JPS6398651A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性積
層体に関する。

（従来の技術） 感光性樹脂組成物から形成されるフォトレジストは、メ
ッキ液やエツチング液に対して耐性を有するため印刷配
線板を製造する際のレジストとして使用されている。こ
れらの感光性樹脂組成物は、通常フレキシブルな３層積
層体、すなわち支持フィルム層、乾燥された感光性樹脂
組成物層（以下感光層と称する）および保護フィルム層
からなる感光性積層体として用いられている。

感光性樹脂組成物としては、未露光部がアルカリ水溶液
により除去（現像）されるアルカリ現像型と、有機溶剤
により除去（現像）される溶剤現像型の両者が知られて
いる。

アルカリ現像型樹脂組成物を用いる感光性積層体を使用
するに際しては、まず感光性積層体から保護フィルムを
取り除いて、予め約４０〜７０℃に加熱（予熱処理）し
た印刷配線板用基板（以下基板と称する）に、感光層が
接するようにロールにより加熱圧着（８０〜１６０℃、
２〜４　ｋｇ／　ｃ艷）してラミネートする。基板は絶
縁層上に金属箔が積層されているもので、前処理により
研磨され水分が除去されている。次いでネガフィルム等
を用いて画像的に露光を行なった後、アルカリ水溶液を
用いて未露光部を除去（現像）し、フォトレジスト画像
を形成する。さらに形成されたフォトレジスト画像をマ
スクとして金属箔をエツチングまたはメッキ処理し、次
いでフォトレジスト画像を現像液よりさらに強アルカリ
性の水溶液を用いて剥離することにより、印刷配線板が
製造される。

ラミネート時の基板の加熱は、基板と感光層とをラミネ
ートする際の張りつき性（以下ラミネート性と称す）を
高めるために行なわれる。しかしながら、基板は加熱機
から取り出して放置すると温度が低下し、一方加熱しす
ぎると研磨した金属表面に酸化皮膜を形成し、逆にラミ
ネート性を損なったり、印刷配線としての特性を損なっ
たりする。

このため作業中における加熱時間、放置時間、加熱温度
等の管理または特定の設備が必要とされ、このような管
理の手間または設備を省くため、基板の加熱を必要とせ
ず、しかもラミネート性の優れた感光性積層体の開発が
望まれている。

従来、ラミネート性を向上させるために感光性樹脂組成
物を軟化させる方法として、外部可塑剤の添加、付加重
合性物質の配合量の増量、高分子結合剤の可塑化等の手
段が知られている。しかしながら、これらの手段によっ
ても感光性積層体をロール状に巻き取って保存しておく
間に、時間とともに感光層がロール状にした端部からに
じみ出てくる現象（エツジフェーシング）が発生し、満
足な結果が得られていない。夏場および運送時を含めた
長期保存安定性を考慮すれば感光性樹脂組成物を軟化さ
せる方法は好ましいものとはいえない。

またラミネート性を向上させる手段として、ラミネート
時の感光層に対する加熱温度（以下ラミネート温度と称
する）をさらに高温にすることが考えられる。しかしな
がら、従来公知の感光性樹脂組成物は、ラミネート温度
が通常の使用温度範囲（９０〜１６０℃）であっても少
なからず組成分が蒸発飛散し、その飛散ガスは有毒なも
のであるから、一般には排気除去することが望まれ、ダ
クトが使用されている。この組成分の飛散量をできるだ
け少量にすることが望ましいとされている。

したがって前記のようにラミネート温度をさらに高温に
すると、組成分が多量に蒸発飛散して発煙し、実際上そ
の排気は困難となり、また組成分の蒸発飛散により感光
度、解像度、処理液に対する耐性等フォトレジストとし
ての特性が著しく低下してしまう。このため、従来公知
の感光性積層体のラミネート温度の上限値は１３０〜１
６０°Ｃであり、それ以上に温度を上昇させることは実
用上不可能とされている。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し、ラミネ
ート前の基板の予熱処理を必要とせず、しかも基板への
ラミネート性に優れた感光性積層体を与える感光性樹脂
組成物およびこれを用いた感光性積層体を提供すること
にある。

（問題点を解決するための手段） 本発明者らは、アルカリ現像型感光性樹脂組成物に水を
所定量含有させることにより前記目的が達成されること
を見出して本発明に到達した。

本発明は（ａ）常圧において１００℃以上の沸点を有し
、かつ少なくとも１種のエチレン性不飽和基を有する化
合物を３０〜６０重量％、（ｂ）カルボキシル基含量が
２０〜４０モル％、かつ重量平均分子量が２〜４０万の
線状共重合体を３５〜６５重量％、 （ｃ）活性光照射によりラジカルを発生する光開始剤を
０．２〜１０重量％および （ｄ）水を０．２〜８重量％ Ｉ含有してなる感光性樹脂組成物ならびに感光層の少な
くとも一方の面に重合体フィルムを積層した感光性積層
体において、該感光層が （ａ）常圧において１００℃以上の沸点を有し、かつ少
なくとも１種のエチレン性不飽和基を有する化合物を３
０〜６０重量％、 （ｂ）カルボキシル基含量が２０〜４０モル％、かつ重
量平均分子量が２〜４０万の線状共重合体を３５〜６５
重量％、 （ｃ）活性光照射によりラジカルを発生する光開始剤を
０．２〜１０重量％および （ｄ）水を０．２〜８重量％ 含有してなる感光性積層体に関する。

本発明の感光性樹脂組成物において、感光層は常圧にお
いて１００℃以上の沸点を有し、かつ少なくとも１種の
エチレン性不飽和基を有する化合物（成分（ａ））を含
有している。この成分（ａ）としては、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート（メタアクリレート
またはアクリレートを意味する、以下同じ）、ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレン基の
数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ　（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ　（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ
）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）
、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート
、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート
等の多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を付加
して得られる化合物、トリメチロールプロパントリグリ
シジル千−テルトリアクリレート、ビスフェノールＡジ
グリシジルエーテルジアクリレート等のグリシジル基含
有化合物にα、β−不飽和カルポン酸を付加して得られ
る化合物、無水フタル酸等の多価カルボン酸と、β−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基および
エチレン性不飽和基を有する物質とのエステル化物、メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート等のアクリル酸またはメタクリル
酸のアルキルエステルが挙げられる。

成分（ａ）は感光性樹脂組成物中に３０〜６０重量％、
好ましくは３５〜５５重量％含有される。

３０重量％未満の場合には光硬化物が十分に硬化せず、
メッキ液やエツチング液に対する耐性が低下し、一方６
０重量％を越える場合には光硬化物が固くもろい物性と
なり、光硬化物が基板から剥がれやすくなる。

本発明において、感光性樹脂組成物はカルボキシル基含
量が２０〜４０モル％、かつ重量平均分子量が２〜４０
万の線状共重合体（成分（ｂ））を含有している。この
成分（ｂ）は２種または３種以上の単量体を重合させる
ことにより得られ、その単量体は太き（２分される。第
１の単量体は該線状共重合体（結合剤）に現像性を付与
するものであり、例えばアクリル酸、メタクリル酸、フ
マル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、ソルビン酸、プロピオ
ール酸、イタコン酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、
マレイン酸半エステル等の不飽和基を１個有するカルボ
ン酸または酸無水物である。

また第２の単量体は該線状共重合体（結合剤）にメッキ
液、エツチング液等に対する耐性を付与するもの、また
は耐現像液性、可撓性および可塑性を付与するものであ
り、不飽和基を１個有するものが使用され、例えばメチ
ルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリ
レート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、
ブチルメタクリレート、２−エチルへキシルアクリレー
ト、２−エチルへキシルメタクリレート等のアルキルア
クリレートまたはアルキルメタクリレート、例えばビニ
ル−ｎ−ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステ
ル類、α−位または芳香族環において置換されている重
合可能なスチレン誘導体、スチレン等が挙げられる。

前記の第１の単量体として、アクリル酸またはメタクリ
ル酸を用いることが好ましく、第２の単量体として、ア
ルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートを用
いることが好ましい。

前記の第１の単量体および第２の単量体はこれらを共重
合して得られる線状共重合体のカルボキシル基含量が２
０〜４０モル％になるように選ばれる。このカルボキシ
ル基含量を２０〜４０モル％の範囲とするには前記の第
１の単量体を、第１の単量体と第２の単量体の総量に対
して２０〜４０モル％用いればよい。このカルボキシル
基含量は現像性の決定要素として重要であり、２０モル
％未満の場合には現像ができず、一方４０モル％を越え
る場合には露光部の現像液に対する耐性が低下して良好
なレジスト像が形成されない。この場合カルボキシル基
は酸無水物基であってもよい。

この場合酸無水物基は２個のカルボキシル基として扱わ
れる。この共重合体の合成方法は、溶液ラジカル重合等
の常法の合成方法を用いることができ特に制限はない。

線状共重合体の分子量はフィルム形成性に寄与し、さら
に第二義的に現像性および処理液に対する耐性を決定す
る要素である。この線状共重合体の分子量の範囲は重量
平均分子量にして２〜４０万、好ましくは３〜３０万で
ある。合成の際分子量は、共重合体の合成において合成
温度、触媒の配合量、合成時の単量体濃度等の調節によ
り常法により調節し得る。２万未満の場合にはフィルム
形成性が損なわれ、現像液を含む処理液に対する耐性が
低下し、一方４０万を越える場合にはフィルム形成性お
よび耐性は非常に良好になるが現像性が低下する。

成分（ｂ）は感光性樹脂組成物中に３５〜６５重量％、
好ましくは４０〜６０重量％含有される。

３５重量％未満の場合には得られる感光層のフィルム形
成性が損なわれ、十分な膜強度が得られず、一方６５重
量％を越える場合には光硬化膜がもろく、基板との密着
性が損なわれる。

本発明において、感光性樹脂組成物は活性光照射により
ラジカルを発生する光開始剤（成分（ｃ））を含有して
いる。この成分（ｃ）としては２００℃以下の温度では
熱的に活性化せず、極めて低揮発性である物質が好まし
く、例えば２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチル
アントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１．２
−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノ
ン、２−フェニルアントラキノン、２．３−ジフェニル
アントラキノン等の置換または非置換の多核キノン類が
用いられる。

またジアセチルおよびベンジル等のＶｉｃ−ケタルドニ
ル化合物、ベンゾイン、ビバロイン等のα−ケタルドニ
ルアルコールおよびエーテル、例えばα−フェニル−ベ
ンゾイン、α、α−ジェトキシアセトフェノン等のα−
炭化水素置換芳香族アシロイン、例えば４．４１−ビス
ジアルキルアミノ−ベンゾフェノン等の芳香族ケトン、
さらに２．４．５−）リアリールイミダゾールニ量体と
２−メルカプトベンゾキサゾール、ロイコクリスタル、
バイオレット、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチ
ルフェニル）メタン等との組み合わせも成分Ｃとして用
いられる。

成分（ｃ）は感光性樹脂組成物中に０．２〜１０重量％
含有される。０．２重量％未滴の場合には十分な光硬化
が得られず、一方１０重量％を越える場合には熱的に不
安定性となる。

本発明において、感光性樹脂組成物は成分（ｄ）として
水０．２〜８重量％、好ましくは０．５〜６重量％を含
有している。水を含有することにより常温の基板へのラ
ミネート性が向上される。水の量が０．２重量％未溝の
場合には十分なラミネート性が得られず、ラミネート後
に得られる感光層が剥がれやすく、一方８重量％を越え
る場合には感光層を製造する際、感光層中にはじきが発
生しやすい。

感光性樹脂組成物には加熱工程中および保存中における
熱重合を防止するため、ラジカル重合抑制剤を含有させ
ることが好ましい。ラジカル重合抑制剤としては、例え
ばｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロ
ール、ナフチルアミン、フェノチアジン、ピリジン、ニ
トロベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−）ルキノンー、
クロラニル、アリールフォスファイト等が用いられる。

２００℃以下で低揮発性のもの、例えばアルキル置換ハ
イドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、塩化第１銅、２
．６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２．２−メチ
レンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２．２−メチレンビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）等が好ましい。

感光性樹脂組成物には染料、顔料等の着色物質を含有さ
せてもよい。着色物質としてはフォトレジストとしての
特性に影響を与えず、また２００℃以下の温度では分解
、揮発しないものが好ましい。例えばツクシン、オーラ
ミン塩基、カルコシトグリーンＳ、パラマジエンタ、ク
リスタルバイオレット、メチルオレンジ、ナイルブルー
２Ｂ。

ビクトリアピュアブルー、マラカイトグリーン、ペイシ
ックブルー２０．アイオジンググリーン、ナイトグリー
ンＢ、）リパロサン、ニューマジエンタ、アシッドバイ
オレットＲＲＨ，レッドバイオレット５ＲＳ、ニューメ
チレンブルーＣＧ等が用いられる。

さらに感光性樹脂組成物には可塑剤、接着促進剤等の添
加物を添加してもよい。

本発明の感光性積層体は、前記成分（ａ）〜（ｄ）を含
有する感光層の少なくとも一方の面に重合体フィルムを
積層したものである。この重合体フィルムとしては、例
えばポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレンからなるフィルムが用いられ、ポリエチレン
テレフタレートフィルムが好ましい。これらの重合体フ
ィルムは後に感光層から除去可能でなくてはならないた
め、除去が不可能となるような材質であったり、表面処
理が施されたものであってはならない。これらの重合体
フィルムの厚さは５〜１００μｍ１好ましくは１０〜３
０μｍである。これらの重合体フィルムの一つは感光層
の支持フィルムとして、他は感光層の保護フィルムとし
て感光層の両面に積層してもよい。

本発明の感光性積層体を製造するに際しては、まず成分
（ａ）〜（ｄ）からなる感光性樹脂組成物を溶剤に均一
に溶解する。溶剤は感光性樹脂組成物を溶解する溶剤で
あればよく、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ジクロルメタン、クロロホルム、メチルアルコ
ール、エチルアルコール等が用いられる。これらの溶剤
は単独でまたは２種以上混合して用いられる。

次いで溶液状となった感光性樹脂組成物を前記支持フィ
ルム層としての重合体フィルム上に均一に塗布した後、
加熱および／または熱風吹き付けにより溶剤を除去し、
乾燥皮膜とする。乾燥皮膜の厚さには特に制限はなく、
１０〜１００μｍ１好ましくは２０〜６０μｍとされる
。

このようにして得られる感光層と重合体フィルムとの２
Ｎからなる本発明の感光性積層体は、そのまままたは感
光層の他の面に保護フィルムをさらに積層してロール伏
に巻き取って貯蔵される。

本発明の感光性積層体を用いてフォトレジスト画像を製
造するに際しては、前記保護フィルムが存在している場
合には、保護フィルムを除去後、感光層を加熱しながら
基板に圧着させることによりラミネートする。ラミネー
トされる表面は、金属面であるが、特に制限はない。感
光層の加熱・圧着は、通常９０〜１３０℃、圧着圧力３
　ｋｇ　／　ｃｎｌで行なわれるが、これらの条件には
特に制限はない。

本発明の感光性積層体を用いる場合には、感光層を前記
のように加熱すれば、予め基板を予熱処理することは必
要でない。なおさらにラミネート性を向上させるために
基板の予熱処理を行なうこともできるのはもちろんであ
る。

このようにしてラミネートが完了した感光層は、次いで
ネガフィルムまたはポジフィルムを用いて活性光に画像
的に露光される。この際感光層上に存在する重合体フィ
ルムが透明の場合にはそのまま露光してもよく、また不
透明の場合には当然除去する必要がある。感光層の保護
という点からは重合体フィルムは透明で、その重合体フ
ィルムを残存させたまま、それを通して露光することが
好ましい。活性光は公知の活性光源、例えばカーボンア
ーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、その他から発
生される光が用いられる。感光層に含まれる光開始剤の
感受性は、通常紫外線領域において最大であるので、そ
の場合は活性光源は紫外線を有効に放射するものにすべ
きである。もちろん光開始剤が可視光線に感受するもの
、例えば９゜１０−フヱナンスレンキノン等である場合
には、活性光としては可視光が用いられ、その光源とし
ては前記のもの以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ
等も用いられる。

次いで露光後、感光層上に重合体フィルムが存在してい
る場合には除去後、アルカリ水溶液を用いて例えばスプ
レー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公
知方法により未露光部を除去して現像する。アルカリ水
溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム、カリウム
の水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウム
、カリウムの炭酸塩または重炭酸塩等の炭酸アルカリ、
リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リ
ン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等
のアルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特に炭酸
ナトリウムの水溶液が好ましい。

現像に用いるアルカリ水溶液のｐＨは、好ましくは９〜
１１の間であり、またその温度は感光層の現像性に合わ
せて調節される。該アルカリ水溶液中には、表面活性剤
、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤を混
入させてもよい。

さらに印刷配線板を製造するに際しては、現像されたフ
ォトレジスト画像をマスクとして露出している基板の表
面をエツチング、メッキ等の公知方法で処理する。次い
でフォトレジスト画像は通常、現像に用いたアルカリ水
溶液よりさらに強アルカリ性の水溶液で剥離される。こ
の強アルカリ性の水溶液としては、例えば２〜１０重量
％の水酸化ナトリウム等が用いられる。

（発明の効果） 本発明の感光性樹脂組成物を感光層とした積層体は、ラ
ミネート時の基板の加熱を必要とせず、しかも基板への
ラミネート性にも優れたものである。

（実施例） 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。下
記例中の％は重量％を意味する。

実施例１ 第１表に示す組成の溶液（溶液Ａ）を、第１図に示す装
置を用いて２５μｍ厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥
機（図中記号７）で約３分間乾燥して溶剤を除去した。

第１図において１はポリエチレンテレフタレートフィル
ム繰り出しロール、２．３．４°、９．１０はロール、
５はナイフ、６は感光性樹脂組成物の溶液、８はポリエ
チレンフィルム繰り出しロール、１１は感光性フィルム
巻き取りロールである。感光層の乾燥後の厚さは約２５
μｍであった。また感光層中の水分をカールフィシャー
法で測定した結果は、３％であった。

次いで感光層の上に、さらに第１図に示す装置を用いて
ポリエチレンフィルムを保護フィルムとして貼り合わせ
て本発明の感光性積層体を得た。

別に銅板を両面に積層したガラスエポキシ材である印刷
配線板用基板（日立化成工業（株）製商標ＭＣＬ−Ｅ−
６１）の銅表面を、クレンザ−で研磨し水洗して空気流
で乾燥した。この基板（２３℃）に、日立化成工業（株
）製ラミネーター（型式ＨＬＭ−１５００）を用い、ラ
ミネート温度１１０℃およびラミネート圧力３ｋｇ／Ｃ
ＩＡで前記感光性積層体をラミネートした。ラミネート
直後に感光層を手で引張ったが、感光層は基板によ（密
着しており、剥がれることはなかった。

次いで得られた試料にネガフィルムを使用して３ＫＷの
高圧水銀灯に９０ＣＩ１１の距離から６０秒間露光を行
なった。

現像はポリエチレンテレフタレートフィルムを除去後、
２％、２５℃の炭酸ナトリウム水溶液をスプレーするこ
とにより約４０秒間で行なわれ、良好な現像性を示した
。

さらに得られたフォトレジスト画像は線幅８０μｍまで
解像できる良好な解像性を有し、また塩化第二鉄、塩化
第二銅、過硫酸アンモニウム等の通常のエツチング液、
または半田メッキ液、硫酸銅メッキ液の通常の処理条件
で十分な耐性を有していた。

本発明の感光性積層体を４０°Ｃの恒温機に入れて保存
安定性を調べたが、１ケ月たっても異常な変化は認めら
れず、これを再使用しても特性の異常は認められず、良
好な保存安定性を示した。

以下余白 第　　１　　表 ＊カルボキシル基金量２４．７モル％　重量平均分子ｔ
　　８５０００比較例１ 溶液Ａの成分のうち、水を除去した溶液を用い、その他
は実施例１と同様に処理して感光性積層体を得た。さら
に実施例１と同じ基板に同じラミネーターを用いて前記
感光性積層体をラミネートした。ラミネート直後に感光
層を手で引張ったところ、感光層は基板から剥離した。

また別に感光層をラミネートした試料を実施例１と同様
に処理して露光および現像を行なったが、得られたフォ
トレジスト画像の解像度は、線幅１５０μｍまでであり
、それより細いラインは密着性不足のため現像中に欠落
した。

実施例１および比較例１から本発明の感光性積層体はラ
ミネート時に基板を加熱しなくても常温（２３℃）の基
板に対して十分なラミネート性を有していることが示さ
れる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例で用いられた感光性積層体の製造装置
を示す概略図である。 １・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出し
ロール、２．３．４，９．１０・・・ロール、５・・・
ナイフ、６・・・感光性樹脂組成物の溶液、７・・・乾
燥機、８・・・ポリエチレンフィルム繰り出しロール、
１１・・・感光性フィルム巻き取りロール。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）常圧において１００℃以上の沸点を有し、か
   つ少なくとも１種のエチレン性不飽和基を有する化合物
   を３０〜６０重量％、 （ｂ）カルボキシル基含量が２０〜４０モル％、かつ重
   量平均分子量が２〜４０万の線状共重合体を３５〜６５
   重量％、 （ｃ）活性光照射によりラジカルを発生する光開始剤を
   ０．２〜１０重量％および （ｄ）水を０．２〜８重量％ 含有してなる感光性樹脂組成物。 ２、感光層の少なくとも一方の面に重合体フィルムを積
   層した感光性積層体において、該感光層が（ａ）常圧に
   おいて１００℃以上の沸点を有し、かつ少なくとも１種
   のエチレン性不飽和基を有する化合物を３０〜６０重量
   ％、 （ｂ）カルボキシル基含量が２０〜４０モル％、かつ重
   量平均分子量が２〜４０万の線状共重合体を３５〜６５
   重量％、 （ｃ）活性光照射によりラジカルを発生する光開始剤を
   ０．２〜１０重量％および （ｄ）水を０．２〜８重量％ 含有してなる感光性積層体。