JPS637028B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS637028B2
JPS637028B2 JP57172661A JP17266182A JPS637028B2 JP S637028 B2 JPS637028 B2 JP S637028B2 JP 57172661 A JP57172661 A JP 57172661A JP 17266182 A JP17266182 A JP 17266182A JP S637028 B2 JPS637028 B2 JP S637028B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
recess
lead rod
protrusion
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57172661A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5961953A (ja
Inventor
Sadao Umetsu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toho Kinzoku Co Ltd
Original Assignee
Toho Kinzoku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toho Kinzoku Co Ltd filed Critical Toho Kinzoku Co Ltd
Priority to JP57172661A priority Critical patent/JPS5961953A/ja
Publication of JPS5961953A publication Critical patent/JPS5961953A/ja
Publication of JPS637028B2 publication Critical patent/JPS637028B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、半導体素子の構成部品の製法に関
するものである。
タングステン、モリブデン等の高融点金属でつ
くられた1対のチツプ(スラグ)の間にシリコン
ウエハを介装し、上記チツプの外側端部にはそれ
ぞれ金属リード棒を接合したダイオードが知られ
ている。上記チツプとリード棒とを接合してなる
半導体用部品の製造に際して従来採用されてきた
接合方法は、チツプの端面にリード棒を突き合わ
せてスポツト溶接する方法であつたので、両者の
接合強度が低く、使用中にリード棒が脱落しやす
いという大きな欠点があつた。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、
チツプとリード棒とが強固に接合された半導体用
部品の製法を提供するものであり、これについて
以下に説明する。
本発明にかかる半導体用部品の製造方法は、芯
部に凹部が形成された高融点金属焼結体からなる
チツプを製造する工程と、得られたチツプにバレ
ル研磨を施して凹部の開口部に内側に突出するバ
リ状突出部を形成する工程と、該凹部に金属リー
ド棒を据え込んでチツプとリード棒とを接合一体
化する工程とを有することを特徴としている。以
下、図面にあらわされた実施例について説明す
る。
この半導体用部品1は、タングステン、モリブ
デン等の高融点金属材料の焼結体でつくられたチ
ツプ2と、金属製のリード棒3を接合一体化して
なる。チツプ2は、第1図に示す如く、芯部に軸
方向の凹部4をそなえた円柱体として形成されて
いる。このようなチツプ2は、公知の粉末ヤ金法
例えば原料であるモリブデン等の金属粉末を自動
プレス機等で加圧成形し、還元雰囲気中または真
空中で焼結する方法によつて製造することができ
る。このように粉末成形時に金型で凹部4を成形
する場合は、該凹部に金型抜取り用の抜きテーパ
がつき、開口側が孔底側よりもわずかに径が大き
くなるのが普通である。なお、凹部4は焼結後に
穿設してもよい。
第2図は、チツプ2の凹部4開口縁部に内側に
突出するバリ状の突出部5を形成した例をあらわ
す。このような突出部5は、例えば焼結体である
凹部つきのチツプ2にバレル研磨処理を施すこと
によつて製造することができる。バレル研磨とし
ては、垂直面内で高速の遊星運動を行なう容器内
に水と多数のチツプを入れ、いわゆるともずり式
に研磨を行なうようなものが効果的である。この
バレル研磨によつてチツプ2の表面が平滑に仕上
げられるとともに、チツプ同士の衝突によつて凹
部4の開口縁部にダレが生じて、上記突出部5が
開口部のほゞ全周にわたつて環状に形成されるの
である。この突出部5の突出量は、片側で0.02〜
0.1mm、より好ましくは0.04〜0.06mmとするのがよ
い。なお、突出部5は必ずしも全周にわたつて形
成する必要はないが、全周に形成しておく方が有
利である。
つぎに、上記凹部4には、銅、銅合金(例え
ば、銅−ジルコン、銅−クロム)その他の金属材
料でつくられたリード棒3の先端部3aが据え込
まれる。これによつて、チツプ2とリード棒3と
が接合一体化された半導体用部品1が得られるの
である。このようにして得られた半導体用部品1
は、チツプ2とリード棒3の接合強度の高いすぐ
れたものである。従来の半導体用部品では、チツ
プ2の端面にリード棒3が突き合わされスポツト
溶接されていたので、曲げ方向の力に弱かつた
が、本発明にかかる半導体用部品は、チツプ2に
設けた凹部にリード棒が挿入されているため、曲
げ方向の力に対しても大きな抵抗力を示すのであ
る。なお、凹部4の内径d0とリード棒3の外径d2
の寸法差は、リード棒3の材質、凹部4の内径d0
の大きさ等に応じて最適なものを選べばよい。
以上のようにして製造した1対の半導体用部品
1,1を第4図に示すようにシリコンウエハ6を
挾んで互いに突き合わせ、そのまわりにガラスモ
ールド7を設けることにより、半導体であるガラ
スモールドダイオード9が得られるのである。
実施例 平均粒度3.0ミクロンのモリブデン粉末にビニ
ール系樹脂からなる造粒剤を添加して造粒し、自
動プレス機を用いて2〜3.5t/cm2の成形圧力で加
圧成形して第1図に示す形状とほゞ同形状の成形
体を得た。これを水素炉中で加熱(最高1100℃ま
で徐々に昇温)して造粒剤を完全に揮発させたの
ち、1850℃で3時間加熱して、比重が真比重の約
95%の焼結体とした。この焼結体には仕上処理と
してバレル研磨を施した。バレル研磨用の装置と
しては、高速遠心バレル機(ナガセ研磨機材社製
サーブ高速遠心バレル機、AN−40FB型)を使
用し、研磨材は使用せず、水とチツプだけで
150r.p.m.で24時間ともずりを行なつた。これに
よつて第2図に示すような形状のチツプ2が得ら
れた。同図において、D=1.5mm、l=2.0mm、d0
=0.87mm、d1=0.76mm、d3=0.77mm、t=1.0mm、
突出部5の突出量は片側で0.05mmであつた。
このチツプ2の凹部4に、外径d2=0.75mm、長
さL=30mmの銅製リード棒3の先端部を挿入し、
軸方向に加圧してその外周部が凹部内壁に充分密
着するまで据え込んだ。これによつて、目的とす
る半導体用部品が得られた。
得られた半導体用部品の接合強度を調べるた
め、引張り試験を行なつてリード棒3が引き抜か
れる荷重(引抜力)を測定した結果は、突出部5
を形成しないものが1〜3Kgであるのに対し、突
出部5を形成したものが5〜6Kgであつた。チツ
プの端部にリード棒を突合せ溶接した従来品の破
断荷重は2Kg以下であり、特に曲げ方向の力や衝
撃力に対する抵抗性に乏しかつた。
以上に説明したように、本発明にかかる半導体
用部品の製造方法は、芯部に凹部を有する焼結体
チツプにバレル研磨を施して凹部の開口縁部に内
向突出部を形成したのち、その凹部へリード棒を
据え込んで一体化するものであるから、チツプと
リード棒との接合強度が強い半導体用部品を大量
生産に適した比較的簡単な工程で得ることができ
るようになつた。
【図面の簡単な説明】
第1図はチツプとリード棒の一部断面側面図、
第2図は突出部つきチツプの一部断面側面図、第
3図は半導体用部品の側面断面図、第4図は半導
体の側面図である。図はいずれも実施例をあらわ
す。 1……半導体用部品、2……チツプ、3……リ
ード棒、4……凹部、5……突出部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 芯部に凹部が形成された高融点金属焼結体か
    らなるチツプを製造する工程と、得られたチツプ
    にバレル研磨を施して凹部の開口部に内側に突出
    するバリ状突出部を形成する工程と、該凹部に金
    属リード棒を据え込んでチツプとリード棒とを接
    合一体化する工程とを有することを特徴とする半
    導体用部品の製造方法。
JP57172661A 1982-09-30 1982-09-30 半導体用部品の製造方法 Granted JPS5961953A (ja)

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JP57172661A JPS5961953A (ja) 1982-09-30 1982-09-30 半導体用部品の製造方法

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JP57172661A JPS5961953A (ja) 1982-09-30 1982-09-30 半導体用部品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5961953A JPS5961953A (ja) 1984-04-09
JPS637028B2 true JPS637028B2 (ja) 1988-02-15

Family

ID=15946026

Family Applications (1)

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JP57172661A Granted JPS5961953A (ja) 1982-09-30 1982-09-30 半導体用部品の製造方法

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5247303B2 (ja) * 1974-12-20 1977-12-01
JPS5550647A (en) * 1978-10-03 1980-04-12 Aaru Jii Toomasu Corp Semiconductor member and method of assembling same

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5961953A (ja) 1984-04-09

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