が不均一になるとい
う欠点がある。従来はこの問題を解決する為に、炉芯管
の両端部にダミーとなるウェハを置き、製品となるウェ
ハは比較的ガス濃度分布が均一な中央部のみに置いて作
業を行っていた。
本発明の目的は、同一に処理したウェハ間の表面濃度や
酸化膜厚の不均一性を改善し、現在使用されていない炉
芯管の両端部を使えるようにすることにより作業の効率
を高め、拡散酸化炉を小型にすることにある。
酸化膜厚の不均一性を改善し、現在使用されていない炉
芯管の両端部を使えるようにすることにより作業の効率
を高め、拡散酸化炉を小型にすることにある。
本発明の拡散酸化炉は、拡散及び酸化を行い一端部にガ
スを排出する排出口を有する炉芯管と、該炉芯管を周囲
から加熱するヒータと、前記炉芯管の中に設置されウェ
ハを立てるボートと、前記炉芯管の側面部の長手方向に
複数個穿設されガスを流出する流出口を備えている。
スを排出する排出口を有する炉芯管と、該炉芯管を周囲
から加熱するヒータと、前記炉芯管の中に設置されウェ
ハを立てるボートと、前記炉芯管の側面部の長手方向に
複数個穿設されガスを流出する流出口を備えている。
また本発明の拡散酸化炉は、前記炉芯管の内部側面の長
手方向に沿って設けられガスを流出する複数の流出口を
有する少なくとも1本の細管を備えていてもよい。
手方向に沿って設けられガスを流出する複数の流出口を
有する少なくとも1本の細管を備えていてもよい。
さらにまた本発明の拡散酸化炉は、縦型に構成されてい
てもよい。
てもよい。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a>及び(b)は本発明の第1の実施例の横断
面図及び縦断面図、第2図は本発明の第2の実施例の縦
断面図である。
面図及び縦断面図、第2図は本発明の第2の実施例の縦
断面図である。
第1の実施例は拡散及び酸化を行うための炉芯管11、
所望のガスを流出させる複数の流出口23、炉芯管を加
熱するヒータ31、ウェハを立てるための子ボート4a
及び子ボート41を乗せるための親ボート5&とを有し
て構成されている。
所望のガスを流出させる複数の流出口23、炉芯管を加
熱するヒータ31、ウェハを立てるための子ボート4a
及び子ボート41を乗せるための親ボート5&とを有し
て構成されている。
この第1の実施例では、炉芯管11の側面部の長手方向
に複数個設けられた流出口21から、それぞれ任意の流
量で所望のガスを流出させることができる。これにより
炉芯管1.の先端部と終端部におけるガスの濃度及び組
成比を同じにし、ウェハ間の層抵抗の値及び酸化膜厚の
ばらつきを少くすることができる。また炉芯管1.の先
端部及び終端部において炉芯管内の温度分布が異なる場
合でも、各各の流出口2aの流量及び組成比をそ′れぞ
れ変えることによって、ウェハ間のばらつきを最小限に
抑えることが可能である。
に複数個設けられた流出口21から、それぞれ任意の流
量で所望のガスを流出させることができる。これにより
炉芯管1.の先端部と終端部におけるガスの濃度及び組
成比を同じにし、ウェハ間の層抵抗の値及び酸化膜厚の
ばらつきを少くすることができる。また炉芯管1.の先
端部及び終端部において炉芯管内の温度分布が異なる場
合でも、各各の流出口2aの流量及び組成比をそ′れぞ
れ変えることによって、ウェハ間のばらつきを最小限に
抑えることが可能である。
なお、この第1の実施例においては、ガスの排気は炉芯
管13の先端の開口部6.より行うが、ウェハを炉芯管
1.に入れた後は開口部6aを密閉し、排気口を炉芯管
11の上方あるいは下方に設け、そこからガスを排気す
ることによ゛す、炉芯管1.内の温度分布を均一に保つ
とともに酸素の回り込みを少くすることが可能である。
管13の先端の開口部6.より行うが、ウェハを炉芯管
1.に入れた後は開口部6aを密閉し、排気口を炉芯管
11の上方あるいは下方に設け、そこからガスを排気す
ることによ゛す、炉芯管1.内の温度分布を均一に保つ
とともに酸素の回り込みを少くすることが可能である。
次に、第2の実施例は拡散及び酸化を行うための炉芯管
1b、所望のガスを流出させる細管2b、炉芯管を加熱
するヒータ3b、ウェハを立てるための子ボート4b及
び子ボート4bを乗せるための親ボート5.とを有して
構成されている。
1b、所望のガスを流出させる細管2b、炉芯管を加熱
するヒータ3b、ウェハを立てるための子ボート4b及
び子ボート4bを乗せるための親ボート5.とを有して
構成されている。
この第2の実施例では、第1の実施例における流出口2
3の代りに、2本の細管2.を炉芯管1ゎの内部側面の
長手方向に沿って通したものである。細管2.の側面に
は無数の流出口が開いており、そこから所望のガスを炉
芯管lb内の各所に流出するものである。
3の代りに、2本の細管2.を炉芯管1ゎの内部側面の
長手方向に沿って通したものである。細管2.の側面に
は無数の流出口が開いており、そこから所望のガスを炉
芯管lb内の各所に流出するものである。
第3図に示すように、炉芯管1bの中に細管2、を通し
た場合、炉芯管1.の口径が大きくなり、装置が大型に
なる心配があるが、親ボート5bを細管2ゎの代りとし
て用い、親ボート5bの中に所望のガスを流し、親ボー
ト5bの側面から炉芯管1b内へ所望のガスを流出する
ことにより、炉芯管1bの大口径化を防ぐことも可能で
ある。さらにガスの流出方向は側面だけからでなくとも
、上方あるいは下方、または側面及び前述の方向を組み
合せた任意の方向から、所望のガスをそれぞれ異った流
量及び組成比で流出することにより、ウェハ内の層抵抗
及び酸化膜厚のばらつきをも抑えることが可能である。
た場合、炉芯管1.の口径が大きくなり、装置が大型に
なる心配があるが、親ボート5bを細管2ゎの代りとし
て用い、親ボート5bの中に所望のガスを流し、親ボー
ト5bの側面から炉芯管1b内へ所望のガスを流出する
ことにより、炉芯管1bの大口径化を防ぐことも可能で
ある。さらにガスの流出方向は側面だけからでなくとも
、上方あるいは下方、または側面及び前述の方向を組み
合せた任意の方向から、所望のガスをそれぞれ異った流
量及び組成比で流出することにより、ウェハ内の層抵抗
及び酸化膜厚のばらつきをも抑えることが可能である。
なお、上述した第1及び第2の実施例は横型拡散炉につ
いて例示したが、以上のことは縦型拡散炉においても同
様に実施することができる。
いて例示したが、以上のことは縦型拡散炉においても同
様に実施することができる。
以上説明したように本発明は、炉芯管の側面部の長手方
向に複数の流出口を設け、あるいは複数の流出口を有す
る細管を炉芯管の内部の長手方向に沿って設けることに
より、そこからガスを流出することができるので、ウェ
ハ間の層抵抗及び酸化膜厚のばらつきを少なくできる効
果がある。
向に複数の流出口を設け、あるいは複数の流出口を有す
る細管を炉芯管の内部の長手方向に沿って設けることに
より、そこからガスを流出することができるので、ウェ
ハ間の層抵抗及び酸化膜厚のばらつきを少なくできる効
果がある。
第1図(a)及び(b)は本発明の第1の実施例の横断
面図及び縦断面図、第2図は本発明の第2の実施例の縦
断面図である。 1−、lb・・・炉芯管、2a・・・流出口、2b・・
・細管、3−.3b・・・ヒータ、4−.4b・・・子
ボート、5、.5b・・・親ボート。 $ l 剥 (a) C−6→
面図及び縦断面図、第2図は本発明の第2の実施例の縦
断面図である。 1−、lb・・・炉芯管、2a・・・流出口、2b・・
・細管、3−.3b・・・ヒータ、4−.4b・・・子
ボート、5、.5b・・・親ボート。 $ l 剥 (a) C−6→
Claims (3)
- (1)拡散及び酸化を行い一端部にガスを排出する排出
口を有する炉芯管と、該炉芯管を周囲から加熱するヒー
タと、前記炉芯管の中に設置されウェハを立てるボート
とからなる拡散酸化炉において、前記炉芯管の側面部の
長手方向に複数個穿設されガスを流出する流出口を備え
ることを特徴とする拡散酸化炉。 - (2)前記炉芯管の内部側面の長手方向に沿って設けら
れガスを流出する複数の流出口を有する少なくとも1本
の細管を備えることを特徴とする拡散酸化炉。 - (3)縦型に構成されていることを特徴とする特許請求
の範囲第(1)項及び第(2)項記載の拡散酸化炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15034586A JPS635517A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 拡散酸化炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15034586A JPS635517A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 拡散酸化炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635517A true JPS635517A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15494962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15034586A Pending JPS635517A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 拡散酸化炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635517A (ja) |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP15034586A patent/JPS635517A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3024449B2 (ja) | 縦型熱処理炉及び熱処理方法 | |
| EP1388891B1 (en) | System for heat treating semiconductor | |
| KR100328326B1 (ko) | 반도체장치의 제조기구 및 반도체장치의 제조방법 | |
| JPS6119101B2 (ja) | ||
| JPS635517A (ja) | 拡散酸化炉 | |
| US4203387A (en) | Cage for low pressure silicon dioxide deposition reactors | |
| JPH09148259A (ja) | 横型反応装置 | |
| JP3359474B2 (ja) | 横型熱処理装置 | |
| JPH0997768A (ja) | 縦型拡散炉 | |
| JPS62140413A (ja) | 縦型拡散装置 | |
| JP2992576B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JPH08316156A (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
| US5792701A (en) | Conical baffle for semiconductor furnaces | |
| JPH083004Y2 (ja) | 熱処理炉 | |
| JPH04329631A (ja) | 不純物拡散炉 | |
| JPH09260363A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3913404B2 (ja) | 半導体を熱処理する炉及び方法 | |
| JPS63181315A (ja) | 熱処理装置 | |
| JPH0653154A (ja) | 半導体製造装置における不純物拡散炉 | |
| JPS6430234A (en) | Apparatus for manufacturing semiconductor device | |
| JPS59105316A (ja) | 気相拡散方法 | |
| US5961725A (en) | Conical baffle for semiconductor furnaces | |
| JPH11218236A (ja) | 流体処理方法及び流体処理装置 | |
| JP2008244088A (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
| JPH02205017A (ja) | 半導体装置の製造装置 |