JPS6384007A - 筒型コンデンサの製造方法 - Google Patents
筒型コンデンサの製造方法Info
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- JPS6384007A JPS6384007A JP22926386A JP22926386A JPS6384007A JP S6384007 A JPS6384007 A JP S6384007A JP 22926386 A JP22926386 A JP 22926386A JP 22926386 A JP22926386 A JP 22926386A JP S6384007 A JPS6384007 A JP S6384007A
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 13
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- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 50
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Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
皮呈上■、[1光団
本発明は筒型コンデンサの製造方法、特にその外面電極
形成方法に関する。
形成方法に関する。
l米至孜■
従来の一般的な筒型コンデンサは、第2図に示すように
、筒型形状の磁器素体1の内面と外面に夫々内面電極2
と外面電極3を形成することによって、双方の電極2.
3の対向する部分で容量をとるように構成したものであ
り、図示のごとく、この外面電極3は磁器素体1の一端
まで延設され、また内部電極2は引出電極部7を形成す
るために磁器素体1の他端面から外面まで延設されるの
が普通である。
、筒型形状の磁器素体1の内面と外面に夫々内面電極2
と外面電極3を形成することによって、双方の電極2.
3の対向する部分で容量をとるように構成したものであ
り、図示のごとく、この外面電極3は磁器素体1の一端
まで延設され、また内部電極2は引出電極部7を形成す
るために磁器素体1の他端面から外面まで延設されるの
が普通である。
ところで、上記のような筒型コンデンサにおいて、例え
ばNiやCu等のメッキ電極で内外面電極を形成する場
合、従来は次のような方法で製造されている。
ばNiやCu等のメッキ電極で内外面電極を形成する場
合、従来は次のような方法で製造されている。
即ち、第3図(イ)に示すように、まず磁器素体1の全
表面にNiやCu等の金属膜6を無電解メブキ等の手段
で形成する。次いで、第3図(ロ)に示すように、エツ
チングレジスト4を付着させた転写ローラ8によって、
磁器素体1外面の前記外面電極2及び引出し電極部7を
形成すべき部分にエツチングレジスト4を塗布し、塗膜
5a。
表面にNiやCu等の金属膜6を無電解メブキ等の手段
で形成する。次いで、第3図(ロ)に示すように、エツ
チングレジスト4を付着させた転写ローラ8によって、
磁器素体1外面の前記外面電極2及び引出し電極部7を
形成すべき部分にエツチングレジスト4を塗布し、塗膜
5a。
5bを形成する。特にこの場合、エツチングレジスト4
を磁器素体1の他端面までまわりこませて塗膜を形成さ
せるようにすれば好都合である。また転写ローラ8を用
いずに、例えば筆塗りしたり、ヘラ塗りする場合もある
。
を磁器素体1の他端面までまわりこませて塗膜を形成さ
せるようにすれば好都合である。また転写ローラ8を用
いずに、例えば筆塗りしたり、ヘラ塗りする場合もある
。
次に磁器素体1内面にも、内部電極3の形成領域に例え
ば回転ピン(図示せず)によってエツチングレジストの
塗膜5cが形成される。
ば回転ピン(図示せず)によってエツチングレジストの
塗膜5cが形成される。
しかる後、この磁器素体aをエソチンダ液中に浸漬し、
第3図(ハ)に示すようにエツチングレジストの塗膜5
a、5b、5cで覆われてない部分の金属膜6をエツチ
ングして外面電掘2、内面電極3及び引出し電極7を形
成し、最後にこれらの塗膜5a、5b、5cを溶剤等で
除去する。そして第2図に示すような筒型コンデンサが
製造される。
第3図(ハ)に示すようにエツチングレジストの塗膜5
a、5b、5cで覆われてない部分の金属膜6をエツチ
ングして外面電掘2、内面電極3及び引出し電極7を形
成し、最後にこれらの塗膜5a、5b、5cを溶剤等で
除去する。そして第2図に示すような筒型コンデンサが
製造される。
f?が解決しようとする問題点
しかるに上記のような外面電極を形成するためのエツチ
ングレジストの塗布方法には次の如き問題点がある。即
ち、 ■転写ローラ8を用いてエツチングレジスト4を磁器素
体1外面に塗布する場合、転写ローラ8の工・ノチング
レジスト付着量にバラツキがあると、塗膜5a、5bの
端縁が、第3図(ロ)の−点鎖線で示すように、波打っ
たりすることが多く、塗膜5a、5bを所定の外面電極
2及び引出し電極7の形状1寸法に形成することは容易
でなく、極端な場合には上記塗膜5a、5bが部分的に
連なることもある。従って、塗膜5a、5bに覆われて
いない金属膜6の露出部分をエツチングしても所望の外
面電極3を形成することが困難である。
ングレジストの塗布方法には次の如き問題点がある。即
ち、 ■転写ローラ8を用いてエツチングレジスト4を磁器素
体1外面に塗布する場合、転写ローラ8の工・ノチング
レジスト付着量にバラツキがあると、塗膜5a、5bの
端縁が、第3図(ロ)の−点鎖線で示すように、波打っ
たりすることが多く、塗膜5a、5bを所定の外面電極
2及び引出し電極7の形状1寸法に形成することは容易
でなく、極端な場合には上記塗膜5a、5bが部分的に
連なることもある。従って、塗膜5a、5bに覆われて
いない金属膜6の露出部分をエツチングしても所望の外
面電極3を形成することが困難である。
■前記のように転写ローラ8を用いてエツチングレジス
ト4を磁器素体1外面に塗布する場合は、転写ローラ8
へのエツチングレジスト付着量が変動しないように絶え
ず転写ローラ8のチェックを行うと共に、かなり頻繁に
転写ローラ8を止めて掃除を行うことが必要となり、こ
れらの調整作業に手間がかかるため、稼動率の低下を来
す。
ト4を磁器素体1外面に塗布する場合は、転写ローラ8
へのエツチングレジスト付着量が変動しないように絶え
ず転写ローラ8のチェックを行うと共に、かなり頻繁に
転写ローラ8を止めて掃除を行うことが必要となり、こ
れらの調整作業に手間がかかるため、稼動率の低下を来
す。
■転写ローラ8によるエツチングレジスト塗布方法では
、−度に多数の磁器素体1外面にエツチングレジスト4
を塗布するというマルチ処理が著しく困難で、製造効率
の向上が期待できない。
、−度に多数の磁器素体1外面にエツチングレジスト4
を塗布するというマルチ処理が著しく困難で、製造効率
の向上が期待できない。
■転写ローラ8によるエツチングレジスト塗布方式では
、磁器素体1が円筒型以外の角筒型への適用が困難であ
る。
、磁器素体1が円筒型以外の角筒型への適用が困難であ
る。
■筆塗りやヘラ塗りによるエツチングレジスト塗布方式
では、上記の問題点を有する他、到底量産化は望めない
。
では、上記の問題点を有する他、到底量産化は望めない
。
等の問題点があった。
本発明は従来のこのような問題点を解決して、品質を向
上させると共に量産性に冨んだ筒型コンデンサの製造方
法、特に外面電極形成のための製造方法を提供すること
を目的とする。
上させると共に量産性に冨んだ筒型コンデンサの製造方
法、特に外面電極形成のための製造方法を提供すること
を目的とする。
問 寺を”・°するための
上記目的を達成するために本発明の製造方法は、金属膜
で被覆された両端開口状の筒型磁器素体の一端開口を封
止した状態で該磁器素体の他端をエツチングレジストの
浴面に接するように配置し、上記磁器素体外部の気圧を
その内部気圧より低圧とし、次いで該磁器素体をエツチ
ングレジストの浴中に浸漬することによって、上記磁器
素体の外面にエツチングレジストを塗布することを要旨
としている。
で被覆された両端開口状の筒型磁器素体の一端開口を封
止した状態で該磁器素体の他端をエツチングレジストの
浴面に接するように配置し、上記磁器素体外部の気圧を
その内部気圧より低圧とし、次いで該磁器素体をエツチ
ングレジストの浴中に浸漬することによって、上記磁器
素体の外面にエツチングレジストを塗布することを要旨
としている。
作 用
上記製造方法によれば磁器素体の一端開口を封止した状
態で該磁器素体の他端をエツチングレジストの浴面に接
するように配置し、磁器素体外部の気圧を内部の気圧よ
り低圧としてから該磁器素体をエツチングレジストの浴
中に浸漬すると、磁器素体内部の気圧が高いため、エツ
チングレジストの磁器素体内部への侵入が阻止される。
態で該磁器素体の他端をエツチングレジストの浴面に接
するように配置し、磁器素体外部の気圧を内部の気圧よ
り低圧としてから該磁器素体をエツチングレジストの浴
中に浸漬すると、磁器素体内部の気圧が高いため、エツ
チングレジストの磁器素体内部への侵入が阻止される。
従って、該磁器素体内面には塗膜が形成されずに、該磁
器素体の一端面と外面のみにエツチングレジストが付着
し塗膜を形成することができる。尚、磁器素体外面のエ
ツチングレジスト付着面積は該磁器素体のエツチングレ
ジストの浴中への浸漬深さによって定まることになる。
器素体の一端面と外面のみにエツチングレジストが付着
し塗膜を形成することができる。尚、磁器素体外面のエ
ツチングレジスト付着面積は該磁器素体のエツチングレ
ジストの浴中への浸漬深さによって定まることになる。
尖−侮一皿
以下、実施例を挙げて本発明を詳述する。
第1図(イ)〜(へ)は本発明製造方法の一実施例(電
極形成方法)を順次説明する説明図であって、まず同図
(イ)に示すように、両端開口状に形成された筒型磁器
素体1の内外面にNiやCu、Ag等の金属膜6を例え
ば無電解メッキ法や浸漬法等の手段で形成する。
極形成方法)を順次説明する説明図であって、まず同図
(イ)に示すように、両端開口状に形成された筒型磁器
素体1の内外面にNiやCu、Ag等の金属膜6を例え
ば無電解メッキ法や浸漬法等の手段で形成する。
次いで、該磁器素体体1を同図(ロ)に示すようにその
一端の開口部1bを下方に向けた状態で他端を保持板2
に保持して封止し、圧力調整自在な処理層3内に設けら
れたエツチングレジスト4の浴上に配置する。保持板1
)に保持される磁器素体1の個数は、図示では1個だけ
であるが、量産性の点からこれは多数個とすることが望
ましい。
一端の開口部1bを下方に向けた状態で他端を保持板2
に保持して封止し、圧力調整自在な処理層3内に設けら
れたエツチングレジスト4の浴上に配置する。保持板1
)に保持される磁器素体1の個数は、図示では1個だけ
であるが、量産性の点からこれは多数個とすることが望
ましい。
次いで、同図(ハ)に示すように、該磁器素体lの上記
開口部1bをエツチングレジスト4の浴面に接するよう
に配置する。そして、処理槽12内を真空ポンプ(不図
示)等により脱気して所定の圧力となるまで減圧し、磁
器素体1外部の気圧を磁器素体1内部の気圧よりも低圧
とする。
開口部1bをエツチングレジスト4の浴面に接するよう
に配置する。そして、処理槽12内を真空ポンプ(不図
示)等により脱気して所定の圧力となるまで減圧し、磁
器素体1外部の気圧を磁器素体1内部の気圧よりも低圧
とする。
次いで、この気圧差を与えた状態のまま同図(ニ)に示
すように磁器素体1をエツチングレジスト4の浴中に浸
漬する。この浸漬の深さは、必要な外面電極の寸法に合
わせて決定すればよい。
すように磁器素体1をエツチングレジスト4の浴中に浸
漬する。この浸漬の深さは、必要な外面電極の寸法に合
わせて決定すればよい。
このように気圧差を与えて浸漬すると、磁器素体1内部
の気圧が高いため、エツチングレジスト4の磁器素体1
内部への侵入が阻止され、磁器素体1の一端面と外面の
みにエツチングレジスト4が付着する。従って、第1図
(ホ)に示すように磁器素体lをエツチングレジスト4
の浴中から引き上げると、磁器素体1の外面から一端面
にかけてエツチングレジストの塗膜5が形成される。
の気圧が高いため、エツチングレジスト4の磁器素体1
内部への侵入が阻止され、磁器素体1の一端面と外面の
みにエツチングレジスト4が付着する。従って、第1図
(ホ)に示すように磁器素体lをエツチングレジスト4
の浴中から引き上げると、磁器素体1の外面から一端面
にかけてエツチングレジストの塗膜5が形成される。
このようにして外面電極形成用のエツチングレジストの
塗膜5を形成すると、エツチングレジスト4が磁器素体
1外面の浸漬部分全周にわたって偏りなく充分に付着し
、膜厚もほぼ一定となる。
塗膜5を形成すると、エツチングレジスト4が磁器素体
1外面の浸漬部分全周にわたって偏りなく充分に付着し
、膜厚もほぼ一定となる。
しかも、該塗膜5の面積は浸漬する深さによって定まる
ので常に一定しており、かつ、上端縁が凹凸に波打つこ
ともないので、内面電極2の引出電極部13との間に明
瞭なりリアランスを形成することができる(第2図参照
)。
ので常に一定しており、かつ、上端縁が凹凸に波打つこ
ともないので、内面電極2の引出電極部13との間に明
瞭なりリアランスを形成することができる(第2図参照
)。
次いで図示はしないが、磁器素体1の内面にも内面電極
形成用のエツチングレジストの塗膜5を回転ビン等適宜
な手段で形成する(形成態様は第1図(へ)参照)。
形成用のエツチングレジストの塗膜5を回転ビン等適宜
な手段で形成する(形成態様は第1図(へ)参照)。
かくして磁器素体1にエツチングレジストの塗膜5を形
成し終わると、次のエツチング工程において、この磁器
素体1を同図(へ)に示すようにエツチング液7に浸漬
し、塗膜5で覆われてない金属膜6の露出部分をエツチ
ングし、その後該塗膜5を溶剤等で除去することにより
、磁器素体1の内外面に内面電極2及び外面電極3を形
成する。
成し終わると、次のエツチング工程において、この磁器
素体1を同図(へ)に示すようにエツチング液7に浸漬
し、塗膜5で覆われてない金属膜6の露出部分をエツチ
ングし、その後該塗膜5を溶剤等で除去することにより
、磁器素体1の内外面に内面電極2及び外面電極3を形
成する。
尚、本発明は上記した実施例に限定されるものでないこ
とはいうまでもない。例えば、第1図(ロ)の状態にお
いて、コンプレッサー(不図示)等を利用して処理槽1
2内に空気を送り込んで加圧し、浴面に接するように上
記磁器素体1を配置して後、上記処理槽12内の空気を
放出して大気圧に戻しても、磁器素体1の内部と外部で
気圧差が生じ、本発明の目的を達成することができる。
とはいうまでもない。例えば、第1図(ロ)の状態にお
いて、コンプレッサー(不図示)等を利用して処理槽1
2内に空気を送り込んで加圧し、浴面に接するように上
記磁器素体1を配置して後、上記処理槽12内の空気を
放出して大気圧に戻しても、磁器素体1の内部と外部で
気圧差が生じ、本発明の目的を達成することができる。
尚、この場合の加圧の程度は磁器素体1をエツチングレ
ジスト4の浴中に浸漬したときエツチングレジスト4が
磁器素体内部に侵入しない程度であればよく、具体的に
は、大気圧よりも100w Hg程度高圧となるように
加圧するのが好ましい。
ジスト4の浴中に浸漬したときエツチングレジスト4が
磁器素体内部に侵入しない程度であればよく、具体的に
は、大気圧よりも100w Hg程度高圧となるように
加圧するのが好ましい。
また、上記実施例では、エツチングレジストの塗膜5を
磁器素体1の内外面に形成した後エツチングするように
しているが、必ずしもこれに限らない。さらに内面電極
はエツチングによる形成とは全く別の手段で形成するよ
うにしてもよい。
磁器素体1の内外面に形成した後エツチングするように
しているが、必ずしもこれに限らない。さらに内面電極
はエツチングによる形成とは全く別の手段で形成するよ
うにしてもよい。
又里至四来
以上詳述したように、本発明の筒型コンデンサの製造方
法によれば、外面電極用のエツチングレジスト塗膜の端
縁が凹凸に波打ったりすることがなく、該塗膜の面積、
形状、寸法等が常に一定しているので、エツチングによ
って形成される外面電極の面積等のバラツキによる容量
不良品や、外面電極と内面電極の引出電極部との短絡に
よる不良品等が殆ど発生しなくなり、生産歩留まりが1
0〜20%程度向上する。
法によれば、外面電極用のエツチングレジスト塗膜の端
縁が凹凸に波打ったりすることがなく、該塗膜の面積、
形状、寸法等が常に一定しているので、エツチングによ
って形成される外面電極の面積等のバラツキによる容量
不良品や、外面電極と内面電極の引出電極部との短絡に
よる不良品等が殆ど発生しなくなり、生産歩留まりが1
0〜20%程度向上する。
また、従来のように転写ローラを使用しないので、その
チェ7りや清掃を行うことも全く不要となり、稼動率が
大幅に向上する。
チェ7りや清掃を行うことも全く不要となり、稼動率が
大幅に向上する。
更に、浸漬法を採用しているため、円筒型の磁器素体に
限らず、角筒型の磁器素体でもムラのない均一な厚みを
有するエツチングレジストの塗膜を形成することができ
る。
限らず、角筒型の磁器素体でもムラのない均一な厚みを
有するエツチングレジストの塗膜を形成することができ
る。
その上、本発明の製造方法によれば、−度に多価の磁器
素体にエツチングレジストを塗布するマルチ処理が可能
となるので、生産性が飛躍的に向上するといった顕著な
効果が得られる。
素体にエツチングレジストを塗布するマルチ処理が可能
となるので、生産性が飛躍的に向上するといった顕著な
効果が得られる。
第1図(イ)〜(へ)は本発明の一実施例に係る筒型コ
ンデンサの製造方法を順次説明する説明図、第2図は筒
型コンデンサの断面図、第3図は従来の製造方法の一例
を説明する要部断面図である。 1・・・磁器素体、4・・・エツチングレジスト、6・
・・金属膜。
ンデンサの製造方法を順次説明する説明図、第2図は筒
型コンデンサの断面図、第3図は従来の製造方法の一例
を説明する要部断面図である。 1・・・磁器素体、4・・・エツチングレジスト、6・
・・金属膜。
Claims (3)
- (1)金属膜で被覆された両端開口状の筒型磁器素体の
一端開口を封止した状態で該磁器素体の他端をエッチン
グレジストの浴面に接するように配置し、上記磁器素体
外部の気圧をその内部気圧より低圧とし、次いで該磁器
素体をエッチングレジストの浴中に浸漬することによっ
て、上記磁器素体の外面にエッチングレジストを塗布す
ることを特徴とする筒型コンデンサの製造方法。 - (2)上記磁器素体外部の気圧を大気圧とし、上記磁器
素体内部の気圧を大気圧より高圧として上記磁器素体の
外面にエッチングレジストの塗布を行うことを特徴とす
る特許請求の範囲第(1)項記載の筒型コンデンサの製
造方法。 - (3)上記磁器素体内部の気圧を大気圧とし、上記磁器
素体外部の気圧を大気圧より低圧として上記磁器素体の
外面にエッチングレジストの塗布を行うことを特徴とす
る特許請求の範囲第(1)項記載の筒型コンデンサの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22926386A JPS6384007A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 筒型コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22926386A JPS6384007A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 筒型コンデンサの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6384007A true JPS6384007A (ja) | 1988-04-14 |
| JPH058849B2 JPH058849B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=16889371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22926386A Granted JPS6384007A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 筒型コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6384007A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747856A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-18 | Tdk Corp | Method of forming conductive layer on hollow cylindrical object |
-
1986
- 1986-09-26 JP JP22926386A patent/JPS6384007A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747856A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-18 | Tdk Corp | Method of forming conductive layer on hollow cylindrical object |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH058849B2 (ja) | 1993-02-03 |
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