JPS6393129A - 半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置 - Google Patents
半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置Info
- Publication number
- JPS6393129A JPS6393129A JP61238386A JP23838686A JPS6393129A JP S6393129 A JPS6393129 A JP S6393129A JP 61238386 A JP61238386 A JP 61238386A JP 23838686 A JP23838686 A JP 23838686A JP S6393129 A JPS6393129 A JP S6393129A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amount
- wafer
- image
- wafers
- alignment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、多層構造の半導体装置を製造するために２枚
の半導体ウェハを重ね合わせて接合する半導体ウェハ接
合工程で用いられ、２枚の半導体ウェハの位置合わせ制
御を自動的て行なうための処理方法および処理装置に関
する。
の半導体ウェハを重ね合わせて接合する半導体ウェハ接
合工程で用いられ、２枚の半導体ウェハの位置合わせ制
御を自動的て行なうための処理方法および処理装置に関
する。
（従来の技術）
従来の半導体ウェハ接合工程においては、接着ウェハお
よび被接着ウェハを工業用テレビカメラ（ＩＴＶ ）で
撮像してモニタ画面に表示して目視可能な状態にし、作
業者がモニタ画像を見ながら接着ウェハ搭載用のＸ−Ｙ
−θステージ機構に位置補正成分（平行移動量成分およ
び傾き量成分）を供給するように手動による制御操作を
行ない、両ウェハが一定間隔を有して重なり合うように
位置合わせ制御を行々っている。
よび被接着ウェハを工業用テレビカメラ（ＩＴＶ ）で
撮像してモニタ画面に表示して目視可能な状態にし、作
業者がモニタ画像を見ながら接着ウェハ搭載用のＸ−Ｙ
−θステージ機構に位置補正成分（平行移動量成分およ
び傾き量成分）を供給するように手動による制御操作を
行ない、両ウェハが一定間隔を有して重なり合うように
位置合わせ制御を行々っている。
しかし、上記したような作業者が位置補正成分を目視に
より判断し、それに対応した位置補正制御操作を行なう
方法は、作業が単純であるけれども集中力を要し、長時
間を要する。これに伴って、作業者の眼精疲労、集中力
低下を招くので、生産性の低下とか製品の品質低下をも
たらすおそれが大きい。しかも、作業者の熟練度によっ
て上記生産性とか製品の品質が大きくばらつくという問
題もある。
より判断し、それに対応した位置補正制御操作を行なう
方法は、作業が単純であるけれども集中力を要し、長時
間を要する。これに伴って、作業者の眼精疲労、集中力
低下を招くので、生産性の低下とか製品の品質低下をも
たらすおそれが大きい。しかも、作業者の熟練度によっ
て上記生産性とか製品の品質が大きくばらつくという問
題もある。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、上記したように半導体ウェハの位置合わせ制
御を作業者の手動操作釦より行逢うことに伴なう諸問題
を根本的に解決すべくなされたもので、半導体ウェハの
位置合わせ制御を自動的に処理でき、生産性、製品の品
質を向上し得る半導体ウェハ位置合わせ制御のための処
理方法および処理装置を提供することを目的とする。
御を作業者の手動操作釦より行逢うことに伴なう諸問題
を根本的に解決すべくなされたもので、半導体ウェハの
位置合わせ制御を自動的に処理でき、生産性、製品の品
質を向上し得る半導体ウェハ位置合わせ制御のための処
理方法および処理装置を提供することを目的とする。
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
本発明の半導体ウェハの位置合わせ制御のための処理方
法は、位置合わせのための認識対象である２枚の半導体
ウェハをそれぞれ撮像して得た画像データに基いて、そ
れぞれのウェハについて画像領域中心に対するウェハ中
心の位置ずれ量（平行移動量成分および傾き量成分）を
自動的に算出し、この２枚のウェハそれぞれの位置ずれ
量に基いて２枚のウェハの外周縁を相対的に一致させる
ために必要な相対位置補正量（一方のウェハの位置を基
準とする他方のウェハの平行移動量および傾き！−）を
自動的に算出し、この算出結果に基いて上記他方のウェ
ハの位置を自動的に制御することを特徴とする。
法は、位置合わせのための認識対象である２枚の半導体
ウェハをそれぞれ撮像して得た画像データに基いて、そ
れぞれのウェハについて画像領域中心に対するウェハ中
心の位置ずれ量（平行移動量成分および傾き量成分）を
自動的に算出し、この２枚のウェハそれぞれの位置ずれ
量に基いて２枚のウェハの外周縁を相対的に一致させる
ために必要な相対位置補正量（一方のウェハの位置を基
準とする他方のウェハの平行移動量および傾き！−）を
自動的に算出し、この算出結果に基いて上記他方のウェ
ハの位置を自動的に制御することを特徴とする。
また、本発明の半導体ウェハ位置合わせのための処理装
置は、位置合わせのための認識対象である２枚の半導体
ウェハをそれぞれ撮像して得た画像データを格納する画
像メモリと、この画像メモリの画像データに基いて前記
２枚のウェハそれぞれについて画像領域中心だ対するウ
ェハ中心の位置ずれ量を算出し、この位置ずれ量に基い
て前記２枚のウェハの外周縁を相対的に一致させるため
に必要な一方のウェハを基準とする他方のウェハの平行
移動４ｔおよび傾き量を算出し、この算出結果により上
記他方のウェハを塔載したＸ−Ｙ−θステージの制御量
を算出する演算装置とを具備することを特徴とする。
置は、位置合わせのための認識対象である２枚の半導体
ウェハをそれぞれ撮像して得た画像データを格納する画
像メモリと、この画像メモリの画像データに基いて前記
２枚のウェハそれぞれについて画像領域中心だ対するウ
ェハ中心の位置ずれ量を算出し、この位置ずれ量に基い
て前記２枚のウェハの外周縁を相対的に一致させるため
に必要な一方のウェハを基準とする他方のウェハの平行
移動４ｔおよび傾き量を算出し、この算出結果により上
記他方のウェハを塔載したＸ−Ｙ−θステージの制御量
を算出する演算装置とを具備することを特徴とする。
（作用）
上記処理方法および処理装置によれば、半導体ウェハの
接合工程での位置合わせ制御を自動的シて短時間で安定
に行なうことができ、半導体ウェハの生産性、製品の品
・１丁の向上を図ることが可能にな乙、〜 （実施例） 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細洗説明す
る。
接合工程での位置合わせ制御を自動的シて短時間で安定
に行なうことができ、半導体ウェハの生産性、製品の品
・１丁の向上を図ることが可能にな乙、〜 （実施例） 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細洗説明す
る。
第１図は半導体ウェハの位置合わせ制御のための処理装
置を示しており、１ａおよび１ｂは位置合わせのための
認識対象となる半導体ウェハであり、それぞれのオリエ
ンテーションフラット（以後、オリフラと略記する）部
２ａ、２ｂを有する。
置を示しており、１ａおよび１ｂは位置合わせのための
認識対象となる半導体ウェハであり、それぞれのオリエ
ンテーションフラット（以後、オリフラと略記する）部
２ａ、２ｂを有する。
ここで、一方のウェハ１ａが被接着ウェハであり、他方
のウェハ１ｂが接着ウェハであってＸ−Ｙ−θステージ
３上に塔載されている。、、４ａおよび４ｂは各対応し
て上記ウェハｌａ、ｌｂを含む一定領域を撮像する光電
変換手段、たとえば工業用テレビカメラであり、それぞ
れカメラ制御装置４５だより制御される、６１および６
ｂは各対応して上記テレビカメラ４１Ｌ、４ｂによる撮
像により得られた画像データが路網さ九る画ｆ’Ｇメモ
リ（たと、えば半導体メモリ）である、７は上記画像メ
モリ６ａ、６ｂのデータに基いて後述するような各捜の
演算処理を行なう画像処理演算装置である。８は上記カ
メラ制御装置５、画像メそ１７６ ｍ 、 ６ ｂ、画
像処理演算装置７およびステージ駆動制御装置９を総合
的に制御するシステム制御装置であシ、これらの相互間
は制御・データバス１０により接続されている。１１ｘ
、１１Ｙおよび１１θは上記ステージ駆動制御装置９か
らの制御出力に応じて各対応して前記Ｘ−Ｙ−θステー
ジ３のＸ方向駆動用モータ（図示せず）、Ｙ方向駆動用
モータ（図示せず）、θ方向駆動用モータ（図示せず）
を駆動するモータ駆動装置である。
のウェハ１ｂが接着ウェハであってＸ−Ｙ−θステージ
３上に塔載されている。、、４ａおよび４ｂは各対応し
て上記ウェハｌａ、ｌｂを含む一定領域を撮像する光電
変換手段、たとえば工業用テレビカメラであり、それぞ
れカメラ制御装置４５だより制御される、６１および６
ｂは各対応して上記テレビカメラ４１Ｌ、４ｂによる撮
像により得られた画像データが路網さ九る画ｆ’Ｇメモ
リ（たと、えば半導体メモリ）である、７は上記画像メ
モリ６ａ、６ｂのデータに基いて後述するような各捜の
演算処理を行なう画像処理演算装置である。８は上記カ
メラ制御装置５、画像メそ１７６ ｍ 、 ６ ｂ、画
像処理演算装置７およびステージ駆動制御装置９を総合
的に制御するシステム制御装置であシ、これらの相互間
は制御・データバス１０により接続されている。１１ｘ
、１１Ｙおよび１１θは上記ステージ駆動制御装置９か
らの制御出力に応じて各対応して前記Ｘ−Ｙ−θステー
ジ３のＸ方向駆動用モータ（図示せず）、Ｙ方向駆動用
モータ（図示せず）、θ方向駆動用モータ（図示せず）
を駆動するモータ駆動装置である。
次に、上記処理装置の動作と共に半導体ウェハの位置合
わせ制御のための処理方法を第２図乃至第４図を参照し
て説明する。システム制御装置８は、画像処理演算装置
から処理準備完了信号を受けると、カメラ制御装置５ヘ
力メラ選択信号を送る。カメラ制御装置５は、第１のテ
レビカメラ４ａ、第２のテレビカメラ４ｂを順次選択し
、それぞれ所要の制御信号を送り、上記第１のテレビカ
メラ４ｈ、第２のテレビカメラ４ｂの撮像出力に対して
所要の処理を施したのち各対応して第１の画像メモＩＪ
６ ＆ 、第２図の画像メモＩＪ ６ ｂに格納する
、この格納が終了すると、システム制御装置８は格納終
了を表わすステータス信号を画像処理演算装置７に送る
。これによ９１画像処理演算装置７は画像メモＩＪ ６
ｍ 、 ６ ｂから画像データを読み出し、この画像
データに基いて以下に述べるような演算処理を行なう。
わせ制御のための処理方法を第２図乃至第４図を参照し
て説明する。システム制御装置８は、画像処理演算装置
から処理準備完了信号を受けると、カメラ制御装置５ヘ
力メラ選択信号を送る。カメラ制御装置５は、第１のテ
レビカメラ４ａ、第２のテレビカメラ４ｂを順次選択し
、それぞれ所要の制御信号を送り、上記第１のテレビカ
メラ４ｈ、第２のテレビカメラ４ｂの撮像出力に対して
所要の処理を施したのち各対応して第１の画像メモＩＪ
６ ＆ 、第２図の画像メモＩＪ ６ ｂに格納する
、この格納が終了すると、システム制御装置８は格納終
了を表わすステータス信号を画像処理演算装置７に送る
。これによ９１画像処理演算装置７は画像メモＩＪ ６
ｍ 、 ６ ｂから画像データを読み出し、この画像
データに基いて以下に述べるような演算処理を行なう。
即ち、第１のテレビカメラ４＆の撮像により得られた第
２図に示す画像領域２０内のウエノ・像２１ｍに対して
オリ７う部２２ｍを検出する。そして、ウェハ像２１１
Ｌの円周部とオリフラ部２２ａとの交点座標Ｐ４（ｘ＊
Ｙ ） ＋Ｐｇ（ｘ、ｙ）を算出する。また、ウニ／
・像２１ａの外周縁において＋Ｙ方向の値が最も大きい
点の座標Ｐ１（ｘ、ｙ）、−Ｘ方向の値が最も大きい点
の座標Ｐ、（ｘ 、 ｙ ）、＋ｘＸ方向値が最も大き
い点の座標Ｐ、（ｘ、ｙ）を検索してウエノ・像２１ｔ
ｈの寸法および中心座標値Ｐｏ（Ｘ ＋ ｙ ）を求め
る。
２図に示す画像領域２０内のウエノ・像２１ｍに対して
オリ７う部２２ｍを検出する。そして、ウェハ像２１１
Ｌの円周部とオリフラ部２２ａとの交点座標Ｐ４（ｘ＊
Ｙ ） ＋Ｐｇ（ｘ、ｙ）を算出する。また、ウニ／
・像２１ａの外周縁において＋Ｙ方向の値が最も大きい
点の座標Ｐ１（ｘ、ｙ）、−Ｘ方向の値が最も大きい点
の座標Ｐ、（ｘ 、 ｙ ）、＋ｘＸ方向値が最も大き
い点の座標Ｐ、（ｘ、ｙ）を検索してウエノ・像２１ｔ
ｈの寸法および中心座標値Ｐｏ（Ｘ ＋ ｙ ）を求め
る。
そして、カメラ中心座標に対するウエノ・像の平行移動
量、換言すれば、ウエノ・像中心値を画像領域２０の中
心（カメラ座標中心）座標０（ｘ、ｙ）に移すために必
要な平行移動量Δχ＆、Δｙ１を算出する。さらに、カ
メラ座標中心Ｏに対するウェハ像の傾き量、換言すれば
、ウェハ像２１ｈを所定の向き（たとえば画像領域２０
の下縁にオリフラ部２２ａが平行になる向き）にするた
めに必要な傾き量を算出する。このためには、第３図に
示すようにウェハ像２１ｇのオリ７う部交点座標Ｐ４（
ｘ ＋ ｙ ） ＋ Ｐｓ（ｘ ＋ ｙ ）を結ぶ線分
（オリフラ部２２ａ）の傾き量Δθ８とウェハ像傾き景
Δθ１とが等しいことに着目し、Ｐ４（ｘｌ ）’ ）
ｒ Ｐ、（ｘ ｌ ｙ）のＸ成分およびｙ成分の距離
をそれぞれ求め、Ｘ成分距離とｙ成分距離との逆正接を
とることによりΔθ８を算出できる。なお、２１ ａ’
は傾き量が零の場合のウェハ像を示しており、２２ａ′
はそのオリフラ部である。
量、換言すれば、ウエノ・像中心値を画像領域２０の中
心（カメラ座標中心）座標０（ｘ、ｙ）に移すために必
要な平行移動量Δχ＆、Δｙ１を算出する。さらに、カ
メラ座標中心Ｏに対するウェハ像の傾き量、換言すれば
、ウェハ像２１ｈを所定の向き（たとえば画像領域２０
の下縁にオリフラ部２２ａが平行になる向き）にするた
めに必要な傾き量を算出する。このためには、第３図に
示すようにウェハ像２１ｇのオリ７う部交点座標Ｐ４（
ｘ ＋ ｙ ） ＋ Ｐｓ（ｘ ＋ ｙ ）を結ぶ線分
（オリフラ部２２ａ）の傾き量Δθ８とウェハ像傾き景
Δθ１とが等しいことに着目し、Ｐ４（ｘｌ ）’ ）
ｒ Ｐ、（ｘ ｌ ｙ）のＸ成分およびｙ成分の距離
をそれぞれ求め、Ｘ成分距離とｙ成分距離との逆正接を
とることによりΔθ８を算出できる。なお、２１ ａ’
は傾き量が零の場合のウェハ像を示しており、２２ａ′
はそのオリフラ部である。
このようにして画像領域中心（カメラ座標中心）Ｏに対
するウェハ像中心Ｐｏ（ｘ ＋ ｙ ）の位置ずれ−）
ｔ（平行移動量ΔＸａｌΔｙ１および傾き量Δθ、Ｌ）
を求めたデータを画像処理演算装置７内のメモリに格納
する。
するウェハ像中心Ｐｏ（ｘ ＋ ｙ ）の位置ずれ−）
ｔ（平行移動量ΔＸａｌΔｙ１および傾き量Δθ、Ｌ）
を求めたデータを画像処理演算装置７内のメモリに格納
する。
同様にして、第２のテレビカメラ４ｂの撮像により得ら
れた第４図に示す画像領域４０のウェハ像４１ｂ（４２
ｂはそのオリフラ部）についても位置ずれｉ（平行移動
量Δｘｂ、Δｙｂおよび傾き量Δθｂ）を算出し、この
算出により得られたデータを画像処理演算装置ｚ内のメ
モリに格納する。
れた第４図に示す画像領域４０のウェハ像４１ｂ（４２
ｂはそのオリフラ部）についても位置ずれｉ（平行移動
量Δｘｂ、Δｙｂおよび傾き量Δθｂ）を算出し、この
算出により得られたデータを画像処理演算装置ｚ内のメ
モリに格納する。
次に、被接着ウェハ１８を固定したままとし、との基漁
となる位置のウェハ１ａに接着ウェハ１ｂを相対的に合
致させるために必要な相対位置補正量（平行移動量成分
ΔＸ、Δｙおよび傾き金成分Δθ）を求める。この平行
移動量成分ΔＸ、Δｙおよび傾き金成分Δθは、前記ウ
ェハ像２１ａに対しセ求めたΔＸ、ｌΔＹａ＋Δθ８の
各データとウニ・・像４１ｂに対して求めたΔｘｂ、Δ
ｙｂ、Δθｂの各データとの差をそれぞれ算出すること
だよって得られ、こｉＫよって得られたデータを画像処
理演算装置７内のメモリに格納する。この場合、Ｘ−Ｙ
−θステージ３のθ軸にカメラ座標中心が一致している
ものとすれば、Ｘ−Ｙ−θステージ３により接着ウェハ
１ｂをΔθだけ回転させた場合、第４図に示すように回
転後のウェハ像４ ｌ ｂ’（４２ｂ’はそのオリフラ
部）の中心Ｐ０′は回転前のウェハ像４１ｂの中心Ｐ０
から偏心する。したがって、偏心Ｌ０中心が図示の如く
Δｘ／、Δｙ′だけ平行移動したことばより、前述の相
対位置補正量の平行移動量成分ΔＸ、Δｙに誤差が生じ
るので、上記ΔＸ。
となる位置のウェハ１ａに接着ウェハ１ｂを相対的に合
致させるために必要な相対位置補正量（平行移動量成分
ΔＸ、Δｙおよび傾き金成分Δθ）を求める。この平行
移動量成分ΔＸ、Δｙおよび傾き金成分Δθは、前記ウ
ェハ像２１ａに対しセ求めたΔＸ、ｌΔＹａ＋Δθ８の
各データとウニ・・像４１ｂに対して求めたΔｘｂ、Δ
ｙｂ、Δθｂの各データとの差をそれぞれ算出すること
だよって得られ、こｉＫよって得られたデータを画像処
理演算装置７内のメモリに格納する。この場合、Ｘ−Ｙ
−θステージ３のθ軸にカメラ座標中心が一致している
ものとすれば、Ｘ−Ｙ−θステージ３により接着ウェハ
１ｂをΔθだけ回転させた場合、第４図に示すように回
転後のウェハ像４ ｌ ｂ’（４２ｂ’はそのオリフラ
部）の中心Ｐ０′は回転前のウェハ像４１ｂの中心Ｐ０
から偏心する。したがって、偏心Ｌ０中心が図示の如く
Δｘ／、Δｙ′だけ平行移動したことばより、前述の相
対位置補正量の平行移動量成分ΔＸ、Δｙに誤差が生じ
るので、上記ΔＸ。
ΔｙにΔｘ／、Δｙ′の補正を行なう。このようにして
求められた補正後の相対位置補正量のデータは、画像処
理演算装置７によりステージ駆動制御装置９に転送され
る。
求められた補正後の相対位置補正量のデータは、画像処
理演算装置７によりステージ駆動制御装置９に転送され
る。
ステージ駆動制御装置９は、Ｘ、Ｙ、θ方向のモータ駆
動装置１１ Ｘ Ｉ Ｉ １ｙ ＊ Ｉ Ｚθに各対応
して入力データに相当する・（ルス数を出力し、Ｘ−Ｙ
−θステーー）３のＸ、Ｙ、θ方向の各モータは対応す
る上記モータ駆動装置１１ｘ、１１Ｙ、ＩＩθから出力
されたパルス数だけ回転してＸ−Ｙ−θステージ３の位
置金制何し、接着ウェハ１ｂの位置合わせ制御を行々う
。
動装置１１ Ｘ Ｉ Ｉ １ｙ ＊ Ｉ Ｚθに各対応
して入力データに相当する・（ルス数を出力し、Ｘ−Ｙ
−θステーー）３のＸ、Ｙ、θ方向の各モータは対応す
る上記モータ駆動装置１１ｘ、１１Ｙ、ＩＩθから出力
されたパルス数だけ回転してＸ−Ｙ−θステージ３の位
置金制何し、接着ウェハ１ｂの位置合わせ制御を行々う
。
［発明の効果］
上述したように本発明の半導体ウェハの位置合わせ制御
のための処理方法および処理装置によれば、２枚の半導
体ウェハについてそれぞれ位置ずれ量（平行移動量成分
と傾き全成分）を自動的に算出し、いずれか一方のウェ
ハを基準として２枚のウェハ相互を相対的に合致させる
ように制御するための位置補正量を自動的に算出して自
動的に短時間で位置補正制御を行なうことがでさる、し
たがって、位置合わせ制御操作のための作業者を長時間
の単純作業から解放でき、作業者の眼精疲労とか集中力
低下洗よる生産性の低下あるいは製品品質の低下を防止
でき、作業者の熟練度による生産性、製品品質のばらつ
きを著しく改善することができ、しかも位置合わせ制御
工程の前後の自動化装置とのシステム化を図ることがで
きる。
のための処理方法および処理装置によれば、２枚の半導
体ウェハについてそれぞれ位置ずれ量（平行移動量成分
と傾き全成分）を自動的に算出し、いずれか一方のウェ
ハを基準として２枚のウェハ相互を相対的に合致させる
ように制御するための位置補正量を自動的に算出して自
動的に短時間で位置補正制御を行なうことがでさる、し
たがって、位置合わせ制御操作のための作業者を長時間
の単純作業から解放でき、作業者の眼精疲労とか集中力
低下洗よる生産性の低下あるいは製品品質の低下を防止
でき、作業者の熟練度による生産性、製品品質のばらつ
きを著しく改善することができ、しかも位置合わせ制御
工程の前後の自動化装置とのシステム化を図ることがで
きる。
第１図は本発明の半導体ウニ／・位置合わせ制御のため
の処理装置の一実施例を示すブロック図、第２図乃至第
４図は第１図の処理装置による処理方法の一例を説明す
るために示す図である。 １！Ｌ、ｌｂ・・・半導体ウェハ、２ａ、２ｂ・・・オ
リフラ部、３・・・Ｘ−Ｙ−θステージ、４ａ、４ｂ・
・・テレビカメラ、５・・・カメラ制御装置、６ｇ、６
ｂ・・・画像メモリ、７・・・画像処理演算装置、８・
・・システム制御装置、９・・・ステージ駆動制御装置
、２０゜４０・・・画像領域、２１＆、４１ｂ・・・ウ
ェハ像、２２ａ、４２ｂ・・・ウェハ像のオリフラ部、
Ｏ・・・画像領域中心、Ｐｏ・・・ウェハ中心。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
の処理装置の一実施例を示すブロック図、第２図乃至第
４図は第１図の処理装置による処理方法の一例を説明す
るために示す図である。 １！Ｌ、ｌｂ・・・半導体ウェハ、２ａ、２ｂ・・・オ
リフラ部、３・・・Ｘ−Ｙ−θステージ、４ａ、４ｂ・
・・テレビカメラ、５・・・カメラ制御装置、６ｇ、６
ｂ・・・画像メモリ、７・・・画像処理演算装置、８・
・・システム制御装置、９・・・ステージ駆動制御装置
、２０゜４０・・・画像領域、２１＆、４１ｂ・・・ウ
ェハ像、２２ａ、４２ｂ・・・ウェハ像のオリフラ部、
Ｏ・・・画像領域中心、Ｐｏ・・・ウェハ中心。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
Claims (2)
- （１）位置合わせのための認識対象である２枚の半導体
ウェハをそれぞれ撮像して得た画像データに基いて、そ
れぞれのウェハについて画像領域中心に対するウェハ中
心の位置ずれ量（平行移動量成分および傾き量成分）を
自動的に算出し、この２枚のウェハそれぞれの位置ずれ
量に基いて２枚のウェハの外周縁を相対的に一致させる
ために必要な相対位置補正量（一方のウェハを基準とす
る他方のウェハの平行移動量および傾き量）を自動的に
算出し、この算出結果に基いて上記他方のウェハの位置
を自動的に制御することを特徴とする半導体ウェハ位置
合わせ制御のための処理方法。 - （２）位置合わせのための認識対象である２枚の半導体
ウェハをそれぞれ撮像して得た画像データを格納する画
像メモリと、この画像メモリの画像データに基いて前記
２枚のウェハそれぞれについて画像領域中心に対するウ
ェハ中心の位置ずれ量を算出し、この位置ずれ量に基い
て前記２枚のウェハの外周縁を相対的に一致させるため
に必要な一方のウェハを基準とする他方のウェハの平行
移動量および傾き量を算出し、この算出結果により上記
他方のウェハを搭載したＸ−Ｙ−θステージの制御量を
算出する演算装置とを具備することを特徴とする半導体
ウェハ位置合わせ制御のための処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61238386A JPS6393129A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61238386A JPS6393129A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6393129A true JPS6393129A (ja) | 1988-04-23 |
Family
ID=17029421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61238386A Pending JPS6393129A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6393129A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4966520A (en) * | 1988-11-02 | 1990-10-30 | Tokyo Electron Limited | Method of positioning objects to be measured |
| JPH04178806A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-25 | Canon Inc | 位置検出装置および方法 |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP61238386A patent/JPS6393129A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4966520A (en) * | 1988-11-02 | 1990-10-30 | Tokyo Electron Limited | Method of positioning objects to be measured |
| JPH04178806A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-25 | Canon Inc | 位置検出装置および方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106444852B (zh) | 图像处理装置、位置校正方法及工业装置 | |
| TW201947078A (zh) | 自動校正針頭位置的方法及系統 | |
| JP3101853B2 (ja) | ボンデイング座標のティーチング方法 | |
| JPS6393129A (ja) | 半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置 | |
| JP2707548B2 (ja) | 視覚認識装置の座標補正方法 | |
| JPH09115943A (ja) | ワイヤボンディング方法及びその装置 | |
| JP3519568B2 (ja) | 半導体ペレットのアライメント方法とマウント方法 | |
| US5583756A (en) | Teaching method and teaching system for a bonding coordinate | |
| JPH08162503A (ja) | 電子部品の位置合わせ方法及びその装置 | |
| JPH0799399A (ja) | 位置合わせ装置 | |
| JPH03241896A (ja) | 部品の位置補正方法 | |
| JP2703436B2 (ja) | 部品装着位置データ作成装置 | |
| JP7820053B1 (ja) | 直交型搬送装置 | |
| JPS60200382A (ja) | パタ−ン検査方法及び装置 | |
| JPH01205960A (ja) | 半導体ウエハの位置合わせ装置 | |
| JPH11212046A (ja) | 自動位置合わせ装置におけるキャリブレーション方法 | |
| JP3040232B2 (ja) | 部品実装機における装着位置制御方法 | |
| JP2703437B2 (ja) | 部品装着位置データ作成装置 | |
| JPH0435846A (ja) | 半導体ウエハの位置合せ方法 | |
| JPH05265027A (ja) | 位置決め方法及びその装置 | |
| JPH0857737A (ja) | ワーク搬送位置決め方法 | |
| JPS59156078A (ja) | カラ−受像管の表示状態検査方法 | |
| JPH01989A (ja) | 液晶表示パネルの位置決め装置 | |
| JPS62245906A (ja) | 電子部品の認識装置 | |
| JPS6393128A (ja) | 半導体ウエハ位置合わせ制御のための処理方法および処理装置 |