JPS6412094B2 - - Google Patents

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JPS6412094B2
JPS6412094B2 JP20749683A JP20749683A JPS6412094B2 JP S6412094 B2 JPS6412094 B2 JP S6412094B2 JP 20749683 A JP20749683 A JP 20749683A JP 20749683 A JP20749683 A JP 20749683A JP S6412094 B2 JPS6412094 B2 JP S6412094B2
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area
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体ウエーハをフレームに装着
し、次いでフレームに装着されたウエーハを所要
通りに切断するための半導体ウエーハ装着及び切
断装置に関する。
周知の如く、半導体デバイスの製造において
は、半導体ウエーハの表面に多数の回路パターン
を施す。かかる回路パターンは、一般に、格子状
に配列された多数の直線状領域(通常、ストリー
トと称されている)によつて区画された多数の矩
形領域の各々に施される。次いで、上記回路パタ
ーンの各々が所要通りのものであるか否かを検査
する所謂プロービング工程が遂行される。しかる
後に、ウエーハを上記直線状領域に沿つて切断
し、上記矩形領域を個々に分離する(個々に分離
された矩形領域は、通常、チツプと称されてい
る)切断工程が遂行される。そして更に、個々に
分離された上記矩形領域を基板乃至パツケージに
固定する所謂ダイ・ボンデイング等の工程が遂行
される。
上記切断工程においては、一般に、ウエーハの
切断に先立つてウエーハをフレームに装着する。
かかるフレームは通常ウエーハよりも大きい面積
を有する開口を有し、かかる開口内にウエーハを
位置せしめて、フレームとウエーハに跨つて両者
の裏面にテープを貼着することによつて、ウエー
ハをフレームに装着する。しかる後に、ウエーハ
を上記直線状領域に沿つて切断する。かかる切断
は、上記テープを切断することなくウエーハのみ
を切断し、それ故に、ウエーハは上記矩形領域の
各々に分離せしめられるが、上記矩形領域の各々
は、別個に分散されることなく、上記テープによ
つて切断前の位置に保持される。
而して、上述した通りの半導体デバイスの製造
工程の遂行においては、種々の特性のウエーハが
任意に送給されてもこれに適切に対処し得るよう
に、各工程において実際に処理すべきウエーハの
特性を的確に認識して各工程の遂行を制御するこ
とが重要である。例えば、上記切断工程における
ウエーハの切断においては、ウエーハ自体の寸法
及び回路パターンの寸法(従つて上記直線状領域
の間隔)等の特性を的確に認識することが重要で
ある。また、上記ダイ・ボンデイング工程におい
ては、一般に、上述した特性に加えて、回路パタ
ーンの種類(そしてまた上記プロービング工程に
おける結果)を的確に認識することが重要であ
る。かような事実に鑑み、当業者には周知の如
く、ウエーハの表面には、一般に、上記回路パタ
ーンに加えて、ウエーハの特性を示す表示(ウエ
ーハ自体及び施された回路パターンの特性と共
に、製造番号をも含む場合が多い)も施されてい
る。従つて、かかる表示を適切に検出することが
できれば、ウエーハの特性を的確に認識すること
ができる。しかしながら、上記表示の検出に関し
て次の事実が注目されねばならない。即ち、ウエ
ーハの無駄に消費される部分を最小限度にせしめ
る等の見地から、上記表示はウエーハの比較的小
さい特定の部分に比較的高密度で施されている
が、上述したウエーハの切断の際には上記表示が
施されている特定の部分も切断されて2個又はそ
れ以上の部分に分離される等に起因して、ウエー
ハの切断の後においては、上記表示の適切な検出
が不可能乃至著しく困難になる。従つて、上記切
断工程の後においては、ウエーハの特性を的確に
認識することが不可能乃至著しく困難であり、こ
れによつて、ウエーハ製造の自動化乃び高能率化
等が著しく阻害されていた。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであ
り、その主目的は、ウエーハの切断の後において
も、容易且つ的確にウエーハの特性を認識するこ
とを可能にし、かくしてウエーハ製造の自動化及
び高能率化等の実現を可能にすることである。
本発明者は、鋭意検討の結果、ウエーハの切断
工程に使用されるところの、ウエーハをフレーム
に装着し、次いでフレームに装着されたウエーハ
を所要通りに切断するための半導体ウエーハ装着
及び切断装置において、フレームに施された又は
施される識別表示とフレームに装着された又は装
着されるウエーハに施された表示との相対関係を
確立し、かかる相互関係を記憶するようになせ
ば、それ以後においては、フレームの識別表示を
検出することによつてウエーハの特性を容易且つ
適確に認識することができ、上記主目的を達成す
ることができることを見出した。
即ち、本発明によれば、半導体ウエーハをフレ
ームに装着するためのウエーハ装着装置と、該ウ
エーハ装着装置から送出される該フレーム及びこ
れに装着された該ウエーハを受取り該ウエーハを
所要通りに切断するウエーハ切断装置とを含む、
半導体ウエーハ装着及び切断装置において; 該フレームに施された又は施される識別表示と
該フレームに装着された又は装着される該ウエー
ハに施された表示との相対関係を示す相対関係信
号を生成する相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係
信号を記憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウエーハ装着
及び切断装置が提供される。
フレームの識別表示は、所望ならばフレームに
ウエーハを装着する際或いはその前又は後にフレ
ームに施すこともできるが、予めフレームに施し
ておくのが好ましい。そして、上記ウエーハ切断
装置によつてウエーハが切断される前に、ウエー
ハに施された表示を検出してこれに対応した表示
信号を生成するウエーハ検出手段と、フレームの
上記識別表示を検出してこれに対応した識別表示
信号を生成するフレーム検出手段とが設けられて
おり、上記相対関係信号生成手段は、上記表示信
号と上記識別表示信号とに基いて上記相対関係信
号を生成するように構成されているのが好まし
い。
以下、本発明に従つて構成された半導体ウエー
ハ装着及び切断装置の一具体例について、添付図
面を参照して詳細に説明する。
第1図を参照して説明すると、全体を番号2で
示す本発明に従つて構成された図示の半導体ウエ
ーハ装着及び切断装置は、1台のウエーハ装着装
置4と、2台のウエーハ切断装置6A及び6B
と、制御手段8とを含んでいる。ウエーハ装着装
置4は、後に詳述する如く、半導体ウエーハをフ
レームに装着する。フレーム及びこれに装着され
たウエーハは、搬送手段10によつてウエーハ装
着装置4から分岐点12に搬送され、そして更
に、搬送手段14によつてウエーハ切断装置6A
に或いは搬送手段16によつてウエーハ切断装置
6Bに搬送される。ウエーハ切断装置6A及び6
Bの各々は、後に詳述する如く、ウエーハを所要
通りに切断する。フレーム及びこれに装着された
ウエーハは、更に、ウエーハ切断装置6A及び6
Bから夫々搬送手段18及び20によつて搬出さ
れて、適宜のウエーハ収集域(図示していない)
或いはウエーハに次の所要処理(例えばダイ・ボ
ンデイング)を施す処理手段(図示していない)
に送られる。マイクロプロセツサから構成するこ
とができる制御手段8は、ウエーハ装着装置4の
作動とウエーハ切断装置6A及び6Bの作動とを
相互に所要通りに関連せしめると共に、搬送手段
10,14,16,18及び20の作動を所要通
りに制御する。
図示のウエーハ装着装置4は、ウエーハ域2
2、フレーム域24及び装着作業域26を備えて
いる。ウエーハ域22には、自動的に又は手動に
より装填された複数枚のウエーハが存在し、フレ
ーム域24には、自動的に又は手動により装填さ
れた複数枚のフレームが存在する。ウエーハ装着
装置4はマイクロプロセツサから構成することが
できる制御手段28も備えており、ウエーハ装着
装置4自体の作動はこの制御手段28によつて制
御される。かようなウエーハ装着装置4において
は、フレーム域24から順次に1枚のフレームが
装着作業域26に供給されると共に、これに対応
してウエーハ域22から順次に1枚のウエーハが
装着作業域26に供給され、そして装着作業域2
6においてウエーハがフレームに所要の通りに装
着される。第2図は、ウエーハ域22から装着作
業域26に供給されるウエーハWの一例を図示し
ている。一般にオリエンテーシヨンフラツトと称
されている直線状縁部30を除いて実質上円板形
状であるウエーハWの表面には、格子状に配列さ
れた多数の直線状領域(ストリート)32が存在
し、かかる多数の直線状領域32によつて多数の
矩形領域34が区画されている。そして、かかる
多数の矩形領域34の各々には、所要の回路パタ
ーンが施されている。加えて、図示のウエーハW
においては、上記直線状縁部30に隣接して比較
的小さい表示領域36が存在し、かかる表示領域
36には、ウエーハWの特性を示す表示38が施
されている。かかる表示38は、一般に、ウエー
ハW自体の寸法及び/又は施されている回路パタ
ーンの種類、寸法(従つて上記直線状領域32の
間隔)等の特性と共に、連続製造番号を示してい
る。表示38自体は、例えば数字、文字或いはそ
の他の符号でよい。一方、第3図は、フレーム域
24から装着作業域26に供給されるフレームF
の一例を図示している。図示のフレームFは、略
方形の外形を有する板状体から構成されている。
かかるフレームFの中央部には、上述したウエー
ハWよりも大きい面積を有する円形の開口40が
形成されている。また、フレームFの周縁には、
フレームFの搬送及び位置付けに利用され得る
種々の切欠き42が形成されている。ウエーハ装
着装置4の上記装着作業域26においては、第4
図に図示する如く、フレームFの開口40内にウ
エーハWが位置付けられる。そして、フレームF
とウエーハWとに跨つてフレームFとウエーハW
との裏面にテープTが貼着され、かくしてウエー
ハWがフレームFに装着される。かようなウエー
ハ装着方式に代えて、例えば、フレーム域24に
おいてフレームFの裏面に予めテープTを貼着し
ておき、装着作業域26においてフレームFの開
口40(この開口40にはテープTが存在してい
る)内にウエーハWを位置付けることによつてウ
エーハWの裏面にもテープTを貼着せしめるウエ
ーハ装着方式を採用することもできる。上述した
通りのウエーハ装着装置4自体の構成及び作用
は、本発明に従つて構成された半導体ウエーハ装
着及び切断装置2の新規な特徴を構成するもので
はなく、本発明に従つて構成された半導体ウエー
ハ装着及び切断装置2においては、種々の形態の
ウエーハ装着装置4を採用することができ、それ
故に、ウエーハ装着装置4自体の構成及び作用に
ついての詳細な説明は、本明細書においては省略
する。
而して、本発明に従つて構成された図示の半導
体ウエーハ装着及び切断装置2においては、上記
ウエーハ装着装置4のフレーム域24に装填され
るフレームFには、第3図及び第4図に図示する
如く、識別表示44が予め施されている。かかる
識別表示44は、使用されるフレームFに順次に
付される通し番号を示すものでよく、例えば、フ
レームFの表面に付されたバーコードでよい。容
易に理解される如く、フレームFに識別表示44
を施すことによつて、フレームFに装着されるウ
エーハWが悪影響を受けることはなく、そしてま
たフレームFには識別表示44を施すことができ
る充分に大きな部位が存在し、それ故に、特に制
限を受けることなく充分容易に且つ確実に検出す
ることができる識別表示44をフレームFに施す
ことができる。
本発明に従つて構成された図示の半導体ウエー
ハ装着及び切断装置2においては、上記ウエーハ
装着装置4のウエーハ域22に関連せしめてウエ
ーハ検出手段46が設けられている。このウエー
ハ検出手段46は、ウエーハ域22に存在するウ
エーハWのうちの次に装着作業域26に供給され
るウエーハWにおける上記表示38(第2図)を
検出して、上記表示38に対応した(従つてウエ
ーハWの特性に対応した)表示信号を生成し、か
かる表示信号をウエーハ装着装置4に内蔵されて
いる上記制御手段28に供給する。かようなウエ
ーハ検出手段46は、それ自体は周知の光学的検
出器から構成することができる。
本発明に従つて構成された図示の半導体ウエー
ハ装着及び切断装置2においては、更に、上記分
岐点12に関連せしめてフレーム検出手段48が
設けられている。このフレーム検出手段48は、
上記搬送手段10によつて分岐点12に搬送され
たフレームF及びこれに装着されたウエーハWの
うちのフレームFに施されている上記識別表示4
4を検出して、上記識別表示44に対応した識別
表示信号を生成し、かかる識別表示信号をウエー
ハ装着装置4に内蔵されている上記制御手段28
に供給する。かかるフレーム検出手段48は、上
記識別表示44がバーコードである場合には、そ
れ自体は周知の光学的バーコード検出器から構成
することができる。
上記ウエーハ検出手段46が生成する表示信号
と上記フレーム検出手段48が生成する識別表示
信号とは、上述した如く、ウエーハ装着装置4に
内蔵されている制御手段28に供給され、そして
制御手段28は、上記表示信号と上記識別表示信
号とに基いて、フレームFの識別表示44とこの
フレームFに装着されたウエーハWの表示38と
の相対関係を示す相対関係信号を生成する。従つ
て、図示の具体例においては、制御手段28は、
ウエーハ装着装置4の作動を制御する制御手段と
して機能すると共に、ウエーハ検出手段46から
供給される表示信号とフレーム検出手段48から
供給される識別表示信号とを所要通りに関連せし
めて(即ち特定のウエーハWの表示信号とこの特
定のウエーハWが装着されるフレームFの識別表
示信号とを関連せしめて)両者の相対関係を示す
相対関係信号を生成する相対関係信号生成手段と
しても機能する。制御手段28が生成する上記相
対関係信号は、制御手段8に内蔵されている記憶
手段50に供給され、そこに記憶される。かくし
て、記憶手段50には、ウエーハ装着装置4の装
着作業域26において次々に組合せられるところ
のフレームFの識別表示44とウエーハWの表示
38との相対関係リストが記憶される。
上述した如く、ウエーハ装着装置4から搬送手
段10によつて分岐点12に搬送されたフレーム
F及びこれに装着されたウエーハWは、制御手段
8の制御に応じて、更に、搬送手段14によつて
ウエーハ切断装置6Aに搬入され或いは搬送手段
16によつてウエーハ切断装置6Bに搬入され
る。ウエーハ切断装置6A及び6Bの各々は、受
取つたフレームF及びこれに装着されたウエーハ
WにおけるウエーハWを、上記直線状領域32に
沿つて切断し、かくして矩形領域34の各々に分
離する(第2図)。しかしながら、テープTは切
断されず、従つてウエーハWは矩形領域34の
各々に分離せしめられるが、矩形領域34の各々
は、別個に分散されることなく、テープTによつ
て切断前の位置に保持される。ウエーハ切断装置
6A及び6B自体は、例えば回転ダイヤモンドブ
レードでよい切断手段(図示していない)を具備
した公知の形態のものでよい。図示のウエーハ切
断装置6A及び6Bの各々は夫々、マイクロプロ
セツサから構成することができる制御手段52A
及び52Bも備えており、ウエーハ切断装置6
A、及び6Bの各々の自体の作動は、夫々、制御
手段52A及び52Bによつて制御される。而し
て、ウエーハ切断装置6A及び6Bの作動は、切
断すべきウエーハWの特性に応じて制御されるこ
とが重要である。例えば、ウエーハWの特性の相
異はウエーハWの寸法及び/又は回路パターンの
寸法(従つて、上記直線状領域32の間隔)の相
異を含み、従つて、ウエーハ切断装置6A及び6
Bにおける切断手段とウエーハWとの相対的位置
付け等がウエーハWの特性に応じて適切に遂行さ
れねばならない。図示の半導体ウエーハ装着及び
切断装置2においては、制御手段8は、フレーム
F及びこれに装着されたウエーハWを分岐点12
からウエーハ切断装置6A又は6Bのいずれに搬
入するかを制御すると共に、ウエーハ切断装置6
A又は6Bに搬入されるフレームF及びこれに装
着されたウエーハWにおけるウエーハWの特性に
関する情報を記憶手段50から抽出して、ウエー
ハ切断装置6A又は6Bの制御手段52A又は5
2Bに送給する。かくして、制御手段52A又は
52Bは、制御手段8から送給される上記ウエー
ハWの特性に関する情報に基いて、ウエーハ切断
装置6A又は6Bの作動を切断すべきウエーハW
の特性に応じて所要通りに制御する。尚、ウエー
ハ切断装置6A及び6B自体の構成及び作用は、
本発明に従つて構成された半導体ウエーハ装着及
び切断装置の新規な特徴を構成するものではな
く、本発明に従つて構成された半導体ウエーハ装
着及び切断装置においては、種々の形態のウエー
ハ6A及び6Bを採用することができ、それ故
に、ウエーハ切断装置6A及び6B自体の構成及
び作用についての詳細な説明は、本明細書におい
ては省略する。
既に言及した如く、ウエーハ切断装置6A及び
6BにおいてウエーハWが所要通りに切断された
ところのフレームF及びこれに装着されたウエー
ハWは、夫々、搬送手段18及び20によつてウ
エーハ切断装置6A及び6Bから搬出され、次い
で、一旦適宜の収集域(図示していない)に収集
された後に或いは直接的に、ウエーハWに次の所
要処理(例えばダイ・ボンデイング)を加える処
理手段(図示していない)に搬入される。而し
て、かかる処理手段においても、容易に理解され
る如く、フレームF及びこれに装着されたウエー
ハWにおけるウエーハWの特性に応じて処理手段
の作動を適切に制御することが必要である。然る
に、第2図を参照することによつて容易に理解さ
れる如く、ウエーハ切断装置6A又は6Bにおい
てウエーハWを直線状領域32に沿つて切断する
と、通常、ウエーハWの表示領域36が複数個の
部分に分離され、かかる事実等に起困して、ウエ
ーハWを所要通りに切断した後においては、ウエ
ーハWの表示領域36の表示38を検出してウエ
ーハWの特性を認識することが不可能乃至著しく
困難である。
而して、本発明に従つて構成された図示の半導
体ウエーハ装着及び切断装置2においては、ウエ
ーハ切断装置6A及び6Bにおいて切断されるこ
とがないフレームFに識別表示44が施されてい
ると共に、システム制御手段8の記憶手段50に
フレームFの識別表示44とこのフレームFに装
着されたウエーハWの表示38(即ちウエーハW
の特性)との相対関係リストが記憶されている。
それ故に、ウエーハWの切断後における上記処理
手段での処理の際には、フレームFの識別表示4
4を検出すると共に、かかる検出に応じて記憶手
段50における相対関係リストを読出すことによ
つて、処理すべきウエーハWの特性を的確に認識
することができ、従つて上記処理手段の作動を処
理すべきウエーハWの特性に応じて適切に制御す
ることができる。制御手段8の記憶手段50に記
憶されている上記相対関係リストは、例えば、半
導体ウエーハ装着及び切断工程を含む半導体製造
工程の全体を管理及び制御するホストコンピユー
タ54によつて読出して、上記処理手段に付設さ
れている制御手段(図示していない)に送給する
ことができる。半導体ウエーハ装着及び切断工程
に先立つて、ウエーハWの矩形領域34(第2
図)に施されている回路パターンの検査、即ち所
謂プロービング工程が遂行される場合には、かか
るプロービング工程の結果(即ち、特定のウエー
ハWにおける複数個の回路パターンの各々の合
否)もホストコンピユータ54によつて読出し、
必要に応じて、システム制御手段8の記憶手段5
0から読出される上記相対関係リストに関連せし
めて、ホストコンピユータ54から上記処理手段
に付設されている上記制御手段に送給することが
できる。
以上、添付図面を参照して本発明に従つて構成
された半導体ウエーハ装着及び切断装置の一具体
例について詳細に説明したが、本発明はかかる具
体例に限定されるものではなく、本発明の範囲を
逸脱することなく種々の変形乃至修正が可能であ
る。
例えば、上述した具体例においては、ウエーハ
装着装置4のウエーハ域22にてウエーハWの表
示38をウエーハ検出手段46によつて検出して
いるが、ウエーハ切断装置6A又は6Bによつて
ウエーハWが切断される前の任意の時点、例えば
フレームF及びこれに装着されたウエーハWがウ
エーハ装着装置4から搬出されて分岐点12に到
着した時等、にてウエーハWの表示38を検出し
てもよい。
また、上述した具体例においては、分岐点12
にてフレームFの識別表示44をフレーム検出手
段48によつて検出しているが、他の適宜の時
点、例えばウエーハ装着装置4のフレーム域24
(従つて、フレームFにウエーハWが装着される
前)等にてフレームFの識別表示44を検出する
こともできる。
更に、上述した具体例においては、予め識別表
示44が施されているフレームFを使用し、フレ
ームFの識別表示44を検出することによつてフ
レームFの識別表示44とフレームFに装着され
たウエーハWの表示との相対関係を確立している
が、所望ならば、フレームFの識別表示とフレー
ムFに装着されたウエーハWの表示との相対関係
を確立する際(例えばフレームFにウエーハWを
装着する際或いはその前又は後)に、適宜の識別
表示形成装置によつてフレームFに識別表示を施
すこともできる。
更にまた、上述した具体例においては、ウエー
ハ検出手段46によつてウエーハWの表示38を
検出し、これに基いてフレームFの識別表示44
とフレームFに装着されたウエーハWの表示38
との相対関係を確立しているが、例えば、特定の
表示のウエーハWが一群としてウエーハ装着装置
4に装填され、次いで別個の特定の表示のウエー
ハWが一群としてウエーハ装着装置4に装填され
る場合等であつて、ウエーハ装着装置4の装填さ
れるウエーハWの表示を予め操作員が認識してい
る場合には、ウエーハWの表示38を検出するこ
となく、操作員がウエーハWの表示38を直接的
に制御手段28に入力し、かくしてフレームFの
識別表示44とフレームFに装着されたウエーハ
Wの表示38との相対関係を確立することもでき
る。また、ウエーハ装着装置4に装填されるウエ
ーハWの表示38に関する情報が、例えばホスト
コンピユータ54に予め入力されている場合に
は、ウエーハWの表示38に関する情報をホスト
コンピユータ54から制御手段28に送給して、
フレームFの識別表示44とフレームFに装着さ
れたウエーハWの表示38との相対関係を確立す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に従つて構成された半導体ウ
エーハ装着及び切断装置の一具体例を図式的に示
す簡略図。第2図は、半導体ウエーハの一例を示
す平面図。第3図は、フレームの一例を示す平面
図。第4図は、テープを使用して第2図の半導体
ウエーハを第3図のフレームに装着した状態を示
す平面図。 2…ウエーハ装着及び切断装置、4…ウエーハ
装着装置、6A及び6B…ウエーハ切断装置、8
…制御手段、28…ウエーハ装着装置に内蔵され
た制御手段(相対関係信号生成手段)、38…ウ
エーハにおける表示、44…フレームにおける識
別表示、46…ウエーハ検出手段、48…フレー
ム検出手段、50…記憶手段、52A及び52B
…ウエーハ切断装置に内蔵された制御手段、W…
ウエーハ、F…フレーム、T…テープ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 半導体ウエーハをフレームに装着するための
    ウエーハ装着装置と、該ウエーハ装着装置から送
    出される該フレーム及びこれに装着された該ウエ
    ーハを受取り該ウエーハを所要通りに切断するウ
    エーハ切断装置とを含む、半導体ウエーハ装着及
    び切断装置において; 該フレームに施された又は施される識別表示と
    該フレームに装着された又は装着される該ウエー
    ハに施された表示との相対関係を示す相対関係信
    号を生成する相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係
    信号を記憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウエーハ装着
    及び切断装置。 2 該フレームには、該ウエーハより大きい面積
    を有する開口が形成されており、 該ウエーハ装着装置は、該開口内に該ウエーハ
    を位置せしめ、該フレーム及び該ウエーハに跨つ
    て該フレーム及び該ウエーハの裏面にテープを貼
    着せしめることによつて、該フレームに該ウエー
    ハを装着する、特許請求の範囲第1項記載の半導
    体ウエーハ装着及び切断装置。 3 該ウエーハの表面には、格子状に配列された
    複数個の直線状領域によつて区画された複数個の
    矩形領域の各々に施された回路パターンが存在
    し、 該ウエーハ切断装置は、該直線状領域に沿つて
    該ウエーハを切断して該矩形領域の各々に分離す
    る、特許請求の範囲第1項又は第2項記載の半導
    体ウエーハ装着及び切断装置。 4 半導体ウエーハをフレームに装着するための
    ウエーハ装着装置と、該ウエーハ装着装置から送
    出される該フレーム及びこれに装着された該ウエ
    ーハを受取り該ウエーハを所要通りに切断するウ
    エーハ切断装置とを含む、半導体ウエーハ装着及
    び切断装置において; 該ウエーハ切断装置によつて該ウエーハが切断
    される前に、該ウエーハに施された表示を検出し
    て該表示に対応した表示信号を生成するウエーハ
    検出手段と、 少なくとも該ウエーハ検出手段が生成する該表
    示信号に基いて、該フレームに施された又は施さ
    れる識別表示と該フレームに装着された又は装着
    される該ウエーハに施された該表示との相対関係
    信号を生成する相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係
    信号を記憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウエーハ装着
    及び切断装置。 5 該ウエーハ装着装置は、該フレームに該ウエ
    ーハを装着する装着作業域、該装着作業域に供給
    すべき該フレームが装填されるフレーム域、及び
    該装着作業域に供給すべき該ウエーハが装填され
    るウエーハ域を含み、 該ウエーハ検出手段は、該ウエーハが該ウエー
    ハ域にある時に該ウエーハの該表示を検出する、
    特許請求の範囲第4項記載の半導体ウエーハ装着
    及び切断装置。 6 該ウエーハ検出手段は、該フレーム及びこれ
    に装着された該ウエーハが該ウエーハ装着装置か
    ら送出された後で且つ該ウエーハ切断装置に受取
    られる前に、該ウエーハの該表示を検出する、特
    許請求の範囲第4項記載の半導体ウエーハ装着及
    び切断装置。 7 該フレームには、該ウエーハより大きい面積
    を有する開口が形成されており、 該ウエーハ装着装置は、該開口内に該ウエーハ
    を位置せしめ、該フレーム及び該ウエーハに跨つ
    て該フレーム及び該ウエーハの裏面にテープを貼
    着せしめることによつて、該フレームに該ウエー
    ハを装着する、特許請求の範囲第4項から第6項
    までのいずれかに記載の半導体ウエーハ装着及び
    切断装置。 8 該ウエーハの表面には、格子状に配列された
    複数個の直線状領域によつて区画された複数個の
    矩形領域の各々に施された回路パターンが存在
    し、 該ウエーハ切断装置は、該直線状領域に沿つて
    該ウエーハを切断して該矩形領域の各々に分離す
    る、特許請求の範囲第4項から第7項までのいず
    れかに記載の半導体ウエーハ装着及び切断装置。 9 半導体ウエーハをフレームに装着するための
    ウエーハ装着装置と、該ウエーハ装着装置から送
    出される該フレーム及びこれに装着された該ウエ
    ーハを受取り該ウエーハを所要通りに切断するウ
    エーハ切断装置とを含む、半導体ウエーハ装着及
    び切断装置において; 該フレームに施された識別表示を検出して該識
    別表示に対応した識別表示信号を生成するフレー
    ム検出手段と、 少なくとも該フレーム検出手段が生成する該識
    別信号に基いて、該フレームに施された該識別表
    示と該フレームに装着された又は装着される該ウ
    エーハに施された表示との相対関係信号を生成す
    る相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係
    信号を記憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウエーハ装着
    及び切断装置。 10 該フレームの該識別表示はバーコードであ
    る、特許請求の範囲第9項記載の半導体ウエーハ
    装着及び切断装置。 11 該フレーム検出手段は、該フレーム及びこ
    れに装着された該ウエーハが該ウエーハ装着装置
    から送出された後で且つ該ウエーハ切断装置に受
    取られる前に、該フレームの該識別表示を検出す
    る、特許請求の範囲第9項又は第10項記載の半
    導体ウエーハ装着及び切断装置。 12 該ウエーハ装着装置は、該フレームに該ウ
    エーハを装着する装着作業域、該装着作業域に供
    給すべき該フレームが装填されるフレーム域、及
    び該装着作業域に供給すべき該ウエーハが装填さ
    れるウエーハ域を含み、 該フレーム検出手段は、該フレームが該ウエー
    ハ装着装置の該フレーム域にある時に該フレーム
    の該識別表示を検出する、特許請求の範囲第9項
    又は第10項記載の半導体ウエーハ装着及び切断
    装置。 13 該フレームには、該ウエーハより大きい面
    積を有する開口が形成されており、 該ウエーハ装着装置は、該開口内に該ウエーハ
    を位置せしめ、該フレーム及び該ウエーハに跨つ
    て該フレーム及び該ウエーハの裏面にテープを貼
    着せしめることによつて、該フレームに該ウエー
    ハを装着する、特許請求の範囲第9項から第12
    項までのいずれかに記載の半導体ウエーハ装着及
    び切断装置。 14 該ウエーハの表面には、格子状に配列され
    た複数個の直線状領域によつて区画された複数個
    の矩形領域の各々に施された回路パターンが存在
    し、 該ウエーハ切断装置は、該直線状領域に沿つて
    該ウエーハを切断して該矩形領域の各々に分離す
    る、特許請求の範囲第9項から第13項までのい
    ずれかに記載の半導体ウエーハ装着及び切断装
    置。 15 半導体ウエーハをフレームに装着するため
    のウエーハ装着装置と、該ウエーハ装着装置から
    送出される該フレーム及びこれに装着された該ウ
    エーハを受取り該ウエーハを所要通りに切断する
    ウエーハ切断装置とを含む、半導体ウエーハ装着
    及び切断装置において; 該ウエーハ切断装置によつて該ウエーハが切断
    される前に、該ウエーハに施された表示を検出し
    て該表示に対応した表示信号を生成するウエーハ
    検出手段と、 該フレームに施された識別表示を検出して該識
    別表示に対応した識別表示信号を生成するフレー
    ム検出手段と、 該ウエーハ検出手段が生成する該表示信号と該
    フレーム検出手段が生成する該識別信号とに基い
    て、該フレームに施された該識別表示と該フレー
    ムに装着された又は装着される該ウエーハに施さ
    れた表示との相対関係を示す相対関係信号を生成
    する相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係
    信号を記憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウエーハ装着
    及び切断装置。 16 該フレームの該識別表示はバーコードであ
    る、特許請求の範囲第15項記載の半導体ウエー
    ハ装着及び切断装置。 17 該ウエーハ装着装置は、該フレームに該ウ
    エーハを装着する装着作業域、該装着作業域に供
    給すべき該フレームが装填されるフレーム域、及
    び該装着作業域に供給すべき該ウエーハが装填さ
    れるウエーハ域を含み、 該ウエーハ検出手段は、該ウエーハが該ウエー
    ハ域にある時に該ウエーハの該特性を検出する、
    特許請求の範囲第15項又は第16項記載の半導
    体ウエーハ装着及び切断装置。 18 該ウエーハ検出手段は、該フレーム及びこ
    れに装着された該ウエーハが該ウエーハ装着装置
    から送出された後で且つ該ウエーハ切断装置に受
    取られる前に、該ウエーハの該特性を検出する、
    特許請求の範囲第15項又は第16項記載の半導
    体ウエーハ装着及び切断装置。 19 該フレーム検出手段は、該フレーム及びこ
    れに装着された該ウエーハが該ウエーハ装着装置
    から送出された後で且つ該ウエーハ切断装置に受
    取られる前に、該フレームの該識別表示を検出す
    る、特許請求の範囲第15項又は第16項記載の
    半導体ウエーハ装着及び切断装置。 20 該ウエーハ装着装置は、該フレームに該ウ
    エーハを装着する装着作業域、該装着作業域に供
    給すべき該フレームが装填されるフレーム域、及
    び該装着作業域に供給すべき該ウエーハが装填さ
    れるウエーハ域を含み、 該フレーム検出手段は、該フレームが該ウエー
    ハ装着装置の該フレーム域にある時に該フレーム
    の該識別表示を検出する、特許請求の範囲第15
    項又は第16項記載の半導体ウエーハ装着及び切
    断装置。 21 該フレームには、該ウエーハより大きい面
    積を有する開口が形成されており、 該ウエーハ装着装置は、該開口内に該ウエーハ
    を位置せしめ、該フレーム及び該ウエーハに跨つ
    て該フレーム及び該ウエーハの裏面にテープを貼
    着せしめることによつて、該フレームに該ウエー
    ハを装着する、特許請求の範囲第15項から第2
    0項までのいずれかに記載の半導体ウエーハ装着
    及び切断装置。 22 該ウエーハの表面には、格子状に配列され
    た複数個の直線状領域によつて区画された複数個
    の矩形領域の各々に施された回路パターンが存在
    し、 該ウエーハ切断装置は、該直線状領域に沿つて
    該ウエーハを切断して該矩形領域の各々に分離す
    る、特許請求の範囲第15項から第21項までの
    いずれかに記載の半導体ウエーハ装着及び切断装
    置。
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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63318393A (ja) * 1987-06-17 1988-12-27 日本ベルボン精機工業株式会社 三脚
JPS6443458A (en) * 1987-08-11 1989-02-15 Nitto Denko Corp Stick cutter for tacky tape with respect to thin board
JPS6457646U (ja) * 1987-10-01 1989-04-10
US4907065A (en) * 1988-03-01 1990-03-06 Lsi Logic Corporation Integrated circuit chip sealing assembly
JPH01222905A (ja) * 1988-03-02 1989-09-06 Hitachi Ltd ウエハ分割一貫装置
US4875955A (en) * 1988-08-31 1989-10-24 Mazda Motor Manufacturing (Usa) Corporation Method and apparatus for preventing installation in an automobile body of a glass window panel having overcured adhesive thereon
DE3931495C2 (de) * 1989-09-21 1997-06-26 Itt Ind Gmbh Deutsche Verfahren zur "fließenden" Feinklassifizierung von Kapazitätsdioden
JP3173052B2 (ja) * 1990-12-12 2001-06-04 株式会社ディスコ 半導体ウェーハのダイシング方法
JPH05121543A (ja) * 1991-08-09 1993-05-18 Teikoku Seiki Kk ウエハーマウンタのウエハー支持方法、その装置及びその装置を備えるウエハーマウンタ
JPH097977A (ja) * 1995-06-26 1997-01-10 Disco Abrasive Syst Ltd ダイシング装置及びダイシングシステム
JP4043557B2 (ja) * 1997-09-16 2008-02-06 富士通株式会社 データ管理方法、データ管理装置、及び、搭載台
JP3888754B2 (ja) * 1997-12-08 2007-03-07 日東電工株式会社 半導体ウエハの自動貼付け装置
KR100387526B1 (ko) * 2001-02-07 2003-06-18 삼성전자주식회사 반도체 제조장비의 웨이퍼 감지 오동작 방지장치
AT502233B1 (de) * 2001-06-07 2007-04-15 Thallner Erich Vorrichtung zum lösen eines trägers von einer halbleiterscheibe
JP3809353B2 (ja) * 2001-08-02 2006-08-16 キヤノン株式会社 Id付き加工物の製造方法
KR100720420B1 (ko) * 2002-03-25 2007-05-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자용 합착 장치의 동작 제어 방법 및 그 장치
US7281535B2 (en) * 2004-02-23 2007-10-16 Towa Intercon Technology, Inc. Saw singulation
JP4841262B2 (ja) * 2006-02-13 2011-12-21 株式会社東京精密 ウェーハ処理装置
JP4693696B2 (ja) * 2006-06-05 2011-06-01 株式会社東京精密 ワーク処理装置
EP1873812A1 (en) * 2006-06-26 2008-01-02 Axalto SA Wafer frame
JP2015227272A (ja) * 2014-06-02 2015-12-17 日本電気硝子株式会社 分相ガラス及びこれを用いた複合基板
DE102014118833A1 (de) * 2014-12-17 2016-06-23 Mechatronic Systemtechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Vorausrichten eines flachen Substrats
JP6873712B2 (ja) * 2017-01-17 2021-05-19 株式会社ディスコ ドレッシングボード、切削ブレードのドレッシング方法及び切削装置
KR20220164857A (ko) * 2021-06-04 2022-12-14 로체 시스템즈(주) 카세트 반송 시스템 및 카세트 위치 자동 티칭 방법
CN114999958B (zh) * 2022-05-27 2024-05-03 颀中科技(苏州)有限公司 用于去除卷带芯片的芯片剔除装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3811182A (en) * 1972-03-31 1974-05-21 Ibm Object handling fixture, system, and process
US4296542A (en) * 1980-07-11 1981-10-27 Presco, Inc. Control of small parts in a manufacturing operation
US4485553A (en) * 1983-06-27 1984-12-04 Teletype Corporation Method for manufacturing an integrated circuit device

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Publication number Publication date
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