JPS6364408B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D263/08—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D263/10—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D263/14—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with radicals substituted by oxygen atoms
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式
（この式で、Ar1は芳香族性の環少くとも１つ
を持ち、とりわけ芳香族性の環の環炭素原子を通
じて酸素原子と結合する単環または多環で、炭素
環式または複素環式の基であり、R1は場合によ
つては置換されている脂肪族、脂環式またはアリ
ール置換脂肪族の炭化水素残基である） で表わされる光学活性化合物またはその塩におけ
る配置の反転法に関する。
を持ち、とりわけ芳香族性の環の環炭素原子を通
じて酸素原子と結合する単環または多環で、炭素
環式または複素環式の基であり、R1は場合によ
つては置換されている脂肪族、脂環式またはアリ
ール置換脂肪族の炭化水素残基である） で表わされる光学活性化合物またはその塩におけ
る配置の反転法に関する。
本発明に記載の配置の反転は式
で表わされる基の中に存在する、立体配置がＲ
（＋）―またはＳ（−）―配置に対応する第２アル
コール残基に関連する。
（＋）―またはＳ（−）―配置に対応する第２アル
コール残基に関連する。
それに対応して、本発明の方法によればＲ（＋）
―配置の化合物はＳ（−）―配置に、あるいはＳ
（−）―配置の化合物はＲ（＋）―配置のものに変
換する。この配置の反転により旋光の向きの反転
が生ずる。
―配置の化合物はＳ（−）―配置に、あるいはＳ
（−）―配置の化合物はＲ（＋）―配置のものに変
換する。この配置の反転により旋光の向きの反転
が生ずる。
芳香族性の炭素環式基Ar1は特にフエニル基な
らびに場合によつては部分的に飽和されている、
２環の芳香族炭化水素残基例えばナフチル基例え
ば１―または２―ナフチル基、１，２，３，４―
テトラヒドロ―ベンズナフチル基、例えば１，
２，３，４―テトラヒドロ―５―ナフチル基、ベ
ンズインデニル基、例えば４―または５―インデ
ニル基またはベンズインダニル基例えば４―また
は５―インダニル基、さらには場合によつては部
分的に飽和されている多環の芳香族炭化水素残基
例えばベンズフルオレニル基例えば４―フルオレ
ニル基または９，10―エタノ―９，10―ジヒドロ
―ベンズアントリル基例えば９，10―エタノ―
９，10―ジヒドロ―１―アントリル基であり、前
記の種類の部分的に飽和されている基は芳香族部
分の環炭素原子を通じて酸素原子に結合してい
る。
らびに場合によつては部分的に飽和されている、
２環の芳香族炭化水素残基例えばナフチル基例え
ば１―または２―ナフチル基、１，２，３，４―
テトラヒドロ―ベンズナフチル基、例えば１，
２，３，４―テトラヒドロ―５―ナフチル基、ベ
ンズインデニル基、例えば４―または５―インデ
ニル基またはベンズインダニル基例えば４―また
は５―インダニル基、さらには場合によつては部
分的に飽和されている多環の芳香族炭化水素残基
例えばベンズフルオレニル基例えば４―フルオレ
ニル基または９，10―エタノ―９，10―ジヒドロ
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９，10―ジヒドロ―１―アントリル基であり、前
記の種類の部分的に飽和されている基は芳香族部
分の環炭素原子を通じて酸素原子に結合してい
る。
複素環式基Ar1は環ヘテロ原子として特に環窒
素原子を１つまたはそれ以上ならびに好ましくは
環窒素原子に加えて環酸素原子または環硫黄原子
をも含有する。そのような基は特に単環の、５ま
たは６員のモノ―、ジ―またはトリアザ環式基、
第１に芳香族性の単環モノアザ環式６員の基例え
ばピリジル基例えば２―、３―または４―ピリジ
ル基、芳香族性の単環ジアザ環式６員の基例えば
ピリダジニル基例えば３―ピリダジニル基、ピリ
ミジニル基例えば２―または４―ピリミジニル基
あるいはピラジニル基例えば２―ピラジニル基、
芳香族性の単環チアジアザ環式５員の基例えばチ
アジアゾリル基例えば１，２，５―チアジアゾー
ル―３―イル基、芳香族性で、５員または６員の
複素環をもつ場合によつては部分的に飽和されて
いる２環モノアザ環式基例えばインドリル基例え
ば４―インドリル基、または場合によつては部分
的に飽和されているキノリニル基例えば１，２，
３，４―テトラヒドロ―５―キノリニル基あるい
は部分的に芳香族性の２環モノチア環式基例えば
2H―チオクロメニル基例えば2H―８―チオクロ
メニル基である。
素原子を１つまたはそれ以上ならびに好ましくは
環窒素原子に加えて環酸素原子または環硫黄原子
をも含有する。そのような基は特に単環の、５ま
たは６員のモノ―、ジ―またはトリアザ環式基、
第１に芳香族性の単環モノアザ環式６員の基例え
ばピリジル基例えば２―、３―または４―ピリジ
ル基、芳香族性の単環ジアザ環式６員の基例えば
ピリダジニル基例えば３―ピリダジニル基、ピリ
ミジニル基例えば２―または４―ピリミジニル基
あるいはピラジニル基例えば２―ピラジニル基、
芳香族性の単環チアジアザ環式５員の基例えばチ
アジアゾリル基例えば１，２，５―チアジアゾー
ル―３―イル基、芳香族性で、５員または６員の
複素環をもつ場合によつては部分的に飽和されて
いる２環モノアザ環式基例えばインドリル基例え
ば４―インドリル基、または場合によつては部分
的に飽和されているキノリニル基例えば１，２，
３，４―テトラヒドロ―５―キノリニル基あるい
は部分的に芳香族性の２環モノチア環式基例えば
2H―チオクロメニル基例えば2H―８―チオクロ
メニル基である。
前記の基Ar1は置換されていなくてもまたは置
換されていてもよく、置換されている場合はAr1
は第１に１つ、しかしまたそれ以上の、特に２つ
の置換基を含有する。置換基は第１に場合によつ
ては置換されている脂肪族または脂環式炭化水素
残基、場合によつてはエーテル化またはエステル
化されいる水酸基またはメルカプト基、アシル
基、場合によつては官能的に変性されているカル
ボキシル基、ニトロ基あるいは場合によつては置
換されているアミノ基である。基Ar1の飽和され
ている部分は前記の置換基のほかに２重結合され
ている置換基、第１にオキソ基を含有していても
よい。
換されていてもよく、置換されている場合はAr1
は第１に１つ、しかしまたそれ以上の、特に２つ
の置換基を含有する。置換基は第１に場合によつ
ては置換されている脂肪族または脂環式炭化水素
残基、場合によつてはエーテル化またはエステル
化されいる水酸基またはメルカプト基、アシル
基、場合によつては官能的に変性されているカル
ボキシル基、ニトロ基あるいは場合によつては置
換されているアミノ基である。基Ar1の飽和され
ている部分は前記の置換基のほかに２重結合され
ている置換基、第１にオキソ基を含有していても
よい。
基Ar1の置換基としての脂肪族炭化水素残基は
特に低級アルキル基または低級アルケニル基、さ
らに低級アルキニル基である。そのような基、特
に低級アルキル基ならびに低級アルケニル基は場
合によつてはエーテル化またはエステル化されて
いる水酸基またはメルカプト基、例えば低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基またはハロゲン原
子、場合によつては官能的に変性されているカル
ボキシル基、特に場合によつてはＮ―置換されて
いる、例えばＮ―低級アルキル化されているカル
バモイル基あるいは場合によつては置換されてい
るアミノ基、特に、アシル基が有機カルボン酸、
炭酸半誘導体または有機スルホン酸の残基である
アシルアミノ基、例えば低級アルカノイルアミノ
基、低級アルコキシカルボニルアミノ基あるいは
場合によつてはＮ―置換されている、例えば
N′―低級アルキル化されているウレイド基例え
ばウレイド基、N′―低級アルキル―ウレイド基
またはN′，N′―ジ低級アルキル―ウレイド基、
さらに低級アルキルスルホニルアミノ基である。
置換されている低級アルキル基は第１にヒドロキ
シ低級アルキル基、低級アルコキシ―低級アルキ
ル基、低級アルキルチオ―低級アルキル基、ハロ
ゲン低級アルキル基、場合によつてはＮ―低級ア
ルキル化されているカルバモイル―低級アルキル
基、低級アルカノイルアミノ低級アルキル基また
は低級アルコキシカルボニルアミノ―低級アルキ
ル基、さらに低級アルカノイルアミノ―低級アル
ケニル基または低級アルコキシカルボニルアミノ
―低級アルケニル基である。
特に低級アルキル基または低級アルケニル基、さ
らに低級アルキニル基である。そのような基、特
に低級アルキル基ならびに低級アルケニル基は場
合によつてはエーテル化またはエステル化されて
いる水酸基またはメルカプト基、例えば低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基またはハロゲン原
子、場合によつては官能的に変性されているカル
ボキシル基、特に場合によつてはＮ―置換されて
いる、例えばＮ―低級アルキル化されているカル
バモイル基あるいは場合によつては置換されてい
るアミノ基、特に、アシル基が有機カルボン酸、
炭酸半誘導体または有機スルホン酸の残基である
アシルアミノ基、例えば低級アルカノイルアミノ
基、低級アルコキシカルボニルアミノ基あるいは
場合によつてはＮ―置換されている、例えば
N′―低級アルキル化されているウレイド基例え
ばウレイド基、N′―低級アルキル―ウレイド基
またはN′，N′―ジ低級アルキル―ウレイド基、
さらに低級アルキルスルホニルアミノ基である。
置換されている低級アルキル基は第１にヒドロキ
シ低級アルキル基、低級アルコキシ―低級アルキ
ル基、低級アルキルチオ―低級アルキル基、ハロ
ゲン低級アルキル基、場合によつてはＮ―低級ア
ルキル化されているカルバモイル―低級アルキル
基、低級アルカノイルアミノ低級アルキル基また
は低級アルコキシカルボニルアミノ―低級アルキ
ル基、さらに低級アルカノイルアミノ―低級アル
ケニル基または低級アルコキシカルボニルアミノ
―低級アルケニル基である。
脂環式炭化水素残基は特に単環または多環のシ
クロアルキル基である。
クロアルキル基である。
基Ar1の置換基としてのエーテル化されている
水酸基またはメルカプト基は第１に場合によつて
は置換されている脂肪族炭化水素残基でエーテル
化されている水酸基またはメルカプト基例えば低
級アルコキシ基またはフエニル低級アルコキシ
基、低級アルケニルオキシ基あるいは低級アルキ
ニルオキシ基、さらにテトラヒドロフルフリルオ
キシ基、低級アルキルチオ基または低級アルケニ
ルチオ基である。そのようなエーテル化する脂肪
族炭化水素残基の特にエーテル化する低級アルキ
ル基の置換基は特に場合によつてはエーテル化ま
たはエステル化されている水酸基またはメルカプ
ト基例えば低級アルキルオキシ基、低級アルキル
チオ基またはハロゲン原子あるいは場合によつて
は置換されているアミノ基例えばアシルアミノ基
例えば低級アルカノイルアミノ基または低級アル
コキシカルボニルアミノ基である。対応する置換
されている脂肪族炭化水素残基によつてエーテル
化されている水酸基またはメルカプト基は特に低
級アルコキシ―低級アルコキシ基、低級アルキル
チオ―低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシ
―低級アルキルチオ基、さらに低級アルカノイル
アミノ―低級アルコキシ基または低級アルコキシ
カルボニルアミノ―低級アルコキシ基である。
水酸基またはメルカプト基は第１に場合によつて
は置換されている脂肪族炭化水素残基でエーテル
化されている水酸基またはメルカプト基例えば低
級アルコキシ基またはフエニル低級アルコキシ
基、低級アルケニルオキシ基あるいは低級アルキ
ニルオキシ基、さらにテトラヒドロフルフリルオ
キシ基、低級アルキルチオ基または低級アルケニ
ルチオ基である。そのようなエーテル化する脂肪
族炭化水素残基の特にエーテル化する低級アルキ
ル基の置換基は特に場合によつてはエーテル化ま
たはエステル化されている水酸基またはメルカプ
ト基例えば低級アルキルオキシ基、低級アルキル
チオ基またはハロゲン原子あるいは場合によつて
は置換されているアミノ基例えばアシルアミノ基
例えば低級アルカノイルアミノ基または低級アル
コキシカルボニルアミノ基である。対応する置換
されている脂肪族炭化水素残基によつてエーテル
化されている水酸基またはメルカプト基は特に低
級アルコキシ―低級アルコキシ基、低級アルキル
チオ―低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシ
―低級アルキルチオ基、さらに低級アルカノイル
アミノ―低級アルコキシ基または低級アルコキシ
カルボニルアミノ―低級アルコキシ基である。
基Ar1の置換基としてのエステル化されている
水酸基またはメルカプト基は特にハロゲン原子、
さらに低級アルカノイルオキシ基である。
水酸基またはメルカプト基は特にハロゲン原子、
さらに低級アルカノイルオキシ基である。
基Ar1の置換基としてのアシル基は第１に低級
アルカノイル基である。
アルカノイル基である。
Ar1の置換基としての場合によつては官能的に
変性されているカルボキシル基は特にエステル化
またはアミド化されているカルボキシル基、さら
にシアノ基である、エステル化されているカルボ
キシル基は特に低級アルコキシカルボニル基であ
り、一方アミド化されているカルボキシル基は場
合によつては置換されているカルバモイル基例え
ばカルバモイル基、Ｎ―低級アルキル―カルバモ
イル基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモ
イル基である。
変性されているカルボキシル基は特にエステル化
またはアミド化されているカルボキシル基、さら
にシアノ基である、エステル化されているカルボ
キシル基は特に低級アルコキシカルボニル基であ
り、一方アミド化されているカルボキシル基は場
合によつては置換されているカルバモイル基例え
ばカルバモイル基、Ｎ―低級アルキル―カルバモ
イル基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモ
イル基である。
基Ar1の置換基としての、場合によつては置換
されているアミノ基は特に、アシル基がとりわけ
有機カルボン酸または炭酸半誘導体、またはさら
に有機スルホン酸の対応する基であるアシルアミ
ノ基例えば低級アルカノイルアミノ基、低級アル
コキシカルボニルアミノ基あるいは場合によつて
はN′―低級アルキル化されているウレイド基ま
たはＮ―シクロアルキル置換されているウレイド
基例えばウレイド基、N′―低級アルキル―ウレ
イド基またはN′，N′―ジ低級アルキル―ウレイ
ド基またはN′―シクロアルキル―ウレイド基、
さらに低級アルキルスルホニルアミノ基ならびに
Ｎ―低級アルキル化アミノ基例えばＮ―低級アル
キルアミノ基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキルアミ
ノ基、場合によつては不飽和のＮ，Ｎ―低級アル
キレンアミノ基、Ｎ，Ｎ―アザ低級アルキレンア
ミノ基、Ｎ，Ｎ―オキサ低級アルキレンアミノ基
またはＮ，Ｎ―チア低級アルキレンアミノ基であ
る。
されているアミノ基は特に、アシル基がとりわけ
有機カルボン酸または炭酸半誘導体、またはさら
に有機スルホン酸の対応する基であるアシルアミ
ノ基例えば低級アルカノイルアミノ基、低級アル
コキシカルボニルアミノ基あるいは場合によつて
はN′―低級アルキル化されているウレイド基ま
たはＮ―シクロアルキル置換されているウレイド
基例えばウレイド基、N′―低級アルキル―ウレ
イド基またはN′，N′―ジ低級アルキル―ウレイ
ド基またはN′―シクロアルキル―ウレイド基、
さらに低級アルキルスルホニルアミノ基ならびに
Ｎ―低級アルキル化アミノ基例えばＮ―低級アル
キルアミノ基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキルアミ
ノ基、場合によつては不飽和のＮ，Ｎ―低級アル
キレンアミノ基、Ｎ，Ｎ―アザ低級アルキレンア
ミノ基、Ｎ，Ｎ―オキサ低級アルキレンアミノ基
またはＮ，Ｎ―チア低級アルキレンアミノ基であ
る。
脂肪族炭化水素残基R1は第１に低級アルキル
基、特に結合炭素原子のところで分枝している低
級アルキル基、さらに低級アルケニル基または低
級アルキニル基であり、一方脂環式炭化水素残基
は特に多環のシクロアルキル基を含めたシクロア
ルキル基であり、アリール置換脂肪族炭化水素残
基は第１にフエニル低級アルキル基である。その
ような炭化水素残基の置換基は例えば低級アルキ
ル基に対しては、エーテル化されている水酸基、
特に場合によつては例えば官能的に変性されてい
るカルボキシル基例えば場合によつてはＮ―低級
アルキル化されているカルバモイル基、例えばカ
ルバモイル基、Ｎ―低級アルキル―カルバモイル
基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモイル
基で置換されているフエニルオキシ基またはピリ
ジルオキシ基あるいは場合によつては官能的に変
性されているカルボキシル基例えばカルボキシル
基、エステル化されているカルボキシル基例えば
低級アルコキシカルボニル基、アミド化されてい
るカルボキシル基例えば場合によつてはＮ―低級
アルキル化されているカルバモイル基例えばカル
バモイル基、Ｎ―低級アルキル―カルバモイル基
またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモイル基
あるいはシアノ基であり、例えばフエニル低級ア
ルキル基の芳香族部分に対しては場合によつては
官能的に変性されているカルボキシル基、第１に
アミド化されているカルボキシル基例えば場合に
よつては低級アルキル基によつて置換されている
カルバモイル基例えばＮ―低級アルキルカルバモ
イル基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモ
イル基および（または）水酸基である。この方法
で置換されている低級アルキル基はフエニルオキ
シ―低級アルキル基またはとりわけ場合によつて
はＮ―アルキル化されているカルバモイルフエニ
ルオキシ低級アルキル基、さらにピリジルオキシ
―低級アルキル基またはとりわけ場合によつては
Ｎ―アルキル化されているカルバモイルピリジル
オキシ―低級アルキル基、さらに低級アルコキシ
カルボニル―低級アルキル基、場合によつてはＮ
―低級アルキル化されているカルバモイル―低級
アルキル基またはシアノ―低級アルキル基であ
る。
基、特に結合炭素原子のところで分枝している低
級アルキル基、さらに低級アルケニル基または低
級アルキニル基であり、一方脂環式炭化水素残基
は特に多環のシクロアルキル基を含めたシクロア
ルキル基であり、アリール置換脂肪族炭化水素残
基は第１にフエニル低級アルキル基である。その
ような炭化水素残基の置換基は例えば低級アルキ
ル基に対しては、エーテル化されている水酸基、
特に場合によつては例えば官能的に変性されてい
るカルボキシル基例えば場合によつてはＮ―低級
アルキル化されているカルバモイル基、例えばカ
ルバモイル基、Ｎ―低級アルキル―カルバモイル
基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモイル
基で置換されているフエニルオキシ基またはピリ
ジルオキシ基あるいは場合によつては官能的に変
性されているカルボキシル基例えばカルボキシル
基、エステル化されているカルボキシル基例えば
低級アルコキシカルボニル基、アミド化されてい
るカルボキシル基例えば場合によつてはＮ―低級
アルキル化されているカルバモイル基例えばカル
バモイル基、Ｎ―低級アルキル―カルバモイル基
またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモイル基
あるいはシアノ基であり、例えばフエニル低級ア
ルキル基の芳香族部分に対しては場合によつては
官能的に変性されているカルボキシル基、第１に
アミド化されているカルボキシル基例えば場合に
よつては低級アルキル基によつて置換されている
カルバモイル基例えばＮ―低級アルキルカルバモ
イル基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモ
イル基および（または）水酸基である。この方法
で置換されている低級アルキル基はフエニルオキ
シ―低級アルキル基またはとりわけ場合によつて
はＮ―アルキル化されているカルバモイルフエニ
ルオキシ低級アルキル基、さらにピリジルオキシ
―低級アルキル基またはとりわけ場合によつては
Ｎ―アルキル化されているカルバモイルピリジル
オキシ―低級アルキル基、さらに低級アルコキシ
カルボニル―低級アルキル基、場合によつてはＮ
―低級アルキル化されているカルバモイル―低級
アルキル基またはシアノ―低級アルキル基であ
る。
特別な記載がない場合は、前記ならびに後記で
『低級』と表示されている基および化合物は炭素
原子好ましくは７個まで、特に５個までをもつ１
価の基および炭素原子３〜６個、特に４個または
５個をもつ２価の基を包含する。
『低級』と表示されている基および化合物は炭素
原子好ましくは７個まで、特に５個までをもつ１
価の基および炭素原子３〜６個、特に４個または
５個をもつ２価の基を包含する。
前記ならびに後記して適用される一般的概念は
特別の記載がない場合、好ましくは次の意味をも
つ。
特別の記載がない場合、好ましくは次の意味をも
つ。
低級アルキル基は例えばメチル基、エチル基、
ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、イソブチル基、sec―ブチル基またはtert―
ブチル基、ｎ―ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、ｎ―ヘキシル基、イソヘキシル基
またはｎ―ヘプチル基である。結合炭素原子のと
ころで分枝している低級アルキル基は第１にイソ
プロピル基またはtert―ブチル基である。
ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、イソブチル基、sec―ブチル基またはtert―
ブチル基、ｎ―ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、ｎ―ヘキシル基、イソヘキシル基
またはｎ―ヘプチル基である。結合炭素原子のと
ころで分枝している低級アルキル基は第１にイソ
プロピル基またはtert―ブチル基である。
低級アルケニル基は第１にアリル基、さらにビ
ニル基、２―メチル―アリル基、２―ブテニル基
または３，３―ジメチルアリル基であり、一方低
級アルキニル基は例えばエチニル基またはプロパ
ルギル基である。
ニル基、２―メチル―アリル基、２―ブテニル基
または３，３―ジメチルアリル基であり、一方低
級アルキニル基は例えばエチニル基またはプロパ
ルギル基である。
低級アルコキシ基は例えばメトキシ基、エトキ
シ基、ｎ―プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
―ブトキシ基、イソブトキシ基またはtert―ブト
キシ基である。
シ基、ｎ―プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
―ブトキシ基、イソブトキシ基またはtert―ブト
キシ基である。
フエニル低級アルコキシ基は例えばベンジルオ
キシ基である。
キシ基である。
低級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エ
チルチオ基、イソプロピルチオ基またはｎ―ブチ
ルチオ基である。
チルチオ基、イソプロピルチオ基またはｎ―ブチ
ルチオ基である。
ハロゲン原子は例えば塩素原子、または臭素原
子、さらに弗素原子ならびに沃素原子である。
子、さらに弗素原子ならびに沃素原子である。
場合によつてはＮ―低級アルキル化されている
カルバモイル基は例えばカルバモイル基さらにＮ
―低級アルキル―カルバモイル基例えばＮ―メチ
ルカルバモイル基またはＮ―エチル―カルバモイ
ル基あるいはＮ，Ｎ―ジ低級アルキルカルバモイ
ル基例えばＮ，Ｎ―ジメチル―カルバモイル基ま
たはＮ，Ｎ―ジエチル―カルバモイル基である。
カルバモイル基は例えばカルバモイル基さらにＮ
―低級アルキル―カルバモイル基例えばＮ―メチ
ルカルバモイル基またはＮ―エチル―カルバモイ
ル基あるいはＮ，Ｎ―ジ低級アルキルカルバモイ
ル基例えばＮ，Ｎ―ジメチル―カルバモイル基ま
たはＮ，Ｎ―ジエチル―カルバモイル基である。
低級アルカノイルアミノ基は例えばホルミルア
ミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基、ブチリルアミノ基またはピパロイルアミノ基
である。
ミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基、ブチリルアミノ基またはピパロイルアミノ基
である。
低級アルコキシカルボニルアミノ基は例えばメ
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニル
アミノ基、またはtert―ブトキシカルボニルアミ
ノ基であり、一方N′―低級アルキル―ウレイド
基とN′，N′―ジ低級アルキル―ウレイド基とは
例えばN′―メチルウレイド基、N′―エチルウレ
イド基、N′，N′―ジメチルウレイド基またはN′，
N′―ジエチルウレイド基であり、一方N′―シク
ロアルキルウレイド基は例えばN′―シクロプロ
ピルウレイド基、N′―シクロペンチル―ウレイ
ド基、N′―シクロヘキシルウレイド基または
N′―シクロヘプチルウレイド基である。
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニル
アミノ基、またはtert―ブトキシカルボニルアミ
ノ基であり、一方N′―低級アルキル―ウレイド
基とN′，N′―ジ低級アルキル―ウレイド基とは
例えばN′―メチルウレイド基、N′―エチルウレ
イド基、N′，N′―ジメチルウレイド基またはN′，
N′―ジエチルウレイド基であり、一方N′―シク
ロアルキルウレイド基は例えばN′―シクロプロ
ピルウレイド基、N′―シクロペンチル―ウレイ
ド基、N′―シクロヘキシルウレイド基または
N′―シクロヘプチルウレイド基である。
低級アルキルスルホニルアミノ基は例えばメチ
ルスルホニルアミノ基またはエチルスルホニルア
ミノ基である。
ルスルホニルアミノ基またはエチルスルホニルア
ミノ基である。
ヒドロキシ低級アルキルは例えばヒドロキシメ
チル基あるいは１―または２―ヒドロキシエチル
基である。
チル基あるいは１―または２―ヒドロキシエチル
基である。
低級アルコキシ―低級アルキル基は例えば低級
アルコキシ―メチル基または好ましくは２―（低
級アルコキシ）―エチル基例えばメトキシメチル
基、エトキシメチル基、２―メトキシ―エチル
基、２―エトキシ―エチル基または２―イソプロ
ポキシ―エチル基である。
アルコキシ―メチル基または好ましくは２―（低
級アルコキシ）―エチル基例えばメトキシメチル
基、エトキシメチル基、２―メトキシ―エチル
基、２―エトキシ―エチル基または２―イソプロ
ポキシ―エチル基である。
低級アルキルチオ―低級アルキル基は例えば低
級アルキルチオメチル基または特に２―（低級ア
ルキルチオ）―エチル基例えばメチルチオメチル
基、エチルチオメチル基、２―メチルチオエチル
基または２―エチルチオエチル基である。
級アルキルチオメチル基または特に２―（低級ア
ルキルチオ）―エチル基例えばメチルチオメチル
基、エチルチオメチル基、２―メチルチオエチル
基または２―エチルチオエチル基である。
ハロゲノ低級アルキル基は特にトリフルオロメ
チル基である。
チル基である。
場合によつてはＮ―低級アルキル化されている
カルバモイル―低級アルキル基は例えばカルバモ
イルメチル基あるいは１―または２―カルバモイ
ルエチル基、さらにＮ―低級アルキル―カルバモ
イル―低級アルキル基例えばＮ―メチルカルバモ
イルメチル基あるいは１―または２―Ｎ―メチル
カルバモイル―エチル基あるいはＮ，Ｎ―ジ低級
アルキル―カルバモイル―低級アルキル基例えば
Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイル―メチル基あるい
は１―または２―Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイル
―エチル基である。
カルバモイル―低級アルキル基は例えばカルバモ
イルメチル基あるいは１―または２―カルバモイ
ルエチル基、さらにＮ―低級アルキル―カルバモ
イル―低級アルキル基例えばＮ―メチルカルバモ
イルメチル基あるいは１―または２―Ｎ―メチル
カルバモイル―エチル基あるいはＮ，Ｎ―ジ低級
アルキル―カルバモイル―低級アルキル基例えば
Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイル―メチル基あるい
は１―または２―Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイル
―エチル基である。
低級アルカノイルアミノ―低級アルキル基は例
えば低級アルカノイルアミノメチル基またはとり
わけ２―低級アルカノイルアミノエチル基例えば
アセチルアミノメチル基、プロピオニルアミノメ
チル基、２―アセチルアミノエチル基、２―プロ
ピオニルアミノ―エチル基または２―ピパロイル
アミノ―エチル基であり、一方低級アルコキシカ
ルボニルアミノ―低級アルキル基例えば低級アル
コキシカルボニルアミノ―メチル基またはとりわ
け、２―低級アルコキシカルボニルアミノ―エチ
ル基例えばメトキシカルボニルアミノ―メチル
基、エトキシカルボニルアミノ―エチル基、２―
メトキシカルボニルアミノエチル基、２―エトキ
シカルボニルアミノエチル基または２―tert―ブ
トキシカルボニルアミノ―エチル基である。
えば低級アルカノイルアミノメチル基またはとり
わけ２―低級アルカノイルアミノエチル基例えば
アセチルアミノメチル基、プロピオニルアミノメ
チル基、２―アセチルアミノエチル基、２―プロ
ピオニルアミノ―エチル基または２―ピパロイル
アミノ―エチル基であり、一方低級アルコキシカ
ルボニルアミノ―低級アルキル基例えば低級アル
コキシカルボニルアミノ―メチル基またはとりわ
け、２―低級アルコキシカルボニルアミノ―エチ
ル基例えばメトキシカルボニルアミノ―メチル
基、エトキシカルボニルアミノ―エチル基、２―
メトキシカルボニルアミノエチル基、２―エトキ
シカルボニルアミノエチル基または２―tert―ブ
トキシカルボニルアミノ―エチル基である。
低級アルカノイルアミノ―低級アルケニル基は
特に２―低級アルカノイルアミノ―ビニル基、例
えば２―アセチルアミノ―ビニル基、２―プロピ
オニルアミノ―ビニル基または２―ピパロイルア
ミノ―ビニル基であり、一方低級アルコキシカル
ボニルアミノ―低級アルケニル基はとりわけ２―
低級アルコキシカルボニルアミノ―ビニル基例え
ば２―メトキシカルボニルアミノ―ビニル基、２
―エトキシカルボニルアミノ―ビニル基または２
―tert―ブトキシカルボニルアミノ―ビニル基で
ある。
特に２―低級アルカノイルアミノ―ビニル基、例
えば２―アセチルアミノ―ビニル基、２―プロピ
オニルアミノ―ビニル基または２―ピパロイルア
ミノ―ビニル基であり、一方低級アルコキシカル
ボニルアミノ―低級アルケニル基はとりわけ２―
低級アルコキシカルボニルアミノ―ビニル基例え
ば２―メトキシカルボニルアミノ―ビニル基、２
―エトキシカルボニルアミノ―ビニル基または２
―tert―ブトキシカルボニルアミノ―ビニル基で
ある。
多環のシクロアルキル基を含めシクロアルキル
基はとりわけ環炭素原子３〜10個を含有し、シク
ロプロピル基または特にシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基またはシクロヘプチル基、さらにア
ダマンチル基例えば１―アダマンチル基である。
基はとりわけ環炭素原子３〜10個を含有し、シク
ロプロピル基または特にシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基またはシクロヘプチル基、さらにア
ダマンチル基例えば１―アダマンチル基である。
低級アルケニルオキシ基は特にアリルオキシ基
ならびに２―メチルアリルオキシ基、さらにビニ
ルオキシ基、２―ブテニルオキシ基または3.3―
ジメチルアリルオキシ基であり、一方低級アルキ
ニルオキシ基は例えばプロパルギルオキシ基であ
る。
ならびに２―メチルアリルオキシ基、さらにビニ
ルオキシ基、２―ブテニルオキシ基または3.3―
ジメチルアリルオキシ基であり、一方低級アルキ
ニルオキシ基は例えばプロパルギルオキシ基であ
る。
低級アルケニルチオ基は例えばアリルチオ基、
さらに２―メチルアリルチオ基または２―ブテニ
ルチオ基である。
さらに２―メチルアリルチオ基または２―ブテニ
ルチオ基である。
低級アルコキシ―低級アルコキシ基においては
両酸素原子はとりわけ炭素原子少くとも２個、例
えば２または３個で分離され、そのような基は例
えばメトキシメトキシ基またはエトキシメトキシ
基、しかし第１には２―（低級アルコキシ）―エ
トキシ基例えばメトキシエトキシまたは２―エト
キシ―エトキシ基ならびに３―（低級アルコキ
シ）―プロポキシ基例えば３―メトキシ―プロポ
キシ基または３―エトキシプロポキシ基である。
両酸素原子はとりわけ炭素原子少くとも２個、例
えば２または３個で分離され、そのような基は例
えばメトキシメトキシ基またはエトキシメトキシ
基、しかし第１には２―（低級アルコキシ）―エ
トキシ基例えばメトキシエトキシまたは２―エト
キシ―エトキシ基ならびに３―（低級アルコキ
シ）―プロポキシ基例えば３―メトキシ―プロポ
キシ基または３―エトキシプロポキシ基である。
低級アルキルチオ―低級アルコキシ基において
は硫黄原子と酸素原子とはとりわけ炭素原子少く
とも２個、例えば２または３個で互に分離されて
いて、そのような基は第１に２―（低級アルキル
チオ）―エトキシ基例えば２―メチルチオ―エト
キシ基または２―エチルチオ―エトキシ基であ
る。
は硫黄原子と酸素原子とはとりわけ炭素原子少く
とも２個、例えば２または３個で互に分離されて
いて、そのような基は第１に２―（低級アルキル
チオ）―エトキシ基例えば２―メチルチオ―エト
キシ基または２―エチルチオ―エトキシ基であ
る。
同様に低級アルコキシ―低級アルキルチオ基に
おいては酸素原子と硫黄原子とはとりわけ炭素原
子少くとも２個例えば２または３個で互に分離さ
れていて、そのような基は第１に２―（低級アル
コキシ）―エチルチオ基例えば２―メトキシ―エ
チルチオ基または２―エトキシ―エチルチオ基で
ある。
おいては酸素原子と硫黄原子とはとりわけ炭素原
子少くとも２個例えば２または３個で互に分離さ
れていて、そのような基は第１に２―（低級アル
コキシ）―エチルチオ基例えば２―メトキシ―エ
チルチオ基または２―エトキシ―エチルチオ基で
ある。
低級アルカノイルアミノ―低級アルコキシ基と
低級アルコキシカルボニルアミノ―低級アルコキ
シ基とにおいて窒素原子と結合酸素原子とはとり
わけ炭素原子少くとも２個、例えば２または３個
で互に分離され、これらの基は第１に２―低級ア
ルカノイルアミノ―エトキシ基、例えば２―アセ
チルアミノ―エトキシ基、２―プロピオニルアミ
ノ―エトキシ基または２―ピバロイルアミノ―エ
トキシ基あるいは２―低級アルコキシカルボニル
アミノエトキシ基例えば２―メトキシカルボニル
アミノ―エトキシ基または２―エトキシカルボニ
ル―エトキシ基である。
低級アルコキシカルボニルアミノ―低級アルコキ
シ基とにおいて窒素原子と結合酸素原子とはとり
わけ炭素原子少くとも２個、例えば２または３個
で互に分離され、これらの基は第１に２―低級ア
ルカノイルアミノ―エトキシ基、例えば２―アセ
チルアミノ―エトキシ基、２―プロピオニルアミ
ノ―エトキシ基または２―ピバロイルアミノ―エ
トキシ基あるいは２―低級アルコキシカルボニル
アミノエトキシ基例えば２―メトキシカルボニル
アミノ―エトキシ基または２―エトキシカルボニ
ル―エトキシ基である。
低級アルカノイル基は特にアセチル基、プロピ
オニル基またはピパロイル基である。
オニル基またはピパロイル基である。
低級アルカノイルオキシ基は例えばアセチルオ
キシ基、プロピオノキシ基またはピバロイルオキ
シ基である。
キシ基、プロピオノキシ基またはピバロイルオキ
シ基である。
低級アルコキシカルボニル基は例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基またはtert
―ブトキシカルボニル基である。
カルボニル基、エトキシカルボニル基またはtert
―ブトキシカルボニル基である。
Ｎ―低級アルキルアミノ基またはＮ，Ｎ―ジ低
級アルキルアミノ基は例えばメチルアミノ基、エ
チルアミノ基、ジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基である。
級アルキルアミノ基は例えばメチルアミノ基、エ
チルアミノ基、ジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基である。
場合によつては不飽和のＮ，Ｎ―低級アルキル
アミノ基はとりわけ環員数５〜７であり、特にピ
ロリジノ基またはピペリジノ基、さらに１―ピリ
ル基、であり、一方Ｎ，Ｎ―アザ低級アルキレン
アミノ基、Ｎ，Ｎ―オキサ低級アルキレンアミノ
基およびＮ，Ｎ―チア低級アルキレンアミノ基は
とりわけ環員数６であり、第２の環ヘテロ原子は
結合窒素原子から炭素原子２個で分離され、Ｎ，
Ｎ―アザ低級アルキレンアミノ基においては場合
によつては例えば低級アルキル基によつて置換さ
れていて、そのような基は例えば４―メチル―１
―ピペリジノ基、４―モルホリノ基または４―チ
オモルホリノ基である。
アミノ基はとりわけ環員数５〜７であり、特にピ
ロリジノ基またはピペリジノ基、さらに１―ピリ
ル基、であり、一方Ｎ，Ｎ―アザ低級アルキレン
アミノ基、Ｎ，Ｎ―オキサ低級アルキレンアミノ
基およびＮ，Ｎ―チア低級アルキレンアミノ基は
とりわけ環員数６であり、第２の環ヘテロ原子は
結合窒素原子から炭素原子２個で分離され、Ｎ，
Ｎ―アザ低級アルキレンアミノ基においては場合
によつては例えば低級アルキル基によつて置換さ
れていて、そのような基は例えば４―メチル―１
―ピペリジノ基、４―モルホリノ基または４―チ
オモルホリノ基である。
フエニル低級アルキル基は例えばベンジル基あ
るいは１―または２―フエネチル基である。
るいは１―または２―フエネチル基である。
ピリジルオキシ基は例えば２―ピリジルオキシ
基、３―ピリジルオキシ基または４―ピリジルオ
キシ基である。
基、３―ピリジルオキシ基または４―ピリジルオ
キシ基である。
置換基として、とりわけ場合によつてはＮ―低
級アルキル化されているカルバモイル基を含有し
ているフエニルオキシ低級アルキル基およびピリ
ジルオキシ―低級アルキル基R1においては酸素
原子と、窒素原子に結合する結合炭素原子とはと
りわけ炭素原子少くとも２個例えば２または３個
で互に分離されている。そのような置換基は特に
２―（場合によつてはＮ―低級アルキル化されて
いるカルバモイル―フエニルオキシ）―低級アル
キル基例えば２―（２―カルバモイルフエノキ
シ）―エチル、２―（４―カルバモイルフエノオ
キシ）―エチル基、２―（２―Ｎ―メチルカルバ
モイル―フエノキシ）―エチル基または２―（４
―Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイル―フエノキシ）
―エチル基、さらに２―（場合によつてはＮ―ア
ルキル化されているカルバモイル―ピリジルオキ
シ）―低級アルキル基例えば２―（４―カルバモ
イル―２―ピリジルオキシ）―エチル基、２―
（２―カルバモイル―４―ピリジルオキシ）―エ
チル基または２―（３―カルバモイル―２―ピリ
ジルオキシ）―エチル基である。
級アルキル化されているカルバモイル基を含有し
ているフエニルオキシ低級アルキル基およびピリ
ジルオキシ―低級アルキル基R1においては酸素
原子と、窒素原子に結合する結合炭素原子とはと
りわけ炭素原子少くとも２個例えば２または３個
で互に分離されている。そのような置換基は特に
２―（場合によつてはＮ―低級アルキル化されて
いるカルバモイル―フエニルオキシ）―低級アル
キル基例えば２―（２―カルバモイルフエノキ
シ）―エチル、２―（４―カルバモイルフエノオ
キシ）―エチル基、２―（２―Ｎ―メチルカルバ
モイル―フエノキシ）―エチル基または２―（４
―Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイル―フエノキシ）
―エチル基、さらに２―（場合によつてはＮ―ア
ルキル化されているカルバモイル―ピリジルオキ
シ）―低級アルキル基例えば２―（４―カルバモ
イル―２―ピリジルオキシ）―エチル基、２―
（２―カルバモイル―４―ピリジルオキシ）―エ
チル基または２―（３―カルバモイル―２―ピリ
ジルオキシ）―エチル基である。
低級アルコキシカルボニル―低級アルキル基は
例えば低級アルコキシカルボニルメチル基または
１―低級アルコキシカルボニル―２―プロピル基
例えばメトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、１―メトキシカルボニル―２
―プロピル基または１―エトキシカルボニル―２
―プロピル基である。
例えば低級アルコキシカルボニルメチル基または
１―低級アルコキシカルボニル―２―プロピル基
例えばメトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、１―メトキシカルボニル―２
―プロピル基または１―エトキシカルボニル―２
―プロピル基である。
場合によればＮ―低級アルキル化されているカ
ルバモイル―低級アルキル基は第１にカルバモイ
ルメチル基、さらにＮ―低級アルキルカルバモイ
ル―メチル基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキルカル
バモイル―メチル基、例えばＮ―メチルカルバモ
イルメチル基、Ｎ―エチルカルバモイルメチル
基、Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイルメチル基また
はＮ，Ｎ―ジエチルカルバモイルメチルならびに
１―カルバモイル―２―プロピル基さらに１―Ｎ
―低級アルキル―カルバモイル―２―プロピル基
または１―Ｎ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモイ
ル―２―プロピル基例えば１―Ｎ―メチルカルバ
モイル―２―プロピル基、１―Ｎ―エチルカルバ
モイル―２―プロピル基、１―Ｎ，Ｎ―ジメチル
カルバモイル―２―プロピル基または１―Ｎ，Ｎ
―ジエチルカルバモイル―２―プロピル基であ
る。
ルバモイル―低級アルキル基は第１にカルバモイ
ルメチル基、さらにＮ―低級アルキルカルバモイ
ル―メチル基またはＮ，Ｎ―ジ低級アルキルカル
バモイル―メチル基、例えばＮ―メチルカルバモ
イルメチル基、Ｎ―エチルカルバモイルメチル
基、Ｎ，Ｎ―ジメチルカルバモイルメチル基また
はＮ，Ｎ―ジエチルカルバモイルメチルならびに
１―カルバモイル―２―プロピル基さらに１―Ｎ
―低級アルキル―カルバモイル―２―プロピル基
または１―Ｎ，Ｎ―ジ低級アルキル―カルバモイ
ル―２―プロピル基例えば１―Ｎ―メチルカルバ
モイル―２―プロピル基、１―Ｎ―エチルカルバ
モイル―２―プロピル基、１―Ｎ，Ｎ―ジメチル
カルバモイル―２―プロピル基または１―Ｎ，Ｎ
―ジエチルカルバモイル―２―プロピル基であ
る。
シアノ―低級アルキル基は例えばシアノメチル
基または１―シアノ―２―プロピル基である。
基または１―シアノ―２―プロピル基である。
とりわけ、式（）で表わされる化合物におい
ては基Ar1は好ましくは好ましくはナフチル基例
えば１―ナフチル基、５，６，７，８―テトラヒ
ドロナフチル基例えば１―（５，６，７，８―テ
トラヒドロ―６，７―ジヒドロキシ）―ナフチル
基、フルオレニル基例えば４―フルオレニル基、
９，10―エタノール―９，10―ジヒドロ―アント
リル基例えば９，10―ジヒドロ―１―アントリル
基、インドリル基例えば４―インドリル基、2H
―チオクロメニル基例えば2H―８―チオクロメ
ニル基、低級アルキル―フエニル基例えばメチル
―フエニル基例えば２―または３―メチル―フエ
ニル基、ハロゲノ―低級アルキル―フエニル基例
えばクロル―メチル―フエニル基例えば２―クロ
ル―５―メチル―フエニル基、低級アルケニル―
フエニル基例えばアリルフエニル基例えば２―ア
リルフエニル基、低級アルキニルフエニル基例え
ばエチニル―フエニル基例えば２―エチニル―フ
エニル基、シクロアルキルフエニル基例えば２―
シクロプロピル―フエニル基または２―シクロペ
ンチル―フエニル基、ヒドロキシフエニル基例え
ば４―ヒドロキシフエニル基、アセトキシ―トリ
メチルフエニル基例えば４―アセトキシ―２，
３，５―トリメチル―フエニル基、ヒドロキシ低
級アルキル―フエニル基例えば２―ヒドロキシメ
チル―フエニル基、低級アルコキシ低級アルキル
―フエニル基例えば低級アルコキシメチルフエニ
ル基または（２―低級アルコキシ―エチル）―フ
エニル基例えば２―メトキシメチル―フエニル基
または４―（２―メトキシエチル）フエニル基、
カルバモイル低級アルキル―フエニル基例えばカ
ルバモイルメチル―フエニル基、低級アルコキシ
カルボニルアミノ低級アルキル―フエニル基例え
ば（２―低級アルコキシカルボニルアミノ―エチ
ル）―フエニル基例えば４―（２―メトキシカル
ボニルアミノ―エチル）―フエニル基、ハロゲノ
―低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル
―ピリジル基例えば３―クロル―５―（２―メト
キシカルボニルアミノ低級アルキル）―ピリジル
基例えば３―クロル―５―（２―メトキシカルボ
ニルアミノ―エチル）２―ピリジル基、低級アル
コキシカルボニルアミノ低級アルケニル―フエニ
ル基、特に（２―低級アルコキシカルボニルアミ
ノ―ビニル）―フエニル基例えば４―（２―メト
キシカルボニルアミノ―ビニル）―フエニル基、
低級アルコキシ―フエニル基例えばメトキシフエ
ニル基例えば２―メトキシ―フエニル基、フエニ
ル低級アルコキシ―フエニル基例えばベンジルオ
キシ―フエニル基例えば４―ベンジルオキシフエ
ニル基、低級アルケニルオキシ―フエニル基例え
ばアリルオキシ―フエニル基例えば２―アリルオ
キシ―フエニル基またはメタリルオキシ―フエニ
ル基例えば２―（２―メタリルオキシ）―フエニ
ル基、低級アルキニルオキシ―フエニル基例えば
プロパルギルオキシ―フエニル基例えば２―プロ
パルギルオキシ―フエニル基、硫黄原子が酸素原
子と炭素原子２または３個で分離されている低級
アルキルチオ―低級アルコキシ―フエニル基例え
ば（２―低級アルキルチオ―エトキシ）―フエニ
ル基例えば４―（２―メチルチオ―エトキシ）―
フエニル基、低級アルキルチオ―フエニル基例え
ばメチルチオ―フエニル基例えば２―メチルチオ
―フエニル基、ハロゲノ―フエニル基例えばクロ
ル―フエニル基例えば２―クロル―フエニル基、
低級アルカノイル―低級アルカノイルアミノ―フ
エニル基例えば２―アセチル―４―ｎ―ブチリル
アミノ―フエニル基、シアノ―フエニル基例えば
２―シアノ―フエニル基、低級アルカノイルアミ
ノ―フエニル基例えばアセチルアミノ―フエニル
基例えば４―アセチルアミノ―フエニル基、ウレ
イド―フエニル基例えば４―（N′―メチルウレ
イド）―フエニル基または４―（N′―シクロア
ルキルウレイド）―フエニル基例えば４―
（N′―シクロヘキシルウレイド）―フエニル基、
低級アルキルスルホニルアミノ―フエニル基例え
ば４―メチルスルホニルアミノ―フエニル基、
（１―ピリル）―フエニル基例えば２―（１―ピ
リル）―フエニル基、モルホリノチアジアゾリル
基例えば４―モルホリノ―１，２，５―チアジア
ゾール―３―イル基、オキソ―５，６，７，８―
テトラヒドロ―ベンゾ―ナフチル基例えば５―オ
キソ―５，６，７，８―テトラヒドロ―１―ナフ
チル基またはオキソ―１，２，３，４―テトラヒ
ドロ―ベンゾ―キノリニル基例えば２―オキソ―
１，２，３，４―テトラヒドロ―５―キノリニル
基、ピリジル基例えば２―ピリジル基、シアノ―
ピリジル基例えば３―シアノ―２―ピリジル基、
低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキルピ
リジル基例えば５―（エトキシカルボニルアミノ
エチル）―２―ピリジル基、ハロゲノピリジル基
例えばクロル―ピリジル基例えば３―クロル―２
―ピリジル基、低級アルコキシピリジル基例えば
エトキシ―ピリジル基例えば３―エトキシ―２―
ピリジル基、ピラジニル基例えば―２―ピラジニ
ル基、低級アルキルチオ―ピラジニル基例えば３
―エチルチオ―２―ピラジニル基またはピリミジ
ニル基例えば２―ピリミジニル基、さらに場合に
よつてはＮ―低級アルキル置換されているベンゾ
イミダゾリル基例えば４―ベンゾイミダゾリル基
あるいは１―低級アルキル―ベンゾイミダゾール
―４―イル基例えば１―メチル―ベンゾイミダゾ
ール―４―イル基、２，３―ジヒドロ―３―オキ
ソ―4H―ベンゾ〔５，６〕オキサジニル基例え
ば２，３―ジヒドロ―３―オキソ―4H―ベンゾ
〔５，６〕オキサジン―８―イル基、4H―１，３
―ベンゾオキサジン―２（1H）―オン―イル基、
例えば７―（4H―１，３―ベンゾ―オキサジン
―２（1H）―オン）―イル基、２―（3H）―ベ
ンゾオキサゾロニル基例えば７―（２―（3H）
―ベンゾオキサゾロン）―イル基、３，４―ジヒ
ドロ―1H―キナゾリン―２―オン―イル基例え
ば５―（３，４―ジヒドロ―1H―キナゾリン―
２―オン）―イル基、テトラヒドロフルフリルオ
キシ―フエニル基例えば２―テトラヒドロフルフ
リルオキシ―フエニル基であり、R1は第１に低
級アルキル基、特に結合炭素原子のところで分枝
している低級アルキル基例えばイソプロピル基ま
たはtert―ブチル基、さらにカルバモイルフエノ
キシ―低級アルキル基例えば２―（カルバモイル
フエノキシ―低級アルキル基例えば２―（４―カ
ルバモイルフエノキシ）―エチル基である。
ては基Ar1は好ましくは好ましくはナフチル基例
えば１―ナフチル基、５，６，７，８―テトラヒ
ドロナフチル基例えば１―（５，６，７，８―テ
トラヒドロ―６，７―ジヒドロキシ）―ナフチル
基、フルオレニル基例えば４―フルオレニル基、
９，10―エタノール―９，10―ジヒドロ―アント
リル基例えば９，10―ジヒドロ―１―アントリル
基、インドリル基例えば４―インドリル基、2H
―チオクロメニル基例えば2H―８―チオクロメ
ニル基、低級アルキル―フエニル基例えばメチル
―フエニル基例えば２―または３―メチル―フエ
ニル基、ハロゲノ―低級アルキル―フエニル基例
えばクロル―メチル―フエニル基例えば２―クロ
ル―５―メチル―フエニル基、低級アルケニル―
フエニル基例えばアリルフエニル基例えば２―ア
リルフエニル基、低級アルキニルフエニル基例え
ばエチニル―フエニル基例えば２―エチニル―フ
エニル基、シクロアルキルフエニル基例えば２―
シクロプロピル―フエニル基または２―シクロペ
ンチル―フエニル基、ヒドロキシフエニル基例え
ば４―ヒドロキシフエニル基、アセトキシ―トリ
メチルフエニル基例えば４―アセトキシ―２，
３，５―トリメチル―フエニル基、ヒドロキシ低
級アルキル―フエニル基例えば２―ヒドロキシメ
チル―フエニル基、低級アルコキシ低級アルキル
―フエニル基例えば低級アルコキシメチルフエニ
ル基または（２―低級アルコキシ―エチル）―フ
エニル基例えば２―メトキシメチル―フエニル基
または４―（２―メトキシエチル）フエニル基、
カルバモイル低級アルキル―フエニル基例えばカ
ルバモイルメチル―フエニル基、低級アルコキシ
カルボニルアミノ低級アルキル―フエニル基例え
ば（２―低級アルコキシカルボニルアミノ―エチ
ル）―フエニル基例えば４―（２―メトキシカル
ボニルアミノ―エチル）―フエニル基、ハロゲノ
―低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル
―ピリジル基例えば３―クロル―５―（２―メト
キシカルボニルアミノ低級アルキル）―ピリジル
基例えば３―クロル―５―（２―メトキシカルボ
ニルアミノ―エチル）２―ピリジル基、低級アル
コキシカルボニルアミノ低級アルケニル―フエニ
ル基、特に（２―低級アルコキシカルボニルアミ
ノ―ビニル）―フエニル基例えば４―（２―メト
キシカルボニルアミノ―ビニル）―フエニル基、
低級アルコキシ―フエニル基例えばメトキシフエ
ニル基例えば２―メトキシ―フエニル基、フエニ
ル低級アルコキシ―フエニル基例えばベンジルオ
キシ―フエニル基例えば４―ベンジルオキシフエ
ニル基、低級アルケニルオキシ―フエニル基例え
ばアリルオキシ―フエニル基例えば２―アリルオ
キシ―フエニル基またはメタリルオキシ―フエニ
ル基例えば２―（２―メタリルオキシ）―フエニ
ル基、低級アルキニルオキシ―フエニル基例えば
プロパルギルオキシ―フエニル基例えば２―プロ
パルギルオキシ―フエニル基、硫黄原子が酸素原
子と炭素原子２または３個で分離されている低級
アルキルチオ―低級アルコキシ―フエニル基例え
ば（２―低級アルキルチオ―エトキシ）―フエニ
ル基例えば４―（２―メチルチオ―エトキシ）―
フエニル基、低級アルキルチオ―フエニル基例え
ばメチルチオ―フエニル基例えば２―メチルチオ
―フエニル基、ハロゲノ―フエニル基例えばクロ
ル―フエニル基例えば２―クロル―フエニル基、
低級アルカノイル―低級アルカノイルアミノ―フ
エニル基例えば２―アセチル―４―ｎ―ブチリル
アミノ―フエニル基、シアノ―フエニル基例えば
２―シアノ―フエニル基、低級アルカノイルアミ
ノ―フエニル基例えばアセチルアミノ―フエニル
基例えば４―アセチルアミノ―フエニル基、ウレ
イド―フエニル基例えば４―（N′―メチルウレ
イド）―フエニル基または４―（N′―シクロア
ルキルウレイド）―フエニル基例えば４―
（N′―シクロヘキシルウレイド）―フエニル基、
低級アルキルスルホニルアミノ―フエニル基例え
ば４―メチルスルホニルアミノ―フエニル基、
（１―ピリル）―フエニル基例えば２―（１―ピ
リル）―フエニル基、モルホリノチアジアゾリル
基例えば４―モルホリノ―１，２，５―チアジア
ゾール―３―イル基、オキソ―５，６，７，８―
テトラヒドロ―ベンゾ―ナフチル基例えば５―オ
キソ―５，６，７，８―テトラヒドロ―１―ナフ
チル基またはオキソ―１，２，３，４―テトラヒ
ドロ―ベンゾ―キノリニル基例えば２―オキソ―
１，２，３，４―テトラヒドロ―５―キノリニル
基、ピリジル基例えば２―ピリジル基、シアノ―
ピリジル基例えば３―シアノ―２―ピリジル基、
低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキルピ
リジル基例えば５―（エトキシカルボニルアミノ
エチル）―２―ピリジル基、ハロゲノピリジル基
例えばクロル―ピリジル基例えば３―クロル―２
―ピリジル基、低級アルコキシピリジル基例えば
エトキシ―ピリジル基例えば３―エトキシ―２―
ピリジル基、ピラジニル基例えば―２―ピラジニ
ル基、低級アルキルチオ―ピラジニル基例えば３
―エチルチオ―２―ピラジニル基またはピリミジ
ニル基例えば２―ピリミジニル基、さらに場合に
よつてはＮ―低級アルキル置換されているベンゾ
イミダゾリル基例えば４―ベンゾイミダゾリル基
あるいは１―低級アルキル―ベンゾイミダゾール
―４―イル基例えば１―メチル―ベンゾイミダゾ
ール―４―イル基、２，３―ジヒドロ―３―オキ
ソ―4H―ベンゾ〔５，６〕オキサジニル基例え
ば２，３―ジヒドロ―３―オキソ―4H―ベンゾ
〔５，６〕オキサジン―８―イル基、4H―１，３
―ベンゾオキサジン―２（1H）―オン―イル基、
例えば７―（4H―１，３―ベンゾ―オキサジン
―２（1H）―オン）―イル基、２―（3H）―ベ
ンゾオキサゾロニル基例えば７―（２―（3H）
―ベンゾオキサゾロン）―イル基、３，４―ジヒ
ドロ―1H―キナゾリン―２―オン―イル基例え
ば５―（３，４―ジヒドロ―1H―キナゾリン―
２―オン）―イル基、テトラヒドロフルフリルオ
キシ―フエニル基例えば２―テトラヒドロフルフ
リルオキシ―フエニル基であり、R1は第１に低
級アルキル基、特に結合炭素原子のところで分枝
している低級アルキル基例えばイソプロピル基ま
たはtert―ブチル基、さらにカルバモイルフエノ
キシ―低級アルキル基例えば２―（カルバモイル
フエノキシ―低級アルキル基例えば２―（４―カ
ルバモイルフエノキシ）―エチル基である。
前記の式（）で表わされる化合物は第１に低
級アルキル基R1が結合炭素原子のところで分枝
している次の化合物である。１―（ナフチルオキ
シ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノー
ル例えば３―イソプロピルアミノ―１―（１―ナ
フチルオキシ）―２―プロパノール、１―（６，
７―ジヒドロキシ―５，６，７，８―テトラヒド
ロ―１―ナフチルオキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば３―tert―ブチル
アミノ―１―（６，７―ジヒドロキシ―５，６，
７，８―テトラヒドロ―１―ナフチルオキシ）―
２―プロパノール、１―（ベンゾ―フルオレニル
オキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパ
ノール例えば１―（４―フルオレニルオキシ）―
３―イソプロピルアミノ―２―プロパノールまた
は３―tert―ブチルアミノ―１―（４―フルオレ
ニルオキシ）―２―プロパノール、１―（９，10
―エタノ―９，10―ジヒドロ―ベンゾ―アントリ
ルオキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロ
パノール例えば１―（９，10―エタノ―９，10―
ジヒドロ―１―アントリルオキシ）―３―イソプ
ロピルアミノ―２―プロパノール、１―（ベンゾ
―インドリルオキシ）―３―低級アルキルアミノ
―２―プロパノール例えば１―（４―インドリル
オキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパ
ノール、３―低級アルキルアミノ―１―（2H―
ベンゾ―チオクロメニルオキシ）―２―プロパノ
ール例えば３―tert―ブチルアミノ―１―（2H
―８―チオクロメニルオキシ）―２―プロパノー
ル、フエニル基がさらにハロゲン原子で置換され
ていることができる３―低級アルキルアミノ―１
―（低級アルキルフエノキシ）―２―プロパノー
ル例えば３―イソプロピルアミノ―１―（３―メ
チル―フエノキシ）―２―プロパノール、１―
（２―クロル―５―メチル―フエノキシ―３―イ
ソプロピルアミノ）―２―プロパノールまたは３
―tert―ブチルアミノ―１―（２―クロル―５―
メチル―フエノキシ）―２―プロパノール、３―
（カルバモイルフエノキシ低級アルキルアミノ）
―１―（低級アルキルフエノキシ）―２―プロパ
ノール例えば３―〔２―（４―カルバモイルフエ
ノキシ）―エチルアミノ〕―１―（２―メチル―
フエノキシ）―２―プロパノール、１―（低級ア
ルケニル―フエノキシ）―３―低級アルキルアミ
ノ―２―プロパノール例えば１―（２―アリルフ
エノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール、１―（低級アルキニルフエノキシ）―
３―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例え
ば１―（２―エチニル―フエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール、１―（シク
ロアルキル―フエノキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば１―（２―シクロ
プロピル―フエノキシ）―３―イソプロピルアミ
ノ―２―プロパノールまたは３―tert―ブチルア
ミノ―１―（２―シクロペンチル―フエノキシ）
―２―プロパノール、１―（ヒドロキシ―フエノ
キシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノ
ール例えば１―（４―ヒドロキシ―フエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、
１―（ヒドロキシ低級アルキル―フエノキシ）―
３―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例え
ば１―（２―ヒドロキシメチル―フエノキシ）―
３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、１
―アセトキシ―トリメチルフエノキシ―３―低級
アルキルアミノ―２―プロパノール例えば１―
（４―アセトキシ―２，３，５―トリメチルフエ
ノオキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール、１―（低級アルコキシ低級アルキルフ
エノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロ
パノール例えば３―イソプロピルアミノ―１―
（２―メトキシメチル―フエノキシ）―２―プロ
パノール、３―tert―ブチルアミノ―１―（２―
メトキシメチルフエノキシ）―２―プロパノール
または３―イソプロピルアミノ―１―〔４―（２
―メトキシエチル）―フエノキシ〕―２―プロパ
ノール、１―（カルバモイル低級アルキル―フエ
ノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパ
ノール例えば１―（４―カルバモイルメチル―フ
エノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール、１―（低級アルコキシカルボニルアミ
ノ低級アルキル―フエノキシ）―３―低級アルキ
ルアミノ―２―プロパノール例えば３―イソプロ
ピルアミノ―１―〔４―（２―メトキシカルボニ
ルアミノ―エチル）―フエノキシ〕―２―プロパ
ノール、１―（ハロゲノ―低級アルコキシカルボ
ニルアミノ低級アルキル―ピリジルオキシ）―３
―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例えば
１―〔３―クロル―４―（２―メトキシカルボニ
ルアミノ―エチル）―２―ピリジルオキシ〕―３
―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、１―
（低級アルコキシカルボニルアミノ―ビニル―フ
エノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロ
パノール例えば３―イソプロピルアミノ―１―
〔４―（２―メトキシカルボニルアミノ―ビニル）
―フエノキシ〕―２―プロパノール、１―（フエ
ニル低級アルコキシ―フエノキシ）―３―低級ア
ルキルアミノ―２―プロパノール例えば１―（４
―ベンジルオキシ―フエノキシ）―３―イソプロ
ピルアミノ―２―プロパノール、１―（低級アル
コキシ―フエノキシ）―３―低級アルキルアミノ
―２―プロパノール例えば３―イソプロピルアミ
ノ―１―（２―メトキシ―フエノキシ）―２―プ
ロパノール、１―（低級アルケニルオキシ―フエ
ノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパ
ノール例えば１―（２―アリルオキシフエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ル、１―（２―アリルオキシ―フエノキシ）―３
―tert―ブチルアミノ―２―プロパノールまたは
３―イソプロピルアミノ―１―（２―メタリルオ
キシ―フエノキシ）―２―プロパノール、１―
（低級アルキニルオキシ―フエノキシ）―３―低
級アルキルアミノ―２―プロパノール例えば３―
イソプロピルアミノ―１―（２―プロパルギルオ
キシ―フエノキシ）―２―プロパノール、硫黄原
子が酸素原子から炭素原子２〜３個で分離されて
いる３―低級アルキルアミノ―１―（低級アルキ
ルチオ低級アルコキシ―フエノキシ）―２―プロ
パノール例えば３―イソプロピルアミノ―１―
〔４―（２―メチルチオエトキシ）―フエノキシ〕
―２―プロパノール、１―（ハロゲノ―フエノキ
シ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノー
ル例えば３―tert―ブチルアミノ―１―（２―ク
ロル―フエノキシ）―２―プロパノール、１―
（低級アルキルチオ―フエノキシ）―３―低級ア
ルキルアミノ―２―プロパノール例えば３―イソ
プロピルアミノ―１―（２―メチルチオ―フエノ
キシ）―２―プロパノール、１―（低級アルカノ
イルアミノ―フエノキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば１―（２―アセチ
ル―４―ｎ―ブチリルアミノ―フエノキシ）―３
―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、１―
（シアノ―フエノキシ）―３―低級アルキルアミ
ノ―２―プロパノール例えば３―tert―ブチルア
ミノ―１―（２―シアノ―フエノキシ）―２―プ
ロパノールまたは１―（２―シアノ―フエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ル、１―（低級アルカノイルアミノ―フエノキ
シ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノー
ル例えば１―（４―アセチルアミノ―フエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ル、１―（N′―低級アルキル―ウレイド―Ｎ―
フエノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プ
ロパノール例えば１―（N′―メチル―ウレイド
―Ｎ―フエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―
２―プロパノール、１―（N′―シクロアルキル
―ウレイド―フエノキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば１―（N′―シク
ロヘキシル―ウレイド―フエノキシ）―３―tert
―ブチルアミノ―２―プロパノール、３―低級ア
ルキルアミノ―１―（低級アルキルスルホニルア
ミノ―フエノキシ）―２―プロパノール例えば３
―イソプロピルアミノ―１―（４―メチルスルホ
ニルアミノ―フエノキシ）―２―プロパノール、
３―低級アルキルアミノ―１―（１―ピリル）―
フエノキシ―２―プロパノール例えば３―イソプ
ロピルアミノ―１―〔２―（１―ピリル）〕―フ
エノキシ―２―プロパノール、１―（モルホリノ
―チアジアゾリルオキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば３―イソプロピル
アミノ―１―（４―モルホリノ―１，２，５―チ
アジアゾール―３―イルオキシ）―２―プロパノ
ール、３―低級アルキルアミノ―１―（オキソ―
５，６，７，８―テトラヒドロ―ベンゾ―ナフチ
ルオキシ）―２―プロパノール例えば３―tert―
ブチル―１―（５―オキソ―５，６，７，８―テ
トラヒドロ―１―ナフチルオキシ）―２―プロパ
ノールまたは３―低級アルキルアミノ―１―（オ
キソ―１，２，３，４―テトラヒドロ―ベンゾ―
キノリニルオキシ）―２―プロパノール例えば３
―イソプロピルアミノ―１―（２―オキソ―１，
２，３，４―テトラヒドロ―５―キノリニルオキ
シ）―２―プロパノールまたは３―tert―ブチル
アミノ―１―（２―オキソ―１，２，３，４―テ
トラヒドロ―５―キノリニルオキシ）―２―プロ
パノール、３―低級アルキルアミノ―１―（２―
ピラジニルオキシ）―２―プロパノール例えば３
―イソプロピルアミノ―１―（２―ピラジニルオ
キシ）―２―プロパノール、３―低級アルキルア
ミノ―１―（３―低級アルキルチオ―２―ピラジ
ニルオキシ）―２―プロパノール例えば３―tert
―ブチルアミノ―１―（３―エチルチオ―２―ピ
ラジニルオキシ）―２―プロパノール、３―低級
アルキルアミノ―１―（２―ピリミジニルオキ
シ）―２―プロパノール例えば３―イソプロピル
アミノ―１―（２―ピリミジニルオキシ）―２―
プロパノール、（３―低級アルキルアミノ―２―
ヒドロキシ―プロポキシ）―ベンゾイミダゾール
―２―オン例えば４―（３―tert―ブチルアミノ
―２―ヒドロキシ―プロポキシ）―ベンゾイミダ
ゾール―２―オン、４―〔３―（ヒドロキシフエ
ノキシ）―アルキルアミノ〕―２―ヒドロキシ―
プロポキシ〕―ベンゾイミダゾール―２―オン例
えば４―〔３―〔２―（４―ヒドロキシフエノキ
シ）―エチルアミノ〕―２―ヒドロキシ―プロポ
キシ〕―ベンゾイミダゾール―２―オン、（３―
低級アルキルアミノ―２―ヒドロキシ―プロポキ
シ）―２，３―ジヒドロ―（4H）―ベンゾ〔５，
６〕オキサジン―３―オン例えば８―（３―tert
―ブチルアミノ―２―ヒドロキシ―プロポキシ）
―２，３―ジヒドロ―4H―ベンゾ〔５，６〕オ
キサジン―３―オン、（３―低級アルキルアミノ
―２―ヒドロキシ―プロポキシ）―３，４―ジヒ
ドロ―1H―キナゾリン―２―オン例えば５―
（３―tert―ブチルアミノ―２―ヒドロキシ―プ
ロポキシ）―３，４―ジヒドロ―1H―キナゾリ
ン―２―オン、（３―低級アルキルアミノ―２―
ヒドロキシ―プロポキシ）―２（3H）―ベンゾオ
キサゾロン例えば７―（３―tert―ブチルアミノ
―２―ヒドロキシ―プロポキシ）―２（3H）―ベ
ンゾオキサゾロン、（３―低級アルキルアミノ―
２―ヒドロキシ―プロポキシ）―4H―１，３―
ベンゾオキサジン―２（1H）―オン例えば７―
（３―tert―ブチルアミノ―２―ヒドロキシ―プ
ロポキシ）―4H―１，３―ベンゾオキサジン―
２（1H）―オン、３―低級アルキルアミノ―１―
〔２―（テトラヒドロフルフリルオキシ）―フエ
ノキシ〕―２―プロパノール、例えば３―tert―
ブチルアミノ―１―〔２―（テトラヒドロフルフ
リルオキシ）―フエノキシ〕―２―プロパノー
ル、１―（シアノ―ピリジルオキシ）―３―低級
アルキルアミノ―２―プロパノール例えば３―
tert―ブチルアミノ―１―（３―シアノ―ピリジ
ル―２―オキシ）―２―プロパノール、１―（ハ
ロゲノ―ピリジルオキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば３―イソプロピル
アミノ―１―（３―クロル―ピリジル―２―オキ
シ）―２―プロパノール、１―（低級アルコキシ
―ピリジルオキシ）―３―低級アルキルアミノ―
２―プロパノール例えば３―tert―ブチルアミノ
―１―（３―エトキシ―ピリジル―２―オキシ）
―２―プロパノール、１―（低級アルコキシカル
ボニルアミノ低級アルキル―ピリジルオキシ）―
３―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例え
ば３―イソプロピルアミノ―１―〔５―（２―エ
トキシカルボニルアミノエチル）―ピリジル―２
―オキシ〕―２―プロパノール、１―（低級アル
コキシカルボニルアミノ低級アルキル―ハロゲノ
―ピリジルオキシ）―３―低級アルキルアミノ―
２―プロパノール例えば３―イソプロピルアミノ
―１―〔５―（２―エトキシカルボニルアミノエ
チル）―３―クロロ―ピリジル―２―オキシ〕―
２―プロパノールならびにこれらの塩。
級アルキル基R1が結合炭素原子のところで分枝
している次の化合物である。１―（ナフチルオキ
シ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノー
ル例えば３―イソプロピルアミノ―１―（１―ナ
フチルオキシ）―２―プロパノール、１―（６，
７―ジヒドロキシ―５，６，７，８―テトラヒド
ロ―１―ナフチルオキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば３―tert―ブチル
アミノ―１―（６，７―ジヒドロキシ―５，６，
７，８―テトラヒドロ―１―ナフチルオキシ）―
２―プロパノール、１―（ベンゾ―フルオレニル
オキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパ
ノール例えば１―（４―フルオレニルオキシ）―
３―イソプロピルアミノ―２―プロパノールまた
は３―tert―ブチルアミノ―１―（４―フルオレ
ニルオキシ）―２―プロパノール、１―（９，10
―エタノ―９，10―ジヒドロ―ベンゾ―アントリ
ルオキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロ
パノール例えば１―（９，10―エタノ―９，10―
ジヒドロ―１―アントリルオキシ）―３―イソプ
ロピルアミノ―２―プロパノール、１―（ベンゾ
―インドリルオキシ）―３―低級アルキルアミノ
―２―プロパノール例えば１―（４―インドリル
オキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパ
ノール、３―低級アルキルアミノ―１―（2H―
ベンゾ―チオクロメニルオキシ）―２―プロパノ
ール例えば３―tert―ブチルアミノ―１―（2H
―８―チオクロメニルオキシ）―２―プロパノー
ル、フエニル基がさらにハロゲン原子で置換され
ていることができる３―低級アルキルアミノ―１
―（低級アルキルフエノキシ）―２―プロパノー
ル例えば３―イソプロピルアミノ―１―（３―メ
チル―フエノキシ）―２―プロパノール、１―
（２―クロル―５―メチル―フエノキシ―３―イ
ソプロピルアミノ）―２―プロパノールまたは３
―tert―ブチルアミノ―１―（２―クロル―５―
メチル―フエノキシ）―２―プロパノール、３―
（カルバモイルフエノキシ低級アルキルアミノ）
―１―（低級アルキルフエノキシ）―２―プロパ
ノール例えば３―〔２―（４―カルバモイルフエ
ノキシ）―エチルアミノ〕―１―（２―メチル―
フエノキシ）―２―プロパノール、１―（低級ア
ルケニル―フエノキシ）―３―低級アルキルアミ
ノ―２―プロパノール例えば１―（２―アリルフ
エノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール、１―（低級アルキニルフエノキシ）―
３―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例え
ば１―（２―エチニル―フエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール、１―（シク
ロアルキル―フエノキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば１―（２―シクロ
プロピル―フエノキシ）―３―イソプロピルアミ
ノ―２―プロパノールまたは３―tert―ブチルア
ミノ―１―（２―シクロペンチル―フエノキシ）
―２―プロパノール、１―（ヒドロキシ―フエノ
キシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノ
ール例えば１―（４―ヒドロキシ―フエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、
１―（ヒドロキシ低級アルキル―フエノキシ）―
３―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例え
ば１―（２―ヒドロキシメチル―フエノキシ）―
３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、１
―アセトキシ―トリメチルフエノキシ―３―低級
アルキルアミノ―２―プロパノール例えば１―
（４―アセトキシ―２，３，５―トリメチルフエ
ノオキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール、１―（低級アルコキシ低級アルキルフ
エノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロ
パノール例えば３―イソプロピルアミノ―１―
（２―メトキシメチル―フエノキシ）―２―プロ
パノール、３―tert―ブチルアミノ―１―（２―
メトキシメチルフエノキシ）―２―プロパノール
または３―イソプロピルアミノ―１―〔４―（２
―メトキシエチル）―フエノキシ〕―２―プロパ
ノール、１―（カルバモイル低級アルキル―フエ
ノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパ
ノール例えば１―（４―カルバモイルメチル―フ
エノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール、１―（低級アルコキシカルボニルアミ
ノ低級アルキル―フエノキシ）―３―低級アルキ
ルアミノ―２―プロパノール例えば３―イソプロ
ピルアミノ―１―〔４―（２―メトキシカルボニ
ルアミノ―エチル）―フエノキシ〕―２―プロパ
ノール、１―（ハロゲノ―低級アルコキシカルボ
ニルアミノ低級アルキル―ピリジルオキシ）―３
―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例えば
１―〔３―クロル―４―（２―メトキシカルボニ
ルアミノ―エチル）―２―ピリジルオキシ〕―３
―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、１―
（低級アルコキシカルボニルアミノ―ビニル―フ
エノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロ
パノール例えば３―イソプロピルアミノ―１―
〔４―（２―メトキシカルボニルアミノ―ビニル）
―フエノキシ〕―２―プロパノール、１―（フエ
ニル低級アルコキシ―フエノキシ）―３―低級ア
ルキルアミノ―２―プロパノール例えば１―（４
―ベンジルオキシ―フエノキシ）―３―イソプロ
ピルアミノ―２―プロパノール、１―（低級アル
コキシ―フエノキシ）―３―低級アルキルアミノ
―２―プロパノール例えば３―イソプロピルアミ
ノ―１―（２―メトキシ―フエノキシ）―２―プ
ロパノール、１―（低級アルケニルオキシ―フエ
ノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパ
ノール例えば１―（２―アリルオキシフエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ル、１―（２―アリルオキシ―フエノキシ）―３
―tert―ブチルアミノ―２―プロパノールまたは
３―イソプロピルアミノ―１―（２―メタリルオ
キシ―フエノキシ）―２―プロパノール、１―
（低級アルキニルオキシ―フエノキシ）―３―低
級アルキルアミノ―２―プロパノール例えば３―
イソプロピルアミノ―１―（２―プロパルギルオ
キシ―フエノキシ）―２―プロパノール、硫黄原
子が酸素原子から炭素原子２〜３個で分離されて
いる３―低級アルキルアミノ―１―（低級アルキ
ルチオ低級アルコキシ―フエノキシ）―２―プロ
パノール例えば３―イソプロピルアミノ―１―
〔４―（２―メチルチオエトキシ）―フエノキシ〕
―２―プロパノール、１―（ハロゲノ―フエノキ
シ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノー
ル例えば３―tert―ブチルアミノ―１―（２―ク
ロル―フエノキシ）―２―プロパノール、１―
（低級アルキルチオ―フエノキシ）―３―低級ア
ルキルアミノ―２―プロパノール例えば３―イソ
プロピルアミノ―１―（２―メチルチオ―フエノ
キシ）―２―プロパノール、１―（低級アルカノ
イルアミノ―フエノキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば１―（２―アセチ
ル―４―ｎ―ブチリルアミノ―フエノキシ）―３
―イソプロピルアミノ―２―プロパノール、１―
（シアノ―フエノキシ）―３―低級アルキルアミ
ノ―２―プロパノール例えば３―tert―ブチルア
ミノ―１―（２―シアノ―フエノキシ）―２―プ
ロパノールまたは１―（２―シアノ―フエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ル、１―（低級アルカノイルアミノ―フエノキ
シ）―３―低級アルキルアミノ―２―プロパノー
ル例えば１―（４―アセチルアミノ―フエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ル、１―（N′―低級アルキル―ウレイド―Ｎ―
フエノキシ）―３―低級アルキルアミノ―２―プ
ロパノール例えば１―（N′―メチル―ウレイド
―Ｎ―フエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―
２―プロパノール、１―（N′―シクロアルキル
―ウレイド―フエノキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば１―（N′―シク
ロヘキシル―ウレイド―フエノキシ）―３―tert
―ブチルアミノ―２―プロパノール、３―低級ア
ルキルアミノ―１―（低級アルキルスルホニルア
ミノ―フエノキシ）―２―プロパノール例えば３
―イソプロピルアミノ―１―（４―メチルスルホ
ニルアミノ―フエノキシ）―２―プロパノール、
３―低級アルキルアミノ―１―（１―ピリル）―
フエノキシ―２―プロパノール例えば３―イソプ
ロピルアミノ―１―〔２―（１―ピリル）〕―フ
エノキシ―２―プロパノール、１―（モルホリノ
―チアジアゾリルオキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば３―イソプロピル
アミノ―１―（４―モルホリノ―１，２，５―チ
アジアゾール―３―イルオキシ）―２―プロパノ
ール、３―低級アルキルアミノ―１―（オキソ―
５，６，７，８―テトラヒドロ―ベンゾ―ナフチ
ルオキシ）―２―プロパノール例えば３―tert―
ブチル―１―（５―オキソ―５，６，７，８―テ
トラヒドロ―１―ナフチルオキシ）―２―プロパ
ノールまたは３―低級アルキルアミノ―１―（オ
キソ―１，２，３，４―テトラヒドロ―ベンゾ―
キノリニルオキシ）―２―プロパノール例えば３
―イソプロピルアミノ―１―（２―オキソ―１，
２，３，４―テトラヒドロ―５―キノリニルオキ
シ）―２―プロパノールまたは３―tert―ブチル
アミノ―１―（２―オキソ―１，２，３，４―テ
トラヒドロ―５―キノリニルオキシ）―２―プロ
パノール、３―低級アルキルアミノ―１―（２―
ピラジニルオキシ）―２―プロパノール例えば３
―イソプロピルアミノ―１―（２―ピラジニルオ
キシ）―２―プロパノール、３―低級アルキルア
ミノ―１―（３―低級アルキルチオ―２―ピラジ
ニルオキシ）―２―プロパノール例えば３―tert
―ブチルアミノ―１―（３―エチルチオ―２―ピ
ラジニルオキシ）―２―プロパノール、３―低級
アルキルアミノ―１―（２―ピリミジニルオキ
シ）―２―プロパノール例えば３―イソプロピル
アミノ―１―（２―ピリミジニルオキシ）―２―
プロパノール、（３―低級アルキルアミノ―２―
ヒドロキシ―プロポキシ）―ベンゾイミダゾール
―２―オン例えば４―（３―tert―ブチルアミノ
―２―ヒドロキシ―プロポキシ）―ベンゾイミダ
ゾール―２―オン、４―〔３―（ヒドロキシフエ
ノキシ）―アルキルアミノ〕―２―ヒドロキシ―
プロポキシ〕―ベンゾイミダゾール―２―オン例
えば４―〔３―〔２―（４―ヒドロキシフエノキ
シ）―エチルアミノ〕―２―ヒドロキシ―プロポ
キシ〕―ベンゾイミダゾール―２―オン、（３―
低級アルキルアミノ―２―ヒドロキシ―プロポキ
シ）―２，３―ジヒドロ―（4H）―ベンゾ〔５，
６〕オキサジン―３―オン例えば８―（３―tert
―ブチルアミノ―２―ヒドロキシ―プロポキシ）
―２，３―ジヒドロ―4H―ベンゾ〔５，６〕オ
キサジン―３―オン、（３―低級アルキルアミノ
―２―ヒドロキシ―プロポキシ）―３，４―ジヒ
ドロ―1H―キナゾリン―２―オン例えば５―
（３―tert―ブチルアミノ―２―ヒドロキシ―プ
ロポキシ）―３，４―ジヒドロ―1H―キナゾリ
ン―２―オン、（３―低級アルキルアミノ―２―
ヒドロキシ―プロポキシ）―２（3H）―ベンゾオ
キサゾロン例えば７―（３―tert―ブチルアミノ
―２―ヒドロキシ―プロポキシ）―２（3H）―ベ
ンゾオキサゾロン、（３―低級アルキルアミノ―
２―ヒドロキシ―プロポキシ）―4H―１，３―
ベンゾオキサジン―２（1H）―オン例えば７―
（３―tert―ブチルアミノ―２―ヒドロキシ―プ
ロポキシ）―4H―１，３―ベンゾオキサジン―
２（1H）―オン、３―低級アルキルアミノ―１―
〔２―（テトラヒドロフルフリルオキシ）―フエ
ノキシ〕―２―プロパノール、例えば３―tert―
ブチルアミノ―１―〔２―（テトラヒドロフルフ
リルオキシ）―フエノキシ〕―２―プロパノー
ル、１―（シアノ―ピリジルオキシ）―３―低級
アルキルアミノ―２―プロパノール例えば３―
tert―ブチルアミノ―１―（３―シアノ―ピリジ
ル―２―オキシ）―２―プロパノール、１―（ハ
ロゲノ―ピリジルオキシ）―３―低級アルキルア
ミノ―２―プロパノール例えば３―イソプロピル
アミノ―１―（３―クロル―ピリジル―２―オキ
シ）―２―プロパノール、１―（低級アルコキシ
―ピリジルオキシ）―３―低級アルキルアミノ―
２―プロパノール例えば３―tert―ブチルアミノ
―１―（３―エトキシ―ピリジル―２―オキシ）
―２―プロパノール、１―（低級アルコキシカル
ボニルアミノ低級アルキル―ピリジルオキシ）―
３―低級アルキルアミノ―２―プロパノール例え
ば３―イソプロピルアミノ―１―〔５―（２―エ
トキシカルボニルアミノエチル）―ピリジル―２
―オキシ〕―２―プロパノール、１―（低級アル
コキシカルボニルアミノ低級アルキル―ハロゲノ
―ピリジルオキシ）―３―低級アルキルアミノ―
２―プロパノール例えば３―イソプロピルアミノ
―１―〔５―（２―エトキシカルボニルアミノエ
チル）―３―クロロ―ピリジル―２―オキシ〕―
２―プロパノールならびにこれらの塩。
ドイツ特許公開第585164号明細書から光学活性
フエニルアルキルアミンの旋光性の反転法は公知
であり、そこで例えばｄ―ｍ―ヒドロキシフエニ
ルエタノールメチルアミンを無水酢酸と濃硫酸と
共に還流して加熱し、過剰の無水酢酸を蒸発後残
る残渣を希硫酸でヒドロリシスし、そのヒドロリ
シス物から１―ｍ―ヒドロキシフエニルエタノー
ルメチルアミンを単離している。
フエニルアルキルアミンの旋光性の反転法は公知
であり、そこで例えばｄ―ｍ―ヒドロキシフエニ
ルエタノールメチルアミンを無水酢酸と濃硫酸と
共に還流して加熱し、過剰の無水酢酸を蒸発後残
る残渣を希硫酸でヒドロリシスし、そのヒドロリ
シス物から１―ｍ―ヒドロキシフエニルエタノー
ルメチルアミンを単離している。
NagaiとKanao〔Liebig′s Annalen der
Chemie470，157―182（1929）〕とは、特に第160
頁でＮ―ベンゾイル―ノル―ｄ，１―エフエドリ
ンから濃硫酸により閉環の下にオキサゾリンを生
成させ、それを希塩酸と煮沸してヒドロリシスす
ることを記載している。
Chemie470，157―182（1929）〕とは、特に第160
頁でＮ―ベンゾイル―ノル―ｄ，１―エフエドリ
ンから濃硫酸により閉環の下にオキサゾリンを生
成させ、それを希塩酸と煮沸してヒドロリシスす
ることを記載している。
米国特許第2446192号明細書には例えばメチル
―またはエチルエステルの形のＮ―アセチル―ま
たはＮ―ベンゾイル―ｄ，１―アロトレオニンを
塩化チオニルを用いて対応するオキサゾリンに変
換し、これを酸性またはアルカリ性のヒドロリシ
スによつてｄ，１―トレオニンに移行させるｄ，
１―アロトレオニンからｄ，１―トレオニンへの
変換を記載している。塩化チオニルの代りに脱水
ならびに環化作用のある薬剤としては５塩化リ
ン、３塩化リンまたは５酸化リンが引用されてい
るが塩化チオニルが好ましい。
―またはエチルエステルの形のＮ―アセチル―ま
たはＮ―ベンゾイル―ｄ，１―アロトレオニンを
塩化チオニルを用いて対応するオキサゾリンに変
換し、これを酸性またはアルカリ性のヒドロリシ
スによつてｄ，１―トレオニンに移行させるｄ，
１―アロトレオニンからｄ，１―トレオニンへの
変換を記載している。塩化チオニルの代りに脱水
ならびに環化作用のある薬剤としては５塩化リ
ン、３塩化リンまたは５酸化リンが引用されてい
るが塩化チオニルが好ましい。
J.Amer.Chem.Soc.，702297―98（1948）からは
さらにＮ―ベンゾイル―ｄ，１―アロトレオニン
―メチルエステルを塩化チオニルによつて対応す
るオキサゾリン塩酸塩に移行させ、これから希塩
酸を用いるヒドロリシスによつてｄ，１―トレオ
ニンを得ることが公知である。これに続いて、記
載されたオキサゾリン反転が高収率のジアステレ
オマ―α，β―アミノアルコールの逆向きの変換
のために、一般的に適用できる方法であることが
記載されている。前記の方法においては第2N―
アシルアミノアルコールが出発材料として用いら
れ、その場合は窒素原子に存在する水素原子がオ
キサゾリン環形成の際除去される。
さらにＮ―ベンゾイル―ｄ，１―アロトレオニン
―メチルエステルを塩化チオニルによつて対応す
るオキサゾリン塩酸塩に移行させ、これから希塩
酸を用いるヒドロリシスによつてｄ，１―トレオ
ニンを得ることが公知である。これに続いて、記
載されたオキサゾリン反転が高収率のジアステレ
オマ―α，β―アミノアルコールの逆向きの変換
のために、一般的に適用できる方法であることが
記載されている。前記の方法においては第2N―
アシルアミノアルコールが出発材料として用いら
れ、その場合は窒素原子に存在する水素原子がオ
キサゾリン環形成の際除去される。
Chemical Abstracts84，43593x（1976）によれ
ばフエニルエタノールアミンおよびフエノキシエ
タノールアミンの誘導体をハロゲノギ酸エステル
と反応させ、得られるＮ―アルコキシカルボニル
―化合物を塩化チオニルまたは臭化チオニルによ
つて対応するオキサゾリジノンに環化する。それ
からアルカリ性のヒドロリシスまたは水素化リチ
ウムアルミニウムでの還元により出発物質に対応
し、逆の立体配置をもつ化合物を得る。
ばフエニルエタノールアミンおよびフエノキシエ
タノールアミンの誘導体をハロゲノギ酸エステル
と反応させ、得られるＮ―アルコキシカルボニル
―化合物を塩化チオニルまたは臭化チオニルによ
つて対応するオキサゾリジノンに環化する。それ
からアルカリ性のヒドロリシスまたは水素化リチ
ウムアルミニウムでの還元により出発物質に対応
し、逆の立体配置をもつ化合物を得る。
H.K.M¨uller，Ann，599，211―221（1956）は
前記して説明した文献W.H.NagaiとS.Kanaoを
参照し、硫酸の代りに塩化チオニルを適用すると
Ｎ―ベンゾイル―ｄ，１―ノルエフエドリンの転
位を満足すべき収率で達成し、生成する中間生成
物がより容易に鹸化される故にｄ，１―プソイド
エフエドリンの出発材料としてはＮ―アセチル―
ｄ，１―ノルエフエドリンの方がより適している
ことを明らかにした。Ｎ―アセチル誘導体から出
発して対応するオキサゾリンの不安定な前生成
物、２―クロル―２，４―ジメチル―５―フエニ
ル―オキサゾリジン塩酸塩を単離し、その上ｄ，
１―ノルエフエドリンと塩化チオニルとの反応お
よび引つづくＮ―アセチル化によつて、明らかに
異つた性質をもつ異性体ｄ，１―トレオ―１―フ
エニル―１―クロル―２―アセタミド―プロパン
塩酸塩を製造してオキサゾリンの構造を確認し
た。
前記して説明した文献W.H.NagaiとS.Kanaoを
参照し、硫酸の代りに塩化チオニルを適用すると
Ｎ―ベンゾイル―ｄ，１―ノルエフエドリンの転
位を満足すべき収率で達成し、生成する中間生成
物がより容易に鹸化される故にｄ，１―プソイド
エフエドリンの出発材料としてはＮ―アセチル―
ｄ，１―ノルエフエドリンの方がより適している
ことを明らかにした。Ｎ―アセチル誘導体から出
発して対応するオキサゾリンの不安定な前生成
物、２―クロル―２，４―ジメチル―５―フエニ
ル―オキサゾリジン塩酸塩を単離し、その上ｄ，
１―ノルエフエドリンと塩化チオニルとの反応お
よび引つづくＮ―アセチル化によつて、明らかに
異つた性質をもつ異性体ｄ，１―トレオ―１―フ
エニル―１―クロル―２―アセタミド―プロパン
塩酸塩を製造してオキサゾリンの構造を確認し
た。
技術の現在の状態からとりわけＮ―アシル化さ
れている、特にＮ―アセチル化されている第１ア
ミノ基をもつα―アミノアルコールの配置反転に
はＮ―アシル誘導体の塩化チオニルによる、対応
するオキサゾリンへの移行、およびとりわけアル
カリ性のヒドロリシスが使用できる有利な方法で
あることが判明し、他の方法も同様に考えられ
る。
れている、特にＮ―アセチル化されている第１ア
ミノ基をもつα―アミノアルコールの配置反転に
はＮ―アシル誘導体の塩化チオニルによる、対応
するオキサゾリンへの移行、およびとりわけアル
カリ性のヒドロリシスが使用できる有利な方法で
あることが判明し、他の方法も同様に考えられ
る。
これに対し、第２アミノ基をもつα―アミノア
ルコールの配置反転は今まではＮ―アシル化とそ
のＮ―アシル誘導体の、無水酢酸中での濃硫酸と
の煮沸と未知の構造をもつその反応生成物の希硫
酸でのヒドロリシスによつて行われている。この
方法のｄ―プソイドエフエドリンへの適用におい
ては反転生成物の収率が僅に65％であつて、それ
はモノステレオマー化合物において新に分離すべ
きラセミ体約70％のほか反転生成物の収率僅30％
に対応する。その上、第１にＮ―アシル化合物の
オキサゾリンへの変換にはかなり苛酷な反応条件
を要する。他方例えばChemical Reviewa54，
614〜685、特に632と633（1954）およびそこに引
用されている文献から、多くのアリール―アルキ
ルエーテルは従来氷酢酸中での硫酸と１諸の煮沸
において分裂することが公知である。さらに前記
の、NagaiとKanaoとによつて記載された配置反
転の方法の、Ｓ（−）―１―（４―ベンジルオキ
シ―フエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２
―プロパノールでの対応するＲ（＋）―化合物製
造のための適用は本質的にエーテル分裂により非
常に不純にされている生成物になることが見出さ
れた。そのような結果は３―アルキルアミノ―２
―プロパノールのエーテル誘導体への公知の方法
が不満足な結果になることをよく説明する。
ルコールの配置反転は今まではＮ―アシル化とそ
のＮ―アシル誘導体の、無水酢酸中での濃硫酸と
の煮沸と未知の構造をもつその反応生成物の希硫
酸でのヒドロリシスによつて行われている。この
方法のｄ―プソイドエフエドリンへの適用におい
ては反転生成物の収率が僅に65％であつて、それ
はモノステレオマー化合物において新に分離すべ
きラセミ体約70％のほか反転生成物の収率僅30％
に対応する。その上、第１にＮ―アシル化合物の
オキサゾリンへの変換にはかなり苛酷な反応条件
を要する。他方例えばChemical Reviewa54，
614〜685、特に632と633（1954）およびそこに引
用されている文献から、多くのアリール―アルキ
ルエーテルは従来氷酢酸中での硫酸と１諸の煮沸
において分裂することが公知である。さらに前記
の、NagaiとKanaoとによつて記載された配置反
転の方法の、Ｓ（−）―１―（４―ベンジルオキ
シ―フエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２
―プロパノールでの対応するＲ（＋）―化合物製
造のための適用は本質的にエーテル分裂により非
常に不純にされている生成物になることが見出さ
れた。そのような結果は３―アルキルアミノ―２
―プロパノールのエーテル誘導体への公知の方法
が不満足な結果になることをよく説明する。
このことを考慮すれば１―アリールオキシ―３
―第２アミノ―２―プロパノールの型の光学活性
化合物において同様な配置反転を行うことが出来
ると云うことは期待できない。α―第１アミノア
ルコールにおいて緩和な反応条件の下に良好な結
果で行うことができる、Ｎ―アシル誘導体例えば
Ｎ―アセチル化合物の例えば塩化チオニルとの中
間の方法段階としてのオキサゾリン化合物の形成
の反応の反応順序は、オキサゾリンの形成がＮ―
アシル化されている出発物質の窒素原子に水素原
子が欠損しているために可能とは思われない故
に、１―アリールオキシ―３―第２アミノ―２―
プロパノールにおける適用にはなおさら考慮され
るようには思われない。
―第２アミノ―２―プロパノールの型の光学活性
化合物において同様な配置反転を行うことが出来
ると云うことは期待できない。α―第１アミノア
ルコールにおいて緩和な反応条件の下に良好な結
果で行うことができる、Ｎ―アシル誘導体例えば
Ｎ―アセチル化合物の例えば塩化チオニルとの中
間の方法段階としてのオキサゾリン化合物の形成
の反応の反応順序は、オキサゾリンの形成がＮ―
アシル化されている出発物質の窒素原子に水素原
子が欠損しているために可能とは思われない故
に、１―アリールオキシ―３―第２アミノ―２―
プロパノールにおける適用にはなおさら考慮され
るようには思われない。
驚くべきことには式（）で表わされる光学活
性化合物における配置の反転は式 （この式で、R2は単環または多環、炭素環式
または複素環式の基あるいは場合によつては置換
されている脂肪族、脂環式またはアリール置換脂
肪族の炭化水素残基である） で表わされ、Ｒ（＋）―あるいはＳ（−）―配置を
もつ光学活性化合物を、強い酸素原子含有の無機
または有機酸またはそのハロゲン化物での処理に
よつて式 （この式で、Xは強い酸素原子含有の無機ま
たは有機酸の陰イオンあるいはハロゲン原子の陰
イオンである） で表わされる光学活性化合物へ変換し、そうして
得られる、式（）で表わされる化合物を、場合
によつては中間段階として対応する遊離の塩基を
経て、適用した出発材料の配置とは反対の配置を
もつ式（）で表わされる化合物にヒドロリシス
し、所望の場合は式（）で表わされる遊離の化
合物を塩にあるいは得られる塩を遊離の化合物に
移行させて実現できることが発見された。
性化合物における配置の反転は式 （この式で、R2は単環または多環、炭素環式
または複素環式の基あるいは場合によつては置換
されている脂肪族、脂環式またはアリール置換脂
肪族の炭化水素残基である） で表わされ、Ｒ（＋）―あるいはＳ（−）―配置を
もつ光学活性化合物を、強い酸素原子含有の無機
または有機酸またはそのハロゲン化物での処理に
よつて式 （この式で、Xは強い酸素原子含有の無機ま
たは有機酸の陰イオンあるいはハロゲン原子の陰
イオンである） で表わされる光学活性化合物へ変換し、そうして
得られる、式（）で表わされる化合物を、場合
によつては中間段階として対応する遊離の塩基を
経て、適用した出発材料の配置とは反対の配置を
もつ式（）で表わされる化合物にヒドロリシス
し、所望の場合は式（）で表わされる遊離の化
合物を塩にあるいは得られる塩を遊離の化合物に
移行させて実現できることが発見された。
強い酸素原子含有の無機または有機酸としては
例えば濃硫酸またはリン酸あるいは強い有機スル
ホン酸例えば脂肪族スルホン酸例えばメタンスル
ホン酸または芳香族スルホン酸例えば場合によつ
ては置換されているフエニルスルホン酸例えば４
―メチル―、４―ブロム―、４―ニトロ―または
２，４―ジニトロ―フエニルスルホン酸またはナ
フチルスルホン酸例えば１―ナフチルスルホン酸
あるいはそれらの酸ハロゲン化物第１に塩化物ま
たは臭化物例えば塩化チオニル、臭化チオニル、
塩化スルフリル、クロルスルホン酸、３塩化リ
ン、５塩化リン、塩化ホスホリンまたは塩化メタ
ンスルホニルが考えられる。さらに前記の酸ハロ
ゲン化物に対応する混合エステル例えばハロゲン
化低級アルコキシスルホニル例えば塩化メトキシ
スルホニルまたは塩化エトキシスルホニルあるい
はハロゲン化リン酸―低級アルキルエステル例え
ば塩化リン酸ジメチルエステルも適用してもよ
い。
例えば濃硫酸またはリン酸あるいは強い有機スル
ホン酸例えば脂肪族スルホン酸例えばメタンスル
ホン酸または芳香族スルホン酸例えば場合によつ
ては置換されているフエニルスルホン酸例えば４
―メチル―、４―ブロム―、４―ニトロ―または
２，４―ジニトロ―フエニルスルホン酸またはナ
フチルスルホン酸例えば１―ナフチルスルホン酸
あるいはそれらの酸ハロゲン化物第１に塩化物ま
たは臭化物例えば塩化チオニル、臭化チオニル、
塩化スルフリル、クロルスルホン酸、３塩化リ
ン、５塩化リン、塩化ホスホリンまたは塩化メタ
ンスルホニルが考えられる。さらに前記の酸ハロ
ゲン化物に対応する混合エステル例えばハロゲン
化低級アルコキシスルホニル例えば塩化メトキシ
スルホニルまたは塩化エトキシスルホニルあるい
はハロゲン化リン酸―低級アルキルエステル例え
ば塩化リン酸ジメチルエステルも適用してもよ
い。
それに従つて式（）中のXは特に塩素原子
または臭素原子、硫酸、リン酸あるいは強い有機
スルホン酸例えば前記の１つの陰イオンである。
または臭素原子、硫酸、リン酸あるいは強い有機
スルホン酸例えば前記の１つの陰イオンである。
環化縮合は前記の酸を縮合剤として使用する場
合、通常温度範囲約＋50℃〜＋200℃、酸ハロゲ
ン化物適用においては−10℃〜＋70℃、とりわけ
＋10〜＋50℃で行われる。
合、通常温度範囲約＋50℃〜＋200℃、酸ハロゲ
ン化物適用においては−10℃〜＋70℃、とりわけ
＋10〜＋50℃で行われる。
前記のヒドロリシスは酸性または塩基性媒質中
で行われる。適当な酸性の薬剤は例えば水性の酸
例えば水性の鉱酸例えば水性の塩酸、硫酸または
リン酸である。酸性のヒドロリシスは温度範囲0゜
〜120℃、有利には＋10〜＋50℃で行う。塩基性
媒質としては例えば水性のアルカリ溶液例えばア
ルカリ金属またはアルカリ類金属の水酸化物例え
ば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムあるい
はカルシウムまたはマグネシウムの水酸化物が適
当で、その場合前記の試薬は高めた温度例えば50
〜150℃の範囲で用いるのが有利である。
で行われる。適当な酸性の薬剤は例えば水性の酸
例えば水性の鉱酸例えば水性の塩酸、硫酸または
リン酸である。酸性のヒドロリシスは温度範囲0゜
〜120℃、有利には＋10〜＋50℃で行う。塩基性
媒質としては例えば水性のアルカリ溶液例えばア
ルカリ金属またはアルカリ類金属の水酸化物例え
ば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムあるい
はカルシウムまたはマグネシウムの水酸化物が適
当で、その場合前記の試薬は高めた温度例えば50
〜150℃の範囲で用いるのが有利である。
前記のヒドロリシスはまた段階的に行うことも
でき、式（）で表わされる化合物は水性媒質中
中間段階として対応する遊離の塩基を経て逆の立
体配置をもつ式（）で表わされる対応するＮ―
アシル化合物例えば式（）で表わされ適用され
る出発材料にヒドロリシスされ、ついでこの化合
物が式（）で表わされる化合物の１つにヒドロ
リシスされる。
でき、式（）で表わされる化合物は水性媒質中
中間段階として対応する遊離の塩基を経て逆の立
体配置をもつ式（）で表わされる対応するＮ―
アシル化合物例えば式（）で表わされ適用され
る出発材料にヒドロリシスされ、ついでこの化合
物が式（）で表わされる化合物の１つにヒドロ
リシスされる。
本発明の方法は有利には、その場で用いられ
る、式（）で表わされる出発生成物を純粋な形
で単離することなく同じ反応項目で式（）で表
わされる化合物に加工し、得られる式（）で表
わされる化合物をそれ以上精製することなくヒド
ロリシスにかけて行うこともできる。
る、式（）で表わされる出発生成物を純粋な形
で単離することなく同じ反応項目で式（）で表
わされる化合物に加工し、得られる式（）で表
わされる化合物をそれ以上精製することなくヒド
ロリシスにかけて行うこともできる。
式（）で表わされる出発材料または式（）
で表わされる中間生成物においてR2は例えば基
Ar1または基R1に対応する意味をもち、特に場合
によつては例えば前記の置換されているフエニル
基、ナフチル基またはピリジル基、さらに低級ア
ルキル基例えばイソプロピル基またはtert―ブチ
ル基、場合によつては結合炭素原子のところで分
枝している低級アルキル基をもつフエニル低級ア
ルキル基またはフエニルオキシ低級アルキル基例
えば１―メチル―３―フエニルプロピル基または
１―メチル―３―フエノキシプロピル基である。
で表わされる中間生成物においてR2は例えば基
Ar1または基R1に対応する意味をもち、特に場合
によつては例えば前記の置換されているフエニル
基、ナフチル基またはピリジル基、さらに低級ア
ルキル基例えばイソプロピル基またはtert―ブチ
ル基、場合によつては結合炭素原子のところで分
枝している低級アルキル基をもつフエニル低級ア
ルキル基またはフエニルオキシ低級アルキル基例
えば１―メチル―３―フエニルプロピル基または
１―メチル―３―フエノキシプロピル基である。
本発明はさらに、Ar1がナフチル基、低級アル
キル―フエニル基、低級アルケニル―フエニル
基、低級アルケニルオキシ―フエニル基、低級ア
ルカノイルアミノ―フエニル基、低級アルコキシ
低級アルキル―フエニル基、９，10―エタノ―
９，10―ジヒドロ―ベンズアントリル基、ピラジ
ニル基、ピリミジニル基、インドリン基、ベンゾ
フリル基、シアノ―ピリジル基、ピリル―フエニ
ル基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アル
キル―ピリジル基、N′―シクロアルキル―ウレ
イド―フエニル基、（ベンゾイミダゾール―２―
オン）―イル基、フエニル低級アルコキシ―フエ
ニル基、ヒドロキシフエニル基であり、R1が低
級アルキル基、フエニル低級アルキル基、フエノ
キシ低級アルキル基またはピリジルオキシ基であ
り、R2が低級アルキル基、フエニル低級アルキ
ル基、フエノキシ低級アルキル基またはフエニル
基である式（）で表わされる光学活性出発物質
を濃リン酸または濃硫酸あるいはそれらの酸のハ
ロゲン化物と反応させ、得られる式（）で表わ
される化合物を場合によつては中間段階として対
応する遊離の塩基を経て、逆の配置をもつ式
（）で表わされる対応する化合物にヒドロリシ
スする本発明の方法の特別な実施形式に関する。
キル―フエニル基、低級アルケニル―フエニル
基、低級アルケニルオキシ―フエニル基、低級ア
ルカノイルアミノ―フエニル基、低級アルコキシ
低級アルキル―フエニル基、９，10―エタノ―
９，10―ジヒドロ―ベンズアントリル基、ピラジ
ニル基、ピリミジニル基、インドリン基、ベンゾ
フリル基、シアノ―ピリジル基、ピリル―フエニ
ル基、低級アルコキシカルボニルアミノ低級アル
キル―ピリジル基、N′―シクロアルキル―ウレ
イド―フエニル基、（ベンゾイミダゾール―２―
オン）―イル基、フエニル低級アルコキシ―フエ
ニル基、ヒドロキシフエニル基であり、R1が低
級アルキル基、フエニル低級アルキル基、フエノ
キシ低級アルキル基またはピリジルオキシ基であ
り、R2が低級アルキル基、フエニル低級アルキ
ル基、フエノキシ低級アルキル基またはフエニル
基である式（）で表わされる光学活性出発物質
を濃リン酸または濃硫酸あるいはそれらの酸のハ
ロゲン化物と反応させ、得られる式（）で表わ
される化合物を場合によつては中間段階として対
応する遊離の塩基を経て、逆の配置をもつ式
（）で表わされる対応する化合物にヒドロリシ
スする本発明の方法の特別な実施形式に関する。
本発明はさらに、Ar1が１―ナフチル基、３―
低級アルキル―フエニル基、２―低級アルケニル
―フエニル基、２―低級アルケニルオキシ―フエ
ニル基、４―低級アルカノイルアミノ―フエニル
基、４―（２―低級アルコキシ―エチル）―フエ
ニル基、２―ピラジニル基、２―ピリミジニル
基、（１―ピリル）―フエニル基、４―インドリ
ル基、５―（２―低級アルコキシカルボニルアミ
ノ―エチル）―ピリジル基、３―シアノ―ピリジ
ル基、４―（ベンゾイミダゾール―２―オン）―
イル基、４―（N′―シクロアルキル―ウレイド）
―フエニル基、ベンジルオキシ―フエニル基、ヒ
ドロキシフエニル基であり、R1が低級アルキル
基、フエニル低級アルキル基またはフエノキシ低
級アルキル基であり、R2が低級アルキル基、フ
エニル低級アルキル基またはフエニル基である式
（）で表わされる光学活性の出発物質を濃リン
酸または濃硫酸あるいはその酸の塩化物または臭
化物と反応させ、得られる式（）で表わされる
化合物を場合によつては中間段階として対応する
遊離の塩基を経て、逆の配置をもつ式（）で表
わされる対応する化合物にヒドロリシスする本発
明の方法の特別な実施形式に関する。
低級アルキル―フエニル基、２―低級アルケニル
―フエニル基、２―低級アルケニルオキシ―フエ
ニル基、４―低級アルカノイルアミノ―フエニル
基、４―（２―低級アルコキシ―エチル）―フエ
ニル基、２―ピラジニル基、２―ピリミジニル
基、（１―ピリル）―フエニル基、４―インドリ
ル基、５―（２―低級アルコキシカルボニルアミ
ノ―エチル）―ピリジル基、３―シアノ―ピリジ
ル基、４―（ベンゾイミダゾール―２―オン）―
イル基、４―（N′―シクロアルキル―ウレイド）
―フエニル基、ベンジルオキシ―フエニル基、ヒ
ドロキシフエニル基であり、R1が低級アルキル
基、フエニル低級アルキル基またはフエノキシ低
級アルキル基であり、R2が低級アルキル基、フ
エニル低級アルキル基またはフエニル基である式
（）で表わされる光学活性の出発物質を濃リン
酸または濃硫酸あるいはその酸の塩化物または臭
化物と反応させ、得られる式（）で表わされる
化合物を場合によつては中間段階として対応する
遊離の塩基を経て、逆の配置をもつ式（）で表
わされる対応する化合物にヒドロリシスする本発
明の方法の特別な実施形式に関する。
本発明はさらに、Ar1が１―ナフチル基、３―
メチル―フエニル基、２―アリル―フエニル基、
２―アリルオキシ―フエニル基、４―アセチルア
ミノ―フエニル基、４―インドリル基、４―（２
―メトキシエチル）―フエニル基、２―ピリジニ
ル基、２―ピリミジニル基、２―（１―ピリル）
―フエニル基、３―（N′―シクロヘキシルウレ
イド）―フエニル基、４―ベンジルオキシ―フエ
ニル基または４―ヒドロキシ―フエニル基、であ
り、R1が低級アルキル基またはフエニル低級ア
ルキル基であり、R2が低級アルキル基、フエニ
ル低級アルキル基またはフエニル基である式
（）で表わされる光学活性の出発物質を濃リン
酸または濃硫酸あるいはその酸の塩化物または臭
化物と反応させ、得られる式（）で表わされる
化合物を場合によつては中間段階として対応する
遊離の塩基を経て、水性の鉱酸またはアルカリ水
酸化物水溶液によつて逆の配置をもつ式（）で
表わされる対応する化合物にヒドロリシスする本
発明の方法の特別の実施形式に関する。
メチル―フエニル基、２―アリル―フエニル基、
２―アリルオキシ―フエニル基、４―アセチルア
ミノ―フエニル基、４―インドリル基、４―（２
―メトキシエチル）―フエニル基、２―ピリジニ
ル基、２―ピリミジニル基、２―（１―ピリル）
―フエニル基、３―（N′―シクロヘキシルウレ
イド）―フエニル基、４―ベンジルオキシ―フエ
ニル基または４―ヒドロキシ―フエニル基、であ
り、R1が低級アルキル基またはフエニル低級ア
ルキル基であり、R2が低級アルキル基、フエニ
ル低級アルキル基またはフエニル基である式
（）で表わされる光学活性の出発物質を濃リン
酸または濃硫酸あるいはその酸の塩化物または臭
化物と反応させ、得られる式（）で表わされる
化合物を場合によつては中間段階として対応する
遊離の塩基を経て、水性の鉱酸またはアルカリ水
酸化物水溶液によつて逆の配置をもつ式（）で
表わされる対応する化合物にヒドロリシスする本
発明の方法の特別の実施形式に関する。
本発明はさらに、Ar1が２―（１―ピリル）―
フエニル基、１―ナフチル基、２―アリル―フエ
ニル基、２―アリルオキシ―フエニル基、４―
（N′―シクロヘキシルウレイド）―フエニル基、
２―ピラジニル基、４―ベンジルオキシフエニル
基、または４―ヒドロキシフエニル基であり、
R1が低級アルキル基であり、R2が低級アルキル
基またはフエニル基である式（）で表わされる
光学活性の出発物質を濃硫酸またはその塩化物あ
るいは塩化チオニルと反応させ、そうして得られ
る式（）で表わされる化合物を場合によつては
中間段階として対応する遊離の塩基を経て、水性
の塩酸または硫酸あるいは水性のアルカリ水酸化
物溶液によつて逆の配置をもつ式（）で表わす
対応する化合物にヒドロリシスする方法の特別な
実施形式に関する。
フエニル基、１―ナフチル基、２―アリル―フエ
ニル基、２―アリルオキシ―フエニル基、４―
（N′―シクロヘキシルウレイド）―フエニル基、
２―ピラジニル基、４―ベンジルオキシフエニル
基、または４―ヒドロキシフエニル基であり、
R1が低級アルキル基であり、R2が低級アルキル
基またはフエニル基である式（）で表わされる
光学活性の出発物質を濃硫酸またはその塩化物あ
るいは塩化チオニルと反応させ、そうして得られ
る式（）で表わされる化合物を場合によつては
中間段階として対応する遊離の塩基を経て、水性
の塩酸または硫酸あるいは水性のアルカリ水酸化
物溶液によつて逆の配置をもつ式（）で表わす
対応する化合物にヒドロリシスする方法の特別な
実施形式に関する。
本発明は特に実施例に記載の方法に関する。
方法条件と出発物質とによつて式（）で表わ
される光学活性化合物は遊離の形または同様にそ
の塩の本発明に包含される形で得られ、その場合
本発明の新規の化合物またはその塩はヘミー、モ
ノー、セスキーまたはポリー水和物として存在し
ていてもよい。本発明の新規の化合物の酸付加塩
はそれ自体公知の方法で、例えば塩基性薬剤例え
ばアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩または水素炭
酸塩あるいはイオン変換剤での処理によつて遊離
の化合物に移行させてもよい。逆に、得られた遊
離の塩基は有機または無機の酸例えば前記の酸に
よつて酸付加塩を形成させてもよく、その場合そ
の製造には薬学的に受入れられる塩を形成するの
に適した酸を適用する。
される光学活性化合物は遊離の形または同様にそ
の塩の本発明に包含される形で得られ、その場合
本発明の新規の化合物またはその塩はヘミー、モ
ノー、セスキーまたはポリー水和物として存在し
ていてもよい。本発明の新規の化合物の酸付加塩
はそれ自体公知の方法で、例えば塩基性薬剤例え
ばアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩または水素炭
酸塩あるいはイオン変換剤での処理によつて遊離
の化合物に移行させてもよい。逆に、得られた遊
離の塩基は有機または無機の酸例えば前記の酸に
よつて酸付加塩を形成させてもよく、その場合そ
の製造には薬学的に受入れられる塩を形成するの
に適した酸を適用する。
本発明の新規の化合物のこれらまたは他の塩、
特に酸付加塩例えばピクリン酸塩または過塩素酸
塩はまた得られた遊離の塩基の精製に役立てても
よく、その遊離の塩基を塩に移行させ、これを分
離、精製し、そしてその塩から再びその塩基を遊
離させる。
特に酸付加塩例えばピクリン酸塩または過塩素酸
塩はまた得られた遊離の塩基の精製に役立てても
よく、その遊離の塩基を塩に移行させ、これを分
離、精製し、そしてその塩から再びその塩基を遊
離させる。
式（）で表わされる光学活性化合物の塩は酸
付加塩、特に、適当な無機酸例えば塩化水素酸、
臭化水素酸、硫酸またはリン酸との、あるいは適
当な有機酸例えば脂肪族、脂環式、芳香族、アリ
ール置換脂肪族または複素環式のカルボン酸また
はスルホン酸例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
コハク酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸、アスコルピン酸、マレイン酸、フ
マル酸、焦性ブドウ酸、安息香酸、アントラニル
酸、４―ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、フエ
ニル酢酸、エンボン酸、メタルスルホン酸、エタ
ルスルホン酸、ヒドロキシエタンスルホン酸、エ
チレンスルホン酸、４―クロルベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン
酸、スルフアニル酸またはシクロヘキシルアミン
スルホン酸との薬学的に受入れられる、無毒の酸
付加塩である。遊離の形の本発明の新規の化合物
とその塩の形のそれとの間には密接な関係がある
ので遊離の化合物は対応する塩をも含むものであ
ると理解されたい。逆もまた同様である。
付加塩、特に、適当な無機酸例えば塩化水素酸、
臭化水素酸、硫酸またはリン酸との、あるいは適
当な有機酸例えば脂肪族、脂環式、芳香族、アリ
ール置換脂肪族または複素環式のカルボン酸また
はスルホン酸例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
コハク酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸、アスコルピン酸、マレイン酸、フ
マル酸、焦性ブドウ酸、安息香酸、アントラニル
酸、４―ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、フエ
ニル酢酸、エンボン酸、メタルスルホン酸、エタ
ルスルホン酸、ヒドロキシエタンスルホン酸、エ
チレンスルホン酸、４―クロルベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン
酸、スルフアニル酸またはシクロヘキシルアミン
スルホン酸との薬学的に受入れられる、無毒の酸
付加塩である。遊離の形の本発明の新規の化合物
とその塩の形のそれとの間には密接な関係がある
ので遊離の化合物は対応する塩をも含むものであ
ると理解されたい。逆もまた同様である。
本発明はまた、方法の任意の段階で中間生成物
として得られる化合物から出発し、残りの方法段
階を行うかまたは方法を任意の段階で中断するか
あるいは反応条件の下に出発物質を形成させるか
または反応成分を場合によつてはその塩の形で存
在させる方法の実施形式にも関する。
として得られる化合物から出発し、残りの方法段
階を行うかまたは方法を任意の段階で中断するか
あるいは反応条件の下に出発物質を形成させるか
または反応成分を場合によつてはその塩の形で存
在させる方法の実施形式にも関する。
本発明の反応の実施のためには始めに特に記載
した群の目的化合物ならびに特別に記載したかま
たは好ましい目的物質になる出発物質を適用する
のが有利である。
した群の目的化合物ならびに特別に記載したかま
たは好ましい目的物質になる出発物質を適用する
のが有利である。
前記の出発物質は公知であるかまたはそれが新
規の場合にはそれ自体公知の方法に従つて例えば
例に記載と同様にして得てもよい。例えば式
（）で表わされる化合物はR2が前記の意味をも
つ式R2―COOH（ａ）で表わされるカルボン酸
またはその反応性誘導体例えば適当な反応性エス
テル例えば低級アルキルエステル例えばメチルエ
ステルまたは芳香族エステル例えばフエニルエス
テル、４―ニトロフエニルエステルまたは２，４
―ジニトロフエニルエステルあるいは酸ハロゲン
化物例えば塩化物または臭化物あるいは酸無水物
例えば対称または混合の酸無水物を用いてそれ自
体公知の方法で式（）で表わされる対応するア
シル化されている化合物に反応させることができ
る。
規の場合にはそれ自体公知の方法に従つて例えば
例に記載と同様にして得てもよい。例えば式
（）で表わされる化合物はR2が前記の意味をも
つ式R2―COOH（ａ）で表わされるカルボン酸
またはその反応性誘導体例えば適当な反応性エス
テル例えば低級アルキルエステル例えばメチルエ
ステルまたは芳香族エステル例えばフエニルエス
テル、４―ニトロフエニルエステルまたは２，４
―ジニトロフエニルエステルあるいは酸ハロゲン
化物例えば塩化物または臭化物あるいは酸無水物
例えば対称または混合の酸無水物を用いてそれ自
体公知の方法で式（）で表わされる対応するア
シル化されている化合物に反応させることができ
る。
式（）および（）で表わされる新規の出発
物質ならびに新規の目的化合物は同様に本発明の
対象である。本発明はまた本発明の方法に従つて
得られる式（）で表わされる中間生成物にも関
する。
物質ならびに新規の目的化合物は同様に本発明の
対象である。本発明はまた本発明の方法に従つて
得られる式（）で表わされる中間生成物にも関
する。
以下の例は本発明の説明に役立つ。
例 １
ジメチルホルムアミド78ml中のＲ（＋）―１―
（４―ベンジルオキシ―フエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール26.2ｇ溶液に
10℃で無水酢酸18ｇを滴下する。その溶液を20℃
で２時間かきまぜ、水300mlに注加し、トルエン
160mlで抽出する。このトルエン溶液を炭酸水素
ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上乾燥
し、真空中蒸発すると、粗Ｒ（＋）―１―（４―
ベンジルオキシフエノキシ）―３―Ｎ―イソプロ
ピル―Ｎ―アセチルアミノ―２―プロパノールを
得る。
（４―ベンジルオキシ―フエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール26.2ｇ溶液に
10℃で無水酢酸18ｇを滴下する。その溶液を20℃
で２時間かきまぜ、水300mlに注加し、トルエン
160mlで抽出する。このトルエン溶液を炭酸水素
ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上乾燥
し、真空中蒸発すると、粗Ｒ（＋）―１―（４―
ベンジルオキシフエノキシ）―３―Ｎ―イソプロ
ピル―Ｎ―アセチルアミノ―２―プロパノールを
得る。
これを塩化メチレン40ml中に溶解し、５〜10
℃、45分間で塩化メチレン18ml中の塩化チオニル
6.2ml溶液に滴下して加える。この溶液を20℃で
２時間、それから35℃で１時間かきまぜ、ついで
真空中乾燥するまで蒸発する。
℃、45分間で塩化メチレン18ml中の塩化チオニル
6.2ml溶液に滴下して加える。この溶液を20℃で
２時間、それから35℃で１時間かきまぜ、ついで
真空中乾燥するまで蒸発する。
粗塩化Ｓ（−）―１―イソプロピル―２―メチ
ル―５―（４―ベンジルオキシ―フエノキシメチ
ル）―オキサゾリウム32ｇ（93％）を濃厚な、直
に結晶する油として得る。この吸湿性の結晶は結
晶塩化水素１モルを含有し、塩化メチレン―酢酸
エチルエステル混合物から再結晶するとその結晶
は78〜82℃で融ける。
ル―５―（４―ベンジルオキシ―フエノキシメチ
ル）―オキサゾリウム32ｇ（93％）を濃厚な、直
に結晶する油として得る。この吸湿性の結晶は結
晶塩化水素１モルを含有し、塩化メチレン―酢酸
エチルエステル混合物から再結晶するとその結晶
は78〜82℃で融ける。
粗塩化Ｓ（−）―１―イソプロピル―２―メチ
ル―５―（４―ベンジルオキシ―フエノキシメチ
ル）―オキサゾリウム32ｇに水25mlとエタノール
100mlと水酸化ナトリウム16ｇとを混合し、この
混合物を１時間還流して煮沸し、この後その反応
混合物を水300mlに注加し、０℃に冷却する。析
出する結晶を吸引し、乾燥すると、Ｓ（−）―１
―（４―ベンジルオキシフエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール23.6ｇ（理論
量の90％）を得る。
ル―５―（４―ベンジルオキシ―フエノキシメチ
ル）―オキサゾリウム32ｇに水25mlとエタノール
100mlと水酸化ナトリウム16ｇとを混合し、この
混合物を１時間還流して煮沸し、この後その反応
混合物を水300mlに注加し、０℃に冷却する。析
出する結晶を吸引し、乾燥すると、Ｓ（−）―１
―（４―ベンジルオキシフエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール23.6ｇ（理論
量の90％）を得る。
〔α〕20 D出発生成物＋25゜
（1N硫酸中１％溶液）
〔α〕20 D目的生成物−22゜
（1N硫酸中１％溶液）
光学的収率：87％
Ｒ（＋）―１―（４―ベンジルオキシフエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ルは例えば次のようにして得ることができる。
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノー
ルは例えば次のようにして得ることができる。
(a) （＋）―１―（４―ヒドロキシフエノキシ）
―２―ヒドロキシ―３―（イソプロピルアミ
ノ）―プロパン4.5ｇをメタノール30ml中に溶
解し、メタノール25mlと水25mlとの中の（−）
―ジ―ｏ，o′―ｐ―トルオイル―Ｌ―酒石酸
8.1ｇ溶液と混合する。それからこの溶液を室
温で水流ポンプ真空中少し濁りが出るまで濃縮
し、ついで結晶するまで０℃に15時間放置す
る。析出する結晶を吸引し、ついでメタノール
―水１：１から２回再結晶する。Ｒ（＋）―１
―（４―ヒドロキシフエノキシ）―２―ヒドロ
キシ―３―イソプロピルアミノ―プロパン―
（−）―ジ―ｏ，o′―ｐ―トルオイル―Ｌ―水
素酒石酸塩を得る。融点134〜137℃。
―２―ヒドロキシ―３―（イソプロピルアミ
ノ）―プロパン4.5ｇをメタノール30ml中に溶
解し、メタノール25mlと水25mlとの中の（−）
―ジ―ｏ，o′―ｐ―トルオイル―Ｌ―酒石酸
8.1ｇ溶液と混合する。それからこの溶液を室
温で水流ポンプ真空中少し濁りが出るまで濃縮
し、ついで結晶するまで０℃に15時間放置す
る。析出する結晶を吸引し、ついでメタノール
―水１：１から２回再結晶する。Ｒ（＋）―１
―（４―ヒドロキシフエノキシ）―２―ヒドロ
キシ―３―イソプロピルアミノ―プロパン―
（−）―ジ―ｏ，o′―ｐ―トルオイル―Ｌ―水
素酒石酸塩を得る。融点134〜137℃。
遊離の鏡像異性体の塩基の単離のためその塩
を2N―塩酸中にとり、酢酸エチルエステルを
用いて抽出する。この抽出液から（−）―ジ―
ｏ，o′―ｐ―トルオイル―Ｄ―酒石酸を再生で
きる。この塩酸溶液を濃アンモニアでアルカリ
性にし、塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチル
エステルで抽出する。この有機相を塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上乾燥し、水流ポンプ真空
中で蒸発する。残渣を酢酸エチルエステルから
結晶させると、融点129〜130℃の純粋なＲ（＋）
―１―（４―ヒドロキシフエノキシ）―３―イ
ソプロピルアミノ）―２―プロパノールを得
る。
を2N―塩酸中にとり、酢酸エチルエステルを
用いて抽出する。この抽出液から（−）―ジ―
ｏ，o′―ｐ―トルオイル―Ｄ―酒石酸を再生で
きる。この塩酸溶液を濃アンモニアでアルカリ
性にし、塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチル
エステルで抽出する。この有機相を塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上乾燥し、水流ポンプ真空
中で蒸発する。残渣を酢酸エチルエステルから
結晶させると、融点129〜130℃の純粋なＲ（＋）
―１―（４―ヒドロキシフエノキシ）―３―イ
ソプロピルアミノ）―２―プロパノールを得
る。
〔α〕20 D：＋0.9±0.5゜
（メタノール中１％溶液）
〔α〕20 D：＋20.5±0.5゜
（1N硫酸中１％溶液）
(b) ジメチルホルムアミド中Ｒ（＋）―１―（４
―ヒドロキシフエノキシ）―３―イソプロピル
アミノ―２―プロパノール塩酸塩52ｇの溶液を
室温で、水中の水酸化ナトリウムの50％溶液42
ｇと混合する。この混合物に30℃、15分間で臭
化ベンジル33ｇを滴加し、室温で１時間かきま
ぜる。反応混合物を０℃に冷却した水600mlに
注ぎ込み、０℃で１時間かきまぜ、析出する結
晶を吸引ろ化し、乾燥すると、融点91〜93℃の
Ｒ（＋）―１―（４―ベンジルオキシフエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノ
ールを得る。
―ヒドロキシフエノキシ）―３―イソプロピル
アミノ―２―プロパノール塩酸塩52ｇの溶液を
室温で、水中の水酸化ナトリウムの50％溶液42
ｇと混合する。この混合物に30℃、15分間で臭
化ベンジル33ｇを滴加し、室温で１時間かきま
ぜる。反応混合物を０℃に冷却した水600mlに
注ぎ込み、０℃で１時間かきまぜ、析出する結
晶を吸引ろ化し、乾燥すると、融点91〜93℃の
Ｒ（＋）―１―（４―ベンジルオキシフエノキ
シ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノ
ールを得る。
例 ２
無水酢酸25ml中にかきまぜながらＳ（−）―１
―（４―ヒドロキシフエノキシ）―３―イソプロ
ピルアミノ―２―プロパノール6.5ｇを滴下して
入れると発熱の下に透明な溶液が生成する。これ
を無水酢酸10ml中硫酸（96％）３ｇの溶液と混合
し、その混合物を２時間還流する。ついで得られ
た溶液を真空中濃縮する。その残渣は組硫酸Ｒ
（＋）―１―イソプロピル―２―メチル―５―
（４―ヒドロキシフエノキシメチル）―オキサゾ
リウムで、それを1N硫酸50ml中にとり、２時間
還流する。それから氷100ｇを加え、アンモニア
でPH９に調節する。その溶液を酢酸エチルエステ
ルそれぞれ100mlで４回抽出し、１緒にしたその
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、乾燥するま
で蒸発する。Ｒ（＋）―１―（４―ヒドロキシフ
エノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール5.5ｇ（理論量の85％）を得る。
―（４―ヒドロキシフエノキシ）―３―イソプロ
ピルアミノ―２―プロパノール6.5ｇを滴下して
入れると発熱の下に透明な溶液が生成する。これ
を無水酢酸10ml中硫酸（96％）３ｇの溶液と混合
し、その混合物を２時間還流する。ついで得られ
た溶液を真空中濃縮する。その残渣は組硫酸Ｒ
（＋）―１―イソプロピル―２―メチル―５―
（４―ヒドロキシフエノキシメチル）―オキサゾ
リウムで、それを1N硫酸50ml中にとり、２時間
還流する。それから氷100ｇを加え、アンモニア
でPH９に調節する。その溶液を酢酸エチルエステ
ルそれぞれ100mlで４回抽出し、１緒にしたその
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、乾燥するま
で蒸発する。Ｒ（＋）―１―（４―ヒドロキシフ
エノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プロ
パノール5.5ｇ（理論量の85％）を得る。
〔α〕20 D出発材料：−20.5゜
（1N硫酸中１％溶液）
〔α〕20 D目的生成物：＋17.3゜
（1N硫酸中１％溶液）
光学的収率：85％
例 ３
無水酢酸25ml中にかきまぜながらＳ（−）―１
―（４―ベンジルオキシフエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール6.5ｇを滴下
して入れると、発熱を伴つて透明な溶液が生成す
る。これを無水酢酸10ml中の硫酸（96％）３ｇの
溶液と混合し、その混合物を２時間還流する。つ
いで得られた溶液を真空中濃縮し、その残渣を
1N硫酸50ml中にとり、２時間還流する。それか
ら氷100ｇを加え、アンモニアでPH９に調節する。
この溶液を酢酸エチルエステルそれぞれ100mlで
４回抽出し、その１緒にした有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、乾燥するまで蒸発する。残渣
3.5ｇを得、それは非常に不純のＲ（＋）―１―
（４―ヒドロキシフエノキシ）―３―イソプロピ
ルアミノ―２―プロパノールである。
―（４―ベンジルオキシフエノキシ）―３―イソ
プロピルアミノ―２―プロパノール6.5ｇを滴下
して入れると、発熱を伴つて透明な溶液が生成す
る。これを無水酢酸10ml中の硫酸（96％）３ｇの
溶液と混合し、その混合物を２時間還流する。つ
いで得られた溶液を真空中濃縮し、その残渣を
1N硫酸50ml中にとり、２時間還流する。それか
ら氷100ｇを加え、アンモニアでPH９に調節する。
この溶液を酢酸エチルエステルそれぞれ100mlで
４回抽出し、その１緒にした有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、乾燥するまで蒸発する。残渣
3.5ｇを得、それは非常に不純のＲ（＋）―１―
（４―ヒドロキシフエノキシ）―３―イソプロピ
ルアミノ―２―プロパノールである。
例 ４
Ｄ（＋）―１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール
0.9ｇをジメチルホルムアミド５ml中に溶解し、
10℃で無水酢酸0.34mlを滴下する。この溶液を20
℃で２時間かきまぜ、水25ml中に注加し、トルエ
ンそれぞれ30mlで２回抽出する。そのトルエン溶
液を硫酸マグネシウム上で乾燥の後、真空中乾燥
するまで蒸発すると粗Ｄ（＋）―１―（ｏ―アリ
ルオキシフエノキシ）―３―Ｎ―イソプロピル―
Ｎ―アセチルアミノ―２―プロパノールを得る。
これを塩化メチレン５ml中に溶解し、５〜10℃、
45分間で塩化メチレン５ml中の塩化チオニル0.6
ml溶液に滴下し、ついで20℃で２時間、35℃で１
時間かきまぜ、ついで真空中乾燥するまで蒸発す
る。その残渣は粗塩化Ｌ（−）―１―イソプロピ
ル―２―メチル―５―（ｏ―アリルオキシ―フエ
ノキシメチル）―オキサゾリウムである。水１ml
とエタノール10mlとの中のこの化合物の溶液を水
酸化ナトリウム1.0ｇと混合し、その混合物を１
時間還流して煮沸し、それから水25ml中に注加
し、この溶液をトルエンそれぞれ25mlで２回抽出
し、１緒にした有機相を硫酸マグネシウム上で乾
燥後真空中で乾燥するまで蒸発する。その残渣を
シクロヘキサノール2.5mlに溶解し、その溶液を
冷却する。そこで析出する結晶を吸引すると、Ｌ
（−）―１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）―
３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール0.7
ｇ（理論量の78％）を得る。
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール
0.9ｇをジメチルホルムアミド５ml中に溶解し、
10℃で無水酢酸0.34mlを滴下する。この溶液を20
℃で２時間かきまぜ、水25ml中に注加し、トルエ
ンそれぞれ30mlで２回抽出する。そのトルエン溶
液を硫酸マグネシウム上で乾燥の後、真空中乾燥
するまで蒸発すると粗Ｄ（＋）―１―（ｏ―アリ
ルオキシフエノキシ）―３―Ｎ―イソプロピル―
Ｎ―アセチルアミノ―２―プロパノールを得る。
これを塩化メチレン５ml中に溶解し、５〜10℃、
45分間で塩化メチレン５ml中の塩化チオニル0.6
ml溶液に滴下し、ついで20℃で２時間、35℃で１
時間かきまぜ、ついで真空中乾燥するまで蒸発す
る。その残渣は粗塩化Ｌ（−）―１―イソプロピ
ル―２―メチル―５―（ｏ―アリルオキシ―フエ
ノキシメチル）―オキサゾリウムである。水１ml
とエタノール10mlとの中のこの化合物の溶液を水
酸化ナトリウム1.0ｇと混合し、その混合物を１
時間還流して煮沸し、それから水25ml中に注加
し、この溶液をトルエンそれぞれ25mlで２回抽出
し、１緒にした有機相を硫酸マグネシウム上で乾
燥後真空中で乾燥するまで蒸発する。その残渣を
シクロヘキサノール2.5mlに溶解し、その溶液を
冷却する。そこで析出する結晶を吸引すると、Ｌ
（−）―１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）―
３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール0.7
ｇ（理論量の78％）を得る。
〔α〕D出発生成物：＋13.5゜±0.5
（1N硫酸中１％溶液）
〔α〕D目的生成物：−12.7゜±0.5
（1N硫酸中１％溶液）
光学的収率：94％。
出発材料として適用するＤ（＋）―１―（ｏ―
アリルオキシフエノキシ）―３―イソプロピルア
ミノ―２―プロパノールは次のように製造するこ
とができる。
アリルオキシフエノキシ）―３―イソプロピルア
ミノ―２―プロパノールは次のように製造するこ
とができる。
ラセミ体１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール
265ｇ（１モル）とＬ（＋）―グルタミン酸（〔α〕
20 546＝＋36±2゜、5N水性塩酸中５％溶液）140ｇ
（0.95モル）とを乳鉢中でよく混合し、この混合
物を70℃に加温してある水470ml中に溶解する。
この暖い溶液を透明に過し、その無色の液を
96％エタノール2300mlと混合し、その溶液を50℃
に24時間放置する。析出する微結晶沈殿を吸引
し、エタノール200mlで洗浄し、風乾する。融点
172〜173℃の粗Ｄ（＋）―１―（ｏ―アリルオキ
シフエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―
プロパノールＬ（＋）グルタミン酸塩220ｇを得
る。これを70℃で水100mlに溶解し、その溶液を
メタノール800mlと混合する。５℃で15時間放置
後析出する沈殿を吸引すると鏡像異性の塩210ｇ
を得る。融点176〜178℃。同じ条件で更に再結晶
すると純粋なＤ（＋）―１―（ｏ―アリルオキシ
フエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プ
ロパノールＬ（＋）―グルタミン酸塩125ｇとな
り、それは８時間、60℃／0.03mmHgで乾燥する
と次のような特性を示す。融点179〜181℃； 〔α〕313：＋34±1゜（水中１％溶液として） 〔α〕D：＋7.2゜ （水中１％溶液として）。
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノール
265ｇ（１モル）とＬ（＋）―グルタミン酸（〔α〕
20 546＝＋36±2゜、5N水性塩酸中５％溶液）140ｇ
（0.95モル）とを乳鉢中でよく混合し、この混合
物を70℃に加温してある水470ml中に溶解する。
この暖い溶液を透明に過し、その無色の液を
96％エタノール2300mlと混合し、その溶液を50℃
に24時間放置する。析出する微結晶沈殿を吸引
し、エタノール200mlで洗浄し、風乾する。融点
172〜173℃の粗Ｄ（＋）―１―（ｏ―アリルオキ
シフエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―
プロパノールＬ（＋）グルタミン酸塩220ｇを得
る。これを70℃で水100mlに溶解し、その溶液を
メタノール800mlと混合する。５℃で15時間放置
後析出する沈殿を吸引すると鏡像異性の塩210ｇ
を得る。融点176〜178℃。同じ条件で更に再結晶
すると純粋なＤ（＋）―１―（ｏ―アリルオキシ
フエノキシ）―３―イソプロピルアミノ―２―プ
ロパノールＬ（＋）―グルタミン酸塩125ｇとな
り、それは８時間、60℃／0.03mmHgで乾燥する
と次のような特性を示す。融点179〜181℃； 〔α〕313：＋34±1゜（水中１％溶液として） 〔α〕D：＋7.2゜ （水中１％溶液として）。
C15H23NO3・C5H9NO4に対する元素分析
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値（％） 58.2 7.8 6.8
分析値（％） 58.2 7.9 6.7
Ｄ（＋）―１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノールＬ
（＋）―グルタミン酸塩の水溶液に水性アンモニ
アを加えてアルカリ反応を起こし、塩化メチレン
で抽出し、それを乾燥するまで蒸発し、その残渣
をエーテルとヘキサンとから再結晶して融点55〜
56℃の遊離の塩基を得る。その塩酸塩は次の性質
をもつ。融点72〜74℃：〔α〕20 D：＋19±1゜（エタ
ノール中１％溶液）。
―３―イソプロピルアミノ―２―プロパノールＬ
（＋）―グルタミン酸塩の水溶液に水性アンモニ
アを加えてアルカリ反応を起こし、塩化メチレン
で抽出し、それを乾燥するまで蒸発し、その残渣
をエーテルとヘキサンとから再結晶して融点55〜
56℃の遊離の塩基を得る。その塩酸塩は次の性質
をもつ。融点72〜74℃：〔α〕20 D：＋19±1゜（エタ
ノール中１％溶液）。
１緒にした母液に水性アンモニアを加えアルカ
リ反応を起こし、塩化メチレンで抽出し蒸発する
ことによつて、Ｌ（＋）―対掌体に富んだ生成物
を得る。この生成物からはＤ（−）―グルタミン
酸適用の下に前記の方法を同様に適用して対応す
るＬ（−）―１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ）―２―プロパノール
を得、その塩酸塩は次の性質を示す。
リ反応を起こし、塩化メチレンで抽出し蒸発する
ことによつて、Ｌ（＋）―対掌体に富んだ生成物
を得る。この生成物からはＤ（−）―グルタミン
酸適用の下に前記の方法を同様に適用して対応す
るＬ（−）―１―（ｏ―アリルオキシフエノキシ）
―３―イソプロピルアミノ）―２―プロパノール
を得、その塩酸塩は次の性質を示す。
融点73〜75℃：〔α〕20 D＝−19゜±1゜（エタノール
中１％溶液）。
中１％溶液）。
例 ５
（−）―１―（１―ナフチルオキシ）―３―イ
ソプロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩0.9
ｇを水10mlに溶解し、1N水酸化ナトリウム溶液
４mlと混合し、その混合物を酢酸エチルエステル
それぞれ25mlで３回抽出する。その有機溶液を硫
酸マグネシウム上で乾燥後真空中で蒸発し、残渣
として得られる遊離の塩基をジメチルホルムアミ
ド５mlに溶解し、この溶液に10℃で無水酢酸0.34
mlを滴下して加える。その溶液を20℃で２時間か
きまぜ、水25ml中に注加し、トルエンそれぞれ30
mlで２回抽出する。そのトルエン溶液を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥後乾燥するまで蒸発すると、粗
（−）―１―（１―ナフチルオキシ）―３―Ｎ―
イソプロピル―Ｎ―アセチルアミノ―２―プロパ
ノールを得る。これを塩化メチレン５mlに溶解
し、５〜10℃、45分間で塩化メチレン５ml中の塩
化チオニル0.6mlの溶液に滴下し、ついで20℃で
２時間、35℃で１時間かきまぜ、ついで真空中乾
燥するまで蒸発する。油状の残渣は粗塩化（＋）
―１―イソプロピル―２―メチル―５―（１―ナ
フチルオキシメチル）―オキサゾリウムである。
水１mlとエタノール10mlとの中のこの化合物の溶
液を水酸化ナトリウム１ｇと混合し、その混合物
を１時間還流する。その後反応混合物を水25ml中
に注加し、トルエンそれぞれ25mlで２回抽出し、
そのトルエン層を硫酸マグネシウム上で乾燥後真
空中で乾燥するまで蒸発する。
ソプロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩0.9
ｇを水10mlに溶解し、1N水酸化ナトリウム溶液
４mlと混合し、その混合物を酢酸エチルエステル
それぞれ25mlで３回抽出する。その有機溶液を硫
酸マグネシウム上で乾燥後真空中で蒸発し、残渣
として得られる遊離の塩基をジメチルホルムアミ
ド５mlに溶解し、この溶液に10℃で無水酢酸0.34
mlを滴下して加える。その溶液を20℃で２時間か
きまぜ、水25ml中に注加し、トルエンそれぞれ30
mlで２回抽出する。そのトルエン溶液を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥後乾燥するまで蒸発すると、粗
（−）―１―（１―ナフチルオキシ）―３―Ｎ―
イソプロピル―Ｎ―アセチルアミノ―２―プロパ
ノールを得る。これを塩化メチレン５mlに溶解
し、５〜10℃、45分間で塩化メチレン５ml中の塩
化チオニル0.6mlの溶液に滴下し、ついで20℃で
２時間、35℃で１時間かきまぜ、ついで真空中乾
燥するまで蒸発する。油状の残渣は粗塩化（＋）
―１―イソプロピル―２―メチル―５―（１―ナ
フチルオキシメチル）―オキサゾリウムである。
水１mlとエタノール10mlとの中のこの化合物の溶
液を水酸化ナトリウム１ｇと混合し、その混合物
を１時間還流する。その後反応混合物を水25ml中
に注加し、トルエンそれぞれ25mlで２回抽出し、
そのトルエン層を硫酸マグネシウム上で乾燥後真
空中で乾燥するまで蒸発する。
その残渣をイソプロパノール５mlに溶解し、イ
ソプロパノール中の塩酸ガス溶液でメチルレツド
に対して中性にする。そこで析出する結晶を吸引
すると（＋）―１―（１―ナフチルオキシ）―３
―イソプロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩
0.7ｇ（理論量の78％）を得る。
ソプロパノール中の塩酸ガス溶液でメチルレツド
に対して中性にする。そこで析出する結晶を吸引
すると（＋）―１―（１―ナフチルオキシ）―３
―イソプロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩
0.7ｇ（理論量の78％）を得る。
〔α〕D出発生成物：−13.2゜±0.5
（水中１％溶液、20℃）
〔α〕D目的生成物：−13.7±0.5
（水中１％溶液、20℃）
光学的収率：100％。
出発材料として適用される（−）―１―（１―
ナフチルオキシ）―３―イソプロピルアミノ―２
―プロパノール塩酸塩は例４に記載の、ラセミ体
分割法と同様にして得られる。この出発材料は次
の性質を示す。
ナフチルオキシ）―３―イソプロピルアミノ―２
―プロパノール塩酸塩は例４に記載の、ラセミ体
分割法と同様にして得られる。この出発材料は次
の性質を示す。
（＋）―１―（ナフチルオキシ）―３―イソプ
ロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩：融点
192〜193℃；〔α〕20 D：＋25±1゜（エタノール中１
％溶液）： （−）―１―（１―ナフチルオキシ）―３―イ
ソプロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩：融
点192〜193℃；〔α〕20 D：−25±1゜（エタノール中
１％溶液）。
ロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩：融点
192〜193℃；〔α〕20 D：＋25±1゜（エタノール中１
％溶液）： （−）―１―（１―ナフチルオキシ）―３―イ
ソプロピルアミノ―２―プロパノール塩酸塩：融
点192〜193℃；〔α〕20 D：−25±1゜（エタノール中
１％溶液）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式： （この式で、Ar1は芳香族性をもつ環を少なく
とも１個もち、環炭素原子を通じて酸素原子と結
合する単環または多環で、炭素環式または複素環
式の基であり、R1は場合によつては置換されて
いる脂肪族、脂環式またはアリール置換脂肪族の
炭化水素基であり、R2は単環または多環で、炭
素環式または複素環式の基あるいは場合によつて
は置換されている脂肪族、脂環式またはアリール
置換脂肪族の炭化水素残基である） で表わされ、Ｒ（＋）またはＳ（−）配置をもつ光
学活性化合物を、強い酸素原子含有無機または有
機酸またはその酸ハロゲン化物で処理することに
より式： （この式で、Xは強い酸素原子含有無機また
は有機酸あるいはハロゲン原子の陰イオンであ
り、Ar1とR1とR2とは前記の意味をもつ） で表わされる化合物に変換し、式（）で表わさ
れる得られた化合物を、場合によつては中間段階
として対応する遊離の塩基を経て、式（）で表
わされ、適用した出発材料の配置を反対にした配
置をもつ化合物にヒドロリシスし、所望の場合は
式（）で表わされる遊離の化合物を塩にあるい
は得られた塩を遊離の化合物に移行させる、式： （この式で、Ar1とR1は前記の意味をもつ） で表わされる光学活性化合物またはその塩におけ
る配置の反転法。 ２ Ar1が、芳香族性をもつ環の環炭素原子を通
じて酸素原子と結合している基である特許請求の
範囲第１項記載の方法。 ３ 強い酸素原子含有の無機または有機酸とし
て、濃硫酸、濃リン酸、五酸化リンあるいは強い
有機スルホン酸を適用する特許請求の範囲第１項
または第２項記載の方法。 ４ 強い酸素原子含有の無機または有機酸の酸ハ
ロゲン化物として、塩化チオニル、臭化チオニ
ル、塩化スルフリル、クロルスルホン酸、塩化メ
タンスルホニル、三塩化リン、塩化ホスホリルま
たは五塩化リンを適用する特許請求の範囲第１項
または第２項記載の方法。 ５ 強い酸素原子含有無機または有機酸の適用に
おいて温度範囲＋50℃〜＋200℃で行なう特許請
求の範囲第１〜３項のいずれか１項に記載の方
法。 ６ 強い酸素原子含有無機または有機酸の酸ハロ
ゲン化物適用において温度範囲−10〜＋70℃で行
なう特許請求の範囲第１〜４項のいずれか１項に
記載の方法。 ７ 酸性または塩基性媒質中でヒドロリシスを行
なう特許請求の範囲第１項または第２項記載の方
法。 ８ 前記式（）においてAr1がナフチル基、低
級アルキルフエニル基、低級アルケニルフエニル
基、低級アルケニルオキシフエニル基、低級アル
カノイルアミノフエニル基、低級アルコキシ低級
アルキルフエニル基、９，10―エタノ―９，10―
ジヒドロ―ベンズアントリル基、ピラジニル基、
ピリミジニル基、インドリル基、ベンゾフリル
基、シアノ―ピリジル基、ピリル―フエニル基、
低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル―
ピリジル基、N′―シクロアルキル―ウレイド―
フエニル基、（ベンゾイミダゾール―２―オン）
―イル基、フエニル低級アルコキシ―フエニル
基、ヒドロキシフエニル基であり、R1が低級ア
ルキル基、フエニル低級アルキル基、フエノキシ
低級アルキル基またはピリジルオキシ基であり、
R2が低級アルキル基、フエニル低級アルキル基、
フエノキシ低級アルキル基またはフエニル基であ
る式（）で表わされる光学活性化合物を濃リン
酸または濃硫酸あるいはそのような酸のハロゲン
化物と反応させ、得られる、式（）で表わされ
る化合物を、場合によつては中間段階として対応
する遊離の塩基を経て、反対の配置をもつ、式
（）で表わされる化合物にヒドロリシスする特
許請求の範囲第１〜７項のいずれか１項に記載の
方法。 ９ 前記式（）においてAr1が１―ナフチル
基、３―低級アルキル―フエニル基、２―低級ア
ルケニル―フエニル基、２―低級アルケニルオキ
シ―フエニル基、４―低級アルカノイルアミノ―
フエニル基、４―（２―低級アルコキシエチル）
―フエニル基、２―ピラジニル基、２―ピリミジ
ニル基、（１―ピリル）―フエニル基、４―イン
ドリル基、５―（２―低級アルコキシカルボニル
アミノ―エチル）―ピリジル基、３―シアノ―ピ
リジル基、４―（ベンゾイミダゾール―２―オ
ン）―イル基、４―（N′―シクロアルキル―ウ
レイド）―フエニル基、ベンジルオキシ―フエニ
ル基、ヒドロキシフエニル基であり、R1が低級
アルキル基、フエニル低級アルキル基またはフエ
ノキシ低級アルキル基であり、R2が低級アルキ
ル基、フエニル低級アルキル基またはフエニル基
である光学活性の、式（）で表わされる出発材
料を濃リン酸または濃硫酸あるいはそれらの酸の
塩化物または臭化物と反応させ、そうして得られ
た式（）で表わされる化合物を、場合によつて
は中間段階として対応する遊離の塩基を経て、反
対の配置をもつ、式（）で表わされる化合物に
ヒドロリシスする特許請求の範囲第１〜７項のい
ずれか１項に記載の方法。 １０ 前記式（）においてAr1が１―ナフチル
基、３―メチル―フエニル基、２―アリル―アリ
ル―フエニル基、２―アリルオキシ―フエニル
基、４―アセチルアミノ―フエニル基、４―イン
ドリル基、４―（２―メトキシエチル）―フエニ
ル基、２―ピラジニル基、２―ピリミジニル基、
２―（１―ピリル）―フエニル基、４―（N′―
シクロヘキシル―ウレイド）―フエニル基、４―
ベンジルオキシ―フエニル基または４―ヒドロキ
シ―フエニル基であり、R1が低級アルキル基ま
たはフエニル低級アルキル基であり、R2が低級
アルキル基、フエニル低級アルキル基またはフエ
ニル基である、式（）で表わされる、光学活性
の出発物質を濃リン酸または濃硫酸あるいはそれ
らの酸の塩化物または臭化物と反応させ、そうし
て得られる式（）で表わされる化合物を、場合
によつては中間段階として対応する遊離の塩基を
経て、水性の鉱酸またはアルカリ金属水酸化物水
溶液により、反対の配置をもつ式（）で表わさ
れる化合物にヒドロリシスする、特許請求の範囲
第１〜７項のいずれか１項に記載の方法。 １１ 前記式（）においてAr1が２―（１―ピ
リル）―フエニル基、１―ナフチル基、２―アリ
ル―フエニル基、２―アリルオキシ―フエニル
基、４―（N′―シクロヘキシル―ウレイド）―
フエニル基、２―ピラジニル基、４―ベンジルオ
キシ―フエニル基、または４―ヒドロキシフエニ
ル基であり、R1が低級アルキル基であり、R2が
低級アルキル基またはフエニル基である、式
（）で表わされる光学活性の出発物質を濃硫酸
またはその塩化物あるいは塩化チオニルと反応さ
せ、そうして得られる式（）で表わされる化合
物を、場合によつては中間段階として対応する遊
離の塩基を経て、水性の塩酸または硫酸あるいは
水性の水酸化アルカリ溶液により反対の配置をも
つ式（）で表わされる対応する化合物にヒドロ
リシスする特許請求の範囲第１〜７項のいずれか
１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH814578 | 1978-07-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5520785A JPS5520785A (en) | 1980-02-14 |
| JPS6364408B2 true JPS6364408B2 (ja) | 1988-12-12 |
Family
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Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9559979A Granted JPS5520785A (en) | 1978-07-28 | 1979-07-28 | Reversal of configuration for photoactive compound and novel photoactive intermediate product and its salt neccesary therefor |
| JP62289661A Granted JPS63253078A (ja) | 1978-07-28 | 1987-11-18 | 光学活性化合物における配置の反転法における新規の中間生成物とその塩 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP62289661A Granted JPS63253078A (ja) | 1978-07-28 | 1987-11-18 | 光学活性化合物における配置の反転法における新規の中間生成物とその塩 |
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| JP (2) | JPS5520785A (ja) |
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