JPS6381640A - 光学的記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームにより記録、再生を行うことが可能
な光学的記録媒体に関する。特に記録層の保存安定のた
めに記録層上に保護層を設けた光学的記録媒体に関する
。

（従来の技術〕 従来より、光ディスクに用いられる光メモリー材料とし
ては希土類−遷移金属の合金會膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としては、ＭｎＢ１
．Ｍｎ（：ｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、ＧｄＦ
ｅ、ＴｂＦｅ、ＤｙＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ。

ＴｂＤｙＦｅなどの非晶質薄膜、ＴｂＦｅＯ３などの単
結晶薄膜などが知られている。

これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で
製作する際の製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率を勘案して、
最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。特に、　１５０乃至２００℃程
度のキューリー点をもつＧｄＴｂＦｅや、カー回転角が
大きく再生性能に優れたＧｄＴｂＦｅ（：ｏ　（特開昭
５８−１９６６３９）等が、光磁気記録媒体として最適
である。

しかしながら、一般にＧｄＴｂＦｅ等の光磁気記録媒体
をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性体
は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、大
気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には完
全に酸化されて透明化するに至る。

このような欠点を除くために、従来から光メモリー材料
層の両側に記録光、再生光をほぼ透過する、例えば、５
ｉ０２．　ＳｉＯ，Ｓｉ３Ｎ４　、　ＡＩＮ　（７）保
護層を設けたディスク状記録媒体が提案されている。さ
らに保護効果を高めるために、種々の保護層材料の検討
が行われている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、保護膜としてＳｉ３Ｎ４　、　ＡＩＮ、　Ｓ
ｉＧなどの熱伝導のよい材料を用い、保護効果を高める
ためにその膜厚を厚くすると、記録光が光メモリー材料
中で転換されて生ずる熱エネルギーが保護膜側へ伝導し
て失われてしまう割合が大きくなり、光ビームによる記
録層の温度上昇が十分でなく記録感度が低下するという
問題がある。これまで熱伝導率が低くかつ十分な保護効
果のある材料は見い出されておらず、従って耐久性を向
上させるために、記録感度はある程度犠牲にされている
というのが実状であった。

本発明はこの問題点に鑑みなされたものであり、磁気記
録層の磁気特性を損なうことなく、水分や酸素に対する
耐食性に優れ、また耐久性に優れた磁気記録媒体を提供
し、かつその記録感度を向上させることを目的とするも
のである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、記録層に相接して熱伝導率がＩ　１７ｍ、
に以下であるような無機保護層を設けることによって達
成される。

本発明の光学的記録媒体は、貼り合わせ構造あるいはエ
アーサンドイッチ構造のいずれもとることが可能である
。

貼り合わせ構造の本発明の光学的記録媒体の実施態様の
一例を第１図に示す。

第１図の光学的記録媒体は書き込み側基板Ｉａ上に下引
層２を形成せしめ、順次保護層３、記録層４、保護層５
、スペーサ層６、反射層７を設け、さらに接着層８を介
して保護用基板１ｂと貼り合わせることにより得られる
。

〔実施例〕

以下に本発明を光磁気記録媒体に適用した場合につき実
施例を示して更に具体的に説明する。

実施例１ 第１図に示した構造の光磁気記録媒体を次にょうに製作
した。

ポリカーボネイト樹脂のプラスチック基板１ａの上に、
下引層２としてＳｉＯ膜を約９００人、保護層３として
ＺｎＳ膜を約３００人、記録層４としてＧｄＴｂＦｅＣ
ｏ膜を約１５０人、保護層５として再びＺｎＳ膜を約３
００人、更にスペーサ層６としてＳｉＯ膜を約１０００
人、最後に反射層７としてＡｌ膜を約７００人、以上各
層を高周波スパッタリングにより真空を破らずに連続成
膜した。これをホットメルト接着剤から成る接着層８を
介して保護用プラスチック基板１ｂと貼り合わせて光磁
気記録媒体を得た。

ここで、保護層３並びに保護層５の熱伝導率がＩ　１７
ｍ、に以下となるように、こけら２層の成膜時の基板温
度を室温以下の低温に保持した。これにより所望の熱伝
導率の膜が得られた。

第２図実線１に、本実施例の光磁気ディスクの線速とデ
ィスク面での記録パワーとの関係を示す。

比較のために、保護層３及び５を、従来より一般的な熱
伝導率が２０Ｗ／ｍ、に程度のＳｉＮ膜で形成した他は
、上記と全く同様の方法で同様の層構成の光磁気ディス
クを作製し、上記と同様の測定を行った。この比較用試
料の測定結果を第２図中の破線３で示した。

更に、得られた記録媒体の耐久性を調べるために、４５
℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽にて２００時間の耐湿
テストを行ない、耐湿テスト後の回転角θｋ、保磁力Ｈ
ａの初期値からの劣化の割合を測定した。結果を第１表
に示す。

第２図に見られる通り、本発明の光学的記録媒体は記録
層に相接して熱伝導率がＩ　１７ｍ、に以下であるよう
な無機保護層を設けたことにより、従来の記録媒体と比
較して記録感度が向上した。

また、第１表に見られる通り、耐久性に関して、本発明
の記録媒体は従来の記録媒体と同様であり、磁気特性の
劣化は特に認められながフだ。

実施例２ 保護層３並びに保護層５の材料として、Ｓｉ３Ｎ。

を用い、これを約１００ｍＴｏｒｒのＡｒスパッタリン
グガス雰囲気中で高周波スパッタリングすることにより
、熱伝導率がｆ　Ｗ／ｍ、に以下の保護膜とした他は実
施例１と同様の膜構成の光磁気記録媒体を作成した。

第２図実線２に本実施例の光磁気ディスクの線速とディ
スク面での記録パワーとの関係を示す。

更に実施例１のときと同様の耐湿テストを行′なった。

結果を第１表に示す。

第２図に見られる通り、本実施例の光磁気記録媒体にお
いても、記録感度は実施例１のときとほぼ同様の値を示
し、従来の記録媒体と比較して記録感度が向上した。ま
た、第１表に見られる通り、耐久性に関して、従来の記
録媒体と同様であり、磁気特性の劣化は特に認められな
かった。

第１表 （発明の効果） 記録層に相接して熱伝導率がＩ　Ｗ／ｍ、に以下である
ような無機保護層を設けた本発明の光学的記録媒体は、
優れた耐久性・信頼性を示すと同時に、記録感度が向上
した。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施態様の１つである光学的記録媒体
の構造を示す模式的側断面図、第２図は本発明および比
較例の光学的記録媒体ディスクの線速とディスク面での
記録パワーの関係を示すグラフであり、第１図における
数字はそれぞれ次の部分を表わす。 ］　ａ　・−・書き込み側基板 ２・・・下引層　　　　　３．５・・・保護層４・・・
記録層　　　　　６・・・スペーサ層７・・・反射層　
　　　　８・・・接着層１ｈ・・・保護用基板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光ビームを照射して記録層を加熱することにより情報の
   記録を行なう方式の光学的記録媒体において、該記録層
   に相接して熱伝導率が１Ｗ／ｍ．ｋ以下であるような無
   機保護層を設けたことを特徴とする光学的記録媒体。