JPS6366377B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6366377B2 JPS6366377B2 JP57118165A JP11816582A JPS6366377B2 JP S6366377 B2 JPS6366377 B2 JP S6366377B2 JP 57118165 A JP57118165 A JP 57118165A JP 11816582 A JP11816582 A JP 11816582A JP S6366377 B2 JPS6366377 B2 JP S6366377B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- less
- corrosion resistance
- lead frame
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
Description
本発明は安価にして耐食性およびめつき性に優
れた低Cr−Fe系合金からなるICリードフレーム
材料に関する。 近時のエレクトロニクス分野等の発展に伴い、
IC(集積回路)の需要が飛躍的に増大し、そのリ
ードフレーム材料の需要も増大し、安価なリード
フレーム材料の開発が当業界の待望するところに
なつている。 一般にこれらリードフレーム材は帯材となした
後、裁断、打抜き加工を施し、その表面にCu、
Ag、Au等がめつき等により被覆され、これにシ
リコンチツプをボンデイング(ダイボンデイン
グ)し結線(ワイヤボンデイング)することによ
りICとして使用されるものである。従つて、こ
れらリードフレーム材料はめつき性が良好である
ことを必要とし、さらにその端子部がIC基盤等
にはんだ付けされるために耐食性とともに良好な
はんだ付け性が要求される。 従来、リードフレーム材料は銅合金あるいは曲
型的には42%Ni−Fe合金で代表される熱膨脹制
御合金等で形成されていた。しかしながら、前述
したようにリードフレーム材料の需要の増大によ
る大量生産に伴い、従来材よりも少しでも安価な
材料を提供することは実用上極めて有益である。 安価な材料としては純鉄を用いればよいが、純
鉄は耐食性が劣るため実用に供し得ない。また通
常のFe−Cr系合金、例えばSUS430(17%Cr−
Fe、SUS410(13%Cr−Fe)等の実用鋼種は耐食
性は良好であるが、はんだ付け性およびめつき性
が著しく劣り、リードフレーム材料として使用す
ることは全く顧みられなかつた。 しかるところ、本発明者は純鉄およびFe−Cr
系合金の安価な点に着目し、純鉄における耐食性
を改善し、同時に従来のFe−Cr系合金のはんだ
付け性およびめつき性を改善するために種種検討
したところ、通常のFe−Cr系合金におけるより
も少量のCrを含有せしめ且つ酸化物形成元素の
C、Si、Mn、Alの上限値を規定することにより
ICリードフレーム材料としての諸特性が具備さ
れることを見い出し、本発明を完成したものであ
る。 すなわち、本発明によれば、Cr5.0〜10.5重量
%、C0.05重量%以下、Si0.50重量%以下、
Mn0.30重量%以下、Al0.05重量%以下を含有し、
残部が実質的にFeからなる材料、およびこれに
さらにNb、Ti、Ta、Znの1種または2種以上
を合計で0.6重量%以下および/またはNi3.0重量
%以下およびCu2.0重量%以下の1種または2種
を含有したリードフレーム材料が提供される。 以下に本発明をより詳細に説明する。 今、Fe−Cr系合金における耐食性およびめつ
き性をCr含量との関係で説明すると第1図およ
び第2図のようになる。第1図は温度49℃、湿度
98%で96時間の湿潤試験を行つた場合のCr含量
と単位面積当りの発錆個数との関係を示すもので
あり、この図よりCr含量が0〜4重量%までは
試料の全面に発錆が生ずるが、Cr含量が5重量
%以上になると発錆が急激に減少し、実用上十分
な耐食性を有することがわかる。また、第2図は
試料上に銅ストライクめつきを施した後、さらに
全面に銀めつきを施し、これを450℃に加熱した
ホツトプレート上にのせて大気中で5分間放置し
た場合のCr含量と単位面積当りのフクレ発生個
数との関係を示すものであり、この図からめつき
性はCr含量が少い程良好であり、Cr含量が10.5重
量%を越えると急激に劣化することがわかる。従
つて、耐食性およびめつき性の両特性を共に具備
せしめるためにはCr含量を5.0〜10.5重量%の範
囲とする。 また本発明は上述のような低Cr領域とすると
ともにC、Si、Mn、Alの上限値を規定する必要
がある。すなわちSi、Al、Mn等の酸素との親和
力の大きい元素(脱酸元素)を含有すると、
SiO2、Al2O3、MnO等の酸化物できやすく、特
に帯鋼まで加工する途中における焼鈍中や、加工
終了後の大気中放置等により極く表層に強固な酸
化膜が形成されることが多い。これらの酸化皮膜
はその後のめつき工程、はんだ付け工程におい
て、化学処理またははんだフラツクスの還元作用
によつても十分に除去されず、めつき性、はんだ
付け性を阻害させると考えられる。したがつて実
用上の上限をそれぞれSi:0.50重量%、Al:0.05
重量%、Mn:0.30重量%とする。 またCは0.05重量%を越えて含有すると炭化物
等の形成が著しく、耐食性が劣化したりまたオー
ステナイト領域を増大させ、熱処理時のフエライ
トの安定性を阻害することになるためその上限は
0.05重量%とする。また多量のC添加はオーステ
ナイト域からの加熱後の冷却によつてマルテンサ
イト化し、ひずみ等発生の原因となり、超精密な
寸法精度を要求されるIC等のリードフレーム材
料として不適当になるためである。 本発明にあつては、上記基本合金の耐食性をよ
り向上させるためにNb0.6重量%以下、Ti0.6重
量%以下、Ta0.6重量%以下、Zn0.6重量%以下
の量で含有せしめてもよい。この場合Nb、Ti、
Ta、Zrの各元素は単独で含有せしめてもあるい
は2種以上を含有せしめてもよいがこれら元素の
合計量が0.6重量%を越えると金属間化合物、炭
化物等の第2相が多くなり耐食性が劣化するので
避けなければならない。 また、上記基本合金にNi3.0重量%以下および
Cu2.0重量%以下の1種または2種を含有させて
もよい。これによりめつき性がより向上する。す
なわち、めつき下地効果としてめつき膜とのなじ
みがよくなるためにめつき性が向上するものと思
われる。しかしNiが3.0重量%を越えると、フエ
ライト相が不安定化するほか高価となり本発明の
意図にそぐわなくなる。またCuが2.0重量%を越
えるとフエライト相を不安定化するとともに固溶
しきれずに粒界等に存在するCuが熱間加工性を
著しく阻害するので避けなければならない。 さらに本発明では基本合金にNb、Ti、Ta、
Zrの1種または2種以上とNiおよびCuの1種ま
たは2種とも上述した含量範囲において併有させ
てもよい。これによりNb、Ti、Ta、Zrを含有
させることによる耐食性の向上とともにNi、Cu
を含有させることによるめつき性の向上がともに
図れることになる。 なお、本発明の各合金に所望によりMoを0.2〜
4.0重量%含有させてもよい。これによりフエラ
イト相の安定化、耐食性の向上が期待できる。 以上のような本発明によれば、極めて低廉にし
てめつき性、耐食性、はんだ付け性等に優れた
ICリードフレーム材料が提供され、実用的に極
めて有用である。 以下に実施例を示す。 実施例 次表に示すような成分組成となるように各成分
を調整して各合金試料を調整した。溶製は大気中
にて行い、ガス成分の除去には十分注意を払つた
結果、O:20〜80ppm、N:60〜100ppmであつ
た。 各試料のうちNo.1〜No.4は本発明の実施例を、
またNo.5〜No.7は比較例を示す。これら各試料
を前述した耐食性試験およびめつき性試験に供し
た。また、はんだ付け性試験としてメニスコグラ
フ法による自動はんだ付け試験装置を使用し、下
記の条件にて試験し、はんだ槽への装入直後の試
片のうける最大浮力と、10秒後の浮力の差(%)
ではんだ付けを判定した(大きい程はんだ付け性
良)。 はんだ種類 60%Sn−40%Pb 温 度 220℃ 非ハロゲンフラツクス使用 試験片 0.25t×10w(冷延素材のまま) はんだへの浸漬深さ 2mm これらの試験結果を次表に示す。
れた低Cr−Fe系合金からなるICリードフレーム
材料に関する。 近時のエレクトロニクス分野等の発展に伴い、
IC(集積回路)の需要が飛躍的に増大し、そのリ
ードフレーム材料の需要も増大し、安価なリード
フレーム材料の開発が当業界の待望するところに
なつている。 一般にこれらリードフレーム材は帯材となした
後、裁断、打抜き加工を施し、その表面にCu、
Ag、Au等がめつき等により被覆され、これにシ
リコンチツプをボンデイング(ダイボンデイン
グ)し結線(ワイヤボンデイング)することによ
りICとして使用されるものである。従つて、こ
れらリードフレーム材料はめつき性が良好である
ことを必要とし、さらにその端子部がIC基盤等
にはんだ付けされるために耐食性とともに良好な
はんだ付け性が要求される。 従来、リードフレーム材料は銅合金あるいは曲
型的には42%Ni−Fe合金で代表される熱膨脹制
御合金等で形成されていた。しかしながら、前述
したようにリードフレーム材料の需要の増大によ
る大量生産に伴い、従来材よりも少しでも安価な
材料を提供することは実用上極めて有益である。 安価な材料としては純鉄を用いればよいが、純
鉄は耐食性が劣るため実用に供し得ない。また通
常のFe−Cr系合金、例えばSUS430(17%Cr−
Fe、SUS410(13%Cr−Fe)等の実用鋼種は耐食
性は良好であるが、はんだ付け性およびめつき性
が著しく劣り、リードフレーム材料として使用す
ることは全く顧みられなかつた。 しかるところ、本発明者は純鉄およびFe−Cr
系合金の安価な点に着目し、純鉄における耐食性
を改善し、同時に従来のFe−Cr系合金のはんだ
付け性およびめつき性を改善するために種種検討
したところ、通常のFe−Cr系合金におけるより
も少量のCrを含有せしめ且つ酸化物形成元素の
C、Si、Mn、Alの上限値を規定することにより
ICリードフレーム材料としての諸特性が具備さ
れることを見い出し、本発明を完成したものであ
る。 すなわち、本発明によれば、Cr5.0〜10.5重量
%、C0.05重量%以下、Si0.50重量%以下、
Mn0.30重量%以下、Al0.05重量%以下を含有し、
残部が実質的にFeからなる材料、およびこれに
さらにNb、Ti、Ta、Znの1種または2種以上
を合計で0.6重量%以下および/またはNi3.0重量
%以下およびCu2.0重量%以下の1種または2種
を含有したリードフレーム材料が提供される。 以下に本発明をより詳細に説明する。 今、Fe−Cr系合金における耐食性およびめつ
き性をCr含量との関係で説明すると第1図およ
び第2図のようになる。第1図は温度49℃、湿度
98%で96時間の湿潤試験を行つた場合のCr含量
と単位面積当りの発錆個数との関係を示すもので
あり、この図よりCr含量が0〜4重量%までは
試料の全面に発錆が生ずるが、Cr含量が5重量
%以上になると発錆が急激に減少し、実用上十分
な耐食性を有することがわかる。また、第2図は
試料上に銅ストライクめつきを施した後、さらに
全面に銀めつきを施し、これを450℃に加熱した
ホツトプレート上にのせて大気中で5分間放置し
た場合のCr含量と単位面積当りのフクレ発生個
数との関係を示すものであり、この図からめつき
性はCr含量が少い程良好であり、Cr含量が10.5重
量%を越えると急激に劣化することがわかる。従
つて、耐食性およびめつき性の両特性を共に具備
せしめるためにはCr含量を5.0〜10.5重量%の範
囲とする。 また本発明は上述のような低Cr領域とすると
ともにC、Si、Mn、Alの上限値を規定する必要
がある。すなわちSi、Al、Mn等の酸素との親和
力の大きい元素(脱酸元素)を含有すると、
SiO2、Al2O3、MnO等の酸化物できやすく、特
に帯鋼まで加工する途中における焼鈍中や、加工
終了後の大気中放置等により極く表層に強固な酸
化膜が形成されることが多い。これらの酸化皮膜
はその後のめつき工程、はんだ付け工程におい
て、化学処理またははんだフラツクスの還元作用
によつても十分に除去されず、めつき性、はんだ
付け性を阻害させると考えられる。したがつて実
用上の上限をそれぞれSi:0.50重量%、Al:0.05
重量%、Mn:0.30重量%とする。 またCは0.05重量%を越えて含有すると炭化物
等の形成が著しく、耐食性が劣化したりまたオー
ステナイト領域を増大させ、熱処理時のフエライ
トの安定性を阻害することになるためその上限は
0.05重量%とする。また多量のC添加はオーステ
ナイト域からの加熱後の冷却によつてマルテンサ
イト化し、ひずみ等発生の原因となり、超精密な
寸法精度を要求されるIC等のリードフレーム材
料として不適当になるためである。 本発明にあつては、上記基本合金の耐食性をよ
り向上させるためにNb0.6重量%以下、Ti0.6重
量%以下、Ta0.6重量%以下、Zn0.6重量%以下
の量で含有せしめてもよい。この場合Nb、Ti、
Ta、Zrの各元素は単独で含有せしめてもあるい
は2種以上を含有せしめてもよいがこれら元素の
合計量が0.6重量%を越えると金属間化合物、炭
化物等の第2相が多くなり耐食性が劣化するので
避けなければならない。 また、上記基本合金にNi3.0重量%以下および
Cu2.0重量%以下の1種または2種を含有させて
もよい。これによりめつき性がより向上する。す
なわち、めつき下地効果としてめつき膜とのなじ
みがよくなるためにめつき性が向上するものと思
われる。しかしNiが3.0重量%を越えると、フエ
ライト相が不安定化するほか高価となり本発明の
意図にそぐわなくなる。またCuが2.0重量%を越
えるとフエライト相を不安定化するとともに固溶
しきれずに粒界等に存在するCuが熱間加工性を
著しく阻害するので避けなければならない。 さらに本発明では基本合金にNb、Ti、Ta、
Zrの1種または2種以上とNiおよびCuの1種ま
たは2種とも上述した含量範囲において併有させ
てもよい。これによりNb、Ti、Ta、Zrを含有
させることによる耐食性の向上とともにNi、Cu
を含有させることによるめつき性の向上がともに
図れることになる。 なお、本発明の各合金に所望によりMoを0.2〜
4.0重量%含有させてもよい。これによりフエラ
イト相の安定化、耐食性の向上が期待できる。 以上のような本発明によれば、極めて低廉にし
てめつき性、耐食性、はんだ付け性等に優れた
ICリードフレーム材料が提供され、実用的に極
めて有用である。 以下に実施例を示す。 実施例 次表に示すような成分組成となるように各成分
を調整して各合金試料を調整した。溶製は大気中
にて行い、ガス成分の除去には十分注意を払つた
結果、O:20〜80ppm、N:60〜100ppmであつ
た。 各試料のうちNo.1〜No.4は本発明の実施例を、
またNo.5〜No.7は比較例を示す。これら各試料
を前述した耐食性試験およびめつき性試験に供し
た。また、はんだ付け性試験としてメニスコグラ
フ法による自動はんだ付け試験装置を使用し、下
記の条件にて試験し、はんだ槽への装入直後の試
片のうける最大浮力と、10秒後の浮力の差(%)
ではんだ付けを判定した(大きい程はんだ付け性
良)。 はんだ種類 60%Sn−40%Pb 温 度 220℃ 非ハロゲンフラツクス使用 試験片 0.25t×10w(冷延素材のまま) はんだへの浸漬深さ 2mm これらの試験結果を次表に示す。
【表】
上表より、本発明実施例のものは比較例のもの
に比べて耐食性、めつき性およびはんだ付け性が
ともに優れたものであることが明らかである。
に比べて耐食性、めつき性およびはんだ付け性が
ともに優れたものであることが明らかである。
第1図は耐食性試験におけるCr含量と単位面
積当りの発錆個数との関係図である。第2図はめ
つき性試験におけるCr含量と単位面積当りのフ
クレ発生個数との関係図である。
積当りの発錆個数との関係図である。第2図はめ
つき性試験におけるCr含量と単位面積当りのフ
クレ発生個数との関係図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 Cr5.0〜10.5重量%、C0.05重量%以下、
Si0.50重量%以下、Mn0.30重量%以下、Al0.05重
量%以下を含有し、残部が実質的にFeからなる
リードフレーム材料。 2 Cr5.0〜10.5重量%、C0.05重量%以下、
Si0.50重量%以下、Mn0.30重量%以下、Al0.05重
量%以下を含有し、さらにNb、Ti、Ta、Zrの
1種または2種以上を合計で0.6重量%以下含有
し、残部が実質的にFeからなるリードフレーム
材料。 3 Cr5.0〜10.5重量%、C0.05重量%以下、
Si0.50重量%以下、Mn0.30重量%以下、Al0.05重
量%以下を含有し、さらにNi3.0重量%以下およ
びCu2.0重量%以下の1種または2種を含有し、
残部が実質的にFeからなるリードフレーム材料。 4 Cr5.0〜10.5重量%、C0.05重量%以下、
Si0.50重量%以下、Mn0.30重量%以下、Al0.05重
量%以下、Nb、Ti、Ta、Zrの1種または2種
以上を合計で0.6重量%以下を含有し、さらに
Ni3.0重量%以下およびCu2.0重量%以下の1種ま
たは2種を含有し、残部が実質的にFeからなる
リードフレーム材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11816582A JPS599149A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | リ−ドフレ−ム材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11816582A JPS599149A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | リ−ドフレ−ム材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS599149A JPS599149A (ja) | 1984-01-18 |
| JPS6366377B2 true JPS6366377B2 (ja) | 1988-12-20 |
Family
ID=14729713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11816582A Granted JPS599149A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | リ−ドフレ−ム材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS599149A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6026642A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-02-09 | Nippon Mining Co Ltd | リ−ドフレ−ム用鉄基合金 |
| JPS60102151A (ja) * | 1983-11-09 | 1985-06-06 | Riken Vitamin Co Ltd | 新規な乳化剤組成物およびでん粉食品の品質改良法 |
| JPS60103158A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | Hitachi Metals Ltd | Icリ−ドフレ−ム材料 |
| JPS61119656A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-06 | Hitachi Metals Ltd | Icリ−ドフレ−ム材料 |
| JPS61119653A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-06 | Hitachi Metals Ltd | Icリ−ドフレ−ム材料 |
| JPH07116555B2 (ja) * | 1985-06-11 | 1995-12-13 | 大同特殊鋼株式会社 | リードフレーム材料およびその製造方法 |
| JPS6355968A (ja) * | 1986-08-26 | 1988-03-10 | Mitsui Haitetsuku:Kk | リ−ドフレ−ム |
| JPS63109155A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-13 | Nippon Steel Corp | 耐食性、はんだ性、密着性にすぐれたCu系被覆鋼板の製造方法 |
| JPH0788529B2 (ja) * | 1987-02-02 | 1995-09-27 | 日本鋼管株式会社 | リードフレーム用フェライト系ステンレス鋼の製造方法 |
| JPH0210761A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-16 | Mitsui High Tec Inc | リードフレーム及びその製造方法 |
| JP2534954Y2 (ja) * | 1991-05-22 | 1997-05-07 | 株式会社トーキン | 圧電振動ジャイロ |
| JP2534958Y2 (ja) * | 1991-06-21 | 1997-05-07 | 株式会社トーキン | 圧電振動ジャイロ |
| JP2534964Y2 (ja) * | 1991-09-30 | 1997-05-07 | 株式会社トーキン | 表面実装型振動ジャイロ |
| JPH0573518U (ja) * | 1992-03-11 | 1993-10-08 | 株式会社トーキン | 圧電振動ジャイロ |
| US5591392A (en) * | 1992-11-24 | 1997-01-07 | Nippon Steel Corporation | Steel plate having good corrosion resistance to condensed water |
| JP5598013B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2014-10-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置用像保持体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1550834A (en) * | 1975-07-24 | 1979-08-22 | Telcon Metals Ltd | Semiconductor devices |
| JPS582266B2 (ja) * | 1975-09-05 | 1983-01-14 | 昭和電工株式会社 | 高クロムフエライト系ステンレス鋼 |
| JPS5856012B2 (ja) * | 1977-12-07 | 1983-12-13 | 日新製鋼株式会社 | リジングを発生しないフエライト単相ステンレス鋼板の製造法 |
| JPS5750457A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-24 | Hitachi Metals Ltd | Ic lead frame material |
-
1982
- 1982-07-07 JP JP11816582A patent/JPS599149A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS599149A (ja) | 1984-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6366377B2 (ja) | ||
| JPS6252464B2 (ja) | ||
| JPS63109130A (ja) | 電子機器用銅合金 | |
| JP3777756B2 (ja) | フェライト系快削ステンレス鋼で製造した電子機器部品 | |
| JPS6314056B2 (ja) | ||
| US5205878A (en) | Copper-based electric and electronic parts having high strength and high electric conductivity | |
| JPS6239218B2 (ja) | ||
| JPS6215622B2 (ja) | ||
| JPS60152646A (ja) | 半導体用リ−ドフレ−ム材 | |
| JPS6244691B2 (ja) | ||
| JPH02197013A (ja) | 耐屈曲性ケーブル導体 | |
| JPS62130247A (ja) | 電子機器用銅合金 | |
| JPH0219432A (ja) | 半導体機器リード材又は導電性ばね材用高力高導電銅合金 | |
| JPS6338545A (ja) | 高力伝導性銅合金 | |
| JPS60230949A (ja) | 水晶振動子ケ−ス用材料 | |
| JPH0253502B2 (ja) | ||
| JPS5920438A (ja) | 半導体機器のリ−ド材用銅合金 | |
| JPS60218442A (ja) | リ−ドフレ−ム用銅合金 | |
| JPS61119656A (ja) | Icリ−ドフレ−ム材料 | |
| JP3273193B2 (ja) | 半田耐熱剥離性に優れた高強度高導電性銅基合金 | |
| JPH01198439A (ja) | プラスチック・ピン・グリット・アレイic用リード材 | |
| JPH02205624A (ja) | 半導体装置用リードフレーム合金の製造方法 | |
| JPS6157379B2 (ja) | ||
| JP3260451B2 (ja) | 電気伝導率とバネ限界値に優れたCu合金バネ用薄板およびその製造方法 | |
| JPS59145748A (ja) | 半導体機器のリ−ド材用銅合金 |