JPS6355642B2 - - Google Patents
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- JPS6355642B2 JPS6355642B2 JP17902481A JP17902481A JPS6355642B2 JP S6355642 B2 JPS6355642 B2 JP S6355642B2 JP 17902481 A JP17902481 A JP 17902481A JP 17902481 A JP17902481 A JP 17902481A JP S6355642 B2 JPS6355642 B2 JP S6355642B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 101
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 81
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 68
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 34
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 24
- 230000006870 function Effects 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 3
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は3次元形状物体の稜線を自動的に、非
接触で探り出し、追尾し、稜線の座標を、非接触
で測定できるようにした稜線座標自動測定用の稜
頂点検出装置および稜線座標測定装置に関する。
接触で探り出し、追尾し、稜線の座標を、非接触
で測定できるようにした稜線座標自動測定用の稜
頂点検出装置および稜線座標測定装置に関する。
ある種の構築物、機械部品や型(プレス型、鋳
型)、モデル等の製作段階で検査、製作の規準と
して、それらの物体の複数の面が交差するエツジ
部、すなわち稜線の3次元座標値が形状をあらわ
すデータとして利用されることが多い。例えば自
動車等のボデイ廻りのモデル、型の製作段階の場
合には、面の形状は一般に自由曲面であり面の製
作規準、検査規準として稜線の3次元座標値を用
いることがほとんどである。また特にボデイ等の
外面のモデル、型の場合には稜線の大部分が完成
後の特徴線として外観を左右するために稜線座標
値は特に重要なデータとして測定、検査を行なう
必要がある。これら3次元形状物体の一般面、自
由曲面の測定には既に3次元座標測定機等により
自動化が行なわれているが、稜線の座標値の測定
は目視により計測針を稜頂点に合わせる作業によ
つているものが大部分で、加工や面測定が自動化
されている工程の中でこの稜線測定に費やされる
工数は著しく大きく、また測定精度のばらつきの
面からも自動測定法の開発が望まれている。
型)、モデル等の製作段階で検査、製作の規準と
して、それらの物体の複数の面が交差するエツジ
部、すなわち稜線の3次元座標値が形状をあらわ
すデータとして利用されることが多い。例えば自
動車等のボデイ廻りのモデル、型の製作段階の場
合には、面の形状は一般に自由曲面であり面の製
作規準、検査規準として稜線の3次元座標値を用
いることがほとんどである。また特にボデイ等の
外面のモデル、型の場合には稜線の大部分が完成
後の特徴線として外観を左右するために稜線座標
値は特に重要なデータとして測定、検査を行なう
必要がある。これら3次元形状物体の一般面、自
由曲面の測定には既に3次元座標測定機等により
自動化が行なわれているが、稜線の座標値の測定
は目視により計測針を稜頂点に合わせる作業によ
つているものが大部分で、加工や面測定が自動化
されている工程の中でこの稜線測定に費やされる
工数は著しく大きく、また測定精度のばらつきの
面からも自動測定法の開発が望まれている。
従来、稜線位置の測定法として、溶接線等の追
跡を目的としたレーザ光偏向走査を利用した測定
法が知られている。この従来の方法では光偏向器
に音叉等の振動素子に取りつけた鏡を利用し、投
光レンズを使用していない。このため稜等の位置
を検出する範囲は振動素子の振幅により制約を受
け、かつ扇形に拡散してゆく光偏向のため目的物
までの距離により投射光軸と稜線とのずれを検出
する感度が変化し高精度の測定と急峻な稜線の段
差の自動追尾が困難となる欠点があつた。またこ
の従来の方法は目的物までの距離を測定し自動補
償する機能を有さず、このため有効に稜線位置の
追跡を行なえる距離は検出スリツトの幅と受光軸
と投光軸の角度で決められる。一定の距離近傍
の、極くせまい範囲に限られた。この範囲を拡大
するため、この従来の方法では投光軸と受光軸の
角度を小さくしているが、この結果稜線の位置ず
れを測定する精度が低下し、大きな稜頂角をもつ
対象には適用が困難となる欠点があつた。
跡を目的としたレーザ光偏向走査を利用した測定
法が知られている。この従来の方法では光偏向器
に音叉等の振動素子に取りつけた鏡を利用し、投
光レンズを使用していない。このため稜等の位置
を検出する範囲は振動素子の振幅により制約を受
け、かつ扇形に拡散してゆく光偏向のため目的物
までの距離により投射光軸と稜線とのずれを検出
する感度が変化し高精度の測定と急峻な稜線の段
差の自動追尾が困難となる欠点があつた。またこ
の従来の方法は目的物までの距離を測定し自動補
償する機能を有さず、このため有効に稜線位置の
追跡を行なえる距離は検出スリツトの幅と受光軸
と投光軸の角度で決められる。一定の距離近傍
の、極くせまい範囲に限られた。この範囲を拡大
するため、この従来の方法では投光軸と受光軸の
角度を小さくしているが、この結果稜線の位置ず
れを測定する精度が低下し、大きな稜頂角をもつ
対象には適用が困難となる欠点があつた。
また、この従来の方法は前述のように距離を設
定する機能を具備しないためオフラインの人為的
な距離設定を必要とし、この測定法単独では任意
の複雑な3次元形状物体上の稜線を自動追尾しか
つ稜線の3次元座標値を精度よく測定することは
不可能であつた。
定する機能を具備しないためオフラインの人為的
な距離設定を必要とし、この測定法単独では任意
の複雑な3次元形状物体上の稜線を自動追尾しか
つ稜線の3次元座標値を精度よく測定することは
不可能であつた。
また別の方法として、3次元物体の位置や形状
を非接触で測定するため一方法として、物体表面
にスリツト状の光束を投影し、その稜線部で折曲
した光軌跡の像を別の角度からテレビカメラ(蓄
積型撮像装置)で観測し三角測量を行ない稜線を
求める方式がある。
を非接触で測定するため一方法として、物体表面
にスリツト状の光束を投影し、その稜線部で折曲
した光軌跡の像を別の角度からテレビカメラ(蓄
積型撮像装置)で観測し三角測量を行ない稜線を
求める方式がある。
このような方式の場合、必然的に距離変化にと
もなう像の「ぼけ」の対策が必要となる。すなわ
ち像がぼけて幾つかの画素にまたがる場合、精度
よく像位置を求めるために細め処理等の幾つかの
画像処理を必要とし処理時間のため低速となるき
らいがある。
もなう像の「ぼけ」の対策が必要となる。すなわ
ち像がぼけて幾つかの画素にまたがる場合、精度
よく像位置を求めるために細め処理等の幾つかの
画像処理を必要とし処理時間のため低速となるき
らいがある。
また、このような蓄積型撮像装置を用いる場合
は、残像が問題となる。すなわち、高速に計測を
行なおうとしても、前の画像の残像のため精度が
あがらず、結局速度をある程度犠牲にしなくては
ならない点がある。さらに、被測定対象の全面の
形状を計測するために、対象か計測装置かのどち
らかを移動させねばならないが、構築物や、プレ
ス型、自動車外形造形用粘土モデル、移動が困難
な場合が多く、いきおい計測装置を動かさねばな
らないことになる。しかし撮像管を用いた場合、
その計測装置の形状寸法は大型で重く、かつ耐久
性、耐振動性、安定性が問題となり、前述の低速
であることも加えて3次元測定機等の計測プロー
ブとして、オンラインの計測に使用することは困
難である欠点があつた。
は、残像が問題となる。すなわち、高速に計測を
行なおうとしても、前の画像の残像のため精度が
あがらず、結局速度をある程度犠牲にしなくては
ならない点がある。さらに、被測定対象の全面の
形状を計測するために、対象か計測装置かのどち
らかを移動させねばならないが、構築物や、プレ
ス型、自動車外形造形用粘土モデル、移動が困難
な場合が多く、いきおい計測装置を動かさねばな
らないことになる。しかし撮像管を用いた場合、
その計測装置の形状寸法は大型で重く、かつ耐久
性、耐振動性、安定性が問題となり、前述の低速
であることも加えて3次元測定機等の計測プロー
ブとして、オンラインの計測に使用することは困
難である欠点があつた。
本発明は如上のごとき従来技術における欠点を
解決するとともに、変化に富んだ複雑な3次元形
状物体の稜線の3次元座標値を連続的にかつ容易
に測定することの出来る自動追尾測定装置を提供
することを目的とするものである。
解決するとともに、変化に富んだ複雑な3次元形
状物体の稜線の3次元座標値を連続的にかつ容易
に測定することの出来る自動追尾測定装置を提供
することを目的とするものである。
本発明の構成は概略は次のとおりである。
先ず、本発明による稜線座標自動測定用の稜頂
点検出装置は、 細光線を一定幅に偏向走査して被測定対象物
の稜線を含む領域に投射する偏向細光線投射手
段と、前記細光線の偏向方向に垂直方向である
定められた角度で、前記被測定対象物からの反
射光を集束して結像させる受光手段と、前記受
光手段による結像を前記細光線の偏向方向に対
し垂直の方向に振動せしめる結像位置振動手段
と、前記細光線の偏向方向に所定の長さを有
し、垂直方向に微小幅を有した領域内に前記受
光手段の結像光があるか否かを検出する光点位
置検出手段とを有する検出系ヘツドと、 前記光点位置検出手段よりの信号を同期信号
として前記偏向細光線投射手段の偏向信号と前
記結像光振動手段の振動信号をサンプリングす
ることにより稜部断面線の2次元座標値を求
め、その2次元座標値の各々の2階差分を演算
し稜頂点座標を算出する稜線座標算出手段とを
備えたことを特徴としている。
点検出装置は、 細光線を一定幅に偏向走査して被測定対象物
の稜線を含む領域に投射する偏向細光線投射手
段と、前記細光線の偏向方向に垂直方向である
定められた角度で、前記被測定対象物からの反
射光を集束して結像させる受光手段と、前記受
光手段による結像を前記細光線の偏向方向に対
し垂直の方向に振動せしめる結像位置振動手段
と、前記細光線の偏向方向に所定の長さを有
し、垂直方向に微小幅を有した領域内に前記受
光手段の結像光があるか否かを検出する光点位
置検出手段とを有する検出系ヘツドと、 前記光点位置検出手段よりの信号を同期信号
として前記偏向細光線投射手段の偏向信号と前
記結像光振動手段の振動信号をサンプリングす
ることにより稜部断面線の2次元座標値を求
め、その2次元座標値の各々の2階差分を演算
し稜頂点座標を算出する稜線座標算出手段とを
備えたことを特徴としている。
さらにまた、本発明による稜線座標自動測定装
置は、 前記検出系ヘツドを稜線の伸びる方向に移動さ
せる3次元駆動機構と、 前記3次元駆動機構による検出系ヘツドの移動
量を測定する距離測定手段と、 前記稜線座標算出手段の出力と前記距離測定手
段の出力とから絶対座標系における稜線座標を算
出する絶対座標系稜線座標算出手段と、 その絶対座標系における稜線座標を記録する記
録手段と、 を備えたことを特徴としている。さらにまた、 以前に測定した稜頂点座標の変化の傾向から、
稜線の伸びる方向と前記検出系ヘツドの位置関係
を演算し、前記3次元駆動機構や前記2軸回転機
構の動きを制御して、前記検出系ヘツドを稜線に
追従させる主制御装置と、 を備えたことを特徴としている。
置は、 前記検出系ヘツドを稜線の伸びる方向に移動さ
せる3次元駆動機構と、 前記3次元駆動機構による検出系ヘツドの移動
量を測定する距離測定手段と、 前記稜線座標算出手段の出力と前記距離測定手
段の出力とから絶対座標系における稜線座標を算
出する絶対座標系稜線座標算出手段と、 その絶対座標系における稜線座標を記録する記
録手段と、 を備えたことを特徴としている。さらにまた、 以前に測定した稜頂点座標の変化の傾向から、
稜線の伸びる方向と前記検出系ヘツドの位置関係
を演算し、前記3次元駆動機構や前記2軸回転機
構の動きを制御して、前記検出系ヘツドを稜線に
追従させる主制御装置と、 を備えたことを特徴としている。
そして、本発明の一実施例によれば、前記セン
サ座標系稜線座標算出手段は、前記光点位置検出
手段の同期信号により前記偏向細光線投射手段の
偏向信号と、前記結像位置振動手段の振動信号を
サンプリングし蓄積するX軸サンプリング回路お
よびY軸サンプリング回路と、前記Y軸サンプリ
ング回路の出力信号の変曲点を検出する変曲点検
出回路と、前記変曲点検出回路の出力同期信号に
より前記X軸サンプリング回路および前記Y軸サ
ンプリング回路の出力信号をサンプリングし蓄積
するX座標サンプリング回路およびY座標サンプ
リング回路とを備えている。
サ座標系稜線座標算出手段は、前記光点位置検出
手段の同期信号により前記偏向細光線投射手段の
偏向信号と、前記結像位置振動手段の振動信号を
サンプリングし蓄積するX軸サンプリング回路お
よびY軸サンプリング回路と、前記Y軸サンプリ
ング回路の出力信号の変曲点を検出する変曲点検
出回路と、前記変曲点検出回路の出力同期信号に
より前記X軸サンプリング回路および前記Y軸サ
ンプリング回路の出力信号をサンプリングし蓄積
するX座標サンプリング回路およびY座標サンプ
リング回路とを備えている。
また、前記3次元駆動機構は、前記X座標サン
プリング回路の出力信号が一定の範囲内になるよ
うに、前記検出光学系ヘツドを前記細光線の偏向
方向に移動するX軸サーボ手段と、前記Y座標サ
ンプリング回路の出力信号が一定の範囲内になる
ように、前記検出光学系ヘツドと前記被測定対象
物との間隔を変化させるY軸サーボ手段と、前記
検出光学系ヘツドを前記細光線の偏向方向と直角
方向に所定の速度で移動させるZ軸サーボ手段と
を備えている。
プリング回路の出力信号が一定の範囲内になるよ
うに、前記検出光学系ヘツドを前記細光線の偏向
方向に移動するX軸サーボ手段と、前記Y座標サ
ンプリング回路の出力信号が一定の範囲内になる
ように、前記検出光学系ヘツドと前記被測定対象
物との間隔を変化させるY軸サーボ手段と、前記
検出光学系ヘツドを前記細光線の偏向方向と直角
方向に所定の速度で移動させるZ軸サーボ手段と
を備えている。
また、前記絶対座標系稜線座標算出手段は、前
記X軸サーボ手段による前記検出光学系ヘツドの
移動量に前記X座標サンプリング回路の出力信号
値分の補正を加えてX軸座標とし、前記Y軸サー
ボ手段による前記検出光学系の移動量に、前記Y
座標サンプリング回路の出力信号値分の補正を加
えてY軸座標とし、前記Z軸サーボ手段による前
記検出光学系ヘツドの移動量をZ軸座標として、
絶対座標系の稜線座標を算出する。
記X軸サーボ手段による前記検出光学系ヘツドの
移動量に前記X座標サンプリング回路の出力信号
値分の補正を加えてX軸座標とし、前記Y軸サー
ボ手段による前記検出光学系の移動量に、前記Y
座標サンプリング回路の出力信号値分の補正を加
えてY軸座標とし、前記Z軸サーボ手段による前
記検出光学系ヘツドの移動量をZ軸座標として、
絶対座標系の稜線座標を算出する。
以下図面により詳細に実施例を説明する。
第1図は本発明の実施例を示したもので、1は
レーザ等の指向性のよい細光線源である。2aの
光偏向部および2bの発振部によつて、光をx軸
方向に偏向走査する(以下単にx走査という)x
軸光偏向器2を構成している。3はx軸光偏向器
2の偏向中心に焦点を一致させて配置される投光
レンズ、4は稜をもつた被測定対象、5は投光レ
ンズ3の光軸(以下投射光軸、即ちy軸)と0〜
90゜内の一定角を有し、x走査方向と直交する光
軸(以下受光軸)を持ち、被測定対象4からの反
射光を集束し、結像せしめる受光レンズである。
レーザ等の指向性のよい細光線源である。2aの
光偏向部および2bの発振部によつて、光をx軸
方向に偏向走査する(以下単にx走査という)x
軸光偏向器2を構成している。3はx軸光偏向器
2の偏向中心に焦点を一致させて配置される投光
レンズ、4は稜をもつた被測定対象、5は投光レ
ンズ3の光軸(以下投射光軸、即ちy軸)と0〜
90゜内の一定角を有し、x走査方向と直交する光
軸(以下受光軸)を持ち、被測定対象4からの反
射光を集束し、結像せしめる受光レンズである。
6aおよび6bの光偏向部および6cの発振部
とによりy軸光偏向器6が構成され、このy軸光
偏向器は被測定対象4と受光レンズ5による結像
面との間の受光軸上の所定の位置に配置され、被
測定対象4からの反射光をx走査方向と直交する
方向に偏向走査する(以下単にy走査という)。
7aのx走査方向と平行に微小間隔7dを有する
光学スリツト、7bの光検出器および7cの微分
処理回路により光点位置検出器7が構成され、こ
の光点位置検出器は微小領域7dを光点が通過し
た瞬間に所定のトリガ信号を発生するものであ
る。
とによりy軸光偏向器6が構成され、このy軸光
偏向器は被測定対象4と受光レンズ5による結像
面との間の受光軸上の所定の位置に配置され、被
測定対象4からの反射光をx走査方向と直交する
方向に偏向走査する(以下単にy走査という)。
7aのx走査方向と平行に微小間隔7dを有する
光学スリツト、7bの光検出器および7cの微分
処理回路により光点位置検出器7が構成され、こ
の光点位置検出器は微小領域7dを光点が通過し
た瞬間に所定のトリガ信号を発生するものであ
る。
8は光点位置検出器7のトリガ信号が発生した
瞬間の、x軸光偏向器2のx走査信号をサンプリ
ングし蓄積記憶するx軸サンプリング回路、9は
光点位置検出器7のトリガ信号が発生した瞬間
の、y軸光偏向器6のy走査信号をサンプリング
し蓄積記憶するy軸サンプリング回路、10はy
軸サンプリング回路9の出力信号の変曲点を検出
し、その瞬間に所定のトリガ信号を発生する変曲
点検出回路である。
瞬間の、x軸光偏向器2のx走査信号をサンプリ
ングし蓄積記憶するx軸サンプリング回路、9は
光点位置検出器7のトリガ信号が発生した瞬間
の、y軸光偏向器6のy走査信号をサンプリング
し蓄積記憶するy軸サンプリング回路、10はy
軸サンプリング回路9の出力信号の変曲点を検出
し、その瞬間に所定のトリガ信号を発生する変曲
点検出回路である。
11はx軸サンプリング回路8の信号を、変曲
点検出回路10のトリガ信号が発生した瞬間にサ
ンプリングし蓄積するx座標サンプリング回路、
12はy軸サンプリング回路9の信号を、変曲点
検出回路10のトリガ信号が発生した瞬間にサン
プリングし蓄積するy座標サンプリング回路、1
3はx座標サンプリング回路11の出力信号値が
一定範囲からはずれると信号を発生するx軸比較
器、14はy座標サンプリング回路12の出力信
号値が一定範囲からはずれると信号を発生するy
軸比較器である。
点検出回路10のトリガ信号が発生した瞬間にサ
ンプリングし蓄積するx座標サンプリング回路、
12はy軸サンプリング回路9の信号を、変曲点
検出回路10のトリガ信号が発生した瞬間にサン
プリングし蓄積するy座標サンプリング回路、1
3はx座標サンプリング回路11の出力信号値が
一定範囲からはずれると信号を発生するx軸比較
器、14はy座標サンプリング回路12の出力信
号値が一定範囲からはずれると信号を発生するy
軸比較器である。
15はx軸比較器13の信号により動作し、前
記光源1、x軸光偏向器2、投光レンズ3、受光
レンズ5、y軸光偏向器6、光点位置検出器7を
のせた検出光学系ヘツド23をX,Y,Zの3次
元に移動させる機能を有する3次元駆動機構24
の3軸のうちx走査方向、すなわち第1図の例で
はx軸方向を駆動するX軸移動機構、16は3次
元駆動機構24の3軸のうち、投射光軸方向、す
なわち第1図の例ではy軸方向を駆動するY軸移
動機構、17は主制御装置18の指令を受け動作
するZ軸移動機構である。
記光源1、x軸光偏向器2、投光レンズ3、受光
レンズ5、y軸光偏向器6、光点位置検出器7を
のせた検出光学系ヘツド23をX,Y,Zの3次
元に移動させる機能を有する3次元駆動機構24
の3軸のうちx走査方向、すなわち第1図の例で
はx軸方向を駆動するX軸移動機構、16は3次
元駆動機構24の3軸のうち、投射光軸方向、す
なわち第1図の例ではy軸方向を駆動するY軸移
動機構、17は主制御装置18の指令を受け動作
するZ軸移動機構である。
19はX軸移動機構15に取りつけられ、検出
光学系ヘツド23のx軸方向の移動量を測定する
X軸距離測定器、20はY軸移動機構16に取り
つけられ、検出光学系ヘツド23のy軸方向の移
動量を測定するY軸距離測定器、21はZ軸サー
ボ機構17に取りつけられ、検出光学系ヘツド2
3のz軸方向の移動量を測定するZ軸距離測定器
である。
光学系ヘツド23のx軸方向の移動量を測定する
X軸距離測定器、20はY軸移動機構16に取り
つけられ、検出光学系ヘツド23のy軸方向の移
動量を測定するY軸距離測定器、21はZ軸サー
ボ機構17に取りつけられ、検出光学系ヘツド2
3のz軸方向の移動量を測定するZ軸距離測定器
である。
18は本発明による測定装置の主制御装置、2
2は表示記録装置、25は被測定対象4上のx走
査光の軌跡である。
2は表示記録装置、25は被測定対象4上のx走
査光の軌跡である。
次に本実施例の動作原理を説明する。
まず、検出光学系ヘツドのもつ断面形状測定機
能の動作原理を説明する。
能の動作原理を説明する。
細光線源1は指向性のよい拡がりの少ない平行
光を輻射する光源で、点光源とレンズの組合せで
もよいが、代表的にはガスレーザ半導体レーザ等
をもちいるもので、この光源1より出た光はx軸
光偏向器2に入り、投射光軸と直交する1軸方
向、即ち投射光軸をy軸とするとx軸の方向に所
定の角度分、くり返し周波数1で偏向走査され
る。x軸光偏向器2としては、周知の電気光学効
果を用いたもの、音叉振動鏡、回転多面鏡などが
使用可能だが、第1図ではガルバノミラー2aを
外部x偏向発振器2bで駆動する例を示してあ
る。
光を輻射する光源で、点光源とレンズの組合せで
もよいが、代表的にはガスレーザ半導体レーザ等
をもちいるもので、この光源1より出た光はx軸
光偏向器2に入り、投射光軸と直交する1軸方
向、即ち投射光軸をy軸とするとx軸の方向に所
定の角度分、くり返し周波数1で偏向走査され
る。x軸光偏向器2としては、周知の電気光学効
果を用いたもの、音叉振動鏡、回転多面鏡などが
使用可能だが、第1図ではガルバノミラー2aを
外部x偏向発振器2bで駆動する例を示してあ
る。
偏向走査された光はx軸光偏向器2の偏向中心
と焦点O′が一致している投光レンズ3を通り、
被測定対象4の稜線部でこの稜線を直角に切断し
て稜線近傍を走査するように投射される。このよ
うに構成することによりこの投光レンズ3は偏向
中心より扇形に拡散する偏向光を投射光軸に平行
な帯状の偏向走査を行なう光線列とし、x軸方向
の光点位置を距離に無関係にx軸光偏向器2の偏
向角から一義的に知ることが出来、かつ平行光線
を集束して被測定対象4上の光点径を微小なもの
とし、検出分解能を高めることができる。例とし
て光偏向器2の偏向角と0.1rad、投光レンズ3の
焦点距離を100mmとする偏向走査幅は距離に無関
係に10mmとなり、投光レンズ3の光偏向器2と反
対側の焦点O近傍の対象上で光点径は0.1mm程度
となる。
と焦点O′が一致している投光レンズ3を通り、
被測定対象4の稜線部でこの稜線を直角に切断し
て稜線近傍を走査するように投射される。このよ
うに構成することによりこの投光レンズ3は偏向
中心より扇形に拡散する偏向光を投射光軸に平行
な帯状の偏向走査を行なう光線列とし、x軸方向
の光点位置を距離に無関係にx軸光偏向器2の偏
向角から一義的に知ることが出来、かつ平行光線
を集束して被測定対象4上の光点径を微小なもの
とし、検出分解能を高めることができる。例とし
て光偏向器2の偏向角と0.1rad、投光レンズ3の
焦点距離を100mmとする偏向走査幅は距離に無関
係に10mmとなり、投光レンズ3の光偏向器2と反
対側の焦点O近傍の対象上で光点径は0.1mm程度
となる。
被測定対象4からの反射光は第1図のyz平面
上にあり、y軸である投射光軸とある角度θをな
し、投光レンズ3の対象側焦点O(以下これを原
点Oとする)を通る光軸を有する受光レンズ5に
より集束される。θの値は典形的にはπ/6〜π/4 rad程度である。
上にあり、y軸である投射光軸とある角度θをな
し、投光レンズ3の対象側焦点O(以下これを原
点Oとする)を通る光軸を有する受光レンズ5に
より集束される。θの値は典形的にはπ/6〜π/4 rad程度である。
受光レンズ3を通過した光は、y軸光偏向器6
の偏向ミラー6aで反射され、原点Oの受光レン
ズ3により結像点0″近傍に結像する。
の偏向ミラー6aで反射され、原点Oの受光レン
ズ3により結像点0″近傍に結像する。
y軸光偏向器6としては前記x軸光偏向器2と
同様に数種が使用可能であるが、第1図の例では
ガルバノミラー(コイル部6b、反射鏡6a)を
外部y偏向発振器6cで駆動する例を示してい
る。y軸光偏向器6は、その偏向中心が原点O、
結像点O″を結ぶ直線上にあり、偏向軸がx走査
方向に平行に配置される。その位置は原点Oと結
像点O″の間で、受光レンズの前(物体空間側偏
向)後(像空間側偏向)を問わないが、第1図の
例では受光レンズ3と結像点O″の中間の所定の
位置に配置してある。
同様に数種が使用可能であるが、第1図の例では
ガルバノミラー(コイル部6b、反射鏡6a)を
外部y偏向発振器6cで駆動する例を示してい
る。y軸光偏向器6は、その偏向中心が原点O、
結像点O″を結ぶ直線上にあり、偏向軸がx走査
方向に平行に配置される。その位置は原点Oと結
像点O″の間で、受光レンズの前(物体空間側偏
向)後(像空間側偏向)を問わないが、第1図の
例では受光レンズ3と結像点O″の中間の所定の
位置に配置してある。
このような構成により、y軸光偏向器6を、x
軸光偏向器2の駆動周波数1より、充分に高いく
り返し周波数2で駆動すると、被測定対象4で反
射され、受光レンズ5で集束される結像光はy軸
に平行な方向に受光軸を中心として偏向される
(以下y走査という)。
軸光偏向器2の駆動周波数1より、充分に高いく
り返し周波数2で駆動すると、被測定対象4で反
射され、受光レンズ5で集束される結像光はy軸
に平行な方向に受光軸を中心として偏向される
(以下y走査という)。
y軸光偏向器6で偏向された光は、原点Oの受
光レンズ3による結像O″を含み、受光軸に直角
な検出面を持つ、光点位置検出器7の検出面7a
上に光点として結像する。
光レンズ3による結像O″を含み、受光軸に直角
な検出面を持つ、光点位置検出器7の検出面7a
上に光点として結像する。
光点位置検出器7は、x軸に平行で結像O″を
含む受光軸に直交する一つの軸を有し(以下xi
軸)、この軸でわけられる2つの領域、第1図の
例では+yi領域、−yi領域をもち、xi軸上に光点、
あるいは拡がりもつた光点の場合は、その光重量
心が存在するとき所定の信号を発生するもので、
第2図に示すような差動スリツト、差動フオトダ
イオード、差動プリズム等のものでもよく、第1
図の例では、簡単にxi軸に一致した開口を有する
光学スリツト7a、光検出器7b、微分回路7c
で構成してある。これらの光点位置検出手段は、
残像は全くなく、また、光点像のぼけがあつても
正確に光量重心を検出しうるものである。
含む受光軸に直交する一つの軸を有し(以下xi
軸)、この軸でわけられる2つの領域、第1図の
例では+yi領域、−yi領域をもち、xi軸上に光点、
あるいは拡がりもつた光点の場合は、その光重量
心が存在するとき所定の信号を発生するもので、
第2図に示すような差動スリツト、差動フオトダ
イオード、差動プリズム等のものでもよく、第1
図の例では、簡単にxi軸に一致した開口を有する
光学スリツト7a、光検出器7b、微分回路7c
で構成してある。これらの光点位置検出手段は、
残像は全くなく、また、光点像のぼけがあつても
正確に光量重心を検出しうるものである。
この実施例の場合における光点位置検出の機能
を第3図により説明する。第3図aは微小間隙7
dを有した光学スリツト7a上を大きさをもつた
光点がt0→t1→…→t6の順に移動してゆく様子を
示す。それに対応して、第3図bに示すように光
点の中心が微小間隙7dに一致した時刻t3におい
て微小間隙7dを通過する光量が最大となり、光
検出器7bの出力も最大となる。第3図cは光検
出器7bの出力を時間微分した信号波形を示し、
前記時刻t3において0VOLTを横切る。微分処理
回路7cは第3図cの微分および零クロス検出を
おこない、第3図dに一例を示す信号を出力する
ものであり、第3図の例では信号の立ち上りエツ
ジが、光点中心が微小間隙7dの中心と一致した
ことを示している。
を第3図により説明する。第3図aは微小間隙7
dを有した光学スリツト7a上を大きさをもつた
光点がt0→t1→…→t6の順に移動してゆく様子を
示す。それに対応して、第3図bに示すように光
点の中心が微小間隙7dに一致した時刻t3におい
て微小間隙7dを通過する光量が最大となり、光
検出器7bの出力も最大となる。第3図cは光検
出器7bの出力を時間微分した信号波形を示し、
前記時刻t3において0VOLTを横切る。微分処理
回路7cは第3図cの微分および零クロス検出を
おこない、第3図dに一例を示す信号を出力する
ものであり、第3図の例では信号の立ち上りエツ
ジが、光点中心が微小間隙7dの中心と一致した
ことを示している。
光点位置検出装置から発生した信号はx軸サン
プリング回路8とy軸サンプリング回路9を同時
に起動し、入力のサンプリングを行なわせる。x
軸サンプリング回路8にはx軸光偏向器2のx偏
向発振器2b出力が入力されており、またy軸サ
ンプリング回路9にはy軸光偏向器6の発振器6
cの出力が入力されている。
プリング回路8とy軸サンプリング回路9を同時
に起動し、入力のサンプリングを行なわせる。x
軸サンプリング回路8にはx軸光偏向器2のx偏
向発振器2b出力が入力されており、またy軸サ
ンプリング回路9にはy軸光偏向器6の発振器6
cの出力が入力されている。
この構成により、光点位置検出装置7の信号に
よりx走査の1周期の間でx軸サンプリング回路
8とy軸サンプリング回路9の出力には、被測定
対象4のx軸走査光が照射されている部分の断面
形状が出力される。例えばx―yオシロスコープ
のx入力にx軸サンプリング回路8、y―入力に
y軸サンプリング回路9の各々の出力を接続すれ
ば、原点Oを原点とした被測定対象4のx―y断
面が表示される。
よりx走査の1周期の間でx軸サンプリング回路
8とy軸サンプリング回路9の出力には、被測定
対象4のx軸走査光が照射されている部分の断面
形状が出力される。例えばx―yオシロスコープ
のx入力にx軸サンプリング回路8、y―入力に
y軸サンプリング回路9の各々の出力を接続すれ
ば、原点Oを原点とした被測定対象4のx―y断
面が表示される。
ここまでの機能(断面測定機能)をさらに詳細
に説明する。
に説明する。
第4図は光学スリツト7a上の結像光点の軌跡
を示すものである。第4図中、xi、±yiは第1図
と同様に取つてある。x走査とそれより充分に速
いy走査により結像光点は第4図中に示した黒点
から始まりx走査の半周期後、白点の位置に達
し、再び逆をたどり黒点にもどる。以下順次上記
の移動をくり返しているが、y走査の周期はx走
査の周期より充分に短かくy走査の1周期程度に
かぎれば結像光点は光学スリツト7a上のxi軸方
向にはほとんど動いていない。
を示すものである。第4図中、xi、±yiは第1図
と同様に取つてある。x走査とそれより充分に速
いy走査により結像光点は第4図中に示した黒点
から始まりx走査の半周期後、白点の位置に達
し、再び逆をたどり黒点にもどる。以下順次上記
の移動をくり返しているが、y走査の周期はx走
査の周期より充分に短かくy走査の1周期程度に
かぎれば結像光点は光学スリツト7a上のxi軸方
向にはほとんど動いていない。
以下この状態で行なわれる測距機能について第
5図により説明する。
5図により説明する。
説明を簡単にするため、x軸光偏向器2が停止
し、光源1を出た光は投射光軸すなわちy軸と一
致した径路で、被測定対象4に投射されていると
する。第5図aは被測定対象4のy軸との交点P
が原点Oと一致した状態を示す。当然投射光点も
Pと同位置である(以下簡単に投射光点Pとい
う)。第5図bおよびcは第5図aの状態から被
測定対象4が各々、検出光学系の方向におよび反
対方向に変位した状態を示している。第5図d,
e,fは光学スリツト7a上に結像した投射光点
Qの位置を、夫々第5図a,b,cに対応してあ
らわしてある。
し、光源1を出た光は投射光軸すなわちy軸と一
致した径路で、被測定対象4に投射されていると
する。第5図aは被測定対象4のy軸との交点P
が原点Oと一致した状態を示す。当然投射光点も
Pと同位置である(以下簡単に投射光点Pとい
う)。第5図bおよびcは第5図aの状態から被
測定対象4が各々、検出光学系の方向におよび反
対方向に変位した状態を示している。第5図d,
e,fは光学スリツト7a上に結像した投射光点
Qの位置を、夫々第5図a,b,cに対応してあ
らわしてある。
第5図dのように投射光点Pと原点Oが一致し
ている場合、各々の像Q,O″も一致しており、
光学スリツト7aの微小間隙7d上にある。ここ
でy軸光偏向器6は受光軸を中心に光偏向走査を
行なつているため実際には結像QはQ′からQ″ま
での間をくり返し周波数2で運動している。図中
に示すQは偏向された結像光点の軌跡の中心を示
している。第5図gは、上段にy軸光偏向器6の
偏向角の時間径過を、中段に光学スリツト7aを
通過し、光検出器7bで光学変換され、微分処理
器7cを通過した信号の時間経過を、下段にこの
信号で起動される、y軸サンプリング回路9の出
力を時間軸原点をそろえて描いたものである。図
より明らかなように、第5図a,dに示す如く原
点Oと投射光点Pが一致している場合、第5図g
の上段に示す偏向角がφの時刻に、Pの結像Qは
光学スリツト7aを通過して、光点位置検出装置
7の信号として有効な出力を生じる。光点位置検
出装置7の信号により起動されるy軸サンプリン
グ回路9は入力に接続されているy偏向発振器6
cの出力をサンプリングし蓄積する。このy偏向
発振器6cの出力はy軸光偏向器の偏向角と1対
1の対応関係があるのでこの場合、y軸サンプリ
ング回路9の出力は零である。
ている場合、各々の像Q,O″も一致しており、
光学スリツト7aの微小間隙7d上にある。ここ
でy軸光偏向器6は受光軸を中心に光偏向走査を
行なつているため実際には結像QはQ′からQ″ま
での間をくり返し周波数2で運動している。図中
に示すQは偏向された結像光点の軌跡の中心を示
している。第5図gは、上段にy軸光偏向器6の
偏向角の時間径過を、中段に光学スリツト7aを
通過し、光検出器7bで光学変換され、微分処理
器7cを通過した信号の時間経過を、下段にこの
信号で起動される、y軸サンプリング回路9の出
力を時間軸原点をそろえて描いたものである。図
より明らかなように、第5図a,dに示す如く原
点Oと投射光点Pが一致している場合、第5図g
の上段に示す偏向角がφの時刻に、Pの結像Qは
光学スリツト7aを通過して、光点位置検出装置
7の信号として有効な出力を生じる。光点位置検
出装置7の信号により起動されるy軸サンプリン
グ回路9は入力に接続されているy偏向発振器6
cの出力をサンプリングし蓄積する。このy偏向
発振器6cの出力はy軸光偏向器の偏向角と1対
1の対応関係があるのでこの場合、y軸サンプリ
ング回路9の出力は零である。
この状態に対して、第5図bおよびeのように
被測定対象4がy軸の正方向に、あるいは第5図
cおよびfのように被測定対象4がy軸の負方向
に変位した場合、図から明らかなように結像Qが
原点Oの像点O″と一致しない分だけ、y軸光偏
向器6を偏向させないと結像Qは光学スリツト7
aの微小間隙7dを通過しない。このため第5図
hおよび第5図iに示したようにy軸光偏向器6
の偏向角の零よりずれた時刻に結像Qが光学スリ
ツト7aの微小間隙7dを通過して光点位置検出
装置7の出力パルスを生じ、この信号で起動され
るy軸サンプリング回路9も、y軸光偏向器6の
偏向角と1対1の対応関係のあるy偏向発振器6
cの零でない出力値をサンプリングし出力する。
すなわち、第5図b,e,hのようにy軸の正方
向に被測定対象4が変位した場合は、y偏向発振
器6cの正電圧部で光点位置検出装置7からサン
プリング信号が発生し、y軸サンプリング回路は
正電圧をサンプリングし蓄積する。第5図e,
f,iのようにy軸の負方向の変位の場合にはそ
の逆が発生するだけなので説明を略する。このy
軸サンプリング回路の出力電圧は、結像Qを光学
スリツト7aの縮小間隙7dに一致させるため
の、y軸光偏向器6の偏向角に容易に換算でき、
ひいては被測定対象4表面上のy軸との交点Pと
原点Oとのy軸方向の距離あるいは、y座標に換
算できるものであることは明らかである。また、
原点Oと検出光学系ヘツド23との距離たとえば
投光レンズ3の中心Hとの距離OHなどは物理的
に定まつており、上記y軸サンプリング回路9の
出力電圧は、被測定対象4上の点Pと検出光学系
ヘツド23との距離にも容易に換算できることは
明らかである。
被測定対象4がy軸の正方向に、あるいは第5図
cおよびfのように被測定対象4がy軸の負方向
に変位した場合、図から明らかなように結像Qが
原点Oの像点O″と一致しない分だけ、y軸光偏
向器6を偏向させないと結像Qは光学スリツト7
aの微小間隙7dを通過しない。このため第5図
hおよび第5図iに示したようにy軸光偏向器6
の偏向角の零よりずれた時刻に結像Qが光学スリ
ツト7aの微小間隙7dを通過して光点位置検出
装置7の出力パルスを生じ、この信号で起動され
るy軸サンプリング回路9も、y軸光偏向器6の
偏向角と1対1の対応関係のあるy偏向発振器6
cの零でない出力値をサンプリングし出力する。
すなわち、第5図b,e,hのようにy軸の正方
向に被測定対象4が変位した場合は、y偏向発振
器6cの正電圧部で光点位置検出装置7からサン
プリング信号が発生し、y軸サンプリング回路は
正電圧をサンプリングし蓄積する。第5図e,
f,iのようにy軸の負方向の変位の場合にはそ
の逆が発生するだけなので説明を略する。このy
軸サンプリング回路の出力電圧は、結像Qを光学
スリツト7aの縮小間隙7dに一致させるため
の、y軸光偏向器6の偏向角に容易に換算でき、
ひいては被測定対象4表面上のy軸との交点Pと
原点Oとのy軸方向の距離あるいは、y座標に換
算できるものであることは明らかである。また、
原点Oと検出光学系ヘツド23との距離たとえば
投光レンズ3の中心Hとの距離OHなどは物理的
に定まつており、上記y軸サンプリング回路9の
出力電圧は、被測定対象4上の点Pと検出光学系
ヘツド23との距離にも容易に換算できることは
明らかである。
以上のようにして、最低y走査の半周期におい
て、検出光学系ヘツド23と被測定対象4との距
離は求まる。この状態から、第4図のようにx軸
光偏向器2をy軸光偏向器6より充分に遅いくり
返し周波数1で駆動してゆくとxi軸方向に投射光
点Pの結像Qがわずかに動く間にy走査の1周期
が完了し、結像Qが間隙7dを通過した時刻tに
光点位置検出装置7よりサンプリングパルスが発
生し、y軸サンプリング回路9にその時刻tにお
ける検出光学系ヘツド23と被測定対象4との距
離に関する電圧が保持される。
て、検出光学系ヘツド23と被測定対象4との距
離は求まる。この状態から、第4図のようにx軸
光偏向器2をy軸光偏向器6より充分に遅いくり
返し周波数1で駆動してゆくとxi軸方向に投射光
点Pの結像Qがわずかに動く間にy走査の1周期
が完了し、結像Qが間隙7dを通過した時刻tに
光点位置検出装置7よりサンプリングパルスが発
生し、y軸サンプリング回路9にその時刻tにお
ける検出光学系ヘツド23と被測定対象4との距
離に関する電圧が保持される。
また光点検出装置7のサンプリングパルスはx
軸サンプリング回路8も起動し、その時刻tにお
けるy軸光偏向器2のx偏向発振器2bの出力電
圧をサンプリングし、蓄積する。このx軸サンプ
リング回路2の出力電圧もまた、y軸サンプリン
グ回路6の場合と同様に、x軸光偏向器2の偏向
角に容易に換算でき、ひいては被測定対象4上の
投射光点Pが投射光軸であるy軸からの距離、す
なわちx座標に換算できることは明らかである。
軸サンプリング回路8も起動し、その時刻tにお
けるy軸光偏向器2のx偏向発振器2bの出力電
圧をサンプリングし、蓄積する。このx軸サンプ
リング回路2の出力電圧もまた、y軸サンプリン
グ回路6の場合と同様に、x軸光偏向器2の偏向
角に容易に換算でき、ひいては被測定対象4上の
投射光点Pが投射光軸であるy軸からの距離、す
なわちx座標に換算できることは明らかである。
以上のようにして、第4図のようにx走査の1
周期の間に時系列で被測定対象4上を移動する投
射光点Pの軌跡の、Oを原点としx走査方向をx
軸、投射光軸方向をy軸としたx座標、y座標が
y走査の1周期毎に出力される。すなわちx走査
でできる面で被測定対象4を切断した断面形状が
出力される。以上が断面測定機能の詳細である。
周期の間に時系列で被測定対象4上を移動する投
射光点Pの軌跡の、Oを原点としx走査方向をx
軸、投射光軸方向をy軸としたx座標、y座標が
y走査の1周期毎に出力される。すなわちx走査
でできる面で被測定対象4を切断した断面形状が
出力される。以上が断面測定機能の詳細である。
なお以上の実施例における説明のため、xy軸
の発振器、サンプリング回路等を使用したが、ク
ロツク発振器とカウンタ、ラツチ回路あるいは、
A/D変換器とラツチ回路等のように、光点位置
検出装置7のサンプリングパルスで起動し、x軸
光偏向器2、y軸光偏向器6の各々の偏向角に相
当する情報をサンプリングし蓄積するものであれ
ば良いことは当然である。この場合、x座標、y
座標はデイジタルデータとして、順次、記憶装置
に格納され、以降の処理はデイジタル計算機によ
るものになる。
の発振器、サンプリング回路等を使用したが、ク
ロツク発振器とカウンタ、ラツチ回路あるいは、
A/D変換器とラツチ回路等のように、光点位置
検出装置7のサンプリングパルスで起動し、x軸
光偏向器2、y軸光偏向器6の各々の偏向角に相
当する情報をサンプリングし蓄積するものであれ
ば良いことは当然である。この場合、x座標、y
座標はデイジタルデータとして、順次、記憶装置
に格納され、以降の処理はデイジタル計算機によ
るものになる。
つぎに以上の断面形状出力を使用して稜頂点の
座標を測定する機能について、第6図により説明
する。
座標を測定する機能について、第6図により説明
する。
第6図aはx軸光偏向器2の偏向角の時間経過
を示した図で簡便には三角形波形による駆動の場
合を示してある。この場合、x軸光偏向器2の偏
光角は時間に比例するのでxについての微分操作
は時間微分におきかえることができ都合がよい。
Tはその半周期の期間をあらわす。第6図b,c
は各々、x軸サンプリング回路8、y軸サンプリ
ング回路9の出力の時間経過を第6図aと時間原
点をそろえて描いてあり、以下のd〜g図も同様
にそろえてある。第6図b,cの対応する各時間
における出力値は、被測定対象4の断面形状にお
けるx座標、y座標をあらわしていることは前述
のとおりである。第1図の配置において稜頂点の
位置は検出光学系ヘツド23と被測定対象4との
距離の変化率が急しゆんな変化を示す点としてと
らえられ、第6図より明らかなようにy軸サンプ
リング回路9の2階微分値が有意の値を越えた時
点が稜頂点の位置を示すことは容易にわかる。変
曲点検出回路10は2階微分回路、ゼロクロス検
出回路、ゲート回路を含んでおり、各々の出力を
第6図d,e,fに示す。第6図dは第6図cの
y軸サンプリング回路9の出力の時間微分波形を
あらわし、第6図eはそのゼロクロス点を検出し
たパルス波形である。このままではx軸光偏向の
上死点、下死点で無意味なパルスを生じるので、
x軸光偏向器2の偏向角の上死点、下死点に同期
した第6図fで示されるブランクパルスを発生す
るゲート回路を通過させて変曲点検出回路10の
出力として取り出される。
を示した図で簡便には三角形波形による駆動の場
合を示してある。この場合、x軸光偏向器2の偏
光角は時間に比例するのでxについての微分操作
は時間微分におきかえることができ都合がよい。
Tはその半周期の期間をあらわす。第6図b,c
は各々、x軸サンプリング回路8、y軸サンプリ
ング回路9の出力の時間経過を第6図aと時間原
点をそろえて描いてあり、以下のd〜g図も同様
にそろえてある。第6図b,cの対応する各時間
における出力値は、被測定対象4の断面形状にお
けるx座標、y座標をあらわしていることは前述
のとおりである。第1図の配置において稜頂点の
位置は検出光学系ヘツド23と被測定対象4との
距離の変化率が急しゆんな変化を示す点としてと
らえられ、第6図より明らかなようにy軸サンプ
リング回路9の2階微分値が有意の値を越えた時
点が稜頂点の位置を示すことは容易にわかる。変
曲点検出回路10は2階微分回路、ゼロクロス検
出回路、ゲート回路を含んでおり、各々の出力を
第6図d,e,fに示す。第6図dは第6図cの
y軸サンプリング回路9の出力の時間微分波形を
あらわし、第6図eはそのゼロクロス点を検出し
たパルス波形である。このままではx軸光偏向の
上死点、下死点で無意味なパルスを生じるので、
x軸光偏向器2の偏向角の上死点、下死点に同期
した第6図fで示されるブランクパルスを発生す
るゲート回路を通過させて変曲点検出回路10の
出力として取り出される。
第6図gは変曲点検出回路10の出力をあらわ
したものである。変曲点検出回路10の出力パル
スはx座標サンプリング回路11、y座標サンプ
リング回路12を起動し、各々の入力に接続され
た。x軸サンプリング回路8、y軸サンプリング
回路9の出力の変曲点検出回路10の出力パルス
が生じた瞬間の値をサンプリングし蓄積する。x
座標サンプリング回路11、y座標サンプリング
回路12の各々サンプリングされる値が被測定対
象4の稜頂点のx座標、y座標に関する情報であ
ることは、第6図の時間対応から明らかである。
したものである。変曲点検出回路10の出力パル
スはx座標サンプリング回路11、y座標サンプ
リング回路12を起動し、各々の入力に接続され
た。x軸サンプリング回路8、y軸サンプリング
回路9の出力の変曲点検出回路10の出力パルス
が生じた瞬間の値をサンプリングし蓄積する。x
座標サンプリング回路11、y座標サンプリング
回路12の各々サンプリングされる値が被測定対
象4の稜頂点のx座標、y座標に関する情報であ
ることは、第6図の時間対応から明らかである。
以上のようにしてx走査の半周期ごとに、光が
投射された部分の被測定対象4の稜頂点の座標が
測定される。
投射された部分の被測定対象4の稜頂点の座標が
測定される。
以上に述べた説明は凸稜、凹稜ともに成立する
ことは明らかである。また、以上の稜頂点の検出
方法については、実施例の説明のため微分処理回
路、サンプリング回路等を使用したが、一般には
y座標に関する情報をx座標に関する情報に対し
て微分処理を行ない、微分出力の有意な変化を示
す位置のx座標に関する情報、y座標に関する情
報を抽出、出力するものであれば良いことは当然
である。
ことは明らかである。また、以上の稜頂点の検出
方法については、実施例の説明のため微分処理回
路、サンプリング回路等を使用したが、一般には
y座標に関する情報をx座標に関する情報に対し
て微分処理を行ない、微分出力の有意な変化を示
す位置のx座標に関する情報、y座標に関する情
報を抽出、出力するものであれば良いことは当然
である。
他の実施例として、第7図にデイジタルデータ
がメモリ装置に保持されたx座標、y座標から稜
頂点を検出する例を示す。第7図aはx軸サンプ
リング回路8、y軸サンプリング回路9に対応す
るx軸およびy軸のデイジタルメモリ装置に保持
記憶された内容をxy座標に丸印でプロツトした
断面形状測定の1例をあらわす。第7図bはその
微分、2階微分値の演算例を示すものである。変
曲点検出回路10、x座標サンプリング回路1
1、y座標サンプリング回路12に対応する機能
は以下のようにして実現される。
がメモリ装置に保持されたx座標、y座標から稜
頂点を検出する例を示す。第7図aはx軸サンプ
リング回路8、y軸サンプリング回路9に対応す
るx軸およびy軸のデイジタルメモリ装置に保持
記憶された内容をxy座標に丸印でプロツトした
断面形状測定の1例をあらわす。第7図bはその
微分、2階微分値の演算例を示すものである。変
曲点検出回路10、x座標サンプリング回路1
1、y座標サンプリング回路12に対応する機能
は以下のようにして実現される。
デイジタルメモリに記憶された、1点1点の2
次元座標データが(xi、yi)(i=1、…、m)
とする。
次元座標データが(xi、yi)(i=1、…、m)
とする。
いまこの配列に対して次のような演算を行な
う。
う。
f″={yi+1+yi―1―2yi}/{xi+1―xi}2
この2階微分値がある所定の閾値を越えた点か
ら全データを領域と領域に分け、各々に含ま
れるデータ点を通過する近似直線l1および近似直
線l2を最小2乗法等で求め、その2直線l1,l2の
交点C1の座標を稜頂点として出力することによ
つて前記の機能は実現される。
ら全データを領域と領域に分け、各々に含ま
れるデータ点を通過する近似直線l1および近似直
線l2を最小2乗法等で求め、その2直線l1,l2の
交点C1の座標を稜頂点として出力することによ
つて前記の機能は実現される。
また別の場合として、現実の稜が頂点部で丸み
をもつている場合がある。このような場合、次の
ような演算を付加する。前記の領域、領域の
他に、前記2階微分値f″が所定の閾値を越えてい
る領域を曲線領域として設定し、その領域に含
まれるデータ点を通過する近似双直線(あるいは
近似放物線)等l3を最小2乗法等で求める。この
近似曲線l3と、前記の2直線l1,l2の交点C1を通
り、直線l1,l2のなす角を2等分する直線l4との
交点C2の座標を稜頂点として出力することによ
り、稜頂点部の丸みを補正した前記の機能が実現
される。
をもつている場合がある。このような場合、次の
ような演算を付加する。前記の領域、領域の
他に、前記2階微分値f″が所定の閾値を越えてい
る領域を曲線領域として設定し、その領域に含
まれるデータ点を通過する近似双直線(あるいは
近似放物線)等l3を最小2乗法等で求める。この
近似曲線l3と、前記の2直線l1,l2の交点C1を通
り、直線l1,l2のなす角を2等分する直線l4との
交点C2の座標を稜頂点として出力することによ
り、稜頂点部の丸みを補正した前記の機能が実現
される。
次に第1図および第8図を用いて稜線測定動作
を説明する。
を説明する。
まず、被測定対象4上の測定する稜線を選択
し、検出光学系ヘツド23を3次元に移動させる
3次元駆動機構24の主制御装置18に測定開始
点の概略座標と測定方向を記憶させる。主制御装
置18は第8図に示すように、3次元駆動機構2
4を制御し、検出光学系ヘツド23を測定点に移
動させ、測定を開始する。検出光学系ヘツド23
は前述の断面線測定、稜頂点算出を行ない検出光
学系ヘツド23に固定された座標系(以下センサ
座標系)における稜頂点座標x0,y0を出力する。
主制御装置18は、3次元駆動機構24に取りつ
けられたX軸距離測定器19、Y軸距離測定器2
0、Z軸距離測定器21の各々の値を入力し検出
光学系ヘツド23の位置、たとえば第1図投光レ
ンズ主点Hの座標を算出し、さらに検出光学系ヘ
ツド23から出力されたセンサ座標系における稜
頂点座標x0,y0を入力し、最終的に3次元駆動機
構に固定された座標系(以下、絶対座標系)にお
ける位置に座標変換し絶対座標系における稜頂点
座標X0,Y0,Z0として表示記録装置22に出力、
表示記録される。この座標変換は任意の座標系、
たとえば、被測定対象4に固定された座標系(以
下ワーク座標系)でもよいことはいうまでもな
い。次に主制御装置18は指示された測定方向、
すなわち稜線ののびる方向に定ピツチ、等速度あ
るいはプログラムされた間隔で検出光学系ヘツド
23を移動させ、再び稜頂点座標の測定をくり返
す。ここで稜頂点Pがセンサ座標系の原点Oと大
きくずれている場合、たとえばx軸正または負の
方向に大きくずれている場合、x座標サンプリン
グ回路11の出力は正または負の大きな値とな
る。この出力はx軸比較器に入力する。x軸比較
器はウインドコンパレータの機能をもち、φを中
心に正負の所定の閾値を有し、入力がこの範囲内
にあるとき出力はφ、負の閾値を越えた場合は正
の所定値、正の閾値を越えた場合は負の所定の値
を一定時間の間、出力する。x軸比較器13の出
力はX軸駆動機構15に入力され、それにしたが
いX軸駆動機構15は一定時間、等速度で動作し
検出光学系ヘツド23をX軸方向に一定の距離だ
け移動させ再び稜頂点Pはセンサ座標系原点Oの
近傍に位置するようになる。y軸方向でずれてい
る場合も、y座標サンプリング回路12、y軸比
較器14、Y軸駆動機構16が同様に動作し、検
出光学系ヘツド23を移動し稜頂点Pをセンサ座
標系原点Oの近傍に位置させる。
し、検出光学系ヘツド23を3次元に移動させる
3次元駆動機構24の主制御装置18に測定開始
点の概略座標と測定方向を記憶させる。主制御装
置18は第8図に示すように、3次元駆動機構2
4を制御し、検出光学系ヘツド23を測定点に移
動させ、測定を開始する。検出光学系ヘツド23
は前述の断面線測定、稜頂点算出を行ない検出光
学系ヘツド23に固定された座標系(以下センサ
座標系)における稜頂点座標x0,y0を出力する。
主制御装置18は、3次元駆動機構24に取りつ
けられたX軸距離測定器19、Y軸距離測定器2
0、Z軸距離測定器21の各々の値を入力し検出
光学系ヘツド23の位置、たとえば第1図投光レ
ンズ主点Hの座標を算出し、さらに検出光学系ヘ
ツド23から出力されたセンサ座標系における稜
頂点座標x0,y0を入力し、最終的に3次元駆動機
構に固定された座標系(以下、絶対座標系)にお
ける位置に座標変換し絶対座標系における稜頂点
座標X0,Y0,Z0として表示記録装置22に出力、
表示記録される。この座標変換は任意の座標系、
たとえば、被測定対象4に固定された座標系(以
下ワーク座標系)でもよいことはいうまでもな
い。次に主制御装置18は指示された測定方向、
すなわち稜線ののびる方向に定ピツチ、等速度あ
るいはプログラムされた間隔で検出光学系ヘツド
23を移動させ、再び稜頂点座標の測定をくり返
す。ここで稜頂点Pがセンサ座標系の原点Oと大
きくずれている場合、たとえばx軸正または負の
方向に大きくずれている場合、x座標サンプリン
グ回路11の出力は正または負の大きな値とな
る。この出力はx軸比較器に入力する。x軸比較
器はウインドコンパレータの機能をもち、φを中
心に正負の所定の閾値を有し、入力がこの範囲内
にあるとき出力はφ、負の閾値を越えた場合は正
の所定値、正の閾値を越えた場合は負の所定の値
を一定時間の間、出力する。x軸比較器13の出
力はX軸駆動機構15に入力され、それにしたが
いX軸駆動機構15は一定時間、等速度で動作し
検出光学系ヘツド23をX軸方向に一定の距離だ
け移動させ再び稜頂点Pはセンサ座標系原点Oの
近傍に位置するようになる。y軸方向でずれてい
る場合も、y座標サンプリング回路12、y軸比
較器14、Y軸駆動機構16が同様に動作し、検
出光学系ヘツド23を移動し稜頂点Pをセンサ座
標系原点Oの近傍に位置させる。
以上の説明で明らかなように本発明による装置
は、高度のサーボ動作を必要とせず、検出光学系
ヘツド23の位置を段階的に調整することによつ
て稜を追尾することができ、一般に行なわれる親
サーボ、子サーボの2重サーボループを用いなく
とも充分な高速化をはかる点に特徴を有するもの
である。以上の説明において実施例の説明のた
め、x軸比較器13、y軸比較器14は独立した
もののごとく扱かつたが、主制御装置18が直線
に稜頂点座標に関する情報を入力し、内部の判断
論理により、上記比較機能を実現し、X軸駆動機
構15、Y軸駆動機構16を直接制御するもので
あつても良いことは当然である。以上の動作をく
り返すことにより検出光学系ヘツド23は稜線に
追従し、稜線ののびる方向に移動してゆくことに
なる。主制御装置8は適時、X軸距離測定器1
9、Y軸距離測定器20、Z軸距離測定器21、
から各々の値を入力し、検出光学系ヘツド23か
らはセンサ座標系における稜頂点座標x0,y0を入
力し、絶対座標系における稜頂点座標X0,Y0,
Z0を算出し、記憶してゆき、適当な表示または記
録装置22にプログラム等で人為的に指示された
Z軸測定間隔ごとにデータを転送し、稜線3次元
座標値として記録される。
は、高度のサーボ動作を必要とせず、検出光学系
ヘツド23の位置を段階的に調整することによつ
て稜を追尾することができ、一般に行なわれる親
サーボ、子サーボの2重サーボループを用いなく
とも充分な高速化をはかる点に特徴を有するもの
である。以上の説明において実施例の説明のた
め、x軸比較器13、y軸比較器14は独立した
もののごとく扱かつたが、主制御装置18が直線
に稜頂点座標に関する情報を入力し、内部の判断
論理により、上記比較機能を実現し、X軸駆動機
構15、Y軸駆動機構16を直接制御するもので
あつても良いことは当然である。以上の動作をく
り返すことにより検出光学系ヘツド23は稜線に
追従し、稜線ののびる方向に移動してゆくことに
なる。主制御装置8は適時、X軸距離測定器1
9、Y軸距離測定器20、Z軸距離測定器21、
から各々の値を入力し、検出光学系ヘツド23か
らはセンサ座標系における稜頂点座標x0,y0を入
力し、絶対座標系における稜頂点座標X0,Y0,
Z0を算出し、記憶してゆき、適当な表示または記
録装置22にプログラム等で人為的に指示された
Z軸測定間隔ごとにデータを転送し、稜線3次元
座標値として記録される。
同時に、主制御装置18は現実に稜線ののびる
方向が前述の説明のように3次元駆動機構24の
Z軸と一致せず、例えば、3次元駆動機構24の
X軸およびY軸との合成方向で表現される場合は
適切な方向の駆動軸機構と同時に制御し、稜線の
のびる方向に検出光学系ヘツド23を移動させれ
ば良い。
方向が前述の説明のように3次元駆動機構24の
Z軸と一致せず、例えば、3次元駆動機構24の
X軸およびY軸との合成方向で表現される場合は
適切な方向の駆動軸機構と同時に制御し、稜線の
のびる方向に検出光学系ヘツド23を移動させれ
ば良い。
また主制御装置18はx走査が稜線を直角に切
断されるごとく投射されない場合、あるいは投射
光軸と稜線部の法線が大きく傾むいて投射光が稜
の片側を照射しなくなつた場合等を以前に測定し
た稜頂点座標の変化の傾向から状態を判断し、検
出ヘツド23をつけた2軸回転機構26を駆動し
再び前記の機能をくり返してゆけばよい。
断されるごとく投射されない場合、あるいは投射
光軸と稜線部の法線が大きく傾むいて投射光が稜
の片側を照射しなくなつた場合等を以前に測定し
た稜頂点座標の変化の傾向から状態を判断し、検
出ヘツド23をつけた2軸回転機構26を駆動し
再び前記の機能をくり返してゆけばよい。
このように本発明は、任意の3次元形状物体の
稜線を非接触で探り出し、自動的に追従しながら
稜線の3次元座標値の非接触自動測定が可能とな
る。
稜線を非接触で探り出し、自動的に追従しながら
稜線の3次元座標値の非接触自動測定が可能とな
る。
第1図は本発明の実施例を示す図、第2図は光
点位置検出器7の例を示すもので、同図aは差動
スリツト、bは差動フオトダイオード、cは差動
プリズムである。第3図は光点位置検出の機能を
説明するための図で、同図aは光学スリツト7a
上の光点の移動を示す図、同図bは光検出器7b
の出力を示す図、同図cは光検出器7bの出力を
時間微分した波形を示す図、同図dは微分処理回
路7cの出力を示す図である。第4図は光学スリ
ツト7a上の結像光点の軌跡を示すものである。
第5図a,b,c,d,e,fは被測定対象の位
置による投射光点Qの位置の変化を示す図、同図
g,h,iは、それぞれ上記a,b,cに対応す
るy軸光偏向器の偏向角、光点位置検出装置の出
力、y軸サンプリング回路の出力等をそれぞれ示
すものである。第6図aはx軸偏向器2の偏向
角、bはx軸サンプリング回路8の出力、cはy
軸サンプリング回路9の出力、dは上記cの時間
微分、eはゼロ・クロス回路の出力、fはゲート
回路の出力、gは変曲点検出回路10の出力をそ
れぞれ示すものである。第7図aはx軸およびy
軸のデイジタルメモリに保持記憶された内容を
xy座標にプロツトした形状データ、同図bは同
図aのデータの微分および2階微分値をそれぞれ
示すものである。第8図は検出系ヘツドを稜線の
伸びる方向に移動させる3次元駆動機構を示すも
のである。 1…細光線源、2…x軸光偏向器、3…投光レ
ンズ、4…被測定対象、5…受光レンズ、6…y
軸光偏向器、7…光点位置検出器、7a…光学ス
リツト、7b…光検出器、7c…微分処理回路、
8…x軸サンプリング回路、9…y軸サンプリン
グ回路、10…変曲点検出回路、11…x座標サ
ンプリング回路、12…y座標サンプリング回
路、13…x軸比較器、14…y軸比較器、15
…X軸移動機構、16…Y軸移動機構、17…Z
軸移動機構、18…主制御装置、19…X軸距離
測定器、20…Y軸距離測定器、21…Z軸距離
測定器、22…表示記録装置、23…検出光学系
ヘツド、24…3次元駆動機構、25…走査光の
軌跡、26…2軸回転機構。
点位置検出器7の例を示すもので、同図aは差動
スリツト、bは差動フオトダイオード、cは差動
プリズムである。第3図は光点位置検出の機能を
説明するための図で、同図aは光学スリツト7a
上の光点の移動を示す図、同図bは光検出器7b
の出力を示す図、同図cは光検出器7bの出力を
時間微分した波形を示す図、同図dは微分処理回
路7cの出力を示す図である。第4図は光学スリ
ツト7a上の結像光点の軌跡を示すものである。
第5図a,b,c,d,e,fは被測定対象の位
置による投射光点Qの位置の変化を示す図、同図
g,h,iは、それぞれ上記a,b,cに対応す
るy軸光偏向器の偏向角、光点位置検出装置の出
力、y軸サンプリング回路の出力等をそれぞれ示
すものである。第6図aはx軸偏向器2の偏向
角、bはx軸サンプリング回路8の出力、cはy
軸サンプリング回路9の出力、dは上記cの時間
微分、eはゼロ・クロス回路の出力、fはゲート
回路の出力、gは変曲点検出回路10の出力をそ
れぞれ示すものである。第7図aはx軸およびy
軸のデイジタルメモリに保持記憶された内容を
xy座標にプロツトした形状データ、同図bは同
図aのデータの微分および2階微分値をそれぞれ
示すものである。第8図は検出系ヘツドを稜線の
伸びる方向に移動させる3次元駆動機構を示すも
のである。 1…細光線源、2…x軸光偏向器、3…投光レ
ンズ、4…被測定対象、5…受光レンズ、6…y
軸光偏向器、7…光点位置検出器、7a…光学ス
リツト、7b…光検出器、7c…微分処理回路、
8…x軸サンプリング回路、9…y軸サンプリン
グ回路、10…変曲点検出回路、11…x座標サ
ンプリング回路、12…y座標サンプリング回
路、13…x軸比較器、14…y軸比較器、15
…X軸移動機構、16…Y軸移動機構、17…Z
軸移動機構、18…主制御装置、19…X軸距離
測定器、20…Y軸距離測定器、21…Z軸距離
測定器、22…表示記録装置、23…検出光学系
ヘツド、24…3次元駆動機構、25…走査光の
軌跡、26…2軸回転機構。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 細光線を一定幅に偏向走査して被測定対象物
の稜線を含む領域に投射する偏向細光線投射手段
と、前記細光線の偏向方向に垂直方向である定め
られた角度で、前記被測定対象物からの反射光を
集束して結像させる受光手段と、前記受光手段に
よる結像を前記細光線の偏向方向に対し垂直の方
向に振動せしめる結像位置振動手段と、前記細光
線の偏向方向に所定の長さを有し、垂直方向に微
小幅を有した領域内に前記受光手段の結像光があ
るか否かを検出する光点位置検出手段とを有する
検出光学系ヘツドと、 前記光点位置検出手段よりの信号を同期信号と
して前記偏向細光線投射手段の偏向信号と前記結
像光振動手段の振動信号をサンプリングすること
により稜部断面線の2次元座標値を求め、その2
次元座標値の各々の2階差分を演算し稜頂点座標
を算出する稜線座標算出手段と、 を特徴とする稜線座標自動測定用の稜頂点検出装
置。 2 細光線を一定幅に偏向走査して被測定対象物
の稜線を含む領域に投射する偏向細光線投射手段
と、前記細光線の偏向方向に垂直方向である定め
られた角度で、前記被測定対象物からの反射光を
集束して結像させる受光手段と、前記受光手段に
よる結像を前記細光線の偏向方向に対し垂直の方
向に振動せしめる結像位置振動手段と、前記細光
線の偏向方向に所定の長さを有し、垂直方向に微
小幅を有した領域内に前記受光手段の結像光があ
るか否かを検出する光点位置検出手段とを有する
検出光学系ヘツドと、 前記光点位置検出手段よりの信号を同期信号と
して前記偏向細光線投射手段の偏向信号と前記結
像光振動手段の振動信号をサンプリングすること
により稜部断面線の2次元座標値を求め、その2
次元座標値の各々の2階差分を演算し稜頂点座標
を算出するセンサ座標系稜線座標算出手段と、 前記検出系ヘツドを稜線の伸びる方向に移動さ
せる3次元駆動機構と、 前記3次元駆動機構による検出光学系ヘツドの
移動量を測定する距離測定手段と、 前記センサ座標系稜線座標算出手段の算出結果
と前記距離測定手段の出力とから絶対座標系にお
ける稜線座標を算出する絶対座標系稜線座標算出
手段と、 その絶対座標系における稜線座標を記録する記
録手段と、 を備えたことを特徴とする稜線座標自動測定装
置。 3 細光線を一定幅に偏向走査して被測定対象物
の稜線を含む領域に投射する偏向細光線投射手段
と、前記細光線の偏向方向に垂直方向である定め
られた角度で、前記被測定対象物からの反射光を
集束して結像させる受光手段と、前記受光手段に
よる結像を前記細光線の偏向方向に対し垂直の方
向に振動せしめる結像位置振動手段と、前記細光
線の偏向方向に所定の長さを有し、垂直方向に微
小幅を有した領域内に前記受光手段の結像光があ
るか否かを検出する光点位置検出手段とを有する
検出光学系ヘツドと、 前記光点位置検出手段よりの信号を同期信号と
して前記偏向細光線投射手段の偏向信号と前記結
像光振動手段の振動信号をサンプリングすること
により稜部断面線の2次元座標値を求め、その2
次元座標値の各々の2階差分を演算し稜頂点座標
を算出するセンサ座標系稜線座標算出手段と、 前記検出系ヘツドの姿勢を変化させるための、
水平、垂直面内の回転可能な2軸回転機構と、 前記検出系ヘツドを稜線の伸びる方向に移動さ
せる3次元駆動機構と、 前記3次元駆動機構による検出光学系ヘツドの
移動量を測定する距離測定手段と、 前記センサ座標系稜線座標算出手段の算出結果
と前記距離測定手段の出力とから絶対座標系にお
ける稜線座標を算出する絶対座標系稜線座標算出
手段と、 その絶対座標系における稜線座標を記録する記
録手段と、 以前に測定した稜頂点座標の変化の傾向から、
稜線の伸びる方向と前記検出系ヘツドの位置関係
を演算し、前記3次元駆動機構や前記2軸回転機
構の動きを制御して、前記検出系ヘツドを稜線に
追従させる主制御装置と、 を備えたことを特徴とする稜線座標自動測定装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17902481A JPS5880510A (ja) | 1981-11-10 | 1981-11-10 | 稜線座標自動測定用の稜頂点検出装置および稜線座標測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17902481A JPS5880510A (ja) | 1981-11-10 | 1981-11-10 | 稜線座標自動測定用の稜頂点検出装置および稜線座標測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5880510A JPS5880510A (ja) | 1983-05-14 |
| JPS6355642B2 true JPS6355642B2 (ja) | 1988-11-04 |
Family
ID=16058774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17902481A Granted JPS5880510A (ja) | 1981-11-10 | 1981-11-10 | 稜線座標自動測定用の稜頂点検出装置および稜線座標測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5880510A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0319450A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-28 | Nec Corp | マルチポイント通信方式 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0612252B2 (ja) * | 1984-03-21 | 1994-02-16 | 友彦 芥田 | 三次元形状の自動測定方法 |
| IT1184935B (it) * | 1984-03-29 | 1987-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Sistema per rilevare coordinate tridimensionali con l impiego di un elaboratore |
| JPS6186606A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-02 | Hitachi Ltd | 非接触形状測定方法 |
| JPH0812044B2 (ja) * | 1986-09-10 | 1996-02-07 | 株式会社東海理化電機製作所 | テープ端座標測定方法およびその装置 |
| JPH02186213A (ja) * | 1989-01-12 | 1990-07-20 | Matsushita Electric Works Ltd | 形状検出装置 |
-
1981
- 1981-11-10 JP JP17902481A patent/JPS5880510A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0319450A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-28 | Nec Corp | マルチポイント通信方式 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5880510A (ja) | 1983-05-14 |
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