JPS6394201A - ビ−ムスプリツタ - Google Patents

ビ−ムスプリツタ

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Publication number
JPS6394201A
JPS6394201A JP24029086A JP24029086A JPS6394201A JP S6394201 A JPS6394201 A JP S6394201A JP 24029086 A JP24029086 A JP 24029086A JP 24029086 A JP24029086 A JP 24029086A JP S6394201 A JPS6394201 A JP S6394201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
prism
beam splitter
prisms
refractive index
incident
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24029086A
Other languages
English (en)
Inventor
Masami Emoto
江本 正美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP24029086A priority Critical patent/JPS6394201A/ja
Publication of JPS6394201A publication Critical patent/JPS6394201A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、光ピツクアップ等において用いられるビーム
スプリッタに関する。
従来技術 従来、例えば光ピツクアップ光学系は第5図に示すよう
に構成されている。まず、半導体レーザ1からの光束は
カップリング2により平行光束とされ、更にビーム整形
プリズム3によりビーム径が大きくされる。この後、偏
向ビームスプリッタ4、l/4波長板5、偏向プリズム
6及び対物レンズ7を介して光情報記録媒体8に約1μ
mのスポットを形成するものである。一方、この光情報
記録媒体8からの反射光は対物レンズ7、偏向プリズム
6及び1/4波長板5を通った後、偏向ビームスプリッ
タ4の偏向膜4aにより反射されて情報検出用の受光素
子9に結像されて読取られる。
ここに、偏向ビームスプリッタ4は偏向方向が紙面に平
行なp偏光は透過し、紙面に直角なS偏光は偏光膜4a
によって反射されるものである。
そして、偏光ビームスプリッタ4は同一の光学ガラスプ
リズムを張り合せてなり、その接合面に多層膜コートに
よる偏光膜4aを蒸着等により形成してなるものである
。又、l/4波長板5は2回通過することによりp偏光
がS偏光となるものである。
ここで、このような光学系によるビーム整形について第
6図を参照して説明する。今、光情報記録媒体8上での
スポット径をφとすると、このスポット径φは、使用レ
ーザ光の波長λと対物レンズ7の開口数NAとにより、 φ;k・λ/NA で求まる。ここに、kは光束のけられ係数であり、入射
ビーム径φ。(半値幅)と、対物レンズ7の有効径aと
により決まるものである。そして、有効径aに対し入射
ビーム径φ。が大きい程、この係数には1に近づき、逆
に有効径aが入射ビーム径φ。より大きいとスポット径
φが大きくなるものである。又、入射ビーム径φ。はカ
ップリング2の焦点距離f、と半導体レーザ1のpn接
合方向と平行な方向のファーフィールドパターンの半値
゛全幅θ# (第7図参照)とにより、 φ、=2− f、 ・5in(θ#/2)より求まる。
そこで、φ。〉aとなるようにするため、一般にビーム
整形プリズム3を用い、ビーム径の拡大というビーム整
形を行なうようにしているものである。即ち、従来の光
ピツクアップ光学系による場合には偏光ビームスプリッ
タ4とは別個にビーム整形プリズム3を設ける必要があ
るものである。
又、入射ビームについてもカップリング2以後の平行ビ
ームについてはその位置が限定されてしまうものでもあ
る。
目的 本発明は、このような点に鑑みなされたもので、ビーム
整形機能をも持ち使用光学系のコストダウン、小型化に
寄与し得るビームスプリッタを得ることを目的とする。
構成 本発明は、上記目的を達成するため、屈折率の異なる2
つ以上のプリズムを接合して設け、屈折率の小さいプリ
ズムを入射ビーム側に位置させ、屈折率の大きいプリズ
ムを出射ビーム側に位置させたことを特徴とするもので
ある。
以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図に基づいて
説明する。まず、本実施例のビームスプリッタ11は2
つのプリズム12.13を接合面14で重ね合せてなる
ものである。ここに、2つのプリズム12.13はその
屈折率n1ln!が異なるものであり、nr < n 
、なる関係に設定されている。即ち、入射ビーム側に位
置するプリズム12の屈折率n1 の方が出射ビーム側
に位置するプリズム13の屈折率n2 よりも小さく設
定されている。従って、入射ビーム径をφ0.出射ビー
ム径をφ2とし、入射ビームの接合面14での入射角を
11 とすると、 φ2=m・φ、(ただし、mは倍率) m=Jn2z−n%sin”i、 / n、cosi。
となる。
今、−例としてこれらのプリズム12.13に代表的な
光学ガラス、例えばプリズム12は屈折率n、=1.5
1なるBK7を用い、プリズム13には屈折率n、=1
.78なる5F11を用いた場合の入射角i、と倍率m
との関係を第2図中に実線で示す。又、これらのプリズ
ム12.13に代表的な光学プラスチックス材料、例え
ばプリズム12は屈折率n、=1.48なるP M M
 Aを用い、プリズム13には屈折率n、=1.58な
るPCを用いた場合の入射角11 と倍率mとの関係を
第2図中に破線で示す。何れにしても、このようなビー
ムスプリッタ11によれば、入射角i、を変えることに
より、倍率mを任意に変更させることができるものとな
る。つまり、本実施例のビームスプリッタ11はビーム
整形機能をも持つものとなる。
ところで、第1図において、接合面14で屈折した出射
ビームの出射面13aと、光情報記録媒体側からの反射
光を接合面14で反射させた後、受光素子側へ反射ビー
ムとして出射させる出射面13bとは、何れも出射ビー
ム、反射ビームに対して各々直角(又は略直角)である
ことが望ましい。このようにビーム出射端面が光軸に直
交すれば、光学系の収差を生じにくいものとなるからで
ある。
従って、本実施例のビームスプリッタ11を光ピツクア
ップ光学系中の変更ビームスプリッタとして用いれば、
第3図又は第4図に示すように構成することができる。
即ち、何れもビーム整形プリズム2を省略した状態を示
すものであるが、第4図では偏向プリズム6をも省略し
たものである。
何れにしても、ビームスプリツタ11自体がビーム整形
機能を持つので、ビーム整形プリズム2を別個に設ける
必要がなく、かつ、カップリング2以後の平行ビームの
位置が限定されることもない。
このようにして、ビームスプリッタ11使用の光学系の
コストダウン及び小型化を図ることができる。
なお、本実施例では光ピツクアップ光学系の偏向ビーム
スプリッタを想定した実施例として説明したが、偏光性
を有しない2つのプリズムを接合してなる一般のハーフ
プリズム等と称されるビームスプリッタの場合でも同様
に適用できるものである。又、接合すべきプリズムもプ
リズム12゜13の場合のような2個に限らず、3個以
上のプリズムを接合させてもよい。
効果 本発明は、上述したように屈折率の異なる複数のプリズ
ムを接合させてなるが、屈折率の小さい方のプリズムを
入射ビーム側に位置させたので、入射ビームの入射角を
変えるだけで倍率を変更させるビーム整形機能をも持た
せることができ、よって、ビームスプリッタ使用の光学
系中にビーム整形プリズム等を設ける必要がなくなり、
その低コスト化及び小型化を図ることができるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す側面図、第2図は具体
例による特性図、第3図及び第4図は光ピツクアップ光
学系への適用例を示す側面図、第5図は従来の光ピツク
アップ光学系の側面図、第6図はビーム整形を説明する
ための説明図、第7図は半値全幅の説明図である。 12.13・・・プリズム、14・・・接合面出 願 
人   株式会社  リ コ −35図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 屈折率の異なる2つ以上のプリズムを接合して設け、屈
    折率の小さいプリズムを入射ビーム側に位置させ、屈折
    率の大きいプリズムを出射ビーム側に位置させたことを
    特徴とするビームスプリッタ。
JP24029086A 1986-10-09 1986-10-09 ビ−ムスプリツタ Pending JPS6394201A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24029086A JPS6394201A (ja) 1986-10-09 1986-10-09 ビ−ムスプリツタ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24029086A JPS6394201A (ja) 1986-10-09 1986-10-09 ビ−ムスプリツタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6394201A true JPS6394201A (ja) 1988-04-25

Family

ID=17057280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24029086A Pending JPS6394201A (ja) 1986-10-09 1986-10-09 ビ−ムスプリツタ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6394201A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5933020B2 (ja) * 1980-08-18 1984-08-13 重質油対策技術研究組合 触媒組成物
JPS6028603A (ja) * 1983-07-26 1985-02-13 Minolta Camera Co Ltd プリズム式ビ−ムスプリツタ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5933020B2 (ja) * 1980-08-18 1984-08-13 重質油対策技術研究組合 触媒組成物
JPS6028603A (ja) * 1983-07-26 1985-02-13 Minolta Camera Co Ltd プリズム式ビ−ムスプリツタ

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