JPS6385074A - 釉薬焼付けにおける円錐状受け台 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、再使用可能な陶磁器全面の釉薬焼付けにおけ
る円錐状受は台に関する。

（従来の技術〉 一般に陶磁器は、原料を混合・混練して坏土とし、これ
を所定の形状に成形し、乾燥後素焼きして、次いで表面
に釉薬を塗布し本焼きすることにより製造される。

このうち釉薬の焼付けは、通常本焼き時の台と接触する
部分を除いて釉薬を塗布して行う、しかし、一部高級品
等は、全面に釉薬の塗布を行う場合があり、従来この場
合には、アルミナからなる頂部形状が１Ｒ程度の円錐状
の受は台を使用し、陶磁器の底面を３点で保持して、釉
薬を塗布し焼付けを行っていた。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、従来のアルミナからなる円錐状受は台で
は、−回の使用で、頂部が破損するが摩耗してしまい、
再使用できないという問題があった。また、アルミナは
釉薬に塗れやすく、保持した部分が欠点となりやすいと
いう問題もあった。

本発明は、このような問題を解決するためになされたも
ので、頂部の破損や摩耗が少なく、再使用可能な釉薬焼
付けにおける円錐状受は台を提供することを目的とする
。

［発明の構成コ （問題点を解決するための手段） すなわち本発明は、釉薬の全面塗布における焼付は時の
円錐状受は台を、実質的に窒化ケイ素により形成したこ
とを特徴としている。

本発明の釉薬焼付けにおける円錐状受は台は、窒化ケイ
素からなる頂部形状が０．５〜１Ｒの円錐状のものであ
る。

また、これを得る方法としては、緻密質で機械強度に優
れたものが得られるホットプレス法が好ましく、次いで
機械加工により所定の形状にすることにより得られる。

（作用） 本発明において、窒化ケイ素は、硬度が太きく、ｎ１６
耗性に優れているため、頂部形状を０．５Ｒ程度のシャ
ープエツジにしても、焼付は時に頂部が破損したり、串
耗により頂部Ｒが大きくなりづらいので、再使用するこ
とが可能であり、また釉薬に対して塗れずらいので保持
部が欠点となることも防止できる。さらに、耐熱衝撃性
に優れているため、焼付は時の温度が１２００〜１４０
０℃と高温になるが、破損や亀裂等の欠点を生じること
もない。

（実施例） 次に本発明の実施例について説明する。

実施例 まず平均粒径２〜３μｍの窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）粉
末１００重量部に対して焼結助剤として酸化イツトリウ
ムを５重量部と酸化アルミニウムを３重量部添加し、充
分に混合した後、これにバインダとしてパラフィンを１
０重量部加えて、圧力５００〜１０００ｋｇ／　ｄ、温
度１７５０〜１８００°Ｃの条件下でホットプレスを行
い、次いで機械加工により、第１図に示す頂部形状０，
５Ｒ５底部外径２５１１１１、高さ１５ｎｉの円錐状受
は台を形成した。

第２図に示すように、円錐状受は台１を使用して、外径
１００〜２００　ｕｍの皿状の陶器２を保持し、最高温
度１１００〜１３００”Ｃで釉薬の焼付けを行った。

また本発明との比較のため、従来のアルミナ製円錐状受
は台を用いて、実施例と同一条件で釉薬の焼付けを行っ
た。

その結果、従来のアルミナからなる釉薬受は台は、−回
の使用で頂部が破損したにもかかわらず、本発明による
窒化ケイ素からなる円錐状受は台は、５０回の試験後も
頂部の破損は認られず、また形状も０．５Ｒとまだ使用
に耐えうる状態であった。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明の窒化ケイ素からなる釉薬焼
付けにおける円錐状受は台によれば、頂部形状を０．５
〜１．ＯＲとシャープエツジにしても、頂部破損や串耗
が少ないので、操返して使用することが可能であり、従
来のアルミナによる円錐状受は台に比べ飛躍的に寿命が
延び経済的である。

また、釉薬に対して塗れずらいので、保持部の欠点防止
にも効果的である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の正面図、第２図はそれを使
用した陶磁器の保持状態を示す図である。 １・・・・・・・・・円錐状受は台 ２・・・・・・・・・陶器 代理人　弁理士　　則　近　憲　倍 量　　　湯山幸夫 第１図 第２回

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）陶磁器全面の釉薬塗布における焼付け時の円錐状
   受け台において、実質的に窒化ケイ素により形成したこ
   とを特徴とする釉薬焼付けにおける円錐状受け台。