JPS6366918B2 - - Google Patents
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- JPS6366918B2 JPS6366918B2 JP59159087A JP15908784A JPS6366918B2 JP S6366918 B2 JPS6366918 B2 JP S6366918B2 JP 59159087 A JP59159087 A JP 59159087A JP 15908784 A JP15908784 A JP 15908784A JP S6366918 B2 JPS6366918 B2 JP S6366918B2
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- plating
- vertical
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0628—In vertical cells
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、電気亜鉛めつき鋼ストリツプまた
は亜鉛合金電気めつき鋼ストリツプを製造するた
めの垂直型電気亜鉛めつき装置に関するものであ
る。
は亜鉛合金電気めつき鋼ストリツプを製造するた
めの垂直型電気亜鉛めつき装置に関するものであ
る。
〔従来技術とその問題点〕
近時、自動車メーカーなどから、皮膜組成が均
一であつて、塗装後の耐食性に優れた電気亜鉛め
つき鋼板特に亜鉛と鉄、ニツケル、コバルト、ク
ロム等との亜鉛合金電気めつき鋼板が強く要求さ
れている。
一であつて、塗装後の耐食性に優れた電気亜鉛め
つき鋼板特に亜鉛と鉄、ニツケル、コバルト、ク
ロム等との亜鉛合金電気めつき鋼板が強く要求さ
れている。
このような電気亜鉛めつき鋼板の製造装置とし
て、鋼ストリツプを、水平に設けられた複数の電
気めつき槽内を通して電気めつきする水平型電気
亜鉛めつき装置と、前記鋼ストリツプを、垂直に
設けられた複数の電気めつき槽内を通して電気め
つきする垂直型電気亜鉛めつき装置とが知られて
いる。垂直型電気亜鉛めつき装置は、水平型電気
亜鉛めつき装置に比べて、敷地面積が少なくてす
み、且つ、複数の電気めつき槽を通る鋼ストリツ
プに、波打ちの生ずることがない利点を有してい
る。
て、鋼ストリツプを、水平に設けられた複数の電
気めつき槽内を通して電気めつきする水平型電気
亜鉛めつき装置と、前記鋼ストリツプを、垂直に
設けられた複数の電気めつき槽内を通して電気め
つきする垂直型電気亜鉛めつき装置とが知られて
いる。垂直型電気亜鉛めつき装置は、水平型電気
亜鉛めつき装置に比べて、敷地面積が少なくてす
み、且つ、複数の電気めつき槽を通る鋼ストリツ
プに、波打ちの生ずることがない利点を有してい
る。
第５図は、このような従来の垂直型電気亜鉛め
つき装置のめつき槽を示す概略構成断面図であ
る。めつき槽１は、槽内の下部に設けられたシン
クロール２と、めつき槽１の上方に設けられた入
口側コンダクタロール３および出口側コンダクタ
ロール４と、入口側コンダクタロール３、シンク
ロール２および出口側コンダクタロール４にかけ
回されて、めつき槽１内を下降する鋼ストリツプ
５を、その両側からはさむように、入口側コンダ
クタロール３とシンクロール２との間のめつき槽
１内に設けられた１対の電極６と、めつき槽１内
を上昇する鋼ストリツプ５を、その両側からはさ
むように、出口側コンダクタロール４とシンクロ
ール２との間のめつき槽１内に設けられた１対の
電極７と、めつき槽１内の下部に、電極６，７の
各々と鋼ストリツプ５との間の間隙に向けて、電
極６，７の各々の下方に設けられた、めつき液を
噴射するためのノズル８，９とからなつている。
つき装置のめつき槽を示す概略構成断面図であ
る。めつき槽１は、槽内の下部に設けられたシン
クロール２と、めつき槽１の上方に設けられた入
口側コンダクタロール３および出口側コンダクタ
ロール４と、入口側コンダクタロール３、シンク
ロール２および出口側コンダクタロール４にかけ
回されて、めつき槽１内を下降する鋼ストリツプ
５を、その両側からはさむように、入口側コンダ
クタロール３とシンクロール２との間のめつき槽
１内に設けられた１対の電極６と、めつき槽１内
を上昇する鋼ストリツプ５を、その両側からはさ
むように、出口側コンダクタロール４とシンクロ
ール２との間のめつき槽１内に設けられた１対の
電極７と、めつき槽１内の下部に、電極６，７の
各々と鋼ストリツプ５との間の間隙に向けて、電
極６，７の各々の下方に設けられた、めつき液を
噴射するためのノズル８，９とからなつている。
ノズル８，９から噴射されためつき液は、１対
の電極６，６間および電極７，７間を通つて上昇
し、めつき槽１の上部に設けられた溢流口１０か
らオーバーフローし、図示しない循環機構によつ
てノズル８，９に導かれ、循環する。
の電極６，６間および電極７，７間を通つて上昇
し、めつき槽１の上部に設けられた溢流口１０か
らオーバーフローし、図示しない循環機構によつ
てノズル８，９に導かれ、循環する。
このようなめつき槽１内に、入口側コンダクタ
ロール３、シンクロール２、出口側コンダクタロ
ール４によつて導かれた鋼ストリツプ５は、電極
６，６間および電極７，７間を通る間に、連続的
に電気亜鉛めつきされる。
ロール３、シンクロール２、出口側コンダクタロ
ール４によつて導かれた鋼ストリツプ５は、電極
６，６間および電極７，７間を通る間に、連続的
に電気亜鉛めつきされる。
しかしながら、上述した従来の装置には、次の
ような問題がある。即ち、ノズル８，９から噴射
されて、電極６，６間および電極７，７間を上昇
するめつき液の流速は、電極６，６および電極
７，７の、ノズル８，９に近い下部に比べて、ノ
ズル８，９より遠い上部ほど遅く、めつき液の流
速分布は不均一となる。電気亜鉛めつき鋼ストリ
ツプ特に鉄−亜鉛合金のような亜鉛合金電気めつ
き鋼ストリツプのめつき皮膜の組成や外観（光
沢）は、めつき液の流動条件によつて大巾に異な
り、均質な皮膜組成や外観を有する亜鉛合金電気
めつき鋼ストリツプを製造するためには、めつき
液の流速分布が均一であることを必要とする。し
かるに、上述したように、従来の装置において
は、ノズル８，９から噴射されるめつき液の、め
つき槽１内における流速分布が不均一なため、均
質な皮膜組成や外観を有する亜鉛合金電気めつき
鋼ストリツプを得ることができない。
ような問題がある。即ち、ノズル８，９から噴射
されて、電極６，６間および電極７，７間を上昇
するめつき液の流速は、電極６，６および電極
７，７の、ノズル８，９に近い下部に比べて、ノ
ズル８，９より遠い上部ほど遅く、めつき液の流
速分布は不均一となる。電気亜鉛めつき鋼ストリ
ツプ特に鉄−亜鉛合金のような亜鉛合金電気めつ
き鋼ストリツプのめつき皮膜の組成や外観（光
沢）は、めつき液の流動条件によつて大巾に異な
り、均質な皮膜組成や外観を有する亜鉛合金電気
めつき鋼ストリツプを製造するためには、めつき
液の流速分布が均一であることを必要とする。し
かるに、上述したように、従来の装置において
は、ノズル８，９から噴射されるめつき液の、め
つき槽１内における流速分布が不均一なため、均
質な皮膜組成や外観を有する亜鉛合金電気めつき
鋼ストリツプを得ることができない。
上述した問題は、第５図に示したようにノズル
８，９がめつき槽１内の下部に設けられている場
合に限られるものではなく、ノズル８，９が、め
つき槽１内の上部の電極６，７の各々の上方に、
電極６，７の各々と鋼ストリツプ５との間の間隙
に向けて設けられている場合、および、電極６，
７の各々の側方に、電極６，７の各々と鋼ストリ
ツプ５の間の間隙に向けて、鋼ストリツプ５の移
動方向と直交させてめつき液を噴射するように設
けた場合でも同じように生ずる。
８，９がめつき槽１内の下部に設けられている場
合に限られるものではなく、ノズル８，９が、め
つき槽１内の上部の電極６，７の各々の上方に、
電極６，７の各々と鋼ストリツプ５との間の間隙
に向けて設けられている場合、および、電極６，
７の各々の側方に、電極６，７の各々と鋼ストリ
ツプ５の間の間隙に向けて、鋼ストリツプ５の移
動方向と直交させてめつき液を噴射するように設
けた場合でも同じように生ずる。
従つて、この発明の目的は、均質な組成のめつ
き皮膜を有する電気亜鉛めつき鋼ストリツプまた
は亜鉛合金電気めつき鋼ストリツプを製造するた
めの垂直型電気亜鉛めつき装置を提供することに
ある。
き皮膜を有する電気亜鉛めつき鋼ストリツプまた
は亜鉛合金電気めつき鋼ストリツプを製造するた
めの垂直型電気亜鉛めつき装置を提供することに
ある。
この発明は、
垂直型めつき槽と、前記垂直型めつき槽の上方
に設けられた入口側コンダクタロールおよび出口
側コンダクタロールと、前記垂直型めつき槽内の
下部に設けられたシンクロールと、前記入口側コ
ンダクタロール、シンクロールおよび出口側コン
ダクタロールにかけ回されて、前記垂直型めつき
槽内を下降し次いで上昇する鋼ストリツプを、一
定の間隔をおいてその両側からはさむように、前
記入口側コンダクタロールと前記シンクロールと
の間、および、前記出口側コンダクタロールと前
記シンクロールとの間の前記垂直型めつき槽内に
各々設けられた１対の電極とからなり、前記垂直
型めつき槽内にめつき液を供給し、前記めつき液
の供給された垂直型めつき槽内に鋼ストリツプを
連続的に移動させることによつて、前記鋼ストリ
ツプに電気亜鉛めつきを施す垂直型電気亜鉛めつ
き装置において、 前記垂直型めつき槽のめつき液通路を、平行
な、同じ水平断面積を有する２つの垂直通路と、
前記２つの垂直通路の各々の下部を連結する水平
通路とからなるＵ字状に形成し、一方の垂直通路
の上端に、めつき液を供給するための、前記垂直
通路の水平断面積より広い水平断面積を有するめ
つき液溜りを設け、前記めつき液溜り内のめつき
液中にその下部が浸漬されるように、前記めつき
液溜りにめつき液供給管を設け、他方の垂直通路
の上端に、めつき液をオーバーフローするための
めつき液排出管を設け、前記めつき液排出管の開
口端は、前記一方の垂直通路の前記めつき液溜り
の上端よりも低い場所に位置しており、前記めつ
き液溜りに供給されためつき液の水頭と、前記溢
流口からオーバーフローするめつき液の水頭との
差、および、２つの垂直通路の水平断面積が同一
であることによつて、前記めつき液溜りに供給さ
れためつき液が、一定の速度で前記めつき液通路
を流れ、前記溢流口からオーバーフローするよう
にしたことに特徴を有するものである。
に設けられた入口側コンダクタロールおよび出口
側コンダクタロールと、前記垂直型めつき槽内の
下部に設けられたシンクロールと、前記入口側コ
ンダクタロール、シンクロールおよび出口側コン
ダクタロールにかけ回されて、前記垂直型めつき
槽内を下降し次いで上昇する鋼ストリツプを、一
定の間隔をおいてその両側からはさむように、前
記入口側コンダクタロールと前記シンクロールと
の間、および、前記出口側コンダクタロールと前
記シンクロールとの間の前記垂直型めつき槽内に
各々設けられた１対の電極とからなり、前記垂直
型めつき槽内にめつき液を供給し、前記めつき液
の供給された垂直型めつき槽内に鋼ストリツプを
連続的に移動させることによつて、前記鋼ストリ
ツプに電気亜鉛めつきを施す垂直型電気亜鉛めつ
き装置において、 前記垂直型めつき槽のめつき液通路を、平行
な、同じ水平断面積を有する２つの垂直通路と、
前記２つの垂直通路の各々の下部を連結する水平
通路とからなるＵ字状に形成し、一方の垂直通路
の上端に、めつき液を供給するための、前記垂直
通路の水平断面積より広い水平断面積を有するめ
つき液溜りを設け、前記めつき液溜り内のめつき
液中にその下部が浸漬されるように、前記めつき
液溜りにめつき液供給管を設け、他方の垂直通路
の上端に、めつき液をオーバーフローするための
めつき液排出管を設け、前記めつき液排出管の開
口端は、前記一方の垂直通路の前記めつき液溜り
の上端よりも低い場所に位置しており、前記めつ
き液溜りに供給されためつき液の水頭と、前記溢
流口からオーバーフローするめつき液の水頭との
差、および、２つの垂直通路の水平断面積が同一
であることによつて、前記めつき液溜りに供給さ
れためつき液が、一定の速度で前記めつき液通路
を流れ、前記溢流口からオーバーフローするよう
にしたことに特徴を有するものである。
次に、この発明を、図面を参照しながら説明す
る。
る。
第１図はこの発明の装置の１つの実施態様を示
す概略縦断面図、第２図は同じく概略平面図であ
る。図面に示すように、めつき槽１１は、Ｕ字状
に形成され、平行な、同じ水平断面積を有する２
つの垂直通路１２ａ，１２ｂと、垂直通路１２
ａ，１２ｂの下端を連結する水平通路１２ｃとか
らなるＵ字状のめつき液通路１２を有している。
めつき液通路１２の水平通路１２Ｃの両隅部に
は、シンクロール１３，１４が設けられ、そし
て、一方の垂直通路１２ａの開口１２ｄの上方に
は入口側コンダクタロール１５が、また、他方の
垂直通路１２ｂの開口１２ｅの上方には出口側コ
ンダクタロール１６が設けられている。一方の垂
直通路１２ａの開口１２ｄには、めつき液をオー
バーフローさせるための溢流口１７を有するめつ
き液排出管２４が設けられており、他方の垂直通
路１２ｂの開口１２ｅには、垂直通路１２ｂの水
平断面積より広い水平断面積を有するめつき液溜
り１８が設けられている。
す概略縦断面図、第２図は同じく概略平面図であ
る。図面に示すように、めつき槽１１は、Ｕ字状
に形成され、平行な、同じ水平断面積を有する２
つの垂直通路１２ａ，１２ｂと、垂直通路１２
ａ，１２ｂの下端を連結する水平通路１２ｃとか
らなるＵ字状のめつき液通路１２を有している。
めつき液通路１２の水平通路１２Ｃの両隅部に
は、シンクロール１３，１４が設けられ、そし
て、一方の垂直通路１２ａの開口１２ｄの上方に
は入口側コンダクタロール１５が、また、他方の
垂直通路１２ｂの開口１２ｅの上方には出口側コ
ンダクタロール１６が設けられている。一方の垂
直通路１２ａの開口１２ｄには、めつき液をオー
バーフローさせるための溢流口１７を有するめつ
き液排出管２４が設けられており、他方の垂直通
路１２ｂの開口１２ｅには、垂直通路１２ｂの水
平断面積より広い水平断面積を有するめつき液溜
り１８が設けられている。
めつき液通路１２の一方の垂直通路１２ａに
は、入口側コンダクタロール１５、シンクロール
１３，１４、出口側コンダクタロール１６にかけ
回されて、垂直通路１２ａを下降する鋼ストリツ
プ５を、その両側から一定間隔をおいてはさむよ
うに、１対の電極１９，１９が垂直に設けられて
いる。めつき液通路１２の他方の垂直通路１２ｂ
には、入口側コンダクタロール１５、シンクロー
ル１３，１４、出口側コンダクタロール１６にか
け回されて、垂直通路１２ｂを上昇する鋼ストリ
ツプ５を、その両側から一定間隔をおいてはさむ
ように、１対の電極２０，２０が垂直に設けられ
ている。
は、入口側コンダクタロール１５、シンクロール
１３，１４、出口側コンダクタロール１６にかけ
回されて、垂直通路１２ａを下降する鋼ストリツ
プ５を、その両側から一定間隔をおいてはさむよ
うに、１対の電極１９，１９が垂直に設けられて
いる。めつき液通路１２の他方の垂直通路１２ｂ
には、入口側コンダクタロール１５、シンクロー
ル１３，１４、出口側コンダクタロール１６にか
け回されて、垂直通路１２ｂを上昇する鋼ストリ
ツプ５を、その両側から一定間隔をおいてはさむ
ように、１対の電極２０，２０が垂直に設けられ
ている。
一方の垂直通路１２ａの開口１２ｄに設けられ
た、めつき液排出管２４の開口端である溢流口１
７は、溢流口１７からオーバーフローするめつき
液の水頭が、他方の垂直通路１２ｂの開口１２ｅ
に設けられためつき液溜り１８に供給されためつ
き液の水頭より低くなる位置に設けられている。
た、めつき液排出管２４の開口端である溢流口１
７は、溢流口１７からオーバーフローするめつき
液の水頭が、他方の垂直通路１２ｂの開口１２ｅ
に設けられためつき液溜り１８に供給されためつ
き液の水頭より低くなる位置に設けられている。
めつき液溜り１８には、めつき液溜り１８内の
めつき液中にその下部が浸漬されるようにめつき
液供給管２１が設けられており、めつき液タンク
２２からポンプ２３を介し、めつき液供給管２１
を通つて、めつき液がめつき液溜り１８に供給さ
れる。めつき液溜り１８に供給されためつき液
は、溢流口１７との間の水頭差ｈに応じた流速で
めつき液通路１２ａを流れ、溢流口１７から排出
管２４を通つて、めつき液タンク２２に戻され
る。
めつき液中にその下部が浸漬されるようにめつき
液供給管２１が設けられており、めつき液タンク
２２からポンプ２３を介し、めつき液供給管２１
を通つて、めつき液がめつき液溜り１８に供給さ
れる。めつき液溜り１８に供給されためつき液
は、溢流口１７との間の水頭差ｈに応じた流速で
めつき液通路１２ａを流れ、溢流口１７から排出
管２４を通つて、めつき液タンク２２に戻され
る。
めつき液通路１２を流れるめつき液の所望の流
速を得るためには、めつき液の供給量を制御し、
これによつて適宜の水頭差ｈを維持させればよ
い。このようにしてめつき液通路１２を流れるめ
つき液の流速は、垂直通路１２ａ，１２ｂの水平
断面積が同一であるから、垂直通路１２ａ，１２
ｂの全長にわたつて、常に均一となる。
速を得るためには、めつき液の供給量を制御し、
これによつて適宜の水頭差ｈを維持させればよ
い。このようにしてめつき液通路１２を流れるめ
つき液の流速は、垂直通路１２ａ，１２ｂの水平
断面積が同一であるから、垂直通路１２ａ，１２
ｂの全長にわたつて、常に均一となる。
なお、めつき液供給管２１からめつき液溜り１
８内に供給されためつき液の運動エネルギーが、
垂直通路１２ｂ内に及ばないように、めつき液溜
り１８内のめつき液供給管２１の下方に邪摩板等
を設けてもよい。
８内に供給されためつき液の運動エネルギーが、
垂直通路１２ｂ内に及ばないように、めつき液溜
り１８内のめつき液供給管２１の下方に邪摩板等
を設けてもよい。
この発明の装置は、上述のように構成されてい
るので、めつき槽１１のめつき液通路１２内に、
入口側コンダクタロール１５、シンクロール１
３，１４および出口側コンダクタロール１６に導
かれた鋼ストリツプ５は、電極１９，１９間およ
び電極２０，２０間を通る間に、連続的に電気め
つきされる。このとき、めつき液溜り１８に供給
され、めつき液通路１２を流れて溢流口１７から
排出されるめつき液の流速は、垂直通路１２ａ，
１２ｂの全長にわたつて常に均一であるから、均
質な被膜組成および外観を有する亜鉛合金電気め
つき鋼ストリツプを製造することができる。
るので、めつき槽１１のめつき液通路１２内に、
入口側コンダクタロール１５、シンクロール１
３，１４および出口側コンダクタロール１６に導
かれた鋼ストリツプ５は、電極１９，１９間およ
び電極２０，２０間を通る間に、連続的に電気め
つきされる。このとき、めつき液溜り１８に供給
され、めつき液通路１２を流れて溢流口１７から
排出されるめつき液の流速は、垂直通路１２ａ，
１２ｂの全長にわたつて常に均一であるから、均
質な被膜組成および外観を有する亜鉛合金電気め
つき鋼ストリツプを製造することができる。
第３図は、この発明の装置の他の実施態様を示
す概略縦断面図である。この実施態様の装置にお
いては、めつき液通路１２の垂直通路１２ａ，１
２ｂを接近させ、水平通路１２ｃに１つのシンク
ロール１３を設けた点が、前述した第１図および
第２図に示した装置と相違するだけで、他は前述
した装置と実質的に同じである。従つてその他の
説明は省略する。
す概略縦断面図である。この実施態様の装置にお
いては、めつき液通路１２の垂直通路１２ａ，１
２ｂを接近させ、水平通路１２ｃに１つのシンク
ロール１３を設けた点が、前述した第１図および
第２図に示した装置と相違するだけで、他は前述
した装置と実質的に同じである。従つてその他の
説明は省略する。
第４図は、この発明の装置の更に他の実施態様
を示す概略縦断面図である。この実施態様の装置
においては、めつき液通路１２の垂直通路１２
ａ，１２ｂの上端開口部に、めつき液溜り１８，
１８′が設けられている。めつき液溜り１８，１
８′の下部には、溢流口１７，１７′が設けられて
おり、溢流口１７，１７′には、開閉弁２５，２
５′を有する排出管２４，２４′が接続されてい
る。
を示す概略縦断面図である。この実施態様の装置
においては、めつき液通路１２の垂直通路１２
ａ，１２ｂの上端開口部に、めつき液溜り１８，
１８′が設けられている。めつき液溜り１８，１
８′の下部には、溢流口１７，１７′が設けられて
おり、溢流口１７，１７′には、開閉弁２５，２
５′を有する排出管２４，２４′が接続されてい
る。
めつき液供給管２１の端部は、２つに分岐され
て分岐管２１ａ，２１a′を形成しており、２つの
分岐管２１ａ，２１a′の各々の端部は、垂直通路
１２ａ，１２ｂの各々の上端開口部に設けられた
めつき液溜り１８，１８′内に位置している。分
岐管２１ａ，２１a′には、開閉弁２６，２６′が
設けられている。なお、この実施態様の装置の他
の構造は、前述した第１図および第２図に示す装
置と実質的に同じである。
て分岐管２１ａ，２１a′を形成しており、２つの
分岐管２１ａ，２１a′の各々の端部は、垂直通路
１２ａ，１２ｂの各々の上端開口部に設けられた
めつき液溜り１８，１８′内に位置している。分
岐管２１ａ，２１a′には、開閉弁２６，２６′が
設けられている。なお、この実施態様の装置の他
の構造は、前述した第１図および第２図に示す装
置と実質的に同じである。
この実施態様の装置は、上述のように構成され
ているので、一方のめつき液溜り１８の溢流口１
７に接続された排出管２４の開閉弁２５を開き、
他方のめつき液溜り１８′の溢流口１７′に接続さ
れた排出管２４′の開閉弁２５′を閉じ、そして、
めつき液供給管２１の一方の分岐管２１ａの開閉
弁２６を閉じ、他方の分岐管２１a′の開閉弁２
６′を開くときは、めつき液は、めつき液供給管
２１の他方の分岐管２１a′から、他方のめつき液
溜り１８′に供給され、めつき液通路１２を通る
鋼ストリツプ５と対向して、垂直通路１２ｂ、水
平通路１２ｃ、垂直通路１２ａを通つて流れ、一
方のめつき液溜り１８の溢流口１７から排出管２
４に排出される。
ているので、一方のめつき液溜り１８の溢流口１
７に接続された排出管２４の開閉弁２５を開き、
他方のめつき液溜り１８′の溢流口１７′に接続さ
れた排出管２４′の開閉弁２５′を閉じ、そして、
めつき液供給管２１の一方の分岐管２１ａの開閉
弁２６を閉じ、他方の分岐管２１a′の開閉弁２
６′を開くときは、めつき液は、めつき液供給管
２１の他方の分岐管２１a′から、他方のめつき液
溜り１８′に供給され、めつき液通路１２を通る
鋼ストリツプ５と対向して、垂直通路１２ｂ、水
平通路１２ｃ、垂直通路１２ａを通つて流れ、一
方のめつき液溜り１８の溢流口１７から排出管２
４に排出される。
そして、前記排出管２４の開閉弁２５を閉じ、
排出管２４′の開閉弁２５′を開き、且つ、分岐管
２１ａの開閉弁２６を開き、分岐管２１a′の開閉
弁２６′を閉じるときは、めつき液は上記と逆の
方向即ち、めつき液通路１２を通る鋼ストリツプ
５と同一方向に流れる。このように、この実施態
様の装置によれば、めつき液通路１２を流れるめ
つき液の方向を変えることができる。
排出管２４′の開閉弁２５′を開き、且つ、分岐管
２１ａの開閉弁２６を開き、分岐管２１a′の開閉
弁２６′を閉じるときは、めつき液は上記と逆の
方向即ち、めつき液通路１２を通る鋼ストリツプ
５と同一方向に流れる。このように、この実施態
様の装置によれば、めつき液通路１２を流れるめ
つき液の方向を変えることができる。
第１図および第２図に示した装置を使用し、下
記条件で、鋼ストリツプに電気めつき処理を施し
た。
記条件で、鋼ストリツプに電気めつき処理を施し
た。
(1) めつき液の組成
硫酸亜鉛：150ｇ／
硫酸第一鉄：350ｇ／
硫酸ナトリウム30ｇ／
酢酸ナトリウム：15ｇ／
クエン酸：15ｇ／
(2) めつき槽
１つの垂直通路の水平断面における各辺の長
さおよび水平断面積：２ｍ×0.22ｍ＝0.44m2 １つの垂直通路の、電極を除いた水平断面
積：0.224m2 (3) めつき条件 めつき液の温度：50℃ めつき液のPH値：2.0〜3.0 めつき電流密度：30〜60A／ｄm2 上記条件により、めつき液通路１２内に、垂直
通路１２ａ、水平通路１２ｃ、垂直通路１２ｂを
通つて、鋼ストリツプ５を、100ｍ／minの速度
で通過させ、一方、めつき液供給管２１から、垂
直通路１２ｂの上端に設けられためつき液溜り１
８内に、6.57m3／minの流量でめつき液を供給
し、めつき液をめつき液通路１２内に、垂直通路
１２ｂ、水平通路１２ｃ、垂直通路１２ａを通し
て流した。
さおよび水平断面積：２ｍ×0.22ｍ＝0.44m2 １つの垂直通路の、電極を除いた水平断面
積：0.224m2 (3) めつき条件 めつき液の温度：50℃ めつき液のPH値：2.0〜3.0 めつき電流密度：30〜60A／ｄm2 上記条件により、めつき液通路１２内に、垂直
通路１２ａ、水平通路１２ｃ、垂直通路１２ｂを
通つて、鋼ストリツプ５を、100ｍ／minの速度
で通過させ、一方、めつき液供給管２１から、垂
直通路１２ｂの上端に設けられためつき液溜り１
８内に、6.57m3／minの流量でめつき液を供給
し、めつき液をめつき液通路１２内に、垂直通路
１２ｂ、水平通路１２ｃ、垂直通路１２ａを通し
て流した。
その結果、めつき液通路１２内を流れるめつき
液の、鋼ストリツプ５との相対流速は、1.6ｍ／
secの一定値となり、めつき量40ｇ／m2、めつき
量に対する鉄の含有割合が18wt％の、均質な鉄
−亜鉛合金電気めつき鋼ストリツプを製造するこ
とができた。
液の、鋼ストリツプ５との相対流速は、1.6ｍ／
secの一定値となり、めつき量40ｇ／m2、めつき
量に対する鉄の含有割合が18wt％の、均質な鉄
−亜鉛合金電気めつき鋼ストリツプを製造するこ
とができた。
以上述べたように、この発明によれば、めつき
槽内を流れるめつき液の流速分布は均一となるた
め、均質な皮膜組成および外観を有する亜鉛合金
電気めつき鋼ストリツプを製造することができ、
めつき液の流速制御も容易である等、工業上多く
の優れた効果がもたらされる。
槽内を流れるめつき液の流速分布は均一となるた
め、均質な皮膜組成および外観を有する亜鉛合金
電気めつき鋼ストリツプを製造することができ、
めつき液の流速制御も容易である等、工業上多く
の優れた効果がもたらされる。
第１図はこの発明の装置の１つの実施態様を示
す概略縦断面図、第２図は同じく概略平面図、第
３図はこの発明の装置の他の実施態様を示す概略
縦断面図、第４図はこの発明の装置の更に他の実
施態様を示す概略縦断面図、第５図は従来の装置
を示す概略縦断面図である。図面において、 ５……鋼ストリツプ、１１……めつき槽、１２
……めつき液通路、１２ａ，１２ｂ……垂直通
路、１２ｃ……水平通路、１３，１４……シンク
ロール、１５……入口側コンダクタロール、１６
……出口側コンダクタロール、１７……溢流口、
１８……めつき液溜り、１９，２０……電極、２
１……めつき液供給管、２２……めつき液タン
ク、２３……ポンプ、２４……排出管、２５，２
６……開閉弁。
す概略縦断面図、第２図は同じく概略平面図、第
３図はこの発明の装置の他の実施態様を示す概略
縦断面図、第４図はこの発明の装置の更に他の実
施態様を示す概略縦断面図、第５図は従来の装置
を示す概略縦断面図である。図面において、 ５……鋼ストリツプ、１１……めつき槽、１２
……めつき液通路、１２ａ，１２ｂ……垂直通
路、１２ｃ……水平通路、１３，１４……シンク
ロール、１５……入口側コンダクタロール、１６
……出口側コンダクタロール、１７……溢流口、
１８……めつき液溜り、１９，２０……電極、２
１……めつき液供給管、２２……めつき液タン
ク、２３……ポンプ、２４……排出管、２５，２
６……開閉弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 垂直型めつき槽と、前記垂直型めつき槽の上
方に設けられた入口側コンダクタロールおよび出
口側コンダクタロールと、前記垂直型めつき槽内
の下部に設けられたシンクロールと、前記入口側
コンダクタロール、シンクロールおよび出口側コ
ンダクタロールにかけ回されて、前記垂直型めつ
き槽内を下降し次いで上昇する鋼ストリツプを、
一定の間隔をおいてその両側からはさむように、
前記入口側コンダクタロールと前記シンクロール
との間、および、前記出口側コンダクタロールと
前記シンクロールとの間の前記垂直型めつき槽内
に各々設けられた１対の電極とからなり、前記垂
直型めつき槽内にめつき液を供給し、前記めつき
液の供給された垂直型めつき槽内に鋼ストリツプ
を連続的に移動させることによつて、前記鋼スト
リツプに電気亜鉛めつきを施す垂直型電気亜鉛め
つき装置において、 前記垂直型めつき槽のめつき液通路を、平行
な、同じ水平断面積を有する２つの垂直通路と、
前記２つの垂直通路の各々の下部を連結する水平
通路とからなるＵ字状に形成し、一方の垂直通路
の上端に、めつき液を供給するための、前記垂直
通路の水平断面積より広い水平断面積を有するめ
つき液溜りを設け、前記めつき液溜り内のめつき
液中にその下部が浸漬されるように、前記めつき
液溜りにめつき液供給管を設け、他方の垂直通路
の上端に、めつき液をオーバーフローするための
めつき液排出管を設け、前記めつき液排出管の開
口端は、前記一方の垂直通路の前記めつき液溜り
の上端よりも低い場所に位置しており、前記めつ
き液溜りに供給されためつき液の水頭と、前記め
つき液排出管からオーバーフローするめつき液の
水頭との差、および、２つの垂直通路の水平断面
積が同一であることによつて、前記めつき液溜り
に供給されためつき液が、一定の速度で前記めつ
き液通路を流れ、前記めつき液排出管からオーバ
ーフローするようにしたことを特徴とする垂直型
電気亜鉛めつき装置。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15908784A JPS6137996A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 垂直型電気亜鉛めつき装置 |
| GB08517305A GB2162543B (en) | 1984-07-31 | 1985-07-09 | Vertical type electro-galvanizing apparatus |
| US06/753,223 US4601801A (en) | 1984-07-31 | 1985-07-09 | Vertical type electro-galvanizing apparatus |
| CA000486593A CA1242410A (en) | 1984-07-31 | 1985-07-10 | Vertical type electro-galvanizing apparatus |
| ZA855205A ZA855205B (en) | 1984-07-31 | 1985-07-10 | Vertical type electro-galvanizing apparatus |
| FR8511507A FR2568592B1 (fr) | 1984-07-31 | 1985-07-26 | Appareil de galvanisation electrolytique de type vertical |
| SE8503625A SE461401B (sv) | 1984-07-31 | 1985-07-29 | Elektroplaeteringsapparat av vertikal typ |
| ES545738A ES8703947A1 (es) | 1984-07-31 | 1985-07-30 | Aparato de electro-galvanizado, de tipo vertical |
| DE19853527490 DE3527490A1 (de) | 1984-07-31 | 1985-07-31 | Vertikal-(elektro-)verzinkungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15908784A JPS6137996A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 垂直型電気亜鉛めつき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6137996A JPS6137996A (ja) | 1986-02-22 |
| JPS6366918B2 true JPS6366918B2 (ja) | 1988-12-22 |
Family
ID=15685946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15908784A Granted JPS6137996A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 垂直型電気亜鉛めつき装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4601801A (ja) |
| JP (1) | JPS6137996A (ja) |
| CA (1) | CA1242410A (ja) |
| DE (1) | DE3527490A1 (ja) |
| ES (1) | ES8703947A1 (ja) |
| FR (1) | FR2568592B1 (ja) |
| GB (1) | GB2162543B (ja) |
| SE (1) | SE461401B (ja) |
| ZA (1) | ZA855205B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1182708B (it) * | 1985-02-08 | 1987-10-05 | Centro Speriment Metallurg | Perfezionamento nei dispositivi a celle verticali per l'elettrodeposizione, in continuo e a elevata densita' di corrente, di metalli |
| JPH0679484A (ja) * | 1992-07-14 | 1994-03-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ溶接方法 |
| US10274011B2 (en) | 2017-08-03 | 2019-04-30 | Goodrich Corporation | Electrodynamically finished plain bearings |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2317242A (en) * | 1939-04-28 | 1943-04-20 | Carnegie Illinois Steel Corp | Plating tank for electrodeposition of metals on metallic strip |
| US2554943A (en) * | 1945-10-25 | 1951-05-29 | Bethlehem Steel Corp | Electroplating apparatus |
| US2535966A (en) * | 1947-02-07 | 1950-12-26 | Teplitz Alfred | Electrolytic apparatus for cleaning strip |
| US2673836A (en) * | 1950-11-22 | 1954-03-30 | United States Steel Corp | Continuous electrolytic pickling and tin plating of steel strip |
| US4132609A (en) * | 1977-08-08 | 1979-01-02 | National Steel Corporation | Method of and apparatus for electrolytic treatment of metal |
| US4118302A (en) * | 1977-08-10 | 1978-10-03 | National Steel Corporation | Cathode structure for use in electrolytic process |
| DE3211340A1 (de) * | 1982-03-27 | 1983-09-29 | Frisch Kabel- Und Verseilmaschinenbau Gmbh, 4030 Ratingen | Vorrichtung zur elektrolytischen behandlung sowie spuel- oder beizeinrichtung fuer durchlaufendes strangfoermiges gut |
| DE3228641A1 (de) * | 1982-07-31 | 1984-02-02 | Hoesch Werke Ag, 4600 Dortmund | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von metallen aus waessrigen loesungen der metallsalze auf stahlband und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| US4434040A (en) * | 1982-09-28 | 1984-02-28 | United States Steel Corporation | Vertical-pass electrotreating cell |
| IT1173713B (it) * | 1983-05-16 | 1987-06-24 | Centro Speriment Metallurg | Dispositivo per il trattamento elettrolitico di nastri metallici |
| DE3436405A1 (de) * | 1983-11-10 | 1985-05-23 | Hoesch Ag, 4600 Dortmund | Verfahren und vorrichtung zum elektrolytischen abscheiden von metallen |
| EP0142010B1 (de) * | 1983-11-10 | 1987-12-23 | Hoesch Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Abscheiden von Metallen |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP15908784A patent/JPS6137996A/ja active Granted
-
1985
- 1985-07-09 US US06/753,223 patent/US4601801A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-07-09 GB GB08517305A patent/GB2162543B/en not_active Expired
- 1985-07-10 ZA ZA855205A patent/ZA855205B/xx unknown
- 1985-07-10 CA CA000486593A patent/CA1242410A/en not_active Expired
- 1985-07-26 FR FR8511507A patent/FR2568592B1/fr not_active Expired
- 1985-07-29 SE SE8503625A patent/SE461401B/sv not_active IP Right Cessation
- 1985-07-30 ES ES545738A patent/ES8703947A1/es not_active Expired
- 1985-07-31 DE DE19853527490 patent/DE3527490A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2568592B1 (fr) | 1987-11-20 |
| ES545738A0 (es) | 1987-03-01 |
| ES8703947A1 (es) | 1987-03-01 |
| SE461401B (sv) | 1990-02-12 |
| CA1242410A (en) | 1988-09-27 |
| DE3527490C2 (ja) | 1989-09-07 |
| GB8517305D0 (en) | 1985-08-14 |
| US4601801A (en) | 1986-07-22 |
| SE8503625L (sv) | 1986-02-01 |
| SE8503625D0 (sv) | 1985-07-29 |
| JPS6137996A (ja) | 1986-02-22 |
| DE3527490A1 (de) | 1986-02-06 |
| GB2162543A (en) | 1986-02-05 |
| FR2568592A1 (fr) | 1986-02-07 |
| ZA855205B (en) | 1986-02-26 |
| GB2162543B (en) | 1988-03-02 |
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