JPS638763Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS638763Y2 JPS638763Y2 JP1984071418U JP7141884U JPS638763Y2 JP S638763 Y2 JPS638763 Y2 JP S638763Y2 JP 1984071418 U JP1984071418 U JP 1984071418U JP 7141884 U JP7141884 U JP 7141884U JP S638763 Y2 JPS638763 Y2 JP S638763Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- aluminum foil
- mask
- electrodes
- current
- Prior art date
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- Expired
Links
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- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 32
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 5
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
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- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
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Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は交流を使用した電解コンデンサ用電極
箔のエツチング装置に関し、特に電極構造を改善
することによつてアルミ箔の幅方向におけるエツ
チング倍率のバラツキを小さくすることを目的と
したものである。
箔のエツチング装置に関し、特に電極構造を改善
することによつてアルミ箔の幅方向におけるエツ
チング倍率のバラツキを小さくすることを目的と
したものである。
従来、電解コンデンサ用アルミ箔に交流を印加
してエツチングする場合の電極構造は、走行する
アルミ箔の両面にそれぞれ配された一対の電極に
走行するアルミ箔の両側端部を通過させる溝を設
けたマスクを取付けていた。該マスクは耐酸性樹
脂板などを加工したものを用い、このマスクの溝
の中を通過したアルミ箔の両側端部はエツチング
されていないことが望ましい。これは後工程で行
う幅方向の裁断時におけるアルミ箔強度を保つた
めである。しかしながら、両電極間に饋電された
電流は両電極に取付けたマスク間のわずかな間隙
や、エツチング時にアルミ箔と電極間に発生する
相当量のガスの激しい上昇によつて、エツチング
状態が受ける悪影響を避けるために前記マスクに
設けたガスを逃すための穴を通して対極電極に流
れる。この漏れた電極は両電極間に位置するアル
ミ箔には全く作用しないので電流値のバラツキを
生じ、よつてエツチング倍率にバラツキを生じて
いた。このようなエツチング倍率のバラツキは
500mm幅アルミ箔を幅方向に10mm単位に静電容量
を測定したときの最高／最低値が1.15〜1.20とな
る欠点を有していた。
してエツチングする場合の電極構造は、走行する
アルミ箔の両面にそれぞれ配された一対の電極に
走行するアルミ箔の両側端部を通過させる溝を設
けたマスクを取付けていた。該マスクは耐酸性樹
脂板などを加工したものを用い、このマスクの溝
の中を通過したアルミ箔の両側端部はエツチング
されていないことが望ましい。これは後工程で行
う幅方向の裁断時におけるアルミ箔強度を保つた
めである。しかしながら、両電極間に饋電された
電流は両電極に取付けたマスク間のわずかな間隙
や、エツチング時にアルミ箔と電極間に発生する
相当量のガスの激しい上昇によつて、エツチング
状態が受ける悪影響を避けるために前記マスクに
設けたガスを逃すための穴を通して対極電極に流
れる。この漏れた電極は両電極間に位置するアル
ミ箔には全く作用しないので電流値のバラツキを
生じ、よつてエツチング倍率にバラツキを生じて
いた。このようなエツチング倍率のバラツキは
500mm幅アルミ箔を幅方向に10mm単位に静電容量
を測定したときの最高／最低値が1.15〜1.20とな
る欠点を有していた。
本考案は上記の点に鑑みてなされたもので、ア
ルミ箔の幅方向のエツチング倍率バラツキを縮小
することを目的とするものである。
ルミ箔の幅方向のエツチング倍率バラツキを縮小
することを目的とするものである。
以下実施例により図面を参照しながら説明す
る。第１図に示すようにアルミ箔１は交流電源に
接続された電極２，３，４の中の電極２，３間に
設けたマスク５に両側端部を挿入して走行し、底
部ローラー６に達して反転し、前記電極３，４間
に設けたマスク７に挟まれて走行する。なお８は
エツチング液、９はエツチング槽である。前記マ
スク５，７はエツチング槽９の内壁に取着され、
たとえば３弗化エチレンの如き絶縁性、耐熱性、
耐酸性に優れ、かつ柔軟性のある薄いシートを折
曲げて作成したもので、その平面は第２図に示す
如くなる。したがつてアルミ箔１は第２図から明
らかなように柔軟性のあるマスク５，７の中に挟
まれ密着して走行するので、該マスク５，７に挟
まれた両側端部はエツチングされず、また交流電
源に接続された電極２，３間および３，４間で電
流の漏れはなく中間を走行するアルミ箔に作用
し、対極電極へ流れることはほとんどない。した
がつて饋電された電流はエツチングに有効に利用
できる特徴を有する。さらにアルミ箔１は走行中
に蛇行する場合もあるが、本考案になるエツチン
グ装置の場合には柔軟性のあるシートを使用して
いるためアルミ箔１の蛇行にも追随するので、ア
ルミ箔１がマスク５，７から離れることはなく、
したがつて饋電された電流が漏れることはない。
このようなエツチング装置を用いてアルミ箔をエ
ツチングしたときの結果について以下述べる。第
１図および第２図に示したエツチング装置に厚さ
90μｍ×幅500mmのアルミ箔を、Hcl 20wt／ｖ％
＋H2SO4 2wt／ｖ％水溶液（液温35℃）からな
るエツチング液中で電流密度10A／ｄm2、電気量
6000C／ｄm2の条件により走行させ交流エツチン
グを行なつたのち洗浄し乾燥する。このエツチド
箔を幅方向の両側端10mmずつ除去して480mmとし、
これを48等分した10mm幅について長さ50mmの試料
を48枚採取し、該試料をイジピン酸アンモニウム
5wt／ｖ％水溶液（液温60℃）中で電流密度
2A／ｄm2で49Vまで上昇させ、以降電圧を一定
に20min間電流を降下させたときに得た各試料の
静電容量を第３図に示した。なお第３図の試料の
配列はエツチングされたときの位置のとおりにし
てある。またこれに対応する従来例の同様の結果
を第４図に示した。この従来例はマスクの溝を１
mmとし、該溝の中を通過させた厚さ90μｍ×幅
500mmのアルミ箔の両側端10mmずつを除去したも
のである。この結果から明らかなように本考案に
なる装置を使用し柔軟性のマスク５，７の中にア
ルミ箔が挟み込まれた場合には蝕電された電流は
漏れることなくアルミ箔１のエツチングに使用さ
れるので幅方向における静電容量のバラツキは最
大／最小で4.1％である。これに対し第４図の結
果は両側端が極端に低く、そのバラツキは最大／
最小で25.9％であり、この両端を除いた場合でも
8.5％と本発明の２倍のバラツキを有する。この
従来例ではマスクの溝を１mmとしたものであるか
ら厚さ90μｍのアルミ箔を通過させてもマスクの
溝との間に隙間（エツチング液は存在するが）が
あり、饋電された電流が前記隙間を通して漏れる
のでこの両側端が極端に低下するものと思われ
る。しかし、この両側端10mmずつ計20mm幅は面積
で4.2％に相当し、またこの20mmを除去しても本
発明の２倍のバラツキを有するものであり、本考
案になるエツチング装置の顕著な効果を示してい
る。
る。第１図に示すようにアルミ箔１は交流電源に
接続された電極２，３，４の中の電極２，３間に
設けたマスク５に両側端部を挿入して走行し、底
部ローラー６に達して反転し、前記電極３，４間
に設けたマスク７に挟まれて走行する。なお８は
エツチング液、９はエツチング槽である。前記マ
スク５，７はエツチング槽９の内壁に取着され、
たとえば３弗化エチレンの如き絶縁性、耐熱性、
耐酸性に優れ、かつ柔軟性のある薄いシートを折
曲げて作成したもので、その平面は第２図に示す
如くなる。したがつてアルミ箔１は第２図から明
らかなように柔軟性のあるマスク５，７の中に挟
まれ密着して走行するので、該マスク５，７に挟
まれた両側端部はエツチングされず、また交流電
源に接続された電極２，３間および３，４間で電
流の漏れはなく中間を走行するアルミ箔に作用
し、対極電極へ流れることはほとんどない。した
がつて饋電された電流はエツチングに有効に利用
できる特徴を有する。さらにアルミ箔１は走行中
に蛇行する場合もあるが、本考案になるエツチン
グ装置の場合には柔軟性のあるシートを使用して
いるためアルミ箔１の蛇行にも追随するので、ア
ルミ箔１がマスク５，７から離れることはなく、
したがつて饋電された電流が漏れることはない。
このようなエツチング装置を用いてアルミ箔をエ
ツチングしたときの結果について以下述べる。第
１図および第２図に示したエツチング装置に厚さ
90μｍ×幅500mmのアルミ箔を、Hcl 20wt／ｖ％
＋H2SO4 2wt／ｖ％水溶液（液温35℃）からな
るエツチング液中で電流密度10A／ｄm2、電気量
6000C／ｄm2の条件により走行させ交流エツチン
グを行なつたのち洗浄し乾燥する。このエツチド
箔を幅方向の両側端10mmずつ除去して480mmとし、
これを48等分した10mm幅について長さ50mmの試料
を48枚採取し、該試料をイジピン酸アンモニウム
5wt／ｖ％水溶液（液温60℃）中で電流密度
2A／ｄm2で49Vまで上昇させ、以降電圧を一定
に20min間電流を降下させたときに得た各試料の
静電容量を第３図に示した。なお第３図の試料の
配列はエツチングされたときの位置のとおりにし
てある。またこれに対応する従来例の同様の結果
を第４図に示した。この従来例はマスクの溝を１
mmとし、該溝の中を通過させた厚さ90μｍ×幅
500mmのアルミ箔の両側端10mmずつを除去したも
のである。この結果から明らかなように本考案に
なる装置を使用し柔軟性のマスク５，７の中にア
ルミ箔が挟み込まれた場合には蝕電された電流は
漏れることなくアルミ箔１のエツチングに使用さ
れるので幅方向における静電容量のバラツキは最
大／最小で4.1％である。これに対し第４図の結
果は両側端が極端に低く、そのバラツキは最大／
最小で25.9％であり、この両端を除いた場合でも
8.5％と本発明の２倍のバラツキを有する。この
従来例ではマスクの溝を１mmとしたものであるか
ら厚さ90μｍのアルミ箔を通過させてもマスクの
溝との間に隙間（エツチング液は存在するが）が
あり、饋電された電流が前記隙間を通して漏れる
のでこの両側端が極端に低下するものと思われ
る。しかし、この両側端10mmずつ計20mm幅は面積
で4.2％に相当し、またこの20mmを除去しても本
発明の２倍のバラツキを有するものであり、本考
案になるエツチング装置の顕著な効果を示してい
る。
以上述べたように本考案になる電解コンデンサ
用電極箔のエツチング装置では柔軟性を有するマ
スク間にアルミ箔を挟み込んで走行させるため、
饋電された電流の漏れがないので幅方向のエツチ
ング倍率のバラツキが小さく、かつ柔軟性を有す
るマスクを使用しているので、アルミ箔が蛇行し
てもマスクが追随しマスクとアルミ箔との間に隙
間を生じない長所を有するものである。
用電極箔のエツチング装置では柔軟性を有するマ
スク間にアルミ箔を挟み込んで走行させるため、
饋電された電流の漏れがないので幅方向のエツチ
ング倍率のバラツキが小さく、かつ柔軟性を有す
るマスクを使用しているので、アルミ箔が蛇行し
てもマスクが追随しマスクとアルミ箔との間に隙
間を生じない長所を有するものである。
なお前記実施例において柔軟性のあるマスクと
して３弗化エチレンを使用した場合について述べ
たが、たとえば３弗化塩化エチレン、弗化ビニリ
デン、塩化ビニリデン、４弗化６弗化プロピレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンを使用しても
同様の効果を得ることができる。
して３弗化エチレンを使用した場合について述べ
たが、たとえば３弗化塩化エチレン、弗化ビニリ
デン、塩化ビニリデン、４弗化６弗化プロピレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンを使用しても
同様の効果を得ることができる。
第１図は本考案になるエツチング装置を示す一
部断面斜視図、第２図は第１図に示したエツチン
グ装置の一部平面図、第３図は本考案になるエツ
チング装置を使用して得たエツチング箔の幅方向
のバラツキを示す曲線図、第４図は従来例になる
エツチング装置を使用して得たエツチング箔の幅
方向のバラツキを示す曲線図である。 １……アルミ箔、２，３，４……電極、５，７
……マスク、６……底部ローラー、８……エツチ
ング液、９……エツチング槽。
部断面斜視図、第２図は第１図に示したエツチン
グ装置の一部平面図、第３図は本考案になるエツ
チング装置を使用して得たエツチング箔の幅方向
のバラツキを示す曲線図、第４図は従来例になる
エツチング装置を使用して得たエツチング箔の幅
方向のバラツキを示す曲線図である。 １……アルミ箔、２，３，４……電極、５，７
……マスク、６……底部ローラー、８……エツチ
ング液、９……エツチング槽。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 交流電源に接続された電極およびエツチング
液を有するエツチング槽と、該エツチング槽内
壁に取着し、前記電極間を走行する電極箔の両
側端を挟む柔軟性を有する薄いシートを折曲げ
たマスクとを具備した電解コンデンサ用電極箔
のエツチング装置。 (2) マスクが３弗化エチレン、３弗化塩化エチレ
ン、弗化ビニリデン、塩化ビニリデン、４弗化
６弗化プロピレン、ポリプロピレン、ポリエチ
レンからなることを特徴とする実用新案登録請
求の範囲第(1)項記載の電解コンデンサ用電極箔
のエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984071418U JPS60181377U (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 電解コンデンサ用電極箔のエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984071418U JPS60181377U (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 電解コンデンサ用電極箔のエツチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60181377U JPS60181377U (ja) | 1985-12-02 |
| JPS638763Y2 true JPS638763Y2 (ja) | 1988-03-16 |
Family
ID=30608892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984071418U Granted JPS60181377U (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 電解コンデンサ用電極箔のエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60181377U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5408247B2 (ja) * | 2009-05-12 | 2014-02-05 | 日本軽金属株式会社 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極板の製造方法および製造装置 |
-
1984
- 1984-05-15 JP JP1984071418U patent/JPS60181377U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60181377U (ja) | 1985-12-02 |
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